CN107300733A - Coa基板及coa基板色阻层膜厚检测方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种COA基板，包括多个阵列排布在基板上的子基板单元，所述子基板单元具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，子基板单元包括阵列基板以及依次形成在阵列基板上的钝化层、色阻层，基板上设有量测区域，量测区域位于子基板单元的非显示区中，量测区域中设有量测结构，量测区域将量测结构裸露，所述量测结构包括量测钝化层以及量测色阻层，所述量测结构的表面形成量测面。本发明还提供了一种COA基板色阻层膜厚检测方法，包括如下步骤：通过将膜厚量测探针接触量测面，并沿量测区域的长度方向移动，从而量测获得量测色阻层的厚度。与现有技术相比，可实时对基板靠近边缘位置的色阻层的膜厚状况进行量测，从而根据监控结果调整涂布等参数。

Description

COA基板及COA基板色阻层膜厚检测方法
技术领域
本发明涉及一种显示面板技术，特别是一种COA基板及COA基板色阻层膜厚检测方法。
背景技术
目前由于尺寸较大的基板(例如49英寸)的利用率较高，但是由于在进行RGB(红绿蓝)色阻涂布时，涂布机台的涂布限制，导致基板的子基板单元有部分在涂布机台的成膜保证区以外，使得基板位于边缘色阻层的膜厚不稳定，导致成品易出现黑阶黑带及黑阶色偏品质分险作为良率考量，RGB各层色阻生产过程中需要通过监控涂布不稳定区，目前只能通过人工对色阻层涂布的膜厚状况适时调整参数进行生产，在COA技术中(Color-filter onArray，是将彩色滤光片与阵列(Array)基板集成在一起的其中一种集成技术，即将彩色光阻涂布于已完成的阵列(Array)上形成彩色滤光层，可以改善传统彩色滤光片开口率低的问题)，因COA基板产品因基板(Strip)设计，B(蓝)色阻的膜厚需基于G(绿)色阻进行量测(R(红)/G(绿)色阻的膜厚基钝化层(PV1)进行量测)，根据现有状况，B色阻的膜厚叠加G色阻的膜厚所产生的不稳定性因素，导致无法真实反映B色阻的涂布状况，目前还无有效监控手段适时调整参数导致良率降低(边缘膜品良率不可控)无法生产。
发明内容
为克服现有技术的不足，本发明提供一种COA基板及COA基板色阻层膜厚检测方法，从而实现对色阻层的膜厚进行监控，提高产品的良率。
本发明提供了一种COA基板，包括多个阵列排布在基板上的子基板单元，所述子基板单元具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，所述子基板单元包括阵列基板以及依次形成在阵列基板上的钝化层、色阻层，所述基板上设有量测区域，量测区域位于子基板单元的非显示区中，所述量测区域中设有量测结构，量测区域将量测结构裸露，所述量测结构包括量测钝化层以及量测色阻层，所述量测结构的表面形成量测面。
进一步地，所述量测面包括量测色阻层背离量测钝化层一侧表面的第一量测面、量测钝化层背离阵列基板一侧表面的第二量测面，通过以第二量测面为基准，测量量测色阻层的第一量测面到第二量测面的厚度，从而获得量测色阻层23的厚度。
进一步地，所述量测色阻层包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种。
进一步地，所述量测色阻层为量测蓝子色阻。
进一步地，所述量测区域与其所在基板相同一侧的边缘平行。
本发明还提供了一种COA基板色阻层膜厚检测方法，包括如下步骤：
提供一COA基板，包括多个阵列排布在基板上的子基板单元，所述子基板单元具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，所述子基板单元包括阵列基板以及依次形成在阵列基板上的钝化层、色阻层，所述基板上设有量测区域，量测区域位于每个子基板单元的非显示区中，所述量测区域中设有量测结构，量测区域将量测结构裸露，所述量测结构包括量测钝化层以及量测色阻层，所述量测结构的表面形成量测面；
通过将膜厚量测探针接触量测面，并沿量测区域的长度方向移动，同时保持膜厚量测探针与量测面接触，从而量测获得量测色阻层的厚度。
进一步地，所述量测面包括量测色阻层背离量测钝化层一侧表面的第一量测面、量测钝化层背离阵列基板一侧表面的第二量测面，通过以第二量测面为基准，测量量测色阻层的第一量测面到第二量测面的厚度，从而获得量测色阻层的厚度。
