CN107245695A - 一种镀铝阴阳膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明属于镀铝薄膜技术领域，具体涉及一种镀铝复合阴阳膜，并进一步公开其制备方法。本发明所述镀铝阴阳膜在现有制备方法的基础上，利用含有金属氧化物纳米粒子的挥发溶剂作为屏蔽层的边界填充，借助于挥发性溶剂的挥发，使得所述金属氧化物纳米粒子沉积于屏蔽层边界处，借助于金属氧化物纳米粒子的较高的比表面积，使得镀铝过程中所述阴膜和阳膜的分界线更为清晰；同时，本发明所述方法利用在全氟聚醚油中添加二氧化硅纳米粒子的方法，进一步增强了屏蔽层在镀铝过程中对金属沉积的排他性，进一步增强了所述阴膜部分的透明效果。

Description

一种镀铝阴阳膜及其制备方法
技术领域
本发明属于镀铝薄膜技术领域，具体涉及一种镀铝复合阴阳膜，并进一步公开其制备方法。
背景技术
镀铝膜是采用特殊工艺在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种复合软包装材料，并在此基础上，又发展了将VMPET、VMBOPP、VMCPP或VMPE等镀铝薄膜与透明塑料薄膜复合而形成的镀铝复合膜。镀铝膜既具有塑料薄膜的特性，又具有金属的特性，是一种带有铝光泽的具有好的阻隔性的软包装材料，其具有良好的金属光泽、良好的阻隔性能，又具有方便、价廉等优点，是一种廉价美观、性能优良、实用性强的包装材料，而广泛应用于食品、保健品、医药、化妆品的外包装，尤其在干燥、膨化食品上。目前，镀铝膜最常用的加工方法当数真空镀铝法，就是在高真空状态下通过高温将金属铝融化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽。
随着人们生活水平的提高，对于镀铝包装材料也有了更高的要求，于是镂空(开窗)镀铝包装材料越来越受到人们的欢迎。镀铝阴阳膜是一种特殊的镀铝薄膜，其是在透明薄膜上通过部分镀铝形成的镀铝层和透明层相交替的薄膜，其主要用于制作单面具有可视性的包装袋，并具更为美观、且可视产品的优势。传统的镀铝包装材料上开窗通常采用金属墨定位印刷或洗铝工艺的，上述工艺具有工作效率低、成本高的缺陷，尤其不适用于需大面积镀铝产品。而现有一般的镀铝薄膜的制备方法，由于其设备通常为连续镀铝设置，也并不适用于镀铝阴阳膜的生产。
如中国专利CN104108208A公开了一种镀铝包装材料，该包装材料是在镀铝步骤前，通过在膜基体上用印刷版辊印刷屏蔽层的方式，以所述屏蔽层部分覆盖基体膜，屏蔽层瞬间干燥后再进行镀铝，膜基体上裸露在外的部分覆盖沉积有金属层形成镀铝层部分，由于全氟聚醚层屏蔽层优异的润滑性能，使得基体上设有屏蔽层的部分不会沉积金属层即为透明层部分，以形成部分可视的镀铝阴阳膜结构。该方法在制备阴阳膜包装时，无需金属墨定位印刷或洗铝工艺的特殊加工，特别是对需大面积镀铝产品，大大提高了生产效率、降低了生产成本。但是，该屏蔽层主要利用的是全氟聚醚层的润滑性能，使其不易沉积金属镀铝，但是，鉴于全氟聚醚作为有机试剂具有的一定粘性，也使其会沉积微量的铝金属，一定程度上影响其透视性，同时，阴阳膜的边界部分也存在边界不清楚的问题，一定程度上影响了所制得阴阳膜的视觉效果。
发明内容
为此，本发明所要解决的技术问题在于提供一种镀铝阴阳膜，以并进一步公开其制备方法。
为解决上述技术问题，本发明所述的一种镀铝阴阳膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)取基体膜在其表面阴膜位置处部分印刷全氟聚醚油形成屏蔽层；
(2)待所述全氟聚醚屏蔽层干燥后，在其印刷边界处喷涂含有金属氧化物纳米粒子的挥发性溶剂；
(3)待溶剂挥发干燥后，将所述基体膜置于真空镀铝设备进行常规镀铝处理，所述基体膜上未覆盖所述屏蔽层的部分镀有镀铝层，形成所需阳膜部分，所述基体膜上覆盖所述屏蔽层的部分无镀铝层，即为所述阴膜部分，即得。
所述步骤(2)中，所述金属氧化物纳米粒子为氧化铝纳米粒子。
所述步骤(2)中，所述金属纳米粒子的粒径为200-300nm。
所述步骤(2)中，所述挥发性溶剂包括正庚烷、正己烷或戊烷。
所述步骤(2)中，所述金属氧化物纳米粒子与所述挥发性溶剂的质量比为1-5：95-99。
所述步骤(2)中，所述挥发性溶剂中还添加有占所述溶剂量0.2-0.5wt的过氧化氢酶。
所述步骤(1)中，所述全氟聚醚油为添加有纳米二氧化硅的改性全氟聚醚油。
所述纳米二氧化硅的添加量占所述全氟聚醚油的0.5-1wt％。
所述纳米二氧化硅的粒径为30-100nm。
所述步骤(3)中，所述真空镀铝步骤为采用真空镀铝设备进行，并利用适合的挡板调节镀铝层的尺寸，实现所述阴阳膜的制备。
本发明还公开了由所述镀铝阴阳膜的制备方法制备得到的镀铝阴阳膜。
