CN113805299A - 垫圈 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，且内缘形成一通光孔。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上，其中垫圈本体的所有朝向光轴的表面皆相对于光轴倾斜。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。所述垫圈能够有利于配合镜筒与透镜的应力传递增加结构强度以进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。
Description
技术领域
本发明涉及光学组件，且特别是有关于一种垫圈。
背景技术
现有光学成像镜头在设计组装结构时，倘若相邻的透镜的光学边界距离太远，因着透镜射出成型的限制，其透镜的组装部需要在透镜间设置垫圈以进行安装。常见的垫圈为黑色塑料材质，可用于吸光并且减少镜筒内的杂散光。但在光学成像镜头的应力结构设计上，塑料垫圈的结构强度较弱，当垫圈厚度较薄时容易造成变形而造成偏心而有结构强度不足的问题。然而，当垫圈采用金属材质则会衍生金属表面易反射而造成各种杂散光的问题，目前解决的方式是在金属垫圈涂布特殊墨水来遮盖金属表面，但金属垫圈通光孔在涂布特殊墨水时，特殊墨水在干掉后有时会无法完全包覆金属垫圈通光孔，使得金属垫圈的尖角裸露出来造成放射状杂散光(shower flare)。因此，如何设计结构强度够且可降低杂散光的垫圈是业界长久需要解决的问题。
此外，在现有技术以射出成形制程制造塑料垫圈的过程中，垫圈的通光孔会受限于塑料材料本身的限制，而无法达到原有设计模具尖角的结构，反而产生圆角的结构。当不同角度的光射至通光孔之圆角结构时，也将产生放射状杂散光，也是需要解决之问题。
发明内容
本发明提供一种垫圈，其能够有利于配合镜筒与透镜的应力传递增加结构强度以进行透镜安装并且有效改善杂散光问题。
本发明的实施例提出一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，内缘形成一通光孔，且垫圈本体的材质为金属。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上，其中垫圈本体的所有朝向光轴的表面皆相对于光轴倾斜。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。
本发明的实施例提出一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，内缘形成一通光孔，且内斜面具有微结构。内斜面的面粗糙度大于物侧面的面粗糙度，内斜面的面粗糙度大于像侧面的面粗糙度，且垫圈本体的材质为金属。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。
本发明的实施例提出一种垫圈，包括一垫圈本体、一光穿透膜及一吸光膜，垫圈本体具有一外侧面、一内斜面、一物侧面及一像侧面。物侧面朝向一物侧，且连接外侧面及内斜面。像侧面朝向一像侧，且连接外侧面及内斜面。内斜面位于垫圈的一光轴与外侧面之间，内斜面包括一靠近光轴的内缘与一远离光轴的外缘，内缘形成一通光孔，且内斜面具有微结构。内斜面的面粗糙度大于物侧面的面粗糙度，且大于像侧面的面粗糙度。内斜面的面粗糙度大于等于0.200微米，且小于等于7.000微米。光穿透膜与吸光膜设置在内斜面上。垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴的方向上的最大厚度。
其中该吸光膜配置于该光穿透膜与该垫圈本体之间。
所述垫圈，进一步，其中吸光膜配置于光穿透膜与垫圈本体之间。
进一步，其中光穿透膜为抗反射多层膜。
进一步，其中光穿透膜包括至少一第一层以及至少一第二层，至少一第二层的折射率低于至少一第一层的折射率，至少一第一层与至少一第二层交替堆栈。
