CN107179626A - 彩膜基板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种彩膜基板及其制作方法。该彩膜基板包括:衬底基板、设于所述衬底基板上的公共电极;所述衬底基板包括:显示区、以及包围所述显示区的非显示区;所述公共电极包括:主电极、以及至少一个与所述主电极电性连接的连接电极,所述主电极位于所述显示区内且连续覆盖整个显示区,所述连接电极位于所述非显示区内且仅覆盖所述非显示区的一部分,能够有效避免因公共电极整面覆盖非显示区而造成公共电极短路或黑色矩阵剥离的问题,提升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。如:液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等,在平板显示领域中占主导地位。
通常液晶显示装置包括壳体和设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中,液晶面板的结构主要是由一阵列基板(Thin Film TransistorArray Substrate,TFT Array Substrate)、一彩膜基板(Color Filter Substrate,CFSubstrate)、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成,其工作原理是通过向TFT基板的像素电极和CF基板的公共电极上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。
彩膜基板是液晶显示器用来实现彩色显示的主要器件,其基本构成如图1所示,通常包括:衬底基板100、设于所述衬底基板100上的色阻层200、分隔所述色阻层200的黑色矩阵300、设于所述色阻层200以及黑色矩阵300上的公共电极400,彩膜基板制作完成之后会与阵列基板一起通过成盒(Cell)制程组合成液晶显示面板,在成盒制程过程中,彩膜基板上的公共电极400会通过导电粒子500与阵列基板上的公共电极触点600(Pad)电性连接,以从阵列基板获取彩膜基板公共电压。
如图1和图2所示,在现有技术中,所述公共电极400是在衬底基板100上整面覆盖的平面电极,该整面覆盖的电极具有以下缺点:首先由于阵列基板上除了公共电极触点外还设有多种其他控制信号走线,若成盒(Cell)制程过程中有金属异物掉落到其他控制信号走线上,会引起公共电极与其他控制信号走线短路,造成显示异常,甚至造成产品受热破裂,其次,在成盒制程中为减少生产步骤提高生产效率,会将导电粒子(通常为金粒子)混入框胶内,并将框胶涂布在TFT玻璃基板上,当材料或制程出现变异时,框胶内的导电粒子也会引起公共电极与其他控制信号走线短路,造成显示异常,甚至造成产品受热破裂,另外,由于公共电极为整面覆盖,在液晶面板切割后玻璃边缘仍会有一些公共电极与外界接触,当客户在使用过程中因不当操作导致有脏污滴落到产品上后,经过长期的电化学腐蚀会使公共电极受损,被腐蚀的公共电极会向内延伸,当延伸到框胶区后,会造成黑色矩阵剥落(Black MatrixPeeling),进而引起液晶泄露和液晶气泡不良等问题,最终导致客户再无法使用,只能报废。
发明内容
本发明的目的在于提供一种彩膜基板,能够避免因公共电极整面覆盖非显示区而造成公共电极短路或黑色矩阵剥离的问题,提升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。
本发明的目的还在于提供一种彩膜基板的制作方法,能够避免因公共电极整面覆盖非显示区而造成公共电极短路或黑色矩阵剥离的问题,提升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。
为实现上述目的,本发明提供了一种彩膜基板,包括:衬底基板、设于所述衬底基板上的公共电极;
所述衬底基板包括:显示区、以及包围所述显示区的非显示区;
所述公共电极包括:主电极、以及至少一个与所述主电极电性连接的连接电极,所述主电极位于所述显示区内且连续覆盖整个显示区,所述连接电极位于所述非显示区内且仅覆盖所述非显示区的一部分。
在所述衬底基板与所述公共电极之间还设有多个色阻块以及分隔所述多个色阻块黑色矩阵;
所述多个色阻块阵列排布于所述显示区内,所述黑色矩阵包括:多个位于所述显示区内各个色阻块之间的黑色矩阵条、以及位于所述非显示区内包围所述显示区的黑色矩阵框。
所述连接电极用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接。
