TWI750707B - 墊圈 - Google Patents

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Abstract

一種墊圈，包括一墊圈本體、一光穿透膜及一吸光膜，墊圈本體具有一外側面、一內斜面、一物側面及一像側面。物側面朝向一物側，且連接外側面及內斜面。像側面朝向一像側，且連接外側面及內斜面。內斜面位於墊圈的一光軸與外側面之間，內斜面包括一靠近光軸的內緣與一遠離光軸的外緣，且內緣形成一通光孔。光穿透膜與吸光膜設置在內斜面上，其中墊圈本體的所有朝向光軸的表面皆相對於光軸傾斜。墊圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為墊圈在垂直於光軸的方向上的最大外徑，且Tmax為墊圈在光軸的方向上的最大厚度。

Description

墊圈
本發明是有關於一種光學元件，且特別是有關於一種墊圈（spacer）。
現有光學成像鏡頭在設計組裝結構時，倘若相鄰的透鏡的光學邊界距離太遠，因著透鏡射出成型的限制，其透鏡的組裝部需要在透鏡間設置墊圈以進行安裝。常見的墊圈為黑色塑膠材質，可用於吸光並且減少鏡筒內的雜散光。但在光學成像鏡頭的應力結構設計上，塑膠墊圈的結構強度較弱，當墊圈厚度較薄時容易造成變形而造成偏心而有結構強度不足的問題。然而，當墊圈採用金屬材質則會衍生金屬表面易反射而造成各種雜散光的問題，目前解決的方式是在金屬墊圈塗佈特殊墨水來遮蓋金屬表面，但金屬墊圈通光孔在塗佈特殊墨水時，特殊墨水在乾掉後有時會無法完全包覆金屬墊圈通光孔，使得金屬墊圈的尖角裸露出來造成放射狀雜散光（shower flare）。因此，如何設計結構強度夠且可降低雜散光的墊圈是業界長久需要解決的問題。
此外，在現有技術以射出成形製程製造塑膠墊圈的過程中，墊圈的通光孔會受限於塑膠材料本身的限制，而無法達到原有設計模具尖角的結構，反而產生圓角的結構。當不同角度的光射至通光孔之圓角結構時，也將產生放射狀雜散光，也是需要解決之問題。
本發明提供一種墊圈，其能夠有利於配合鏡筒與透鏡的應力傳遞增加結構強度以進行透鏡安裝並且有效改善雜散光問題。
本發明的實施例提出一種墊圈，包括一墊圈本體、一光穿透膜及一吸光膜，墊圈本體具有一外側面、一內斜面、一物側面及一像側面。物側面朝向一物側，且連接外側面及內斜面。像側面朝向一像側，且連接外側面及內斜面。內斜面位於墊圈的一光軸與外側面之間，內斜面包括一靠近光軸的內緣與一遠離光軸的外緣，內緣形成一通光孔，且墊圈本體的材質為金屬。光穿透膜與吸光膜設置在內斜面上，其中墊圈本體的所有朝向光軸的表面皆相對於光軸傾斜。墊圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為墊圈在垂直於光軸的方向上的最大外徑，且Tmax為墊圈在光軸的方向上的最大厚度。
本發明的實施例提出一種墊圈，包括一墊圈本體、一光穿透膜及一吸光膜，墊圈本體具有一外側面、一內斜面、一物側面及一像側面。物側面朝向一物側，且連接外側面及內斜面。像側面朝向一像側，且連接外側面及內斜面。內斜面位於墊圈的一光軸與外側面之間，內斜面包括一靠近光軸的內緣與一遠離光軸的外緣，內緣形成一通光孔，且內斜面具有微結構。內斜面的面粗糙度大於物側面的面粗糙度，內斜面的面粗糙度大於像側面的面粗糙度，且墊圈本體的材質為金屬。光穿透膜與吸光膜設置在內斜面上。墊圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為墊圈在垂直於光軸的方向上的最大外徑，且Tmax為墊圈在光軸的方向上的最大厚度。