进一步，其中内斜面在400～870纳米波长光线范围内之反射率小于等于0.600％。
进一步，其中微结构呈不规则分布。
进一步，其中微结构包括多个从内缘往外缘延伸的凸条。
进一步，其中垫圈符合Do/Lbmax≦40.000，其中Lbmax为内斜面从内缘至外缘的长度。
进一步，其中垫圈符合Do/|Di o-Di i|≦33.000，其中Di o为物侧面的内径，且Dii为像侧面的内径。
进一步，其中内斜面相对于光轴的倾斜角大于等于5.000度，且小于等于70.000度。
在本发明的实施例的垫圈中，由于采用内斜面及配置于其上的光穿透膜及吸光膜来有效降低内斜面的反射率，因此可以有效改善垫圈产生杂散光的问题。
附图说明
图1为本发明的一实施例的垫圈设置于镜头模块的镜筒中的剖面示意图。
图2为图1的垫圈的物侧正视图。
图3为图2的垫圈沿着J-J线的剖面示意图。
图4为图1的垫圈从光轴往径向方向向外看所看到的垫圈的内斜面的示意图。
图5为图3之光穿透膜与吸光膜的局部放大剖面示意图。
图6为本发明的另一实施例的垫圈从光轴往径向方向向外看所看到的垫圈的内斜面的示意图。
图7为本发明的又一实施例的垫圈的剖面示意图。
图8为本发明的再一实施例的垫圈的剖面示意图。
图9为本发明的另一实施例的垫圈的剖面示意图。
图10为本发明的又一实施例的垫圈的剖面示意图。
图11为本发明的再一实施例的垫圈的剖面示意图。
图12为本发明的另一实施例的垫圈的垫圈本体在垂直于光轴的一参考平面上的正投影的示意图。
图13为上述各实施例的垫圈的内斜面的反射频谱。
图14为上述各实施例的垫圈本体的各项参数表。
具体实施方式
在开始详细描述本发明之前，首先清楚表示附图中的符号说明：100、100b、100c、100d、100e、100f:垫圈；110:光穿透膜；112:第一层；114:第二层；120:吸光膜；200:镜头模块；210:镜筒；220:透镜保持器；300、300b、300c、300d、300e、300f:垫圈本体；310:外侧面；320、320a、320b:内斜面；322:内缘；324:外缘；326、326a:微结构；327a:凸条；329a:沟槽；330、330b、330c、330d、330e、330f:物侧面；332c、332d、332e、332f、338e、338f、342d、342e、342f:径向延伸面；334c、334f、336d、344e、344f、346f:倾斜表面；339e、339f:倾斜连接面；340、340b、340d、340e、340f:像侧面；344d:弯曲表面；348f:径向连接面；400:正投影；410:外直边；420:外弧边；430:内直边；440:内弧边；A1:物侧；A2:像侧；BM:遮光片；Di i:像侧面的内径；Di o:物侧面的内径；Do:垫圈在垂直于光轴的方向上的最大外径；I:光轴；L、L1、L2、L3、L4、L5:透镜；Lbmax:内斜面从内缘至外缘的长度；O:通光孔；O1:中央空白；RP:参考平面；Tmax:垫圈在光轴I的方向上的最大厚度；θ:倾斜角。
图1为本发明的一实施例的垫圈设置于镜头模块的镜筒中的剖面示意图，图2为图1的垫圈的物侧正视图，图3为图2的垫圈沿着J-J线的剖面示意图，而图4为图1的垫圈从光轴往径向方向向外看所看到的垫圈的内斜面的示意图。请参照图1及图2至图4，本实施例的垫圈100可以是设置于镜头模块200的镜筒210中两透镜L(例如图1之透镜L3与透镜L4)的组装部(即光学边界以外用以固定的边缘部分)之间。多个透镜L(例如透镜L1、L2、L3、L4及L5)沿着光轴I从一物侧A1往一像侧A2依序排列于镜筒210中，而这些透镜L可藉由于像侧A2的一透镜保持器(l ens retainer)220固定于镜筒210中。除了部分相邻的两透镜L的组装部之间可以有垫圈100之外，一些相邻的两透镜L的组装部之间可以设有遮光片BM，例如透镜L1与透镜L2的组装部之间的遮光片BM、透镜L2与透镜L3的组装部之间的遮光片BM及透镜L4与透镜L5的组装部之间的遮光片BM。
