CN107051222A - 大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法 - Google Patents
大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法 Download PDFInfo
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Abstract
本发明属于分子筛膜制备技术领域,具体涉及一种大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法。所述方法如下:(1)大孔载体内表面修饰层的制备:将硅源、铝源、碱源和去离子水混合,搅拌均匀,得大孔载体修饰液;将大孔载体外表面用聚四氟乙烯包裹后,进行修饰,洗涤、干燥,在大孔载体内表面制得连续均匀的修饰层;(2)大孔载体内膜的制备:将硅源、铝源、碱源和去离子水混合,搅拌均匀,得分子筛膜合成液;将带有内表面修饰层的大孔载体采用分子筛膜合成液合成分子筛膜,洗涤、干燥,在大孔载体内表面制得分子筛膜。本发明能够在单通道、多通道支撑体上使用,制备的分子筛膜紧致、平整,渗透通量大,分离效率高,制备方法简单便捷,可重复性高。
Description
技术领域
本发明属于分子筛膜制备技术领域,具体涉及一种大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法。
背景技术
分子筛膜是近年发展起来的一种可以实现分子筛分的新型无机膜材料,由于其具有独特的筛分性、亲水/憎水性和择型催化等性能,在有机物脱水、小分子气体分离等领域具有广阔的应用前景。NaA分子筛膜是目前最适合有机物/水混合体系分离的一种亲水膜。然而,大部分NaA分子筛膜是在管状载体外表面合成的,在渗透汽化分离过程中,需要在膜管内侧抽真空,由于空间狭小,渗透蒸汽不易及时扩散,从而影响渗透通量和分离效率。另外,还存在着易磕碰、易污染等问题。因此,在载体的内表面合成分子筛膜是提高分离性能和实现多通道管内表面制备分子筛膜的重要途径。
为获得高分离性能的膜层,常采用小孔径(<300nm)多孔材料作为载体,但此类载体价格昂贵,是微孔、大孔陶瓷的几倍甚至几十倍,极大提高了分子筛膜的成本。大孔陶瓷载体是目前国内市场上最常见的多孔陶瓷产品之一,较之纳米孔径的载体具有易制备、成本低、通量高等优点。但是大孔载体通常具有表面粗糙、孔径大且分布不均等特征,直接采用原位合成法或者晶种法,容易存在涂晶大小不均,不可避免有小颗粒晶体塌陷或者嵌入孔道中的情况,导致制备出的分子筛膜存在孔洞、裂缝等缺陷。因此,开发一种在大孔陶瓷内表面制备分子筛膜的技术是降低分子筛膜成本的一种有效方法,亦是推动NaA分子筛膜商业化的关键。
发明内容
针对以上现有技术的不足,本发明的目的是提供一种大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,解决大孔陶瓷内表面粗糙、孔径大,难以制备平整、连续致密分子筛膜,分子筛晶粒沉陷在载体大孔中的问题,能够在单通道、多通道支撑体上使用,制备的分子筛膜具有紧致、平整的特点,制备成本低,渗透通量大,分离效率高,制备方法简单便捷,可重复性高。
本发明所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,步骤如下:
(1)大孔载体内表面修饰层的制备:
将硅源、铝源、碱源和去离子水混合,搅拌均匀,得大孔载体修饰液;将大孔载体外表面用聚四氟乙烯包裹后,固定在盛有大孔载体修饰液的反应釜内,然后将反应釜固定在旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动对大孔载体进行动态修饰,修饰结束后,将大孔载体取出,清洗、干燥,即可在大孔载体内表面制得连续均匀的修饰层;
(2)大孔载体内膜的制备:
将硅源、铝源、碱源和去离子水混合,搅拌均匀,得分子筛膜合成液;将带有内表面修饰层的大孔载体固定在盛有分子筛膜合成液的反应釜内,然后将反应釜固定在旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动,达到动态合成分子筛膜,合成结束后,将大孔载体取出,清洗、干燥,在大孔载体内表面制得分子筛膜。
反应釜固定在均相反应器中的转动轴上,反应釜外部设夹套,夹套与转动轴连接,实现反应釜的固定。反应釜固定在均相反应器中的转轴上示意图见附图6。
其中:
步骤(1)中,所述的干燥温度为40℃,干燥时间为10~24h;所述的洗涤为清洗至中性。
步骤(1)中,所述的将大孔载体外表面用聚四氟乙烯包裹为:采用聚四氟乙烯缠绕在大孔载体外表面,防止所述的大孔载体修饰液对外表面发生作用。
步骤(1)中,所述的硅源为二氧化硅、水玻璃、硅溶胶或硅酸钠中的一种,所述的铝源为氯化铝、氢氧化铝、氧化铝、铝酸钠或铝片中的一种,所述的碱源为氢氧化钠。采用的原料均为常规试剂,价格低廉。