本發明的實施例提出一種墊圈，包括一墊圈本體、一光穿透膜及一吸光膜，墊圈本體具有一外側面、一內斜面、一物側面及一像側面。物側面朝向一物側，且連接外側面及內斜面。像側面朝向一像側，且連接外側面及內斜面。內斜面位於墊圈的一光軸與外側面之間，內斜面包括一靠近光軸的內緣與一遠離光軸的外緣，內緣形成一通光孔，且內斜面具有微結構。內斜面的面粗糙度大於物側面的面粗糙度，且大於像側面的面粗糙度。內斜面的面粗糙度大於等於0.200微米，且小於等於7.000微米。光穿透膜與吸光膜設置在內斜面上。墊圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為墊圈在垂直於光軸的方向上的最大外徑，且Tmax為墊圈在光軸的方向上的最大厚度。
在本發明的實施例的墊圈中，由於採用內斜面及配置於其上的光穿透膜及吸光膜來有效降低內斜面的反射率，因此可以有效改善墊圈產生雜散光的問題。
圖1為本發明的一實施例的墊圈設置於鏡頭模組的鏡筒中的剖面示意圖，圖2為圖1的墊圈的物側正視圖，圖3為圖2的墊圈沿著J-J線的剖面示意圖，而圖4為圖1的墊圈從光軸往徑向方向向外看所看到的墊圈的內斜面的示意圖。請參照圖1及圖2至圖4，本實施例的墊圈100可以是設置於鏡頭模組200的鏡筒210中兩透鏡L（例如圖1之透鏡L3與透鏡L4）的組裝部（即光學邊界以外用以固定的邊緣部分）之間。多個透鏡L（例如透鏡L1、L2、L3、L4及L5）沿著光軸I從一物側A1往一像側A2依序排列於鏡筒210中，而這些透鏡L可藉由於像側A2的一透鏡保持器（lens retainer）220固定於鏡筒210中。除了部分相鄰的兩透鏡L的組裝部之間可以有墊圈100之外，一些相鄰的兩透鏡L的組裝部之間可以設有遮光片BM，例如透鏡L1與透鏡L2的組裝部之間的遮光片BM、透鏡L2與透鏡L3的組裝部之間的遮光片BM及透鏡L4與透鏡L5的組裝部之間的遮光片BM。
在本實施例中，墊圈100包括一墊圈本體300、一光穿透膜110及一吸光膜120，墊圈本體300具有一外側面310、一內斜面320、一物側面330及一像側面340。物側面330朝向物側A1，且連接外側面310及內斜面320。像側面340朝向像側A2，且連接外側面310及內斜面320。值得特別定義的是，朝向物側A1是指表面所朝向的方向與物側A1的方向所夾的角度小於90度，也就是說，正對物側A1及傾斜地朝向物側A1都算是朝向物側A1，但背對物側A1、傾斜地背對物側A1以及表面所朝向的方向與物側A1的方向夾90度這三種情形都不能被解釋為朝向物側A1。同理，朝向像側A2是指表面所朝向的方向與像側A2的方向所夾的角度小於90度，也就是說，正對像側A2及傾斜地朝向像側A2都算是朝向像側A2，但背對像側A2、傾斜地背對像側A2以及表面所朝向的方向與像側A2的方向夾90度這三種情形都不能被解釋為朝向像側A2。
內斜面320位於墊圈100的光軸I與外側面310之間，內斜面320包括一靠近光軸I的內緣322與一遠離光軸I的外緣324，且內緣322形成一通光孔O。內斜面320相對於光軸I傾斜。在本實施例中，內緣322位於物側，而與物側面330連接，且外緣324位於像側，而與像側面340連接。此外，在本實施例中，內斜面320、外側面310、物側面330及像側面340皆相對於光軸I為軸對稱。也就是說，內斜面320呈圓錐狀，外側面310呈圓柱狀，而物側面330與像側面340呈圓環狀。
在本實施例中，墊圈本體300的材質為金屬。光穿透膜110與吸光膜120設置在內斜面320、物側面330與像側面340上，可使得墊圈100之金屬外觀變為黑色，在本實施例中，吸光膜120配置於光穿透膜110與墊圈本體300之間。吸光膜120的光吸收率大於光反射率，而光穿透膜110的光穿透率大於光反射率。光穿透膜110例如為抗反射多層膜，其可有效降低射向內斜面320的光的反射率，讓大部分的光都穿透光穿透膜110而傳遞至吸光膜120。吸光膜120則能將入射其上的大部分的光吸收，因而降低了射向內斜面320的光的反射率。在一實施例中，藉由墊圈100上的吸光膜120與光穿透膜110，墊圈100在400~870奈米（nanometer, nm）波長光線範圍內之反射率小於等於1.000%。
