CN107108330A - 玻璃板 - Google Patents

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CN107108330A CN201580070762.1A CN201580070762A CN107108330A CN 107108330 A CN107108330 A CN 107108330A CN 201580070762 A CN201580070762 A CN 201580070762A CN 107108330 A CN107108330 A CN 107108330A
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远山成
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Abstract

本发明的目的在于提供具有耐损伤性以及耐酸性的含有磷酸盐类的玻璃板。本发明涉及以氧化物基准的摩尔百分比表示计，含有55.5～80％的SiO2、12～20％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5％以上的P2O5、以及1％以上的碱土金属RO(RO为MgO+CaO+SrO+BaO)的玻璃板。

Description

玻璃板
技术领域
本发明的实施方式涉及玻璃板。尤其涉及化学强化用玻璃板，即，可适用于化学强化玻璃的玻璃板。
背景技术
近年，信息设备以平板PC、智能手机以及电子书阅读器等中可见到的具备触摸面板显示器者为主流。
对于触摸感应玻璃、覆盖玻璃以及OGS(One Glass Solution，单片玻璃解决方案)的玻璃中的任一种玻璃均要求薄且高强度，使用用离子交换实施了化学强化处理的化学强化玻璃。
这些化学强化玻璃的强化特性通常用表面压缩应力(CS：Compressive stress)和压缩应力深度(DOL：Depth of layer)表示。
通过该化学强化形成的表面压缩应力层阻碍冲击所导致的龟裂的传播。此外，公开了通过在组成中含有磷酸，使化学强化特性不下降，而且可得到耐损伤性(例如，参考专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特表2013-544227号公报
专利文献2：日本专利第3164223号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
另一方面，磷酸盐类玻璃的耐候性低，在长期使用中，其表面容易产生由于白锈或风化作用导致的侵蚀，因而缺乏实用性(例如，参考专利文献2)。此外，在对覆盖玻璃进行AG(Anti-Glare，抗眩光)处理等表面改性时，精加工对蚀刻液浓度的变化变得非常敏感。因此，工艺余量变得非常狭窄，导致成品率下降，成本增多。
本发明的目的在于提供具有耐损伤性以及耐酸性的含有磷酸盐类的玻璃板。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明的一实施方式的玻璃板的特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，含有55.5～80％的SiO2、12～20％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5％以上的P2O5、以及1％以上的碱土金属RO(RO为MgO+CaO+SrO+BaO)。
该玻璃板优选氢量达到标准值(bulk value)的1.05倍的深度为自玻璃板的表面起500nm以上的深度，自玻璃板的表面起深度500nm～1000nm的区域中的氢量的平均值优选标准值的1.5倍以上，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，优选含有57～76.5％的SiO2、12～18％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5～10％的P2O5、以及1％以上的碱土金属RO，进一步优选含有0.1％以上的F。
此外，更优选能够化学强化的这些玻璃板。
发明的效果
