CN107282502A - 光学膜片清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光学膜片清洗装置，其包括清洗槽、喷刷组件以及传送组件，所述传送组件设置在清洗槽上，所述喷刷组件设置在清洗槽底部，该喷刷组件包括喷刷本体以及连接于喷刷本体上端的旋转盘，所述旋转盘上设有喷水孔，所述喷刷本体下端连接有进水管，喷刷本体内则形成连通进水管的腔室，该腔室内设有旋转叶片，旋转叶片连接旋转盘。本发明的旋转盘可以设置更多的喷水孔，以加强喷刷组件对光学膜片的冲刷清洗，而且，由于旋转盘在喷射水流的同时还会发生旋转，使得喷射出的水流呈螺旋状，在冲刷光学膜片时水流的冲刷方向会与光学膜片形成一定地倾斜角度，从而更易将光学膜片上的杂质冲刷掉，提高光学膜片清洗的洁净度。
Description
技术领域
本发明涉及膜片清洗技术领域，具体涉及一种光学膜片清洗装置。
背景技术
目前，光学薄膜广泛应用于各类镜片以及显示技术领域技术领域中，光学薄膜按其用途可分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜 、偏振膜、分光膜等。光学膜片，在生产过程中，在包装入库前，需要对其进行清洗，以去除膜片的表面的杂质，提高膜片的质量。
目前，光学膜片的清洗方法是通过传送组件300将光学膜片送入清洗槽100中进行清洗。如图1所示，在清洗槽100内盛有清洗液400，光学膜片600经传送组件300从清洗槽100的一侧向下进入清洗槽100浸入清洗液400中，然后从清洗槽100的了另一侧向上送出，再经由烘箱500烘干即可。清洗槽100的两侧壁上设有喷水孔200，光学膜片在浸入清洗液400前和出清洗液400后都会受到喷水孔200喷出的清洗液的冲洗。
目前的清洗装置存在以下缺点：首先，清洗槽两侧壁上喷水孔的喷刷方向与光学膜片的传送方向垂直，对于某些附着力较强的杂质而言，该喷水孔喷出的喷刷并不能使其从光学膜片上脱离。其次，从光学膜片上喷刷下来的杂质均落入清洗槽内的清洗液中，而光学膜片浸入到清洗液中时，难免会使清洗液中的杂质再次附着到光学膜片上，从而影响光学膜片的清洁度。
也就是说，目前的光学膜片清洗装置不能很好的清除光学膜片上的杂质，使得光学膜片烘干后会形成光斑等缺陷，从而降低了光学膜片的质量，影响其在显示设备或者其他装置中的使用效果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光学膜片清洗装置，其在清洗槽的底部设置喷刷组件对光学膜片进行清洗，从而提高光学膜片的洁净度。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：
一种光学膜片清洗装置，其包括清洗槽、喷刷组件以及传送组件，所述传送组件设置在清洗槽上，所述喷刷组件设置在清洗槽底部，该喷刷组件包括喷刷本体以及连接于喷刷本体上端的旋转盘，所述旋转盘上设有喷水孔，所述喷刷本体下端连接有进水管，喷刷本体内则形成连通进水管的腔室，该腔室内设有旋转叶片，旋转叶片连接旋转盘。
所述旋转盘的喷水孔呈圆周状均匀排列为至少一周。
所述旋转盘上的喷水孔设置为两周以上，且每周喷水孔的孔径不同。
所述清洗槽包括呈对立面设置的第一侧面和第二侧面；所述传送组件包括第一传送辊、第二传送辊、第一压辊和第二压辊，其中，第一传送辊设置在第一侧面上端，第一压辊设置在清洗槽内靠近第一侧面处；第二传送辊设置在第二侧面上端，第二压辊设置在清洗槽内靠近第二侧面处。
所述第一压辊和第二压辊的设置位置高于喷刷组件。
所述光学膜片清洗装置还包括烘箱，烘箱内设有传送光学膜片的传送辊。
所述进水管上设有控制进水管通断的进水阀。
本发明在清洗槽的底部设置冲刷组件，相较于现有技术，冲刷组件的旋转盘可以设置更多的喷水孔，以加强喷刷组件对光学膜片的冲刷清洗，提高光学膜片的洁净度。而且，由于旋转盘在喷射水流的同时还会发生旋转，使得喷射出的水流呈螺旋状，在冲刷光学膜片时水流的冲刷方向会与光学膜片形成一定地倾斜角度，从而更易将光学膜片上的杂质冲刷掉，进一步提高光学膜片清洗的洁净度。
此外，将旋转盘上的喷水孔呈均匀排列为至少一周，则可以使光学膜片能够得到均匀冲刷。
附图说明
图1为现有技术清洗装置结构示意图；
图2为本发明的清洗装置结构示意图；
图3为本发明喷刷组件结构示意图；
图4为本发明旋转盘结构示意图。
具体实施方式
以下将列举实施例并配合说明书附图进行详述。
参照图2和图3所示，本发明揭示了一种光学膜片清洗装置，其包括传送组件3、清洗槽1和设置在清洗槽1底部的喷刷组件2。
上述清洗槽1包括第一侧面11和第二侧面12，光学膜片4由第一侧面11上端进入清洗槽1内进行清洗，由第二侧面12上端送出。
