CN107329637A - 一种amole显示屏加工方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种AMOLE显示屏加工方法，包括将AMOLE显示屏放入清洗槽中，用滚刷对AMOLE显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中进行超声波清洗；(2)在AMOLE显示屏的四个侧面和背面使用真空溅镀在AMOLED显示屏基板表面形成二氧化硅膜；(3)抛光液进行加热至20℃‑26℃，将AMOLE显示屏放入抛光液中浸泡2‑3min；(4)去除AMOLE显示屏上的保护膜，将玻璃显示屏放入清洗槽中，用高速自转的滚刷对玻璃显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中，对AMOLE显示屏进行超声波清洗；(5)得到的AMOLE显示屏使用清洗液浸泡或喷淋，烘干后去掉AMOLED显示屏表面形成二氧化硅膜。

Description

一种AMOLE显示屏加工方法
技术领域
本发明涉及AMOLE技术领域，具体涉及一种AMOLE显示屏加工方法。
背景技术
电容式触摸屏作为一种新兴信息输入方式广泛应用于各类信息显示产品，如触摸屏手机、GPS导航系统等。
传统电容式触摸屏的主要组成部分是基板、基板上沉积的ITO透明电极膜、基板上沉积的金属引线电极层膜、覆盖ITO透明电极和金属引线电极层的二氧化硅膜、以及覆盖二氧化硅膜的透明树脂膜。ITO透明电极构成电容传感器，金属引线把X方向ITO透明电极和柔性线路板连接起来，ITO电极端部把Y方向ITO透明电极和柔性线路板连接起来，二氧化硅和树脂膜是增强触摸屏器件的可靠性和耐久性。二氧化硅膜要覆盖被保护的ITO透明电极和金属引线电极层，ITO电极层和金属引线电极层的电极外端区域因要与柔性线路板连接，不能被二氧化硅膜覆盖，需要用某种方式阻挡以免被二氧化硅膜覆盖。
传统的方法是采用金属掩蔽板局部镀膜，在真空溅射镀二氧化硅前加金属罩于基板上，采用镂空的金属板作为金属罩，把金属罩对位紧贴到基板上，遮住金属引线电极层外端部区域，敞开需要镀二氧化硅的区域。在这种方法中，金属罩和基板的热膨胀系数不同，在真空溅射镀膜过程中温度会变化，金属罩和基板之间就会有相对位移，从而会划伤基板，降低图案精度。
发明内容
本发明旨在提供了一种AMOLE显示屏加工方法。
本发明提供如下技术方案：
一种AMOLE显示屏加工方法，包括以下步骤：
(1)将AMOLE显示屏放入清洗槽中，用高速自转的滚刷对AMOLE显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中，对AMOLE显示屏进行超声波清洗；
(2)在AMOLE显示屏的四个侧面和背面使用真空溅镀在AMOLED显示屏基板表面形成二氧化硅膜；
(3)将氟化铵、氟氢化钾、氟化钙混合并加入硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾共同配制成抛光粉，将抛光粉加入硫酸或盐酸液体配制成抛光液，对抛光液进行加热至20℃-26℃，将AMOLE显示屏放入抛光液中浸泡2-3min；
(4)去除AMOLE显示屏上的保护膜，将玻璃显示屏放入清洗槽中，用高速自转的滚刷对玻璃显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中，对AMOLE显示屏进行超声波清洗；
(5)得到的AMOLE显示屏使用清洗液浸泡或喷淋，烘干后去掉AMOLED显示屏表面形成二氧化硅膜。
所述步骤(2)中真空溅镀的预设温度在18-20℃区间内，预设压力在10-20MPa区间内。
所述步骤(5)中烘干条件为100～150℃下10～20min。
所述步骤(5)中清洗液为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、吐温20的混合物。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明采用独特的高压喷射抛光方式，能够利用抛光液对AMOLE显示屏的表面进行有限抛光，提高微观上的光学效果，从而提高了AMOLE显示屏的正面具有无反射的效果，以提高防眩光能力；同时用洗液洗去遮蔽膜及覆盖在遮蔽膜上的二氧化硅膜，以达到局部覆盖二氧化硅膜的目的，不会在真空溅射镀膜过程中由于温度变化而使金属罩和基板之间产生相对位移，从而避免划伤基板，提高图案精度，方便加工操作。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例 一种AMOLE显示屏加工方法，包括以下步骤：
(1)将AMOLE显示屏放入清洗槽中，用高速自转的滚刷对AMOLE显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中，对AMOLE显示屏进行超声波清洗；
(2)在AMOLE显示屏的四个侧面和背面使用真空溅镀在AMOLED显示屏基板表面形成二氧化硅膜；
(3)将氟化铵、氟氢化钾、氟化钙混合并加入硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾共同配制成抛光粉，将抛光粉加入硫酸或盐酸液体配制成抛光液，对抛光液进行加热至20℃-26℃，将AMOLE显示屏放入抛光液中浸泡2-3min；
(4)去除AMOLE显示屏上的保护膜，将玻璃显示屏放入清洗槽中，用高速自转的滚刷对玻璃显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中，对AMOLE显示屏进行超声波清洗；
(5)得到的AMOLE显示屏使用清洗液浸泡或喷淋，烘干后去掉AMOLED显示屏表面形成二氧化硅膜。
所述步骤(2)中真空溅镀的预设温度在18-20℃区间内，预设压力在10-20MPa区间内。
所述步骤(5)中烘干条件为100～150℃下10～20min。
所述步骤(5)中清洗液为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、吐温20的混合物。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (4)

1.一种AMOLE显示屏加工方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将AMOLE显示屏放入清洗槽中，用高速自转的滚刷对AMOLE显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中，对AMOLE显示屏进行超声波清洗；
(2)在AMOLE显示屏的四个侧面和背面使用真空溅镀在AMOLED显示屏基板表面形成二氧化硅膜；
(3)将氟化铵、氟氢化钾、氟化钙混合并加入硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾共同配制成抛光粉，将抛光粉加入硫酸或盐酸液体配制成抛光液，对抛光液进行加热至20℃-26℃，将AMOLE显示屏放入抛光液中浸泡2-3min；
(4)去除AMOLE显示屏上的保护膜，将玻璃显示屏放入清洗槽中，用高速自转的滚刷对玻璃显示屏的各个侧面进行清洗和除尘，再将AMOLE显示屏放入超声波清洗机中，对AMOLE显示屏进行超声波清洗；
(5)得到的AMOLE显示屏使用清洗液浸泡或喷淋，烘干后去掉AMOLED显示屏表面形成二氧化硅膜。
2.根据权利要求1所述的一种液晶显示屏加工方法，其特征在于：所述步骤(2)中真空溅镀的预设温度在18-20℃区间内，预设压力在10-20MPa区间内。
3.根据权利要求1所述的一种液晶显示屏加工方法，其特征在于：所述步骤(5)中烘干条件为100～150℃下10～20min。
4.根据权利要求1所述的一种液晶显示屏加工方法，其特征在于：所述步骤(5)中清洗液为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、吐温20的混合物。
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