本发明的实施方式可提供具有耐损伤性以及耐酸性的含有磷酸盐类的玻璃板。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行详细说明。另外本说明书中，“质量减少”与“重量减少”含义相同。此外，表示数值范围的“～”表示包括记载在其前后的作为下限值和上限值的数值。
本发明的实施方式的玻璃板的特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，含有55.5～80％的SiO2、12～20％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5％以上的P2O5、以及1％以上的碱土金属RO(RO为MgO+CaO+SrO+BaO)。
本发明的实施方式的玻璃板优选氢量达到标准值的1.05倍以上的深度为自表面起500nm以上的深度。更优选700nm以上，进一步优选1000nm以上。通过在自表面起至少500nm为止的区域中导入比标准值多的氢，与标准体相比，可进一步提高耐酸性。藉此，能够大幅扩大蚀刻处理等中的工艺余量。此处标准值是指自玻璃板起100μm以上的深度中的氢量的平均值，标准体是指研磨了自表面起100μm以上的未处理的玻璃板。
此外，本发明实施方式的玻璃板优选自表面起深度500nm～1000nm的区域中的氢量的平均值为标准值的1.5倍以上。更优选2倍以上，进一步优选2.5倍以上，特别优选3倍以上。通过使自表面起深度500nm～1000nm的区域中的氢量的平均值为标准值的1.5倍以上，与标准体相比，可进一步提高耐酸性。此外，为了防止强化特性的下降和应力驰豫，优选上限为10倍以下。
这样通过在表面导入氢使耐酸性提高的理由尚不清楚，但本发明人有如下见解。即，认为由于被导入到表面的氢离子与水溶液中的氧离子或水分子在电荷上排斥，从而提高了耐酸性。
作为提高表面的氢量的方法，例如可例举下述。即，在将玻璃成形为所规定的形状的工序中，加长成形温度附近的滞留时间，或使气压上升、抑制水向空气中的扩散等。
在制造含有磷酸或硼酸等挥发成分的玻璃时，为了不发生挥发导致的堆积物的处理或组成不均，通常通过在能够操作的范围内尽可能设为高粘度，且在短时间内进行，来抑制挥发。
另一方面，本发明的实施方式中，在制造工序中进行玻璃表面的氢导入处理时，理想的是在使形成玻璃基板表面的玻璃成形槽中的粘度达到10000泊以上～500000泊以下的温度下进行。
在粘度比500000泊大的情况下，氢的导入需要长时间，生产效率下降。另一方面，在粘度比10000泊小的情况下，可在短时间内进行氢的导入，但由于大量导入而标准值也上升，因此由此导致的物性变化变得显著。向块体中的过度的氢的导入有时例如会使强化特性下降。
此外，作为其他导入方法，可例举在Tg(玻璃化温度)以上的温度下对玻璃板进行热处理，或进行酸或碱处理。
本发明的实施方式的玻璃板以氧化物基准的摩尔百分比表示计，优选含有57～76.5％的SiO2、12～18％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5～10％的P2O5、以及1％以上的碱土金属RO。
本发明的实施方式的玻璃板以氧化物基准的摩尔百分比表示计，优选含有55.5～80％的SiO2、12～20％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5％以上的P2O5、0.1％以上的F、以及1％以上的碱土金属RO。
以下，对在本发明的实施方式的玻璃板中，将玻璃组成限定在上述范围内的理由进行说明。本说明书中，仅“％”标记在没有特别指出的范围内是指“摩尔％”。
SiO2是形成玻璃骨架的成分，是必要成分。此外，是减少玻璃表面有伤(压痕)时的裂纹的产生、或降低化学强化后造成压痕时的破坏率的成分，是必要成分。通过使SiO2的含量在55.5％以上，可避免作为玻璃的稳定性或耐酸性、耐候性或耐蚀刻性的下降。SiO2的含量优选为57％以上，更优选59％以上。通过使SiO2的含量为80％以下，可避免玻璃的粘性的增大所导致的熔融性的下降。优选为76.5％以下，更优选为72.5％以下。