在本实施例中，垫圈100包括一垫圈本体300、一光穿透膜110及一吸光膜120，垫圈本体300具有一外侧面310、一内斜面320、一物侧面330及一像侧面340。物侧面330朝向物侧A1，且连接外侧面310及内斜面320。像侧面340朝向像侧A2，且连接外侧面310及内斜面320。值得特别定义的是，朝向物侧A1是指表面所朝向的方向与物侧A1的方向所夹的角度小于90度，也就是说，正对物侧A1及倾斜地朝向物侧A1都算是朝向物侧A1，但背对物侧A1、倾斜地背对物侧A1以及表面所朝向的方向与物侧A1的方向夹90度这三种情形都不能被解释为朝向物侧A1。同理，朝向像侧A2是指表面所朝向的方向与像侧A2的方向所夹的角度小于90度，也就是说，正对像侧A2及倾斜地朝向像侧A2都算是朝向像侧A2，但背对像侧A2、倾斜地背对像侧A2以及表面所朝向的方向与像侧A2的方向夹90度这三种情形都不能被解释为朝向像侧A2。
内斜面320位于垫圈100的光轴I与外侧面310之间，内斜面320包括一靠近光轴I的内缘322与一远离光轴I的外缘324，且内缘322形成一通光孔O。内斜面320相对于光轴I倾斜。在本实施例中，内缘322位于物侧，而与物侧面330连接，且外缘324位于像侧，而与像侧面340连接。此外，在本实施例中，内斜面320、外侧面310、物侧面330及像侧面340皆相对于光轴I为轴对称。也就是说，内斜面320呈圆锥状，外侧面310呈圆柱状，而物侧面330与像侧面340呈圆环状。
在本实施例中，垫圈本体300的材质为金属。光穿透膜110与吸光膜120设置在内斜面320、物侧面330与像侧面340上，可使得垫圈100之金属外观变为黑色，在本实施例中，吸光膜120配置于光穿透膜110与垫圈本体300之间。吸光膜120的光吸收率大于光反射率，而光穿透膜110的光穿透率大于光反射率。光穿透膜110例如为抗反射多层膜，其可有效降低射向内斜面320的光的反射率，让大部分的光都穿透光穿透膜110而传递至吸光膜120。吸光膜120则能将入射其上的大部分的光吸收，因而降低了射向内斜面320的光的反射率。在一实施例中，藉由垫圈100上的吸光膜120与光穿透膜110，垫圈100在400～870纳米(nanometer,nm)波长光线范围内之反射率小于等于1.000％。垫圈本体300的所有朝向光轴I的表面皆相对于光轴I倾斜。朝向光轴I的表面是指笔直地朝向或倾斜地朝向光轴I且与光轴I的夹角小于90度的表面，且不包括笔直地背对光轴I的表面及倾斜地背对光轴I的表面，也不包括与光轴I垂直的表面。在本实施例中，执圈本体300的所有朝向光轴I的表面只有内斜面320，而内斜面320相对于光轴I倾斜。
此外，垫圈100符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为垫圈100在垂直于光轴I的方向上的最大外径，且Tmax为垫圈在光轴I的方向上的最大厚度。当垫圈100符合此条件时，有利于配合镜筒210与透镜L的应力传递增加结构强度以进行透镜L安装。
在本实施例的垫圈100中，由于采用内斜面320及配置于其上的光穿透膜110及吸光膜120来有效降低内斜面320的反射率，因此可以有效改善垫圈100产生杂散光的问题。在此情况下，垫圈本体300的材质可以采用金属，有利于避免垫圈100在组装时产生变形造成镜头偏心并同时解决金属垫圈100涂布特殊墨水干掉后造成无法完全包覆金属垫圈通光孔，而使得金属垫圈的尖角会裸露出来造成放射状杂散光的问题，并有利于设计厚度较薄的垫圈100。垫圈本体300的材料可为不锈钢、铜、铝、钛、铁或锌等金属或其合金。此外，垫圈本体300的材质也可以是塑料，此时本实施例的垫圈100的设计有利于避免塑料垫圈在射出成形制程制造塑料垫圈的过程中，产生圆角的结构所造成放射状杂散光的问题，并且有利于垫圈100之400～870纳米波长光线之反射率在1.000％以下以抑制各种杂散光并使得物侧面330与像侧面340保持平滑的表面以利垫圈100与透镜L的组装，以避免偏心或其他组装误差。