墊圈本體300的所有朝向光軸I的表面皆相對於光軸I傾斜。朝向光軸I的表面是指筆直地朝向或傾斜地朝向光軸I且與光軸I的夾角小於90度的表面，且不包括筆直地背對光軸I的表面及傾斜地背對光軸I的表面，也不包括與光軸I垂直的表面。在本實施例中，執圈本體300的所有朝向光軸I的表面只有內斜面320，而內斜面320相對於光軸I傾斜。
此外，墊圈100符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為墊圈100在垂直於光軸I的方向上的最大外徑，且Tmax為墊圈在光軸I的方向上的最大厚度。當墊圈100符合此條件時，有利於配合鏡筒210與透鏡L的應力傳遞增加結構強度以進行透鏡L安裝。
在本實施例的墊圈100中，由於採用內斜面320及配置於其上的光穿透膜110及吸光膜120來有效降低內斜面320的反射率，因此可以有效改善墊圈100產生雜散光的問題。在此情況下，墊圈本體300的材質可以採用金屬，有利於避免墊圈100在組裝時產生變形造成鏡頭偏心並同時解決金屬墊圈100塗佈特殊墨水乾掉後造成無法完全包覆金屬墊圈通光孔，而使得金屬墊圈的尖角會裸露出來造成放射狀雜散光的問題，並有利於設計厚度較薄的墊圈100。墊圈本體300的材料可為不鏽鋼、銅、鋁、鈦、鐵或鋅等金屬或其合金。此外，墊圈本體300的材質也可以是塑膠，此時本實施例的墊圈100的設計有利於避免塑膠墊圈在射出成形製程製造塑膠墊圈的過程中，產生圓角的結構所造成放射狀雜散光的問題，並且有利於墊圈100之400~870nm波長光線之反射率在1.000%以下以抑制各種雜散光並使得物側面330與像側面340保持平滑的表面以利墊圈100與透鏡L的組裝，以避免偏心或其他組裝誤差。
在本實施例中，如圖5所繪示，光穿透膜110包括至少一第一層112以及至少一第二層114，如圖，至少一第二層114的折射率低於至少一第一層112的折射率，且至少一第一層112與至少一第二層114交替堆疊於吸光膜120上。在本實施例中，是以多個第一層112與多個第二層114交替堆疊為例，但本發明並不限制第一層112與第二層114的數量，其可以是任何適當的數量。藉由第一層112與第二層114交替堆疊，可利用薄膜干涉的原理藉由調變光程差來達到對反射光的破壞性干涉，進而降低光穿透膜110的反射率並提升光穿透膜110的穿透率。
本實施例的光穿透膜110與吸光膜120的材料可包括金屬氮化物、金屬氟化物、金屬氫化物、金屬氧化物、半導體元素、半導體元素之氮化物、半導體元素之氟化物、半導體元素之氫化物與半導體元素之氫氧化物或其組合。舉例而言，光穿透膜110與吸光膜120的材料例如是氧化鈦（Ti xO y）、氧化鉻（Cr xO y）、氧化矽（SiO x）、氟化鋁鈉（Na xAlF y）、氟化鎂（MgF x）、氧化鋁（Al xO y）、氧化釔（Y xO y）、氧化鉿（HfO x）、氧化鋯（ZrO x）、氧化鉭（TaO x）、聚碳酸酯（polycarbonate, PC）或其組合，其中x與y代表各元素在該化合物中的數量比例。
在本實施例中，墊圈100符合Do/Lbmax≦40.000，其中Lbmax為內斜面320從內緣322至外緣324的長度，且當墊圈100符合此條件時，有利於配合鏡筒210與透鏡L的應力傳遞增加結構強度以進行透鏡L安裝。在本實施例中，墊圈100符合Do/|Dio-Dii|≦33.000，其中Dio為物側面330的內徑，且Dii為像側面340的內徑，且當墊圈100符合此條件時，有利於配合鏡筒210與透鏡L的應力傳遞增加結構強度以進行透鏡L安裝。此外，在本實施例中，內斜面320相對於光軸I的傾斜角θ大於等於5.000度，且小於等於70.000度，且當內斜面320符合此條件時，有利於降低鏡筒210內雜散光。