所述主电极的形状为矩形,所述连接电极的数量为六个,该六个连接电极分别电性连接于所述主电极四角和主电极两长边的中点处。
本发明还提供一种彩膜基板的制作方法,包括如下步骤:
步骤S1、提供一衬底基板,所述衬底基板包括:显示区、以及包围所述显示区的非显示区;
步骤S2、在所述衬底基板上涂布公共电极材料,形成公共电极薄膜,所述公共电极薄膜覆盖整个衬底基板;
步骤S3、根据预设的公共电极图案,去除位于所述非显示区内的部分公共电极薄膜,得到公共电极;
所述公共电极包括:位于显示区内的主电极、以及至少一个位于非显示区内的与所述主电极电性连接的连接电极。
所述步骤S3中通过镭射制程去除位于所述非显示区内的部分公共电极薄膜。
所述步骤S3中通过光罩制程去除位于所述非显示区内的部分公共电极薄膜。
所述步骤S1与步骤S2之间还包括:在所述衬底基板上制作多个色阻块以及分隔所述多个色阻块的黑色矩阵的步骤,所述公共电极位于所述色阻块以及黑色矩阵上;
所述多个色阻块阵列排布于所述显示区内,所述黑色矩阵包括:多个位于所述显示区内各个色阻块之间的黑色矩阵条、以及位于所述非显示区内包围所述显示区的黑色矩阵框。
所述连接电极用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接。
所述主电极的形状为矩形,所述连接电极的数量为六个,该六个连接电极分别电性连接于所述主电极四角和主电极两长边的中点处。
本发明的有益效果:本发明提供一种彩膜基板,包括:衬底基板、设于所述衬底基板上的公共电极;所述衬底基板包括:显示区、以及包围所述显示区的非显示区;所述公共电极包括:主电极、以及至少一个与所述主电极电性连接的连接电极,所述主电极位于所述显示区内且连续覆盖整个显示区,所述连接电极位于所述非显示区内且仅覆盖所述非显示区的一部分,能够有效避免因公共电极整面覆盖非显示区而造成公共电极短路或黑色矩阵剥离的问题,提升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。本发明还提供一种彩膜基板的制作方法,能够有效避免因公共电极整面覆盖非显示区而造成公共电极短路或黑色矩阵剥离的问题,提升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图中,
图1为现有的液晶显示面板的结构图;
图2为现有的彩膜基板中公共电极的俯视图;
图3为本发明的彩膜基板的结构图;
图4为本发明的彩膜基板中公共电极的俯视图;
图5为本发明的彩膜基板的制作方法的流程图;
图6为本发明的彩膜基板的制作方法步骤S2的示意图;
图7为本发明的彩膜基板的制作方法步骤S3的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图3,本发明提供一种彩膜基板,包括:衬底基板10、设于所述衬底基板10上的公共电极20;
所述衬底基板10包括:显示区11、以及包围所述显示区11的非显示区12;
所述公共电极20包括:主电极21、以及至少一个与所述主电极21电性连接的连接电极22,所述主电极21位于所述显示区11内且连续覆盖整个显示区11,所述连接电极22位于所述非显示区12内且仅覆盖所述非显示区12的一部分。
具体地,所述彩膜基板在所述衬底基板10与所述公共电极20之间还设有多个色阻块30以及分隔所述多个色阻块30黑色矩阵40;所述多个色阻块30阵列排布于所述显示区11内,所述黑色矩阵40包括:多个位于所述显示区11内各个色阻块30之间的黑色矩阵条41、以及位于所述非显示区12内包围所述显示区11的黑色矩阵框42。
进一步地,所述多个色阻块30为多种不同颜色的色阻块30,优选地,所述多个色阻块30包括:红色色阻块、绿色色阻块、及蓝色色阻块,并且根据需要所述多个色阻块30还可以包括黄色色阻块或白色色阻块等其他颜色的色阻块。
优选地,所述衬底基板10为玻璃基板,所述公共电极20的材料为氧化铟锡(Indiumtin oxide,ITO)。
需要说明的是,所述连接电极22用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接,以从所述阵列基板获取彩膜基板公共电压。详细地,所述连接电极22与所述公共电极触点可通过导电粒子进行电性连接,也可以通过混有导电粒子的框胶进行电性连接,具体可根据实际制程的需要进行相应的选择,优选地,所述导电粒子为金粒子(Au-ball)。