Al2O3是为了提高离子交换性能以及耐蚀刻性的有效成分，或增大表面压缩应力的成分，是必要成分。通过使Al2O3的含量在12％以上，可通过离子交换，得到所希望的表面压缩应力值或压缩应力层厚度。通过使Al2O3的含量为20％以下，可防止玻璃的粘性的增大，能够实现不均质的熔融，或避免耐酸性的下降。Al2O3的含量优选为18％以下，更优选为16％以下，进一步优选为15％以下。
P2O5是不阻碍离子交换性能、提高耐损伤性的成分，是必要成分。通过使P2O5的含量为2.5％以上，可得到裂纹扩展起始负荷(CIL)高的玻璃。优选为3％以上，更优选为5％以上。此外，通过使P2O5的含量在10％以下，可得到耐酸性特别优良的玻璃。
Na2O是通过离子交换形成表面压缩应力层、并提高玻璃的熔融性的成分，是必要成分。通过使Na2O的含量在8％以上，可通过离子交换形成所希望的表面压缩应力层，优选为10％以上，更优选为12％以上，进一步优选为14％以上。通过使Na2O的含量在25％以下，可避免耐候性或耐酸性的下降或来自压痕的裂纹的产生。Na2O的含量优选为20％以下，更优选为18％以下。
K2O不是必要成分，但为了增大离子交换速度，也可在5％以下的范围内含有K2O。通过使K2O的含量在5％以下，可避免来自压痕的裂纹的产生，或可避免硝酸钾熔融盐中的NaNO3浓度所导致的表面压缩应力的变化的增大。K2O的含量优选为3％以下，更优选1％以下。在希望硝酸钾熔融盐中的NaNO3浓度所导致的表面压缩应力的变化变小的情况下，优选不含有K2O。
MgO、CaO、SrO以及BaO的碱土金属氧化物(碱土金属RO)用于耐候性提高是有效的，此外是降低玻璃的粘性、使熔融变得容易的成分。
MgO+CaO+SrO+BaO的含量优选1％以上，更优选1.5％以上。此外，由于可抑制失透和离子交换速度的下降，上限优选15％以下。更优选10％以下，进一步优选7％以下。
另外，各成分的优选含量如下。
MgO是使表面压缩应力增大的成分，此外是提高熔融性的成分，因此可在15％以下的范围内含有。通过使MgO的含量为15％以下，可避免玻璃的失透、或离子交换速度的下降。MgO的含量优选在10％以下，更优选在8％以下，进一步优选在5％以下。
CaO是提高高温下的熔融性、或不易引起失透的成分，可在5％以下的范围内含有。通过使CaO的含量在5％以下，可避免对离子交换速度或裂纹发生的耐性的下降。CaO的含量优选在3％以下，更优选在1％以下。
SrO可根据需要含有，但由于与MgO、CaO相比，其使离子交换速度下降的效果大，因此在含有的情况下，其含量优选3％以下。典型的是不含SrO。
由于BaO在碱土金属氧化物中使离子交换速度下降的效果最大，因此优选设为不含有BaO，或在含有的情况下其含量为3％以下。典型的是不含BaO。
ZrO2是提高硬度，或提高软化点、抑制应力驰豫，或改善耐酸性的成分，可在8％以下的范围内含有。通过使ZrO2在8％以下，可避免来自压痕的裂纹的产生、或失透温度的增大。ZrO2的含量优选为5％以下，更优选为3％以下，进一步优选为2％以下。
F是提高化学耐久性的成分。通过使F的含量在0.1％以上，可提高耐酸性。另外，作为氟原料，可使用SnF2、ZnF2、AlF3、MgF2、SrF2或CaF2。此外，从防止挥发或失透、可稳定制造的方面出发，上限优选5％以下。
其他，作为玻璃熔融的澄清剂，也可适当含有氯化物、氟化物等。本发明的玻璃板实质上由以上说明的成分构成，但在不影响本发明的目的的范围内还可含有其它成分。含有这样的成分的情况下，这些成分的总含量优选5％以下，更优选3％以下，典型的是1％以下。
本发明的实施方式的玻璃板在使用维氏压头形成压痕时使裂纹的发生率达到50％的维氏压头的压入负荷优选300gf以上，更优选400gf以上，进一步优选500gf以上。如果上述维氏压头的压入负荷低于300gf，则在化学强化处理前的制造工序或搬运时容易有伤，此外，即使进行化学强化处理也有不能得到所希望的强度之虞。
本发明的实施方式的玻璃板通常设为板状，但也可以是对平板实施了弯曲加工的玻璃板。本实施方式的玻璃是通过浮法、熔融法、流孔下引法等已知的玻璃成形方法成形为平板形状的玻璃板。
本发明的实施方式的玻璃板具有能够用已有的成形法成形的尺寸。即，如果用浮法成形，则可得到浮法成形宽度的连续的带状的玻璃。此外，最终切断为适合使用目的的大小。
即，本发明的玻璃板为平板PC或智能手机等显示器的大小、或大厦或住宅的窗玻璃的大小。本实施方式的玻璃通常切断为矩形，但为圆形或多角形等其他形状也没有问题，也包括实施了开孔加工的玻璃。
