CN107045249B - 遮光片的处理方法及遮光片 - Google Patents

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    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements

Abstract

本发明公开一种遮光片的处理方法及遮光片，该遮光片适用于光学成像；所述方法包括如下步骤：提供遮光片，所述遮光片包括基材、涂覆于所述基材的相对两表面的黑色涂层；对所述遮光片去料形成通光孔；对围成所述通光孔的孔壁上的基材进行刻蚀以使其形成凹陷。该结构能抑制光学镜头中杂散光漫射或反射至成像面，进而保证拍摄效果，提升摄像产品的品质。

Description

遮光片的处理方法及遮光片
【技术领域】
本发明涉及一种光学成像零件，尤其涉及一种遮光片的处理方法及遮光片。
【背景技术】
遮光片在光学系统中是用于调控光量的光学元件，外界光线进入镜头时，在镜片之间设置的遮光片可阻挡不需要的光线进入。在光学系统中使用遮光片虽达到了控制光线的效果，但光线照射在遮光片通光孔的孔壁时，其从孔壁反射和漫射的光线，却也对光学系统造成干扰。早期遮光片用金属冲压后通过氧化发黑的方式处理，以达到全消光的目的，但其成本比塑胶遮光片贵好几倍，近年来随着成本大幅下降，已经改用表面带防静电、高遮光涂层的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)材料直接冲切后替代，但随着像素越来越高，塑胶冲切后，通光孔的孔壁会暴露出发亮的PET切断面，而塑胶材质又不能像金属一样进行传统的发黑消光处理，当其用在薄型镜头时，在成像面的鬼影及耀光现象就特别显著，因此如何处理遮光片通光孔的孔壁就显得尤为重要。
有关遮光片反射和漫射杂散光处理的发明，在2011年11月1日公开的专利TWI400551，针对遮光片通光孔径边缘的端面作斜面化处理，此发明将靠近遮光片通光孔处的材料压成斜面，同时也减薄了遮光片边缘端面，使端面厚度变薄来降低从遮光片断面产生的反射和漫射。
2015年3月25日公开的专利CN104460182A，针对遮光片通光孔径边缘的端面，通过碱溶液在超声波发生器内对遮光片进行处理，以在遮光片的通光孔的孔壁上形成哑光结构，来避免由于通光孔的孔壁反光而造成的眩光、光晕及鬼影等不良状况的发生。
上述专利所公开的技术虽然可以一定程度上减少杂散光的反射或漫射，但仍然有明显的杂散光现象因此，有必要提出一种新的遮光片的处理方法及结构。
【发明内容】
本发明的主要目的在于提供一种遮光片的处理方法及遮光片，旨在解决现有的塑胶遮光片由于通光孔壁暴露的PET材质反射和漫射而造成的眩光、光晕及鬼影等不良的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供一种遮光片的处理方法，包括如下步骤：
提供遮光片，所述遮光片包括基材、涂覆于所述基材的相对两表面的黑色涂层；
对所述遮光片去料形成通光孔；
对围成所述通光孔的孔壁上的基材进行刻蚀以使其形成凹陷。
上述的遮光片的处理方法，所述刻蚀包括以下步骤：
提供刻蚀液,并将刻蚀液置于可加热的容器内；
将遮光片置于所述刻蚀液中，加热并搅拌；
刻蚀液对通光孔的孔壁上的基材进行刻蚀；
将遮光片取出，置于烘箱中干燥。
上述的遮光片的处理方法，所述基材包括塑胶材质。
上述的遮光片的处理方法，所述基材由PET制成。
上述的遮光片的处理方法，所述黑色涂层为碳材料。
还提供一种遮光片，所述遮光片包括基材、涂覆于所述基材两面的黑色涂层；所述遮光片还包括去料形成的通光孔；围成所述通光孔的孔壁上的所述基材刻蚀形成凹陷。
上述的遮光片，所述基材包括塑胶材质。
上述的遮光片，所述基材包括PET材料。
上述的遮光片，所述基材凹陷的深度与基材的厚度相等。
上述的遮光片，所述黑色涂层为碳材料。
本发明的一种遮光片的处理方法及遮光片，通过刻蚀液对遮光片的基材进行刻蚀处理，以使通光孔孔壁的基材形成凹陷，能抑制光学镜头中的杂散光漫射或反射至成像面，进而保证拍摄效果，提升摄像产品的品质。
【附图说明】
图1为本发明遮光片的立体结构示意图；
图2为图1中A-A线的剖示图；
