CN107311451A - 一种低热膨胀高强度tft‑lcd屏基板玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低热膨胀高强度TFT‑LCD屏基板玻璃，其特征在于：所述基板玻璃组份的组分组成及重量百分比为：SiO2 60‑67％，Na2O 12‑14％，K2O 2‑5％，CaO 0.2‑0.5％，Li2O 5‑11％，MgO 3‑5％，Al2O3 14‑17％，CeO2 0.1‑0.3％，SnO2 0.1‑1％，ZrO2 0.5‑2％，TiO20.2‑0.8％，Cr2O3 0.2‑2％。本发明将传统的高温熔制法和固相合成法相结合来制备微晶玻璃材料，其工艺简单、稳定性高、生产成本低，适合工业化批量生产，采用本发明配方及制备工艺能够制备出热膨胀系数2.1～4.0×10‑6/℃、抗弯强度150～210MPa，且介电性能好、绝缘可靠的低热膨胀高强度微晶玻璃材料，满足电子封装基板材料的要求。

Description

一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃
技术领域
本发明涉及显示屏技术领域，具体涉及一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃。
背景技术
现代电子信息技术飞速发展，电子设备不断向小型化、多功能化、集成化和低成本化方向发展，其核心器件集成电路在芯片尺寸、集成规模、封装密度、信号频率等方面不断提高，对电子封装材料提出了更高的要求，尤其是在热膨胀系数方面基板与芯片相匹配，且具有足够高的抗弯强度。电子陶瓷材料以其优良的电学、热学、机械及工艺特性，在各类电子设备中得到了广泛应用。
发明内容
本发明旨在提供了一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃。
本发明提供如下技术方案：
一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃，所述基板玻璃组份的组分组成及重量百分比为：SiO2 60-67％，Na2O 12-14％，K2O 2-5％，CaO 0.2-0.5％，Li2O 5-11％，MgO 3-5％，Al2O3 14-17％，CeO2 0.1-0.3％，SnO2 0.1-1％，ZrO2 0.5-2％，TiO2 0.2-0.8％，Cr2O3 0.2-2％。
一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃的制备方法，包括以下步骤：
(1)按照配方SiO2、Na2O、K2O、CaO、Li2O、MgO、Al2O3、CeO2、SnO2、ZrO2、TiO2、Cr2O3各种原料准确称量后，球磨2～4小时，使其混合均匀并干燥；
(2)将混合料置于坩埚中熔制，升温至1350～1500℃保温2～5小时；
(3)待配料熔融澄清后降温，将熔融体倒入去离子水中水淬得到透明的玻璃渣；
(4)所得玻璃渣经过湿法球磨后，干燥得到玻璃粉；
(5)将上述玻璃粉以去离子水、锆球为介质球磨3～10小时，烘干、过筛后得到均匀分散的粉体；
(6)该粉体经过造粒、压制成型后，在750～900℃烧结并保温0.5～2小时，即得低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明将传统的高温熔制法和固相合成法相结合来制备微晶玻璃材料，其工艺简单、稳定性高、生产成本低，适合工业化批量生产，采用本发明配方及制备工艺能够制备出热膨胀系数2.1～4.0×10-6/℃、抗弯强度150～210MPa，且介电性能好、绝缘可靠的低热膨胀高强度微晶玻璃材料，满足电子封装基板材料的要求。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃，所述基板玻璃组份的组分组成及重量百分比为：SiO2 60％，Na2O 12％，K2O 2％，CaO 0.2％，Li2O 5％，MgO 3％，Al2O314％，CeO2 0.1％，SnO2 0.1％，ZrO2 0.5％，TiO2 0.2％，Cr2O3 0.2％。
一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃的制备方法，包括以下步骤：
(1)按照配方SiO2、Na2O、K2O、CaO、Li2O、MgO、Al2O3、CeO2、SnO2、ZrO2、TiO2、Cr2O3各种原料准确称量后，球磨2～4小时，使其混合均匀并干燥；
(2)将混合料置于坩埚中熔制，升温至1350～1500℃保温2～5小时；
(3)待配料熔融澄清后降温，将熔融体倒入去离子水中水淬得到透明的玻璃渣；
(4)所得玻璃渣经过湿法球磨后，干燥得到玻璃粉；
(5)将上述玻璃粉以去离子水、锆球为介质球磨3～10小时，烘干、过筛后得到均匀分散的粉体；
(6)该粉体经过造粒、压制成型后，在750～900℃烧结并保温0.5～2小时，即得低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃。
实施例2一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃，所述基板玻璃组份的组分组成及重量百分比为：SiO2 67％，Na2O 14％，K2O 5％，CaO 0.5％，Li2O 11％，MgO 5％，Al2O317％，CeO2 0.3％，SnO2 1％，ZrO2 2％，TiO2 0.8％，Cr2O3 2％。
一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃的制备方法，包括以下步骤：
(1)按照配方SiO2、Na2O、K2O、CaO、Li2O、MgO、Al2O3、CeO2、SnO2、ZrO2、TiO2、Cr2O3各种原料准确称量后，球磨2～4小时，使其混合均匀并干燥；
(2)将混合料置于坩埚中熔制，升温至1350～1500℃保温2～5小时；
(3)待配料熔融澄清后降温，将熔融体倒入去离子水中水淬得到透明的玻璃渣；
(4)所得玻璃渣经过湿法球磨后，干燥得到玻璃粉；
(5)将上述玻璃粉以去离子水、锆球为介质球磨3～10小时，烘干、过筛后得到均匀分散的粉体；
(6)该粉体经过造粒、压制成型后，在750～900℃烧结并保温0.5～2小时，即得低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃。
实施例3一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃，所述基板玻璃组份的组分组成及重量百分比为：SiO2 63％，Na2O 13％，K2O 4％，CaO 0.3％，Li2O 8％，MgO 4％，Al2O316％，CeO2 0.2％，SnO2 0.7％，ZrO2 0.9％，TiO2 0.5％，Cr2O3 1.1％。
一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃的制备方法，包括以下步骤：
(1)按照配方SiO2、Na2O、K2O、CaO、Li2O、MgO、Al2O3、CeO2、SnO2、ZrO2、TiO2、Cr2O3各种原料准确称量后，球磨2～4小时，使其混合均匀并干燥；
(2)将混合料置于坩埚中熔制，升温至1350～1500℃保温2～5小时；
(3)待配料熔融澄清后降温，将熔融体倒入去离子水中水淬得到透明的玻璃渣；
(4)所得玻璃渣经过湿法球磨后，干燥得到玻璃粉；
(5)将上述玻璃粉以去离子水、锆球为介质球磨3～10小时，烘干、过筛后得到均匀分散的粉体；
(6)该粉体经过造粒、压制成型后，在750～900℃烧结并保温0.5～2小时，即得低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (2)