<化学强化处理>
本发明的玻璃板优选能够化学强化处理的玻璃板，即化学强化用玻璃板。化学强化处理可通过以往公知的方法进行。此外，优选在化学强化处理之前，进行根据用途的形状加工，例如进行切断、端面加工以及开孔加工等机械性加工。
通过化学强化处理，通过在含有较大离子半径的金属离子(典型的是K离子)的金属盐(例如，硝酸的钾)的熔液中浸渍等使其与玻璃基板接触，藉此使玻璃基板中的较小离子半径的金属离子(典型的是Na离子或Li离子)与较大离子半径的金属离子置换。
化学强化处理例如可通过在300～550℃的硝酸钾熔融盐中将玻璃板浸渍5分钟～20小时来进行。离子交换条件可考虑玻璃的粘度特性和用途、板厚、玻璃内部的拉伸应力等来选择最适条件。
作为用于进行离子交换处理的熔融盐，例如可例举硝酸钾、硫酸钾以及氯化钾等碱硝酸盐、碱硫酸盐以及碱氯化物盐等。这些熔融盐可单独使用，也可以组合起来使用。此外，为了调整化学强化特性，也可混合含钠的盐。
本发明的实施方式中，对化学强化处理的处理条件没有特别限定，只要考虑玻璃的特性以及熔融盐等、选择最适条件即可。
另外，化学强化玻璃的表面压缩应力层的深度以及表面压缩应力值可使用表面应力计(例如，折原制作所株式会社(折原製作所)制FSM-6000)等进行测定。
通过对本发明的实施方式的玻璃板进行化学强化处理，可得到化学强化玻璃。作为使用化学强化玻璃的产品，例如可例举数码相机、移动电话以及便携信息终端(PDA)的显示器装置等的覆盖玻璃以及显示器的玻璃基板。
对本发明的实施方式的玻璃板的用途没有特别限定。在进行了化学强化的情况下，从具有高机械性强度的方面出发，适合将经化学强化的玻璃用于预计存在落下所导致的冲击、或与其他物质的接触处。
具体而言，例如，移动电话机(包括智能手机等多功能信息终端。)、PHS、PDA、平板型终端、笔记本型个人电脑、游戏机、便携音乐·动画播放器、电子书、电子终端、表、相机或GPS等的显示器部分用的覆盖玻璃，以及这些设备的触摸面板操作用监视器的覆盖玻璃，微波炉、烤面包机等烹饪电器的覆盖玻璃，电磁炉器等的顶板，表、计等计量设备类的覆盖玻璃以及复印机或扫描仪等的读取部分用的玻璃板等机械或设备类的保护用途。
此外，例如可例举车辆、船舶、飞机等的窗用玻璃、家庭用或产业用的照明设备，信号、诱导灯、电子公告牌的覆盖玻璃，广告箱以及防弹玻璃等用途。可例举太阳能电池保护用的覆盖玻璃以及用于提高太阳能的发电效率的集光用的玻璃材或薄膜太阳能电池的基板等用途。
此外，例如有作为各种镜面用的玻璃，还有作为HDD等信息存储介质的基板、CD、DVD、蓝光光盘等的信息存储介质的基板的用途。
此外，例如可例举作为水槽、盘子或杯子等餐具、瓶或切菜板等各种烹饪器具、餐具柜、冰箱的搁板以及墙壁、屋顶或隔断等建材的用途。
在这些用途以外，对本发明的实施方式的玻璃板进行化学强化处理而制造的化学强化玻璃还适合用作为组装在液晶、等离子、有机EL等各种图像显示装置中的显示器用玻璃材料。
实施例
下面，对本发明的实施例进行具体说明，但本发明不局限于此。
[玻璃板的制作]
对于表1、表2的实施例1～7，以及比较例1～2，在从SiO2到F为止的栏中以达到摩尔百分比表示计所示的组成的方式适当选择氧化物、氢氧化物、碳酸盐或硝酸盐等通常使用的玻璃原料，进行秤量，以使玻璃为900g。接着，将混合后的原料放入铂金制坩埚，投入1650℃的电阻加热式电炉，熔融4小时，进行脱泡、均质化。使得到的熔融玻璃流入模具材料，在Tg+30℃的温度下保持1小时后，以0.5℃/分钟的速度冷却至室温，得到玻璃块。将该玻璃块切割、磨削，最后将其双面加工为镜面，获得大小为20mm×20mm、且厚度为1mm的板状玻璃板。
此外，对于实施例6以及7，通过对得到的玻璃以表2所规定的温度以及时间进行热处理，进行最外表面的氢导入处理。
这些玻璃的50％CIL(gf)、耐酸性(单位：mg/cm2)、耐酸性改善率(％)、氢量的“标准值，500-1000nm深度平均值，表面/标准系数”示于表1、2。
[物性的测定]
(1)50％CIL