在本實施例中，內斜面320具有微結構326，微結構326呈不規則分布，例如是多個形狀不規則且排列不規則的微結構326，如此有利於抑制各種雜散光的影響。微結構326可以是凸起結構、凹陷結構或兩者的組合。此外，在本實施例中，內斜面320的面粗糙度大於物側面330的面粗糙度，且內斜面320的面粗糙度大於像側面340的面粗糙度。此處的面粗糙度（areal roughness）是指ISO 25178系列（ISO 25178 series）所定義的Sa值。在本實施例中，內斜面320的面粗糙度大於等於0.200微米，且小於等於7.000微米，如此有利於增加雜散光在微結構326之間的反射次數，以有效抑制雜散光。在一實施例中，內斜面320的面粗糙度大於等於0.200微米，且小於等於4.000微米，如此有利於削弱各種雜散光。在另一實施例中，內斜面320的面粗糙度大於等於4.000微米，且小於等於7.000微米，如此有利於抑制放射狀雜散光。
由於內斜面320具有微結構326，且內斜面320的面粗糙度大於物側面330與像側面340的面粗糙度，因此當光線照射於內斜面320時，會產生散射的效果，配合光穿透膜110及吸光膜120可使得內斜面320之金屬外觀變為消光黑，因此放射狀雜散光可以被有效地抑制。此外，如此之設計有利於墊圈100內斜面320之400~870 nm波長光線之反射率在0.600%以下以抑制各種雜散光，並使得物側面330與像側面340保持平滑的表面以利墊圈100與透鏡L的組裝，以避免偏心或其他組裝誤差。此外內斜面320具有微結構326，也使得光穿透膜110與吸光膜120較不易因環境造成剝落。
微結構326的製作方式可為將通光孔O較小的一面（在本實施例中例如是物側面330）放置在載具上，並將治具設置於墊圈100的另一面（在本實施例中例如是像側面340）用以遮擋物側面330與像側面340使其表面保持光滑以利墊圈100組裝。此外，對於內斜面320進行噴砂、放電或雷射加工製作微結構。然後，再將墊圈100進行清洗與烘乾後進行鍍吸光膜120與光穿透膜110。
圖6為本發明的另一實施例的墊圈從光軸往徑向方向向外看所看到的墊圈的內斜面的示意圖。請參照圖3與圖6，本實施例的墊圈與圖3的墊圈類似，而兩者的差異在於微結構的不同。在本實施例中，內斜面320a的微結構326a包括多個從內緣322往外緣324延伸的凸條327a，而相鄰兩凸條327a之間有從內緣322往外緣324延伸的溝槽329a。射往內斜面320a的光會在相鄰兩凸條327a之間的溝槽329a中不斷地被凸條327a的側壁反射及側壁上的吸光膜120吸收，而在多次被凸條327a反射後最終幾乎完全被吸光膜120吸收。如此一來，放射狀雜散光便能夠被有效地抑制。換言之，凸條327a與溝槽329a破壞了通光孔O處的平滑反射面，而破壞了放射狀雜散光沿一特定方向出射的反射路徑，因此微結構326a可打散並削弱集中的放射狀雜散光。
圖7為本發明的又一實施例的墊圈的剖面示意圖。請參照圖7，本實施例的墊圈100b與圖3的墊圈100類似，而兩者的主要差異如下所述。在本實施例的墊圈100b的墊圈本體300b中，內斜面320b的內緣322位於像側而與像側面340b連接，而外緣324位於物側而與物側面330b連接。也就是說，圖5的內斜面320b的傾斜方向不同於圖3的內斜面320的傾斜方向。
圖8為本發明的再一實施例的墊圈的剖面示意圖。請參照圖8，本實施例的墊圈100c與圖3的墊圈100類似，而兩者的主要差異如下所述。在本實施例的墊圈100c的墊圈本體300c中，物側面330c包括一徑向延伸面332c及一傾斜表面334c，徑向延伸面332c垂直於光軸I。傾斜表面334c相對於光軸I傾斜，且連接內斜面320與徑向延伸面332c。此外，在本實施例中，墊圈本體300c的所有朝向光軸I的表面皆相對於光軸I傾斜，而所有朝向光軸I的表面包括內斜面320與傾斜表面334c。