1.一种低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃，其特征在于：所述基板玻璃组份的组分组成及重量百分比为：SiO2 60-67％，Na2O 12-14％，K2O 2-5％，CaO 0.2-0.5％，Li2O 5-11％，MgO 3-5％，Al2O3 14-17％，CeO2 0.1-0.3％，SnO2 0.1-1％，ZrO2 0.5-2％，TiO20.2-0.8％，Cr2O3 0.2-2％。
2.一种如权利要求1所述的低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃的制备方法，，其特征在于，包括以下步骤：
(1)按照配方SiO2、Na2O、K2O、CaO、Li2O、MgO、Al2O3、CeO2、SnO2、ZrO2、TiO2、Cr2O3各种原料准确称量后，球磨2～4小时，使其混合均匀并干燥；
(2)将混合料置于坩埚中熔制，升温至1350～1500℃保温2～5小时；
(3)待配料熔融澄清后降温，将熔融体倒入去离子水中水淬得到透明的玻璃渣；
(4)所得玻璃渣经过湿法球磨后，干燥得到玻璃粉；
(5)将上述玻璃粉以去离子水、锆球为介质球磨3～10小时，烘干、过筛后得到均匀分散的粉体；
(6)该粉体经过造粒、压制成型后，在750～900℃烧结并保温0.5～2小时，即得低热膨胀高强度TFT-LCD屏基板玻璃。
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