优选地,如图4所示,在本发明的一个实施例中,所述主电极21的形状为矩形,所述连接电极22的数量为六个,该六个连接电极22分别电性连接于所述主电极21四角和主电极21两长边的中点处,此时,阵列基板上也在相应的位置预设有六个公共电极触点用于与上述的六个连接电极22电性连接,也即连接电极22具体为数量和位置可根据阵列基板上预设的公共电极触点的位置和数量来确定。
具体地,本发明中非显示区12内仅设有覆盖所述非显示区12的一部分的连接电极22,相比于现有技术中在非显示区12整面覆盖的电极,本发明中的连接电极仅设置与所述公共电极触点相对应的位置,而在对应控制信号走线的位置不再设置电极,能够避免导电的异物或异常的导电粒子造成公共电极与阵列基板上的控制信号走线短路,同时彩膜基板的边缘也不再设置电极,能够避免因外界腐蚀液体造成电极腐蚀而引起黑色矩阵剥落、液晶泄露和液晶气泡不良等问题,防止产品报废,升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。
请参阅图5,本发明提供一种彩膜基板的制作方法,包括如下步骤:
步骤S1、提供一衬底基板10,所述衬底基板10包括:显示区11、以及包围所述显示区11的非显示区12。
优选地,所述衬底基板10为玻璃基板。
步骤S2、请参阅图6,在所述衬底基板10上涂布公共电极材料,形成公共电极薄膜20’,所述公共电极薄膜20’覆盖整个衬底基板10。
优选地,所述公共电极材料为ITO。
具体地,所述步骤S1与步骤S2之间还包括:在所述衬底基板10上制作多个色阻块30以及分隔所述多个色阻块30的黑色矩阵40的步骤,所述公共电极20位于所述色阻块30以及黑色矩阵40上;所述多个色阻块30阵列排布于所述显示区11内,所述黑色矩阵40包括:多个位于所述显示区11内各个色阻块30之间的黑色矩阵条41、以及位于所述非显示区12内包围所述显示区11的黑色矩阵框42。
进一步地,所述多个色阻块30为多种不同颜色的色阻块30,优选地,所述多个色阻块30包括:红色色阻块、绿色色阻块、及蓝色色阻块,并且根据需要所述多个色阻块30还可以包括黄色色阻块或白色色阻块等其他颜色的色阻块。
步骤S3、请参阅图7,根据预设的公共电极图案,去除位于所述非显示区12内的部分公共电极薄膜20’,得到公共电极20;
所述公共电极20包括:位于显示区11内的主电极21、以及至少一个位于非显示区12内的与所述主电极21电性连接的连接电极22。
具体地,所述步骤S3中可通过镭射制程或光罩制程去除位于所述非显示区12内的部分公共电极薄膜20’,或者所述步骤S3中还可以通过光罩制程去除位于所述非显示区12内的部分公共电极薄膜20’,即设计相应图案的光罩,通过所述光罩对所述公共电极薄膜20’进行曝光、显影、蚀刻、及剥离来去除非显示区12内的部分公共电极薄膜20’。
需要说明的是,所述连接电极22用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接,以从所述阵列基板获取彩膜基板公共电压。详细地,所述连接电极22与所述公共电极触点可通过导电粒子进行电性连接,也可以通过混有导电粒子的框胶进行电性连接,具体可根据实际制程的需要进行相应的选择,优选地,所述导电粒子为金粒子(Au-ball)。
优选地,如图4所示,在本发明的一个实施例中,所述主电极21的形状为矩形,所述连接电极22的数量为六个,该六个连接电极22分别电性连接于所述主电极21四角和主电极21两长边的中点处,此时,阵列基板上也在相应的位置预设有六个公共电极触点用于与上述的六个连接电极22电性连接,也即连接电极22具体为数量和位置可根据阵列基板上预设的公共电极触点的位置和数量来确定。
具体地,本发明中非显示区12内仅设有覆盖所述非显示区12的一部分的连接电极22,相比于现有技术中在非显示区12整面覆盖的电极,本发明中的连接电极22仅设置与所述公共电极触点相对应的位置,而在对应控制信号走线的位置不再设置电极,能够避免导电的异物或异常的导电粒子造成公共电极与阵列基板上的控制信号走线短路,同时彩膜基板的边缘不再设置电极,能够避免因外界腐蚀液体造成电极腐蚀而引起黑色矩阵剥落、液晶泄露和液晶气泡不良等问题,防止产品报废,升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。