本发明所述镀铝阴阳膜在现有制备方法的基础上，利用含有金属氧化物纳米粒子的挥发溶剂作为屏蔽层的边界填充，借助于挥发性溶剂的挥发，使得所述金属氧化物纳米粒子沉积于屏蔽层边界处，借助于金属氧化物纳米粒子的较高的比表面积，使得镀铝过程中所述阴膜和阳膜的分界线更为清晰；同时，所述在所述溶剂中添加过氧化氢酶，有助于进一步减少镀铝膜部分与光膜部分(阴膜和阳膜)之间的阴阳线的宽度。同时，本发明所述方法利用在全氟聚醚油中添加二氧化硅纳米粒子的方法，进一步增强了屏蔽层在镀铝过程中对金属沉积的排他性，进一步增强了所述阴膜部分的透明效果。
具体实施方式
实施例1
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)取BOPET基体膜，并按照预设的阴阳膜结构和尺寸，在其表面预设的阴膜位置处，用印刷版辊部分印刷全氟聚醚油商品以形成屏蔽层；
(2)待所述全氟聚醚屏蔽层干燥后，在其印刷边界处喷涂含有氧化铝纳米粒子(200-300nm)的正庚烷溶剂(所述氧化铝纳米粒子与所述溶剂的质量比为1：99)，以均匀涂覆边界位置为准；
(3)待所述正庚烷溶剂挥发干燥后，将所述基体膜置于悬浮真空镀铝设备进行常规镀铝处理，所述基体膜上未覆盖所述屏蔽层的部分镀有镀铝层，形成所需阳膜部分，所述基体膜上覆盖所述屏蔽层的部分无镀铝层，即为所述阴膜部分，即得。
实施例2
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法同实施例1，其区别仅在于，所述步骤(2)中，所述溶剂中还添加有占所述溶剂量0.2wt的过氧化氢酶。
实施例3
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法同实施例2，其区别仅在于，所述全氟聚醚油为添加有纳米二氧化硅(30-100nm)的改性全氟聚醚油，所述纳米二氧化硅的添加量占所述全氟聚醚油的0.5wt％。
实施例4
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)取BOPET基体膜，并按照预设的阴阳膜结构和尺寸，在其表面预设的阴膜位置处，用印刷版辊部分印刷全氟聚醚油商品以形成屏蔽层；
(2)待所述全氟聚醚屏蔽层干燥后，在其印刷边界处喷涂含有氧化铝纳米粒子(200-300nm)的正己烷溶剂(所述氧化铝纳米粒子与所述溶剂的质量比为5：95)，以均匀涂覆边界位置为准；
(3)待所述正己烷溶剂挥发干燥后，将所述基体膜置于悬浮真空镀铝设备进行常规镀铝处理，所述基体膜上未覆盖所述屏蔽层的部分镀有镀铝层，形成所需阳膜部分，所述基体膜上覆盖所述屏蔽层的部分无镀铝层，即为所述阴膜部分，即得。
实施例5
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法同实施例4，其区别仅在于，所述步骤(2)中，所述溶剂中还添加有占所述溶剂量0.3wt的过氧化氢酶。
实施例6
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法同实施例5，其区别仅在于，所述全氟聚醚油为添加有纳米二氧化硅(30-100nm)的改性全氟聚醚油，所述纳米二氧化硅的添加量占所述全氟聚醚油的0.8wt％。
实施例7
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法，包括如下步骤：
(1)取BOPET基体膜，并按照预设的阴阳膜结构和尺寸，在其表面预设的阴膜位置处，用印刷版辊部分印刷全氟聚醚油商品以形成屏蔽层；
(2)待所述全氟聚醚屏蔽层干燥后，在其印刷边界处喷涂含有氧化铝纳米粒子(200-300nm)的正戊烷溶剂(所述氧化铝纳米粒子与所述溶剂的质量比为3：97)，以均匀涂覆边界位置为准；
(3)待所述正戊烷溶剂挥发干燥后，将所述基体膜置于悬浮真空镀铝设备进行常规镀铝处理，所述基体膜上未覆盖所述屏蔽层的部分镀有镀铝层，形成所需阳膜部分，所述基体膜上覆盖所述屏蔽层的部分无镀铝层，即为所述阴膜部分，即得。
实施例8
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法同实施例7，其区别仅在于，所述步骤(2)中，所述溶剂中还添加有占所述溶剂量0.5wt的过氧化氢酶。
实施例9
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法同实施例8，其区别仅在于，所述全氟聚醚油为添加有纳米二氧化硅(30-100nm)的改性全氟聚醚油，所述纳米二氧化硅的添加量占所述全氟聚醚油的1wt％。
实施例10
本实施例所述镀铝阴阳膜的制备方法同实施例7，其区别仅在于，所述真空镀铝设备选用常规的悬浮式真空镀铝机，并通过在所述设备上加设挡板的方式进行生产制备.