进一步地，所述量测色阻层包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种。
进一步地，所述量测色阻层为量测蓝子色阻。
进一步地，所述量测区域与其所在基板相同一侧的边缘平行。
本发明与现有技术相比，通过在基板的子基板单元的非显示区处设置量测区域以及量测结构，实现可实时对基板靠近边缘位置的色阻层的膜厚状况进行量测，尤其是蓝色阻的膜厚状况进行监控，从而根据监控结果调整涂布等参数，提高产品的良率。
附图说明
图1是本发明COA基板的俯视图；
图2是本发明对色阻层膜厚量测的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
本发明中，根据目前色阻层涂布限制，一般涂布机的涂布不稳定区域5通常出现在基板1的其中两相对的靠近边缘位置处，该涂布不稳定区域5在子基板单元的显示区以及非显示区6中，为了能够对该涂布不稳定区域的色阻层的膜厚进行监控，在子基板单元的非显示区6中设置量测区域，通过对量测区域中的量测结构进行量测，实现对基板靠近边缘的涂布不稳定区的膜厚变化进行监控，实时调整涂布参数。
如图1所示，本发明的一种COA基板，包括多个阵列排布在基板1上的子基板单元2，所述子基板单元2具有显示区和环绕在显示区外的非显示区6，所述子基板单元2包括阵列基板21以及依次形成在阵列基板21上的钝化层、色阻层，所述基板1上设有量测区域3，量测区域3位于每个子基板单元2的非显示区6中，所述量测区域3中设有量测结构32，量测区与3将量测结构32裸露，所述量测结构32包括量测钝化层22以及量测色阻层23，所述量测结构32的表面形成量测面31。
在上述结构中，阵列基板为具有TFT(薄膜晶体管)器件的基板，在该阵列基板上进行钝化层22以及色阻层的沉积。
如图2所示，所述量测面31包括量测色阻层23背离量测钝化层22一侧表面的第一量测面311、量测钝化层22背离阵列基板21一侧表面的第二量测面312，通过以第二量测面312为基准，测量量测色阻层23的第一量测面311到第二量测面312的厚度，从而获得量测色阻层的厚度，采用量测结构，使得再涂布制程中可以根据量测色阻层的厚度来调整之后涂布等参数。
如图1所示，一般情况下，基板1的形状为矩形，具有长边侧以及短边侧，而子基板单元2则阵列排布在基板1上，量测区域3与其所在基板1相同一侧的边缘平行，具体地，量测区域3设置在子基板单元2的列方向上且排列再同一条直线上，这样能够方便检测，通过一次量测，即可对基板1上一列种的所有子基板单元进行量测，减少量测次数，提高效率。
如图2所示，所述量测色阻层23包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种，具体地，所述量测色阻层23为量测蓝子色阻。
本发明还公开了一种COA基板中蓝色阻膜厚检测方法，包括如下步骤：
如图1所示，提供一COA基板，包括多个阵列排布在基板1上的子基板单元2，所述子基板单元2具有显示区和环绕在显示区外的非显示区6，所述子基板单元2包括阵列基板21以及依次形成在阵列基板21上的钝化层、色阻层，所述基板1上设有量测区域3，量测区域3位于每个子基板单元2的非显示区6中，所述量测区域3中设有量测结构32，量测区与3将量测结构32裸露，所述量测结构32包括量测钝化层22以及量测色阻层23，所述量测结构32的表面形成量测面31；
通过将膜厚量测探针4接触量测面31，并沿量测区域3的长度方向移动，同时保持膜厚量测探针4与量测面31接触，从而量测获得量测色阻层23的厚度。
具体地，如图2所示，量测面31包括量测色阻层23背离量测钝化层22一侧表面的第一量测面311、量测钝化层22背离阵列基板21一侧表面的第二量测面312，通过以第二量测面312为基准，测量量测色阻层23的第一量测面311到第二量测面312的厚度，从而获得量测色阻层的厚度。
本发明种用于量测的量测色阻层23包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种；具体为，量测色阻层23为量测蓝子色阻，将量测篮子色阻作为参照依据，从而对涂布的参数进行调整。
如图1所示，一般情况下，基板1的形状为矩形，具有长边侧以及短边侧，而子基板单元2则阵列排布在基板1上，量测区域3与其所在基板1相同一侧的边缘平行，具体地，量测区域3设置在子基板单元2的列方向上，这样能够方便检测，膜厚量测探针4只需要沿量测区域3的长度方向移动，通过一次量测，即可对基板1上一列种的所有子基板单元进行量测，减少量测次数，提高效率。