在本实施例中，如图5所绘示，光穿透膜110包括至少一第一层112以及至少一第二层114，如图，至少一第二层114的折射率低于至少一第一层112的折射率，且至少一第一层112与至少一第二层114交替堆栈于吸光膜120上。在本实施例中，是以多个第一层112与多个第二层114交替堆栈为例，但本发明并不限制第一层112与第二层114的数量，其可以是任何适当的数量。藉由第一层112与第二层114交替堆栈，可利用薄膜干涉的原理藉由调变光程差来达到对反射光的破坏性干涉，进而降低光穿透膜110的反射率并提升光穿透膜110的穿透率。
本实施例的光穿透膜110与吸光膜120的材料可包括金属氮化物、金属氟化物、金属氢化物、金属氧化物、半导体元素、半导体元素之氮化物、半导体元素之氟化物、半导体元素之氢化物与半导体元素之氢氧化物或其组合。举例而言，光穿透膜110与吸光膜120的材料例如是氧化钛(TixOy)、氧化铬(CrxOy)、氧化硅(S iOx)、氟化铝钠(NaxAlFy)、氟化镁(MgFx)、氧化铝(AlxOy)、氧化钇(YxOy)、氧化铪(HfOx)、氧化锆(ZrOx)、氧化钽(TaOx)、聚碳酸酯(po lycarbonate,PC)或其组合，其中x与y代表各元素在该化合物中的数量比例。
在本实施例中，垫圈100符合Do/Lbmax≦40.000，其中Lbmax为内斜面320从内缘322至外缘324的长度，且当垫圈100符合此条件时，有利于配合镜筒210与透镜L的应力传递增加结构强度以进行透镜L安装。在本实施例中，垫圈100符合Do/|Di o-Di i|≦33.000，其中Di o为物侧面330的内径，且Di i为像侧面340的内径，且当垫圈100符合此条件时，有利于配合镜筒210与透镜L的应力传递增加结构强度以进行透镜L安装。此外，在本实施例中，内斜面320相对于光轴I的倾斜角θ大于等于5.000度，且小于等于70.000度，且当内斜面320符合此条件时，有利于降低镜筒210内杂散光。
在本实施例中，内斜面320具有微结构326，微结构326呈不规则分布，例如是多个形状不规则且排列不规则的微结构326，如此有利于抑制各种杂散光的影响。微结构326可以是凸起结构、凹陷结构或两者的组合。此外，在本实施例中，内斜面320的面粗糙度大于物侧面330的面粗糙度，且内斜面320的面粗糙度大于像侧面340的面粗糙度。此处的面粗糙度(areal roughnes s)是指ISO 25178系列(ISO 25178seri es)所定义的Sa值。在本实施例中，内斜面320的面粗糙度大于等于0.200微米，且小于等于7.000微米，如此有利于增加杂散光在微结构326之间的反射次数，以有效抑制杂散光。在一实施例中，内斜面320的面粗糙度大于等于0.200微米，且小于等于4.000微米，如此有利于削弱各种杂散光。在另一实施例中，内斜面320的面粗糙度大于等于4.000微米，且小于等于7.000微米，如此有利于抑制放射状杂散光。
由于内斜面320具有微结构326，且内斜面320的面粗糙度大于物侧面330与像侧面340的面粗糙度，因此当光线照射于内斜面320时，会产生散射的效果，配合光穿透膜110及吸光膜120可使得内斜面320之金属外观变为消光黑，因此放射状杂散光可以被有效地抑制。此外，如此之设计有利于垫圈100内斜面320之400～870纳米波长光线之反射率在0.600％以下以抑制各种杂散光，并使得物侧面330与像侧面340保持平滑的表面以利垫圈100与透镜L的组装，以避免偏心或其他组装误差。此外内斜面320具有微结构326，也使得光穿透膜110与吸光膜120较不易因环境造成剥落。
微结构326的制作方式可为将通光孔O较小的一面(在本实施例中例如是物侧面330)放置在载具上，并将治具设置于垫圈100的另一面(在本实施例中例如是像侧面340)用以遮挡物侧面330与像侧面340使其表面保持光滑以利垫圈100组装。此外，对于内斜面320进行喷砂、放电或雷射加工制作微结构。然后，再将垫圈100进行清洗与烘干后进行镀吸光膜120与光穿透膜110。