圖9為本發明的另一實施例的墊圈的剖面示意圖。請參照圖9，本實施例的墊圈100d與圖3的墊圈100類似，而兩者的主要差異如下所述。在本實施例的墊圈100d的墊圈本體300d中，像側面340d包括一徑向延伸面342d及一彎曲表面344d，徑向延伸面342d垂直於光軸I。彎曲表面344d連接內斜面320與徑向延伸面342d。在圖7中，彎曲表面344d為凹面。然而，在其他實施例中，彎曲表面344d也可以是凸面，或有凹有凸的S形表面或起伏表面。彎曲表面344d有利於增加結構強度，使得在鏡筒210裝設透鏡L與墊圈100時不易變形。
在本實施例中，物側面330d包括一徑向延伸面332d及一傾斜表面336d，徑向延伸面332d垂直於光軸I。傾斜表面336d相對於光軸I傾斜，且連接外側面310與徑向延伸面332d。
此外，在本實施例中，墊圈本體300d的所有朝向光軸I的表面皆相對於光軸I傾斜，而所有朝向光軸I的表面包括內斜面320與彎曲表面344d。
圖10為本發明的又一實施例的墊圈的剖面示意圖。請參照圖10，本實施例的墊圈100e與圖3的墊圈100類似，而兩者的主要差異如下所述。在本實施例的墊圈100e的墊圈本體300e中，像側面340e包括一徑向延伸面342e及一傾斜表面344e，徑向延伸面342e垂直於光軸I。傾斜表面344e連接內斜面320與徑向延伸面342e，其中傾斜表面344e相對於光軸I傾斜。在本實施例中，傾斜表面344e相對於光軸I的斜率不同於內斜面320相對於光軸I的斜率，而圖10中是以傾斜表面344e相對於光軸I的斜率小於內斜面320相對於光軸I的斜率為例。傾斜表面344e有利於增加結構強度，使得在鏡筒210裝設透鏡L與墊圈100時不易變形。
在本實施例中，物側面330e包括一徑向延伸面338e、一徑向延伸面332e及一傾斜連接面339e。徑向延伸面338e垂直於光軸I，且連接至外側面310。徑向延伸面332e垂直於光軸I，且連接至內斜面320。傾斜連接面339e相對於光軸I傾斜，且連接徑向延伸面338e與徑向延伸面332e。傾斜連接面339e有利於增加結構強度，使得在鏡筒210裝設透鏡L與墊圈100時不易變形。
此外，在本實施例中，墊圈本體300e的所有朝向光軸I的表面皆相對於光軸I傾斜，而所有朝向光軸I的表面包括內斜面320與傾斜表面344e。
圖11為本發明的再一實施例的墊圈的剖面示意圖。請參照圖11，本實施例的墊圈100f與圖3的墊圈100類似，而兩者的主要差異如下所述。在本實施例的墊圈100f的墊圈本體300f中，像側面340f包括一徑向延伸面342f、一傾斜表面344f、一傾斜表面346f及一徑向連接面348f。徑向延伸面342f垂直於光軸I。傾斜表面344f與傾斜表面346f皆相對於光軸I傾斜。徑向連接面348f垂直於光軸I，且連接傾斜表面344f與內斜面320。傾斜表面346f連接外側面310與徑向延伸面342f，而傾斜表面344f連接徑向延伸面342f與徑向連接面348f。傾斜表面346f與傾斜表面344f有利於增加結構強度，使得在鏡筒210裝設透鏡L與墊圈100時不易變形。
此外，在本實施例中，物側面330f包括一徑向延伸面338f、一徑向延伸面332f、一傾斜連接面339f及一傾斜表面334f。徑向延伸面338f垂直於光軸I，且連接至外側面310。徑向延伸面332f垂直於光軸I。傾斜連接面339f相對於光軸I傾斜，且連接徑向延伸面338f與徑向延伸面332f。傾斜表面334f相對於光軸I傾斜，且連接徑向延伸面332f與內斜面320。傾斜表面334f與傾斜連接面339f有利於增加結構強度，使得在鏡筒210裝設透鏡L與墊圈100時不易變形。
此外，在本實施例中，墊圈本體300f的所有朝向光軸I的表面皆相對於光軸I傾斜，而所有朝向光軸I的表面包括內斜面320、傾斜表面344f及傾斜表面334f。