步骤(1)中,所述的大孔载体修饰液中,碱源、硅源、铝源与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为0.5~3:1~3:1:100~300。具体的原料用量是根据此配比折算出的。过高的配比浓度,容易导致修饰层出现过厚、裂缝等缺陷;过低的配比浓度,则无法形成连续的修饰层。
步骤(1)中,所述的搅拌速度为50~100r/min,搅拌时间为10~20h,搅拌时温度为30℃。
步骤(1)中,所述的大孔载体的平均孔径为3~10μm,材质为氧化铝、堇青石或氧化锆中的一种或几种,类型为单通道或多通道。
步骤(1)中,所述的对大孔载体进行修饰,修饰温度为60~90℃,时间为1~10h,修饰时旋转电机的转速为5~15r/min。修饰时的温度、时间、转速对修饰层的厚度、连续及修饰层的晶相有着重要影响。温度高,修饰时间低,但难以形成覆盖完全的修饰层;温度低,修饰时间长,修饰层在高碱度环境下容易受到侵蚀而变得不平整。而转速过高,无法形成修饰层;转速过低,修饰层较厚。
步骤(2)中,所述的干燥温度为60℃,时间为5~10h;所述的洗涤为清洗至中性。
步骤(2)中,所述的硅源为二氧化硅、水玻璃、硅溶胶或硅酸钠中的一种,所述的铝源为氯化铝、氢氧化铝、氧化铝、铝酸钠或铝片中的一种,所述的碱源为氢氧化钠。采用的原料均为常规试剂,价格低廉。
步骤(2)中,所述的分子筛膜合成液中,碱源、硅源、铝源与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为20~50:3~5:1:600~2000。具体的原料用量是根据此配比折算出的。分子筛膜合成液的浓度不宜过高,否则将阻碍液体在修饰层内部的扩散;合成液的浓度过低则无法使修饰层获得生长成膜充足的“养料”,导致膜不连续、不致密。
步骤(2)中,所述的搅拌速度为50~100r/min,搅拌时间为10~24h,搅拌时温度为30℃。
步骤(2)中,所述的合成分子筛膜,合成温度为60~100℃,时间为3~24h,合成时旋转电机的转速为3~10r/min。在此条件下合成的膜平整连续、晶体结合致密、膜层与载体的分界明显。
本发明所述的修饰和合成都是在动态工艺下进行。
本发明所述的大孔载体修饰液与分子筛膜合成液,虽然采用的原料、温度与时间有交集,但是其效果不同。
本发明针对目前市场上常见、易制得、成本低的大孔载体,通过NaA分子筛前驱体动态修饰工艺在大孔载体上形成一层分子筛修饰层,然后再进一步水热合成分子筛膜。首先,将大孔载体管浸入到装有大孔载体修饰液的反应釜中,然后将反应釜固定于可旋转的均相反应器中,在大孔载体内表面制得修饰层。其次,将带有内表面修饰层的大孔载体放置到装有合成液的反应釜中,固定于均相反应器中进行动态合成,从而在大孔载体内表面制得连续、致密的NaA分子筛膜。
一方面,修饰层的存在可以达到修饰大孔和提高载体平整度的目的,杜绝了分子筛晶粒沉陷在载体大孔中的可能性;另一方面修饰层为后期分子筛膜的合成提供诱导中心,控制后期分子筛膜的晶体取向,使制得的分子筛膜更加紧致、平整。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1、本发明以市场上常见且成本低的大孔载体为支撑体。采用NaA前驱体动态修饰技术在大孔载体内壁首先制备修饰层,解决了大孔陶瓷内表面粗糙、孔径大,难以制备平整、连续致密分子筛膜的难题。相较于现有晶种法修饰大孔载体,这种方法能够使大孔载体表面更加平整、孔径分布均匀,杜绝了分子筛晶粒沉陷在载体大孔中的可能性,制备的NaA分子筛膜具有成本低,膜晶体生长紧致、平整,分离性能优良等优点。
2、本发明采用在大孔载体内表面生长分子筛膜的工艺,能够在单通道、多通道支撑体上使用,能显著减少支撑体的用量,并能减少膜组件的数量,进而降低成本。
3、本发明采用前驱体动态修饰技术较二次生长法(晶种法)省去了制备晶种、分散及涂覆晶种等工艺,更为便捷,可重复性高。
附图说明
图1为实施例1大孔载体内表面的SEM图;
图2为实施例1大孔载体内表面修饰层的表面SEM图;
图3为实施例1大孔载体内表面修饰层的截面SEM图。
图4为实施例1大孔载体内表面制备的NaA分子筛膜的表面SEM图。
图5为实施例1大孔载体内表面制备的NaA分子筛膜的截面SEM图。
图6为反应釜固定在均相反应器中的转动轴上示意图。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步说明,但不限定本发明。
实施例1
所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,步骤如下:
(1)首先,将氢氧化钠、硅溶胶、铝酸钠、去离子水混合,在温度为30℃,搅拌速度为50r/min下,搅拌20h,得到分散均匀的大孔载体修饰液;
所述的大孔载体修饰液中,氢氧化钠、硅溶胶、铝酸钠与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为2:2:1:120。