图3为图2中B部分的放大图。
【具体实施方式】
下面结合图1至图3对本发明作出详细描述。
为实现上述目的，本发明提供一种遮光片的处理方法，所述遮光片的处理方法包括如下步骤：
步骤S1，提供遮光片1，所述遮光片包括基材4以及涂覆于所述基材4的相对两表面的黑色涂层3和5。具体地,基材4可以由塑胶材质构成,比如PET材料。所述黑色涂层3和5可以为碳材料或者其它具有遮光、消光功能的材料。
步骤S2，遮光片1去料形成通光孔2。所述通光孔2通常通过冲切工艺制成。
步骤S3，对围成通光孔2的孔壁上的基材4进行刻蚀以使其形成凹陷6，从而抑制光学镜头中的杂散光漫射或反射至成像面，进而保证拍摄效果，提升摄像产品的品质。具体地，可以采用化学刻蚀的方法进行刻蚀。
例如，通过刻蚀液刻蚀在所述通光孔2的孔壁上的基材4形成凹陷6的具体步骤包括：
提供刻蚀液,将刻蚀液置于可加热的容器内；所选择的刻蚀液易于腐蚀基材、而对黑色涂层则不具有腐蚀作用，或者刻蚀液对基材的腐蚀速率比对黑色涂层的腐蚀速率高。刻蚀液可以为碳酸氢钠水溶液等对塑胶材质具有腐蚀性作用的溶液。
将遮光片置于所述刻蚀液中，加热并搅拌，本实施例中采用本领域常用的加热方式和搅拌方式；
刻蚀液对基材4进行刻蚀以形成凹陷6；
刻蚀完成后，将遮光片取出，置于烘箱中干燥。
优选地，本发明中，所述基材4的凹陷6的深度与基材4的厚度相等。
本发明还提供一种遮光片1，所述遮光片1包括基材4以及涂覆于所述基材4的相对两表面的黑色涂层3和5。所述基材4包括塑胶材料，例如由PET材料制成。所述黑色涂层3、5为碳材料或其它具有遮光、消光功能的材料。所述遮光片1大致呈圆环形，其中心位置处去料形成圆形的通光孔2。优选地，所述通光孔2通过冲切制成。所述遮光片1包括围成通光孔2的内侧壁(即孔壁)和与内侧壁相对设置的外侧壁。所述内侧壁的基材4通过刻蚀形成凹陷6，即基材4与黑色涂层3、5在内侧壁处的表面不平齐。优选地，所述凹陷6通过刻蚀液刻蚀形成，由于浸泡在刻蚀液中的缘故，刻蚀液也会对外侧壁上的基材进行刻蚀形成凹陷6。
优选地，所述凹陷6的深度与基材的厚度相等。
本发明的一种遮光片的处理方法及遮光片，通过刻蚀液对遮光片进行刻蚀处理，以在围成遮光片的通光孔的孔壁上的基材形成凹陷，能抑制光学镜头中的杂散光漫射或反射至成像面，进而保证拍摄效果，提升摄像产品的品质。
以上所述的仅是本发明的实施方式，在此应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出改进，但这些均属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种遮光片的处理方法，其特征在于,包括如下步骤：
提供遮光片，所述遮光片包括基材、涂覆于所述基材的相对两表面的黑色涂层；
对所述遮光片去料形成通光孔；
对围成所述通光孔的孔壁上的基材进行刻蚀以使其形成凹陷，所述黑色涂层在朝向光轴的方向上延伸并超出所述基材。
2.根据权利要求1所述的遮光片的处理方法，其特征在于：所述刻蚀包括以下步骤：
提供刻蚀液,并将刻蚀液置于可加热的容器内；
将遮光片置于所述刻蚀液中，加热并搅拌；
刻蚀液对通光孔的孔壁上的基材进行刻蚀；
将遮光片取出，置于烘箱中干燥。
3.根据权利要求1所述的遮光片的处理方法，其特征在于：所述基材包括塑胶材质。
4.根据权利要求3所述的遮光片的处理方法，其特征在于：所述基材由PET材料制成。
5.根据权利要求1所述的遮光片的处理方法，其特征在于：所述黑色涂层为碳材料。
6.一种遮光片，其特征在于,所述遮光片包括基材和涂覆于所述基材两面的黑色涂层；所述遮光片还包括去料形成的通光孔；围成所述通光孔的孔壁上的所述基材刻蚀形成凹陷，所述黑色涂层在朝向光轴的方向上延伸并超出所述基材。
7.根据权利要求6所述的遮光片，其特征在于：所述基材包括塑胶材质。
8.根据权利要求7所述的遮光片，其特征在于：所述基材包括PET材料。
9.根据权利要求6所述的遮光片，其特征在于：所述基材凹陷的深度与基材的厚度相等。
10.根据权利要求6所述的遮光片，其特征在于：所述黑色涂层为碳材料。
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