所述挡板的材质为碳钢，设置为长方形结构，厚度设置约3cm，且宽边位置处两侧设置有凹槽；两个长边中，其中一侧设置有进出水孔各一个，另一侧设置有两个调节孔，调节孔设置有调节螺母，同时还设置有一根调节条，其厚度和挡板厚度相同，并通过2个调节螺母将所述调节条固定在挡板主体上，可以上下调节高度或位置。
在挡板安装后，可以通过螺母、调节孔的位置，调节调节条和挡板的固定位置，可以调节调节条和膜之间的距离，从而控制镀铝的位置，将所述挡板设置于预设的阴膜位置处，从而使被挡板挡住的部分不进行镀铝即为透明膜部分，而未被挡板挡住的部分即发生镀铝以形成镀铝膜部分，即可制得阴阳膜的结构。
对比例
本对比例为按照现有技术中方法(CN104108208A)制得的镀铝阴阳膜。实验例
对实施例1-7和对比例所制得的镀铝阴阳膜进行其表面透明度和阴阳膜边界位置清晰度的检测，同时检测其镀铝膜与光膜之间的阴阳线的宽度，
记录于下表1。
表1镀铝阴阳膜技术效果对比
从上表中对比情况可见，本发明所述镀铝阴阳膜在现有制备方法的基础上，利用含有金属氧化物纳米粒子的挥发溶剂作为屏蔽层的边界填充，借助于挥发性溶剂的挥发，使得所述金属氧化物纳米粒子沉积于屏蔽层边界处，借助于金属氧化物纳米粒子的较高的比表面积，使得镀铝过程中所述阴膜和阳膜的分界线更为清晰；同时，所述在所述溶剂中添加过氧化氢酶，有助于进一步减少镀铝膜部分与光膜部分(阴膜和阳膜)之间的阴阳线的宽度。同时，本发明所述方法利用在全氟聚醚油中添加二氧化硅纳米粒子的方法，进一步增强了屏蔽层在镀铝过程中对金属沉积的排他性，进一步增强了所述阴膜部分的透明效果。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)取基体膜在其表面阴膜位置处部分印刷全氟聚醚油形成屏蔽层；
(2)待所述全氟聚醚屏蔽层干燥后，在其印刷边界处喷涂含有金属氧化物纳米粒子的挥发性溶剂；
(3)待溶剂挥发干燥后，将所述基体膜置于真空镀铝设备进行常规镀铝处理，所述基体膜上未覆盖所述屏蔽层的部分镀有镀铝层，形成所需阳膜部分，所述基体膜上覆盖所述屏蔽层的部分无镀铝层，即为所述阴膜部分，即得。
2.根据权利要求1所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述金属氧化物纳米粒子为氧化铝纳米粒子。
3.根据权利要求1或2所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述金属纳米粒子的粒径为200-300nm。
4.根据权利要求1-3任一项所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述挥发性溶剂包括正庚烷、正己烷或戊烷。
5.根据权利要求1-4任一项所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述金属氧化物纳米粒子与所述挥发性溶剂的质量比为1-5：95-99。
6.根据权利要求1-5任一项所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述挥发性溶剂中还添加有占所述溶剂量0.2-0.5wt的过氧化氢酶。
7.根据权利要求1-6任一项所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述全氟聚醚油为添加有纳米二氧化硅的改性全氟聚醚油。
8.根据权利要求7所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述纳米二氧化硅的添加量占所述全氟聚醚油的0.5-1wt％。
9.根据权利要求7或8所述的镀铝阴阳膜的制备方法，其特征在于，所述纳米二氧化硅的粒径为30-100nm。
10.由权利要求1-9任一项所述的方法制备得到的镀铝阴阳膜。
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