将大孔载体修饰液加入到反应釜中,将大孔载体外表面用聚四氟乙烯缠绕,然后垂直浸到大孔载体修饰液中,将大孔载体固定在反应釜中。将反应釜密封,然后固定于旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动对大孔载体进行修饰,转动速度为5r/min,在60℃下修饰反应10h,将大孔载体取出,清洗至中性,在40℃下干燥10h后,得到带有内表面修饰层的大孔载体。
所述的大孔载体为单通道氧化铝材质的大孔载体,平均孔径为3.2μm。
采用的大孔氧化铝载体的内表面的SEM图见图1。
大孔氧化铝载体内表面修饰层的表面SEM图见图2。
大孔氧化铝载体内表面修饰层的截面SEM图见图3。
由图1-3对比可见,采用大孔载体修饰液对大孔载体进行修饰,得到的内表面修饰层连续、平整,明显提高了大孔载体的表面平整度,同时减少了大孔洞的存在,为后期制备连续致密的分子筛膜提供良好的生长环境。
(2)首先,将氢氧化钠、硅酸钠、硫酸铝、去离子水混合,在温度为30℃,搅拌速度为50r/min下,搅拌24h,得到分散均匀的分子筛膜合成液;
所述的分子筛膜合成液中,氢氧化钠、硅酸钠、硫酸铝与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为30:4:1:800。
将分子筛膜合成液加入到反应釜中,将带有内表面修饰层的大孔载体垂直浸到分子筛膜合成液中,将大孔载体固定在反应釜中。将反应釜密封,然后固定于旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动,从而实现分子筛膜的动态合成,转动速度为3r/min,在60℃下反应24h,将大孔载体取出,清洗至中性,在60℃下干燥5h后,在大孔载体内表面制得连续致密的分子筛膜。
大孔氧化铝载体内表面制备的NaA分子筛膜的表面SEM见图4。
大孔氧化铝载体内表面制备的NaA分子筛膜的截面SEM图见图5。
由图4-5可见,该方法制得的NaA分子筛膜连续、交联程度高、无缺陷,膜层与大孔载体分界明显,厚度为20μm。
将合成的NaA分子筛膜用于渗透汽化实施,在操作温度为70℃时,合成的NaA分子筛膜对乙醇含量90wt.%的乙醇/水体系的渗透通量为1.8kg/m2h,分离因子为2315,表现出了良好的分离性能。
实施例2
所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,步骤如下:
(1)首先,将水玻璃、铝片、氢氧化钠、去离子水混合,在温度为30℃,搅拌速度为75r/min下,搅拌15h,得到分散均匀的大孔载体修饰液。
所述的大孔载体修饰液中,氢氧化钠、水玻璃、铝片与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为3:2:1:200。
将大孔载体修饰液加入到反应釜中,将大孔载体外表面用聚四氟乙烯缠绕,然后垂直浸到大孔载体修饰液中,将大孔载体固定在反应釜中。将反应釜密封,然后固定于旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动,对大孔载体进行修饰,转动速度为10r/min,在70℃下修饰反应5h,将大孔载体取出,在40℃下干燥15h后,在大孔载体内表面制得平整连续的修饰层。
所述的大孔载体为单通道堇青石材质的大孔载体,平均孔径为5.7μm。
(2)首先,将氢氧化钠、二氧化硅、氯化铝、去离子水混合,在温度为30℃,搅拌速度为75r/min下,搅拌20h,得到分散均匀的分子筛膜合成液。
所述的分子筛膜合成液中,氢氧化钠、二氧化硅、氯化铝与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为40:5:1:1000。
将分子筛膜合成液加入到反应釜中,将带有内表面修饰层的大孔载体垂直浸到分子筛膜合成液中,将大孔载体固定在反应釜中。将反应釜密封,然后固定于旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动合成分子筛膜,转动速度为5r/min,在90℃下反应4h,将大孔载体取出,清洗至中性,在60℃下干燥7h后,在大孔载体内表面制得连续致密的分子筛膜。
同样的,将合成的NaA分子筛膜用于渗透汽化实施,在操作温度70℃时,合成的NaA分子筛膜对乙醇含量90wt.%的乙醇/水体系的渗透通量为2.2kg/m2h,分离因子为1724,表现出了良好的分离性能。
实施例3
所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,步骤如下:
(1)首先,将二氧化硅、氢氧化铝、氢氧化钠、去离子水混合,在温度为30℃,搅拌速度为100r/min下,搅拌10h,得到分散均匀的大孔载体修饰液。
所述的大孔载体修饰液中,氢氧化钠、二氧化硅、氢氧化铝与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为1:3:1:150。