如图1所示，本发明的量测过程具体为，通过将膜厚量测探针4接触第二量测面312，并沿量测区域3的长度方向移动，同时保持膜厚量测探针4与量测面31接触，使膜厚量测探针4从第二量测面312移动至第一量测面311上，且使膜厚量测探针4维持与第一量测面311接触，并继续移动膜厚量测探针4，从而使膜厚量测探针4沿量测区域3的长度方向划直线；最后，藉由控制单元收集膜厚量测探针4测量的第而量测面312到第一量测面311的间距，从而量测获得量测色阻层23的厚度，并根据该厚度调整涂布机的涂布参数。
本发明中，仅需要将形成色阻层的光罩的边缘区域增加与量测结构形状相适配的图案，即可对该区域不进行相应的制程，从而保证了量测结构始终是裸露，不会因量测结构而增加制程步骤。
虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。

Claims (10)

1.一种COA基板，其特征在于：包括多个阵列排布在基板(1)上的子基板单元(2)，所述子基板单元(2)具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，所述子基板单元(2)包括阵列基板(21)以及依次形成在阵列基板(21)上的钝化层、色阻层，所述基板(1)上设有量测区域(3)，量测区域(3)位于每个子基板单元(2)的非显示区中，所述量测区域(3)中设有量测结构(32)，量测区域(3)将量测结构(32)裸露，所述量测结构(32)包括量测钝化层(22)以及量测色阻层(23)，所述量测结构(32)的表面形成量测面(31)。
2.根据权利要求1所述的COA基板，其特征在于：所述量测面(31)包括量测色阻层(23)背离量测钝化层(22)一侧表面的第一量测面(311)、量测钝化层(22)背离阵列基板(21)一侧表面的第二量测面(312)，通过以第二量测面(312)为基准，测量量测色阻层(23)的第一量测面(311)到第二量测面(312)的厚度，从而获得量测色阻层的厚度。
3.根据权利要求1或2所述的COA基板，其特征在于：所述量测色阻层(23)包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的COA基板，其特征在于：所述量测色阻层(23)为量测蓝子色阻。
5.根据权利要求1所述的COA基板，其特征在于：所述量测区域(3)与其所在基板(1)相同一侧的边缘平行。
6.一种COA基板色阻层膜厚检测方法，其特征在于：包括如下步骤：
提供一COA基板，包括多个阵列排布在基板(1)上的子基板单元(2)，所述子基板单元(2)具有显示区和环绕在显示区外的非显示区，所述子基板单元(2)包括阵列基板(21)以及依次形成在阵列基板(21)上的钝化层、色阻层，所述基板(1)上设有量测区域(3)，量测区域(3)位于每个子基板单元(2)的非显示区中，所述量测区域(3)中设有量测结构(32)，量测区域(3)将量测结构(32)裸露，所述量测结构(32)包括量测钝化层(22)以及量测色阻层(23)，所述量测结构(32)的表面形成量测面(31)；
通过将膜厚量测探针(4)接触量测面(31)，并沿量测区域(3)的长度方向移动，同时保持膜厚量测探针(4)与量测面(31)接触，从而量测获得量测色阻层(23)的厚度。
7.根据权利要求1所述的COA基板色阻层膜厚检测方法，其特征在于：所述量测面(31)包括量测色阻层(23)背离量测钝化层(22)一侧表面的第一量测面(311)、量测钝化层(22)背离阵列基板(21)一侧表面的第二量测面(312)，通过以第二量测面(312)为基准，测量量测色阻层(23)的第一量测面(311)到第二量测面(312)的厚度，从而获得量测色阻层的厚度。
8.根据权利要求6或7所述的COA基板色阻层膜厚检测方法，其特征在于：所述量测色阻层(23)包括量测蓝子色阻、量测绿子色阻和量测红子色阻中的至少一种。
9.根据权利要求8所述的COA基板色阻层膜厚检测方法，其特征在于：所述量测色阻层(23)为量测蓝子色阻。
10.根据权利要求1所述的COA基板色阻层膜厚检测方法，其特征在于：所述量测区域(3)与其所在基板(1)相同一侧的边缘平行。
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