CIL(裂纹扩展起始负荷)值用以下的方法求出。用维氏硬度试验机，在常温大气气氛下将维氏压头压入15秒后取下维氏压头，15秒后观测压痕附近。观测中，考察产生了几根来自压痕的角落的裂纹。测定分别进行100gf、200gf、300gf、500gf、1kgf、2kgf的维氏压头的压入负荷。算出每个负荷产生的裂纹根数的平均值，将裂纹的发生率达到50％的维氏压头的压入负荷作为50％CIL。
(2)耐酸性试验
耐酸性通过将得到的板状玻璃在加热到50℃的0.1mol/l的盐酸中浸渍3小时、测定浸渍前后的质量减少量，再以该值除以板状玻璃表面积来算出。
(3)改善率(％)
热处理前后的耐酸性的改善率如下求出。
「100-(热处理后的质量减少)/(热处理前的质量减少)*100」(％)
(4)氢浓度分布的测定
玻璃的氢浓度分布是指在以下的分析条件下测定的分布。玻璃基板的氢浓度分布的测定中使用二次离子质量分析法(Secondary Ion Mass Spectrometory：SIMS)。将测定对象的玻璃基板同时搬运到SIMS装置内，依次进行测定，取得1H-以及30Si-的强度的深度方向分布。之后，用1H-分布除以30Si-分布，得到1H-/30Si-强度比的深度方向分布。根据1H-/30Si-强度比的深度方向分布，算出自深度500nm起到1000nm为止的区域中的平均1H-/30Si-强度比。此处，由于最外表面有可能反映由于放置而导致的表面变质或污染的影响，因此对自表面起深度500nm以上的区域中的氢量进行比较。另外，SIMS的测定条件如下所述。
[SIMS的测定条件]
装置：Ulvac-Phi株式会社(アルバック·ファイ社)制ADEPT1010
一次离子种：Cs+
一次离子的加速电压：5kV
一次离子的电流值：200nA
一次离子的入射角：相对于试样面的法线为60°
一次离子的光栅尺寸：300×300μm2
二次离子的极性：负
二次离子的检出区域：60×60μm2(一次离子的光栅尺寸的4％)
中和枪的使用：有
将横轴从溅射时间转换为深度的方法：通过触针式表面形状测定器(维科公司(Veeco社)制Dektak150)测定分析坑的深度，求出一次离子的溅射速率。使用该溅射速率，将横轴从溅射时间转换为深度。1H-检出时的场轴电位(Field Axis Potential)：能够根据每个装置改变最佳值。测定者在注意充分遮蔽背景的条件下设定该值。
表2中记载的标准值设为研磨了表面起200μm的未处理的玻璃板中的自表面起深度500nm到1000nm为止的氢浓度平均值。相同地，500-1000nm深度平均值是指进行了各处理的玻璃板中、自表面起的深度500nm到1000nm为止的氢浓度平均值。此外，表面/标准系数是表示与标准值相比，500-1000nm深度平均值的氢量为多少倍的值。氢导入深度是指氢量达到标准值的1.05倍的深度。
[表1]
表1
(mol％) 实施例1 实施例2 实施例3 实施例4 实施例5 比较例1 比较例2
SiO2 60.0 61.0 63.0 68.0 59.7 68.0 55.0
Al2O3 13.0 15.0 12.0 12.0 18.5 10.0 17.0
P2O5 6.0 4.0 7.0 3.0 2.8 5.0
Na2O 17.0 16.0 14.0 16.0 17.0 14.0 18.0
Mgo 4.0 3.0 1.0 1.0 1.5 8.0 5.0
CaO 3.0 0.5
F 1.0
计 100 100 100 100 100 100 100
RO 4.0 3.0 4.0 1.0 8.0
50％未强化CIL(gf) 781 553 1130 1048 250
耐酸性(质量减少(mg/cm2)) 0.034 0.018 0.106 0.072 1.394 1.684
[表2]
表2
(mol％) 实施例5 实施例6 实施例7 比较例2
SiO2 59.7 55.0 59.7 55.0
Al2O3 18.5 17.0 18.5 17.0
P2O5 2.8 5.0 2.8 5.0
Na2O 17.0 18.0 17.0 18.0
MgO 1.5 5.0 1.5 5.0
CaO 0.5 0.5
F
计 100 100 100 100
热处理温度(℃) - 800 800 -
热处理时间(h) - 48 48 -
标准值： 0.0205 - - 0.0242
500-1000nm深度平均值 0.0205 0.0802 0.0731 0.0242
表面/标准系数 1.00 3.31 3.57 1.00
耐酸性(质量减少(mg/cm2)) 1.39 1.52 1.12 1.68
改善率(％) - 10 20 -
由表1以及表2示出的结果得到以下的考察。
实施例1～4中，铝硅酸盐玻璃中，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，通过含有2.5％以上P2O5，50％CIL达到500gf以上。
另一方面，比较例1中，不含有P2O5。在该情况下，50％CIL显示为250gf的低值。
即，可知在铝硅酸盐玻璃中，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，通过含有2.5％以上P2O5，可得到50％CIL为500gf以上的耐损伤性高的玻璃。
此外，实施例1～5中，铝硅酸盐玻璃中，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，通过含有55.5％以上80％以下的SiO2、12％以上20％以下的Al2O3，质量减少达到1.5mg/cm2以下。其中，进而可知通过将各成分的含量进一步设为57％以上76.5％以下的SiO2、12％以上18％以下的Al2O3，如实施例1～4所示，质量减少达到0.15mg/cm2以下。而且，如实施例2所示，铝硅酸盐玻璃中，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，通过含有0.1％以上的F，质量减少达到0.03mg/cm2以下，进而可抑制质量减少。
另一方面，比较例2中，由于SiO2为55.5％以下，质量减少达到1.6mg/cm2以上。
即，可知在铝硅酸盐玻璃中，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，通过含有57％以上76.5％以下的SiO2、12％以上18％以下的Al2O3，可得到质量减少为0.15mg/cm2以下的耐酸性高的玻璃。此外，可知通过含有0.1％以上的F，可进一步提高耐酸性。
实施例6、7中，自表面起深度500nm～1000nm中的氢量的平均值为标准值的3倍以上。这些玻璃中，耐酸性改善10％以上。尤其，氢量的变化更大的实施例7中，耐酸性的改善效果高。此外，实施例6、7的氢导入深度分别为1000nm以上。
参照特定的实施方式对本发明进行了详细说明，但本领域技术人员应该知道，在不脱离本发明的技术思想的范围内可加以各种改变或修正。本申请基于2014年12月25日提交申请的日本专利申请(特愿2014-261984)，在此引用其内容作为参照。
产业上利用的可能性
本发明的实施方式的玻璃板可用于薄膜太阳能电池的基板或显示器装置的覆盖玻璃、窗用玻璃等。此外，可通过化学强化，很好地应用于便携设备等的覆盖玻璃。

Claims (6)

1.一种玻璃板，其特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，含有55.5～80％的SiO2、12～20％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5％以上的P2O5、以及1％以上的碱土金属RO，其中，RO为MgO+CaO+SrO+BaO。
2.如权利要求1所述的玻璃板，其特征在于，氢量达到标准值的1.05倍的深度为自玻璃板的表面起500nm以上。
3.如权利要求1或2所述的玻璃板，其特征在于，自所述玻璃板的表面起深度500nm～1000nm的区域中的氢量的平均值为标准值的1.5倍以上。
4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃板，其特征在于，以氧化物基准的摩尔百分比表示计，含有57～76.5％的SiO2、12～18％的Al2O3、8～25％的Na2O、2.5～10％的P2O5、以及1％以上的碱土金属RO。
5.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃板，其特征在于，还含有0.1％以上的F。
6.如权利要求1～5中任一项所述的玻璃板，其特征在于，能够进行化学强化。
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