将上述制得的大孔载体修饰液加入到反应釜中,将大孔载体外表面用聚四氟乙烯缠绕,然后垂直浸到载体修饰液中,将大孔载体固定在反应釜中。将反应釜密封,然后固定于旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动,对大孔载体进行修饰,修饰时的转动速度为15r/min,温度为80℃,修饰时间为3h,将大孔载体取出,清洗至中性,在40℃下干燥24h后,得到带有内表面修饰层的大孔载体。所述的内表面修饰层平整连续。
所述的大孔载体为四通道氧化铝与氧化锆复合材质的大孔载体,平均孔径为8.5μm。
(2)首先,将氢氧化钠、硅酸钠、硫酸铝、去离子水混合,在温度为30℃,搅拌速度为100r/min下,搅拌10h,得到分散均匀的分子筛膜合成液。
所述的分子筛膜合成液中,氢氧化钠、硅酸钠、硫酸铝与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为50:5:1:1500。
将分子筛膜合成液加入到反应釜中,将带有内表面修饰层的大孔载体垂直浸到分子筛膜合成液中,将大孔载体固定在反应釜中。将反应釜密封,然后固定于旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动在大孔载体内表面合成分子筛膜,转动速度为10r/min,在100℃下反应3h,将大孔载体取出,清洗至中性,在60℃下干燥10h后,在大孔载体内表面制得连续致密的分子筛膜。
将合成的NaA分子筛膜用于渗透汽化实施,在操作温度70℃时,合成的NaA分子筛膜对乙醇含量90wt.%的乙醇/水体系的渗透通量为2.8kg/m2h,分离因子为539,具有一定的分离性能。
Claims (10)
1.一种大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤如下:
(1)大孔载体内表面修饰层的制备:
将硅源、铝源、碱源和去离子水混合,搅拌均匀,得大孔载体修饰液;将大孔载体外表面用聚四氟乙烯包裹后,固定在盛有大孔载体修饰液的反应釜内,然后将反应釜固定在旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动对大孔载体进行动态修饰,修饰结束后,将大孔载体取出,清洗、干燥,即可在大孔载体内表面制得连续均匀的修饰层;
(2)大孔载体内膜的制备:
将硅源、铝源、碱源和去离子水混合,搅拌均匀,得分子筛膜合成液;将带有内表面修饰层的大孔载体固定在盛有分子筛膜合成液的反应釜内,然后将反应釜固定在旋转电机的转动轴上,通过旋转电机带动反应釜转动,达到动态合成分子筛膜,合成结束后,将大孔载体取出,清洗、干燥,在大孔载体内表面制得分子筛膜。
2.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述的硅源为二氧化硅、水玻璃、硅溶胶或硅酸钠中的一种,所述的铝源为氯化铝、氢氧化铝、氧化铝、铝酸钠或铝片中的一种,所述的碱源为氢氧化钠。
3.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述的大孔载体修饰液中,碱源、硅源、铝源与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为0.5~3:1~3:1:100~300。
4.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述的搅拌速度为50~100r/min,搅拌时间为10~20h,搅拌时温度为30℃。
5.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述的大孔载体的平均孔径为3~10μm,材质为氧化铝、堇青石或氧化锆中的一种或几种,类型为单通道或多通道。
6.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(1)中,所述的对大孔载体进行修饰,修饰温度为60~90℃,时间为1~10h,修饰时旋转电机的转速为5~15r/min。
7.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(2)中,所述的硅源为二氧化硅、水玻璃、硅溶胶或硅酸钠中的一种,所述的铝源为氯化铝、氢氧化铝、氧化铝、铝酸钠或铝片中的一种,所述的碱源为氢氧化钠。
8.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(2)中,所述的分子筛膜合成液中,碱源、硅源、铝源与去离子水的摩尔配比按Na2O:SiO2:Al2O3:H2O计,为20~50:3~5:1:600~2000。
9.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(2)中,所述的搅拌速度为50~100r/min,搅拌时间为10~24h,搅拌时温度为30℃。
10.根据权利要求1所述的大孔载体内表面制备NaA分子筛膜的方法,其特征在于:步骤(2)中,所述的合成分子筛膜,合成温度为60~100℃,时间为3~24h,合成时旋转电机的转速为3~10r/min。
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