综上所述,本发明提供一种彩膜基板,包括:衬底基板、设于所述衬底基板上的公共电极;所述衬底基板包括:显示区、以及包围所述显示区的非显示区;所述公共电极包括:主电极、以及至少一个与所述主电极电性连接的连接电极,所述主电极位于所述显示区内且连续覆盖整个显示区,所述连接电极位于所述非显示区内且仅覆盖所述非显示区的一部分,能够有效避免因公共电极整面覆盖非显示区而造成公共电极短路或黑色矩阵剥离的问题,提升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。本发明还提供一种彩膜基板的制作方法,能够有效避免因公共电极整面覆盖非显示区而造成公共电极短路或黑色矩阵剥离的问题,提升液晶显示面板的产品稳定性,保证产品质量。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:衬底基板(10)、设于所述衬底基板(10)上的公共电极(20);
所述衬底基板(10)包括:显示区(11)、以及包围所述显示区(11)的非显示区(12);
所述公共电极(20)包括:主电极(21)、以及至少一个与所述主电极(21)电性连接的连接电极(22),所述主电极(21)位于所述显示区(11)内且连续覆盖整个显示区(11),所述连接电极(22)位于所述非显示区(12)内且仅覆盖所述非显示区(12)的一部分。
2.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,在所述衬底基板(10)与所述公共电极(20)之间还设有多个色阻块(30)以及分隔所述多个色阻块(30)黑色矩阵(40);
所述多个色阻块(30)阵列排布于所述显示区(11)内,所述黑色矩阵(40)包括:多个位于所述显示区(11)内各个色阻块(30)之间的黑色矩阵条(41)、以及位于所述非显示区(12)内包围所述显示区(11)的黑色矩阵框(42)。
3.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述连接电极(22)用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接。
4.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述主电极(21)的形状为矩形,所述连接电极(22)的数量为六个,该六个连接电极(22)分别电性连接于所述主电极(21)四角和主电极(21)两长边的中点处。
5.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、提供一衬底基板(10),所述衬底基板(10)包括:显示区(11)、以及包围所述显示区(11)的非显示区(12);
步骤S2、在所述衬底基板(10)上涂布公共电极材料,形成公共电极薄膜(20’),所述公共电极薄膜(20’)覆盖整个衬底基板(10);
步骤S3、根据预设的公共电极图案,去除位于所述非显示区(12)内的部分公共电极薄膜(20’),得到公共电极(20);
所述公共电极(20)包括:位于显示区(11)内的主电极(21)、以及至少一个位于非显示区(12)内的与所述主电极(21)电性连接的连接电极(22)。
6.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述步骤S3中通过镭射制程去除位于所述非显示区(12)内的部分公共电极薄膜(20’)。
7.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述步骤S3中通过光罩制程去除位于所述非显示区(12)内的部分公共电极薄膜(20’)。
8.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述步骤S1与步骤S2之间还包括:在所述衬底基板(10)上制作多个色阻块(30)以及分隔所述多个色阻块(30)的黑色矩阵(40)的步骤,所述公共电极(20)位于所述色阻块(30)以及黑色矩阵(40)上;
所述多个色阻块(30)阵列排布于所述显示区(11)内,所述黑色矩阵(40)包括:多个位于所述显示区(11)内各个色阻块(30)之间的黑色矩阵条(41)、以及位于所述非显示区(12)内包围所述显示区(11)的黑色矩阵框(42)。
9.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述连接电极(22)用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接。
10.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述主电极(21)的形状为矩形,所述连接电极(22)的数量为六个,该六个连接电极(22)分别电性连接于所述主电极(21)四角和主电极(21)两长边的中点处。
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