上述传送组件3包括第一传送辊31、第二传送辊33、第一压辊32和第二压辊34，其中，第一传送辊31和第一压辊32设置在清洗槽1的第一侧面11处，第一传送辊31设置在第一侧面11上端，第一压辊32设置在清洗槽1内靠近第一侧面11处；第二传送辊33和第二压辊34设置清洗槽1的第二侧面12处，第二传送辊33设置在第二侧面12上端，第二压辊34设置在清洗槽1内靠近第二侧面12处。光学膜片4从第一传送辊31的上端面向下进入清洗槽1内，然后经由清洗槽1内的第一压辊32和第二压辊34的下端面后至第二压辊33的上端面，在第二压辊33的作用下将清洗过后的光学膜片4从清洗槽1中送出。
上述喷刷组件2包括喷刷本体21和旋转盘22，旋转盘22连接于喷刷本体21上端，旋转盘22上设有喷水孔221；喷刷本体21下端连接有进水管24，喷刷本体21内则形成以连通进水管24的腔室，该腔室内设有旋转叶片23，旋转叶片23通过连接轴连接旋转盘22。由进水管24内的水流进入喷刷本体21的腔室时驱动旋转叶片23，使得旋转叶片23旋转，旋转叶片23转动时会带动旋转盘22进行转动。上述进水管24上可以设置一控制进水管24通断的进水阀241。
当光学膜片4在传送组件3的作用下进入清洗槽1进行清洗工作时，喷刷组件2也开始进行工作，在水流的作用下，在旋转叶片23进行转动，然后带动旋转盘22转动，清洗液以一定压力由进水管24进入喷刷本体21的腔室，然后由旋转盘22的喷水口221喷洒出并对光学膜片4进行清洗。因旋转盘22发生转动，喷水口221喷洒出的水流会呈螺旋状，水流会以一定的倾斜角度冲刷光学膜片4，更易将光学膜片4上的杂质冲刷掉。而此时，光学膜片4仍会以一定的速度从清洗槽1的第一侧面11向第二侧面方向12传送，由此提高了喷刷水流与光学膜片4之间的相对冲刷速度，增加了水流对光学膜片4的冲刷强度，从而提高光学膜片4的洁净度。
传送装置3的第一压辊32和第二压辊34以及喷刷组件2的旋转盘22均位于清洗槽1内的清洗液液面之上，以防止光学膜片4受到带有杂质的清洗液的二次污染。
如图4所示，上述旋转盘22的喷水孔221呈圆周状均匀排列为至少一周，以便能够均匀清洁光学膜片4。当旋转盘22上的喷水孔221设置为两周以上时，可以实现对光学膜片4的多次冲刷，提高光学膜片4的清洁度；而且，此时可以将每周喷水孔221设置不同的孔径，不同孔径的喷水孔221喷洒出的水流冲洗强度也不一样，由此可以冲刷不同类型的杂质。
本发明光学膜片清洗装置还包括烘箱5，烘箱5内亦设有传送光学膜片4的传送辊51。清洗过后的光学膜片4从清洗槽1中传送出来后进入烘箱5，使附着在光学膜片4上的清洗液蒸发，从而将光学膜片4烘干，以便光学膜片4的收卷。
本发明的关键在于，本发明在清洗槽1的底部设置冲刷组件2，相较于现有技术，冲刷组件2的旋转盘22可以设置更多的喷水孔221，以加强喷刷组件2对光学膜片4的冲刷清洗，提高光学膜片4的洁净度。而且，由于旋转盘22在喷射水流的同时还会发生旋转，使得喷射出的水流呈螺旋状，在冲刷光学膜片4时水流的冲刷方向会与光学膜片4形成一定的倾斜角度，从而更易将光学膜片4上的杂质冲刷掉，进一步提高光学膜片4清洗的洁净度。
以上所述，仅是本发明实施例而已，并非对本发明的技术范围作任何限制，故凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (7)
1.一种光学膜片清洗装置，其包括清洗槽、喷刷组件以及传送组件，其特征在于：所述传送组件设置在清洗槽上，所述喷刷组件设置在清洗槽底部，该喷刷组件包括喷刷本体以及连接于喷刷本体上端的旋转盘，所述旋转盘上设有喷水孔，所述喷刷本体下端连接有进水管，喷刷本体内则形成连通进水管的腔室，该腔室内设有旋转叶片，旋转叶片连接旋转盘。
2.根据权利要求1所述的光学膜片清洗装置，其特征在于：所述旋转盘的喷水孔呈圆周状均匀排列为至少一周。
3.根据权利要求2所述的光学膜片清洗装置，其特征在于：所述旋转盘上的喷水孔设置为两周以上，且每周喷水孔的孔径不同。
4.根据权利要求1所述的光学膜片清洗装置，其特征在于：所述清洗槽包括呈对立面设置的第一侧面和第二侧面；所述传送组件包括第一传送辊、第二传送辊、第一压辊和第二压辊，其中，第一传送辊设置在第一侧面上端，第一压辊设置在清洗槽内靠近第一侧面处；第二传送辊设置在第二侧面上端，第二压辊设置在清洗槽内靠近第二侧面处。
5.根据权利要求4所述的光学膜片清洗装置，其特征在于：所述第一压辊和第二压辊的设置位置高于喷刷组件。
6.根据权利要求1所述的光学膜片清洗装置，其特征在于：所述光学膜片清洗装置还包括烘箱，烘箱内设有传送光学膜片的传送辊。
7.根据权利要求1所述的光学膜片清洗装置，其特征在于：所述进水管上设有控制进水管通断的进水阀。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20171024 |
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |