CN107093555A - 一种用于芯片加工的刻蚀机 - Google Patents

一种用于芯片加工的刻蚀机 Download PDF

Info

Publication number
CN107093555A
CN107093555A CN201710214935.3A CN201710214935A CN107093555A CN 107093555 A CN107093555 A CN 107093555A CN 201710214935 A CN201710214935 A CN 201710214935A CN 107093555 A CN107093555 A CN 107093555A
Authority
CN
China
Prior art keywords
frame
laser
chip
driving chamber
etching machine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710214935.3A
Other languages
English (en)
Inventor
卓廷厚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xiamen Core Technology Co Ltd
Original Assignee
Xiamen Core Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xiamen Core Technology Co Ltd filed Critical Xiamen Core Technology Co Ltd
Priority to CN201710214935.3A priority Critical patent/CN107093555A/zh
Publication of CN107093555A publication Critical patent/CN107093555A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/26Bombardment with radiation
    • H01L21/263Bombardment with radiation with high-energy radiation
    • H01L21/268Bombardment with radiation with high-energy radiation using electromagnetic radiation, e.g. laser radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/6776Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于芯片加工的刻蚀机,包括机体、激光器和光谱分析仪,所述机体的上端面架设有传送带,所述机体前端上侧固定安装有入料箱,所述入料箱的一侧固定安装有第一机架,所述光谱分析仪设置在第一机架的上端,所述光谱分析仪的上端电性连接有控制器,所述第一机架的一侧固定安装有第二机架,所述激光器固定安装在第二机架的前端,所述激光器的正下方固定安装有载片台,所述机体的末端安装有驱动腔,所述驱动腔的一侧固定安装有传送电机,所述驱动腔的上端面设置有检测台。该装置结构合理,通过激光进行刻蚀作业,能够实现对芯片的待刻蚀层进行自动刻蚀,且不损伤同层其他材料或下层材料,不仅提高了工作效率而且使维修更加方便。

Description

一种用于芯片加工的刻蚀机
技术领域
本发明涉及芯片技术领域,具体为一种用于芯片加工的刻蚀机。
背景技术
目前,用于对芯片的去层方法包括化学刻蚀法、等离子刻蚀法和机械研磨法。其中,最常用的是采用RIE反应离子刻蚀和湿法酸液腐蚀相结合的方法,通过光学显微镜或者能谱仪获得芯片的成分,根据键合区与周围区域的颜色和反光差异,获得各层材料的厚度,并根据芯片的成分对芯片进行相应的处理。但是,这种干法和湿法相结合的技术,RIE反应离子的条件比较高,处理过程比较耗时,且酸液腐蚀危害人体健康。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于芯片加工的刻蚀机,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种用于芯片加工的刻蚀机,包括机体、激光器和光谱分析仪,所述机体的上端面架设有传送带,所述机体前端上侧固定安装有入料箱,所述入料箱的一侧固定安装有第一机架,所述光谱分析仪设置在第一机架的上端,所述光谱分析仪的上端电性连接有控制器,所述第一机架的一侧固定安装有第二机架,所述激光器固定安装在第二机架的前端,所述激光器的正下方固定安装有载片台,所述机体的末端安装有驱动腔,所述驱动腔的一侧固定安装有传送电机,所述驱动腔的上端面设置有检测台。
优选的,所述载片台的底端安装有红外线检测装置。
优选的,所述激光器、传送电机和红外线检测装置均通过数据线与控制器电性连接。
优选的,所述入料箱的底端设置有入料口,所述入料口的尺寸略大于所加工芯片的规格。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:该装置结构合理,通过激光进行刻蚀作业,能够实现对芯片的待刻蚀层进行自动刻蚀,且不损伤同层其他材料或下层材料,精度更高,而且取消传统一体机式的装备,采用传送带式的流水线设备,能对各道工序进行实时人工监控,不良率低,不仅提高了工作效率而且使维修更加方便。
附图说明
图1为本发明整体结构示意图;
图2为本发明载片台结构示意图。
图中:1机体、2第一机架、3传送带、4入料箱、5控制器、6光谱分析仪、7激光器、8第二机架、9检测台、10驱动腔、11传送电机、12载片台、13红外线检测装置、14数据线、15入料口。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本实用的描述中,需要说明的是,术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或者位置关系为基于附图所示的方位或者位置关系,仅是为了便于描述本实用和简化描述,而不是指示或者暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用的限制。
本实用的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限制,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接,可以是机械连接,也可以是电连接,可以是直接连接,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用中的具体含义。
请参阅图1-2,本发明提供一种技术方案:一种用于芯片加工的刻蚀机,包括机体1、激光器7和光谱分析仪6,所述机体1的上端面架设有传送带3,用于传输,所述机体1前端上侧固定安装有入料箱4,所述入料箱4的底端设置有入料口15,所述入料口15的尺寸略大于所加工芯片的规格,用于方便进料,所述入料箱4的一侧固定安装有第一机架2,用于安装,所述光谱分析仪6设置在第一机架2的上端,所述光谱分析仪6的上端电性连接有控制器5,实现自动化和智能化,所述第一机架2的一侧固定安装有第二机架8,所述激光器7固定安装在第二机架8的前端,所述激光器7的正下方固定安装有载片台12,提供工作平台,所述载片台12的底端安装有红外线检测装置13,所述机体1的末端安装有驱动腔10,所述驱动腔10的一侧固定安装有传送电机11,用于提供动力,所述激光器7、传送电机11和红外线检测装置13均通过数据线14与控制器5电性连接,实现自动化,所述驱动腔10的上端面设置有检测台9,方便人工抽检并包装。
工作原理:使用时,芯片通过入料箱4依次进入传送带3,首先经过光谱分析仪6检测芯片的待刻蚀层信息,然后进入激光器7下的载片台12,红外线检测装置13检测到,控制器5控制传送电机11暂停,并且激光器7在控制器5的调控下根据待刻蚀层信息对芯片的待刻蚀层进行刻蚀,工序结束后传送电机11继续启动,直到第二个芯片进入载片台12。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (4)