图6为本发明的另一实施例的垫圈从光轴往径向方向向外看所看到的垫圈的内斜面的示意图。请参照图3与图6，本实施例的垫圈与图3的垫圈类似，而两者的差异在于微结构的不同。在本实施例中，内斜面320a的微结构326a包括多个从内缘322往外缘324延伸的凸条327a，而相邻两凸条327a之间有从内缘322往外缘324延伸的沟槽329a。射往内斜面320a的光会在相邻两凸条327a之间的沟槽329a中不断地被凸条327a的侧壁反射及侧壁上的吸光膜120吸收，而在多次被凸条327a反射后最终几乎完全被吸光膜120吸收。如此一来，放射状杂散光便能够被有效地抑制。换言之，凸条327a与沟槽329a破坏了通光孔O处的平滑反射面，而破坏了放射状杂散光沿一特定方向出射的反射路径，因此微结构326a可打散并削弱集中的放射状杂散光。
图7为本发明的又一实施例的垫圈的剖面示意图。请参照图7，本实施例的垫圈100b与图3的垫圈100类似，而两者的主要差异如下所述。在本实施例的垫圈100b的垫圈本体300b中，内斜面320b的内缘322位于像侧而与像侧面340b连接，而外缘324位于物侧而与物侧面330b连接。也就是说，图5的内斜面320b的倾斜方向不同于图3的内斜面320的倾斜方向。
图8为本发明的再一实施例的垫圈的剖面示意图。请参照图8，本实施例的垫圈100c与图3的垫圈100类似，而两者的主要差异如下所述。在本实施例的垫圈100c的垫圈本体300c中，物侧面330c包括一径向延伸面332c及一倾斜表面334c，径向延伸面332c垂直于光轴I。倾斜表面334c相对于光轴I倾斜，且连接内斜面320与径向延伸面332c。此外，在本实施例中，垫圈本体300c的所有朝向光轴I的表面皆相对于光轴I倾斜，而所有朝向光轴I的表面包括内斜面320与倾斜表面334c。
图9为本发明的另一实施例的垫圈的剖面示意图。请参照图9，本实施例的垫圈100d与图3的垫圈100类似，而两者的主要差异如下所述。在本实施例的垫圈100d的垫圈本体300d中，像侧面340d包括一径向延伸面342d及一弯曲表面344d，径向延伸面342d垂直于光轴I。弯曲表面344d连接内斜面320与径向延伸面342d。在图9中，弯曲表面344d为凹面。然而，在其他实施例中，弯曲表面344d也可以是凸面，或有凹有凸的S形表面或起伏表面。弯曲表面344d有利于增加结构强度，使得在镜筒210装设透镜L与垫圈100时不易变形。
在本实施例中，物侧面330d包括一径向延伸面332d及一倾斜表面336d，径向延伸面332d垂直于光轴I。倾斜表面336d相对于光轴I倾斜，且连接外侧面310与径向延伸面332d。
此外，在本实施例中，垫圈本体300d的所有朝向光轴I的表面皆相对于光轴I倾斜，而所有朝向光轴I的表面包括内斜面320与弯曲表面344d。
图10为本发明的又一实施例的垫圈的剖面示意图。请参照图10，本实施例的垫圈100e与图3的垫圈100类似，而两者的主要差异如下所述。在本实施例的垫圈100e的垫圈本体300e中，像侧面340e包括一径向延伸面342e及一倾斜表面344e，径向延伸面342e垂直于光轴I。倾斜表面344e连接内斜面320与径向延伸面342e，其中倾斜表面344e相对于光轴I倾斜。在本实施例中，倾斜表面344e相对于光轴I的斜率不同于内斜面320相对于光轴I的斜率，而图10中是以倾斜表面344e相对于光轴I的斜率小于内斜面320相对于光轴I的斜率为例。倾斜表面344e有利于增加结构强度，使得在镜筒210装设透镜L与垫圈100时不易变形。
在本实施例中，物侧面330e包括一径向延伸面338e、一径向延伸面332e及一倾斜连接面339e。径向延伸面338e垂直于光轴I，且连接至外侧面310。径向延伸面332e垂直于光轴I，且连接至内斜面320。倾斜连接面339e相对于光轴I倾斜，且连接径向延伸面338e与径向延伸面332e。倾斜连接面339e有利于增加结构强度，使得在镜筒210装设透镜L与垫圈100时不易变形。
此外，在本实施例中，垫圈本体300e的所有朝向光轴I的表面皆相对于光轴I倾斜，而所有朝向光轴I的表面包括内斜面320与倾斜表面344e。
图11为本发明的再一实施例的垫圈的剖面示意图。请参照图11，本实施例的垫圈100f与图3的垫圈100类似，而两者的主要差异如下所述。在本实施例的垫圈100f的垫圈本体300f中，像侧面340f包括一径向延伸面342f、一倾斜表面344f、一倾斜表面346f及一径向连接面348f。径向延伸面342f垂直于光轴I。倾斜表面344f与倾斜表面346f皆相对于光轴I倾斜。径向连接面348f垂直于光轴I，且连接倾斜表面344f与内斜面320。倾斜表面346f连接外侧面310与径向延伸面342f，而倾斜表面344f连接径向延伸面342f与径向连接面348f。倾斜表面346f与倾斜表面344f有利于增加结构强度，使得在镜筒210装设透镜L与垫圈100时不易变形。
此外，在本实施例中，物侧面330f包括一径向延伸面338f、一径向延伸面332f、一倾斜连接面339f及一倾斜表面334f。径向延伸面338f垂直于光轴I，且连接至外侧面310。径向延伸面332f垂直于光轴I。倾斜连接面339f相对于光轴I倾斜，且连接径向延伸面338f与径向延伸面332f。倾斜表面334f相对于光轴I倾斜，且连接径向延伸面332f与内斜面320。倾斜表面334f与倾斜连接面339f有利于增加结构强度，使得在镜筒210装设透镜L与垫圈100时不易变形。
此外，在本实施例中，垫圈本体300f的所有朝向光轴I的表面皆相对于光轴I倾斜，而所有朝向光轴I的表面包括内斜面320、倾斜表面344f及倾斜表面334f。
图12为本发明的另一实施例的垫圈的垫圈本体在垂直于光轴的一参考平面上的正投影的示意图。请参照图12，本实施例的垫圈与图2及图3的垫圈100类似，而两者的差异如下所述。当图3的垫圈本体300正投影至垂直于光轴I的一参考平面RP时，其形状可如同图2之圆环状(即甜甜圈状)，也就是垫圈本体300的物侧正视图一致。然而，在图12的实施例中，垫圈本体的物侧正视图可以是跑道形，或者垫圈本体300在垂直于光轴I的参考平面RP上的正投影可以是跑道形。具体而言，垫圈本体300在垂直于光轴I的参考平面RP上的正投影400具有相对两外直边410、相对两外弧边420、相对两内直边430及相对两内弧边440。相对两外直边410连接相对两外弧边420，相对两内直边430连接相对两内弧边440。相对两内弧边440位于相对两外弧边420之间，且相对两内直边430位于相对两外直边410之间。相对两外直边410与相对两外弧边420是由外侧面310在参考平面RP上的正投影所产生的，而相对两内直边430与相对两内弧边440是由内缘322在参考平面RP上的正投影所产生的。正投影400的中央空白O1是由通光孔O在参考平面RP上的正投影所产生的。跑道形垫圈有利于将垫圈适用于潜望式镜头中进行透镜安装，并且降低杂散光的影响。
图13为上述各实施例的垫圈的内斜面的反射频谱。请参照图13，从图13可知，上述各实施例的内斜面之400～870纳米波长光线之反射率在0.600％以下，由此可证明上述各实施例的垫圈皆可有效抑制杂散光。
图14为上述各实施例的垫圈本体的各项参数表。请参照图14，「图3实施例」那一列的参数值为垫圈本体300的参数值，「图7实施例」那一列的参数值为垫圈本体300b的参数值，「图8实施例」那一列的参数值为垫圈本体300c的参数值，「图9实施例」那一列的参数值为垫圈本体300d的参数值，「图10实施例」那一列的参数值为垫圈本体300e的参数值，而「图11实施例」那一列的参数值为垫圈本体300f的参数值。从图14可知，垫圈本体300d的材质为塑料，而垫圈本体300、300b、300c、300e及300f的材质为金属。其中「图11实施例」的垫圈100d配合本体黑色外观的特征，内斜面320之400～870纳米波长光线之反射率可在0.200％以下，抑制杂散光的效果更好。
综上所述，在本发明的实施例的垫圈中，由于采用内斜面及配置于其上的光穿透膜及吸光膜来有效降低内斜面的反射率，因此可以有效改善垫圈产生杂散光的问题。