1.一种用于芯片加工的刻蚀机,包括机体(1)、激光器(7)和光谱分析仪(6),其特征在于:所述机体(1)的上端面架设有传送带(3),所述机体(1)前端上侧固定安装有入料箱(4),所述入料箱(4)的一侧固定安装有第一机架(2),所述光谱分析仪(6)设置在第一机架(2)的上端,所述光谱分析仪(6)的上端电性连接有控制器(5),所述第一机架(2)的一侧固定安装有第二机架(8),所述激光器(7)固定安装在第二机架(8)的前端,所述激光器(7)的正下方固定安装有载片台(12),所述机体(1)的末端安装有驱动腔(10),所述驱动腔(10)的一侧固定安装有传送电机(11),所述驱动腔(10)的上端面设置有检测台(9)。
2.根据权利要求1所述的一种用于芯片加工的刻蚀机,其特征在于:所述载片台(12)的底端安装有红外线检测装置(13)。
3.根据权利要求1所述的一种用于芯片加工的刻蚀机,其特征在于:所述激光器(7)、传送电机(11)和红外线检测装置(13)均通过数据线(14)与控制器(5)电性连接。
4.根据权利要求1所述的一种用于芯片加工的刻蚀机,其特征在于:所述入料箱(4)的底端设置有入料口(15),所述入料口(15)的尺寸略大于所加工芯片的规格。
CN201710214935.3A 2017-04-02 2017-04-02 一种用于芯片加工的刻蚀机 Pending CN107093555A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710214935.3A CN107093555A (zh) 2017-04-02 2017-04-02 一种用于芯片加工的刻蚀机

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710214935.3A CN107093555A (zh) 2017-04-02 2017-04-02 一种用于芯片加工的刻蚀机

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107093555A true CN107093555A (zh) 2017-08-25

Family

ID=59649015

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710214935.3A Pending CN107093555A (zh) 2017-04-02 2017-04-02 一种用于芯片加工的刻蚀机

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107093555A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113368916A (zh) * 2021-07-15 2021-09-10 合肥市华达半导体有限公司 一种适用于32位mcu芯片的检测维修一体平台

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009058304A1 (en) * 2007-10-31 2009-05-07 Ambit Biosciences Corporation Uncoupling of dna insert propagation and expression of protein for phage display
CN203918235U (zh) * 2014-06-03 2014-11-05 国民技术股份有限公司 一种激光刻蚀装置及系统
CN104144575A (zh) * 2014-08-21 2014-11-12 江苏迪飞达电子有限公司 Pcb板蚀刻机
CN205904583U (zh) * 2016-08-25 2017-01-25 温州振疆电子科技有限公司 一种全自动激光蚀刻机

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009058304A1 (en) * 2007-10-31 2009-05-07 Ambit Biosciences Corporation Uncoupling of dna insert propagation and expression of protein for phage display
CN203918235U (zh) * 2014-06-03 2014-11-05 国民技术股份有限公司 一种激光刻蚀装置及系统
CN104144575A (zh) * 2014-08-21 2014-11-12 江苏迪飞达电子有限公司 Pcb板蚀刻机
CN205904583U (zh) * 2016-08-25 2017-01-25 温州振疆电子科技有限公司 一种全自动激光蚀刻机

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113368916A (zh) * 2021-07-15 2021-09-10 合肥市华达半导体有限公司 一种适用于32位mcu芯片的检测维修一体平台

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101926009B (zh) 自动化太阳能电池电连接设备
CN110026883A (zh) 研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质
CN107093555A (zh) 一种用于芯片加工的刻蚀机
CN108161716A (zh) 一种多工位芯片磨削装置
CN108340237A (zh) 研磨装置及研磨方法
CN206236703U (zh) 晶环自动上料系统
CN104339241B (zh) 切削余量的均匀化方法和板材的周缘磨削装置
CN106684212A (zh) 自动检测双片装置
CN213700825U (zh) 一种杯盖产品质量检测系统及装置
CN210982247U (zh) 半导体硅晶柱内部瑕疵影像检测设备
CN210640189U (zh) 晶圆工艺环境自动检测系统
CN109360867B (zh) 一种光伏电池串送料装置
CN206711910U (zh) 电池片分流铺设入料系统
CN208127171U (zh) 单边上片机
CN207465873U (zh) 一种贴膜机
CN204473795U (zh) 芯片自动检测上料装置
CN108680580A (zh) 一种全自动硅片检测分选装置
CN113049201B (zh) 一种半导体激光器管帽封帽强度检测装置及检测方法
CN209199110U (zh) 升降式自动扫描装置
CN207705175U (zh) 一种电池片双道四排石墨舟插取片设备
CN208853283U (zh) 一种用于生产流水线上的缺陷检测设备
CN205967651U (zh) 一种可调封头切边装置
KR101926760B1 (ko) 쏠라셀 웨이퍼 검사장치
CN206235574U (zh) 温控器检测设备以及温控器检测生产线
CN210615713U (zh) 工业设备连接器用自动锁付螺丝及检测机

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20170825