Claims (12)
1.一种垫圈，包括：
一垫圈本体，具有：
一外侧面；
一内斜面；
一物侧面，朝向一物侧，且连接该外侧面及该内斜面；以及
一像侧面，朝向一像侧，且连接该外侧面及该内斜面，其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间，该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘，该内缘形成一通光孔，且该垫圈本体的材质为金属；以及
一光穿透膜与一吸光膜，设置在该内斜面上，其中，该垫圈本体的所有朝向该光轴的表面皆相对于该光轴倾斜，且该垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径，且Tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。
2.一种垫圈，包括：
一垫圈本体，具有：
一外侧面；
一内斜面；
一物侧面，朝向一物侧，且连接该外侧面及该内斜面；以及
一像侧面，朝向一像侧，且连接该外侧面及该内斜面，其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间，该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘，该内缘形成一通光孔，该内斜面具有微结构，且该内斜面的面粗糙度大于该物侧面的面粗糙度，且该内斜面的面粗糙度大于该像侧面的面粗糙度，且该垫圈本体的材质为金属；以及
一光穿透膜与一吸光膜，设置在该内斜面上，
其中，该垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径，且Tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。
3.一种垫圈，包括：
一垫圈本体，具有：
一外侧面；
一内斜面；
一物侧面，朝向一物侧，且连接该外侧面及该内斜面；以及
一像侧面，朝向一像侧，且连接该外侧面及该内斜面，其中该内斜面位于该垫圈的一光轴与该外侧面之间，该内斜面包括一靠近该光轴的内缘与一远离该光轴的外缘，该内缘形成一通光孔，该内斜面具有微结构，且该内斜面的面粗糙度大于该物侧面的面粗糙度，且大于该像侧面的面粗糙度，该内斜面的面粗糙度大于等于0.200微米，且小于等于7.000微米；以及
一光穿透膜与一吸光膜，设置在该内斜面上，
其中，该垫圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do为该垫圈在垂直于该光轴的方向上的最大外径，且Tmax为该垫圈在该光轴的方向上的最大厚度。
4.如权利要求1-3任一所述垫圈，其中该吸光膜配置于该光穿透膜与该垫圈本体之间。
5.如权利要求1-3任一所述垫圈，其中该光穿透膜为抗反射多层膜。
6.如权利要求1-3任一所述垫圈，其中该光穿透膜包括至少一第一层以及至少一第二层，该至少一第二层的折射率低于该至少一第一层的折射率，该至少一第一层与该至少一第二层交替堆栈。
7.如权利要求1-3任一所述垫圈，其中该内斜面在400～870纳米波长光线范围内之反射率小于等于0.600％。
8.如权利要求2或3所述垫圈，其中该微结构呈不规则分布。
9.如权利要求2或3所述垫圈，其中该微结构包括多个从该内缘往该外缘延伸的凸条。
10.如权利要求1-3任一所述垫圈，其中该垫圈符合Do/Lbmax≦40.000，其中Lbmax为该内斜面从该内缘至该外缘的长度。
11.如权利要求1-3任一所述垫圈，其中该垫圈符合Do/|Dio-Dii|≦33.000，其中Dio为该物侧面的内径，且Dii为该像侧面的内径。
12.如权利要求1-3任一所述垫圈，其中该内斜面相对于该光轴的倾斜角大于等于5.000度，且小于等于70.000度。
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