圖12為本發明的另一實施例的墊圈的墊圈本體在垂直於光軸的一參考平面上的正投影的示意圖。請參照圖12，本實施例的墊圈與圖2及圖3的墊圈100類似，而兩者的差異如下所述。當圖3的墊圈本體300正投影至垂直於光軸I的一參考平面RP時，其形狀可如同圖2之圓環狀（即甜甜圈狀），也就是墊圈本體300的物側正視圖一致。然而，在圖12的實施例中，墊圈本體的物側正視圖可以是跑道形，或者墊圈本體300在垂直於光軸I的參考平面RP上的正投影可以是跑道形。具體而言，墊圈本體300在垂直於光軸I的參考平面RP上的正投影400具有相對兩外直邊410、相對兩外弧邊420、相對兩內直邊430及相對兩內弧邊440。相對兩外直邊410連接相對兩外弧邊420，相對兩內直邊430連接相對兩內弧邊440。相對兩內弧邊440位於相對兩外弧邊420之間，且相對兩內直邊430位於相對兩外直邊410之間。相對兩外直邊410與相對兩外弧邊420是由外側面310在參考平面RP上的正投影所產生的，而相對兩內直邊430與相對兩內弧邊440是由內緣322在參考平面RP上的正投影所產生的。正投影400的中央空白O1是由通光孔O在參考平面RP上的正投影所產生的。跑道形墊圈有利於將墊圈適用於潛望式鏡頭中進行透鏡安裝，並且降低雜散光的影響。
圖13為上述各實施例的墊圈的內斜面的反射頻譜。請參照圖13，從圖13可知，上述各實施例的內斜面之400~870 nm波長光線之反射率在0.600%以下，由此可證明上述各實施例的墊圈皆可有效抑制雜散光。
圖14為上述各實施例的墊圈本體的各項參數表。請參照圖14，「圖3實施例」那一列的參數值為墊圈本體300的參數值，「圖7實施例」那一列的參數值為墊圈本體300b的參數值，「圖8實施例」那一列的參數值為墊圈本體300c的參數值，「圖9實施例」那一列的參數值為墊圈本體300d的參數值，「圖10實施例」那一列的參數值為墊圈本體300e的參數值，而「圖11實施例」那一列的參數值為墊圈本體300f的參數值。從圖14可知，墊圈本體300d的材質為塑膠，而墊圈本體300、300b、300c、300e及300f的材質為金屬。其中「圖11實施例」的墊圈100d配合本體黑色外觀的特徵，內斜面320之400~870 nm波長光線之反射率可在0.200%以下，抑制雜散光的效果更好。
綜上所述，在本發明的實施例的墊圈中，由於採用內斜面及配置於其上的光穿透膜及吸光膜來有效降低內斜面的反射率，因此可以有效改善墊圈產生雜散光的問題。
100、100b、100c、100d、100e、100f:墊圈 110:光穿透膜 112:第一層 114:第二層 120:吸光膜 200:鏡頭模組 210:鏡筒 220:透鏡保持器 300、300b、300c、300d、300e、300f:墊圈本體 310:外側面 320、320a、320b:內斜面 322:內緣 324:外緣 326、326a:微結構 327a:凸條 329a:溝槽 330、330b、330c、330d、330e、330f:物側面 332c、332d、332e、332f、338e、338f、342d、342e、342f:徑向延伸面 334c、334f、336d、344e、344f、346f:傾斜表面 339e、339f:傾斜連接面 340、340b、340d、340e、340f:像側面 344d:彎曲表面 348f:徑向連接面 400:正投影 410:外直邊 420:外弧邊 430:內直邊 440:內弧邊 A1:物側 A2:像側 BM:遮光片 Dii:像側面的內徑 Dio:物側面的內徑 Do:墊圈在垂直於光軸的方向上的最大外徑 I:光軸 L、L1、L2、L3、L4、L5:透鏡 Lbmax:內斜面從內緣至外緣的長度 O:通光孔 O1:中央空白 RP:參考平面 Tmax:墊圈在光軸I的方向上的最大厚度 θ:傾斜角
圖1為本發明的一實施例的墊圈設置於鏡頭模組的鏡筒中的剖面示意圖。 圖2為圖1的墊圈的物側正視圖。 圖3為圖2的墊圈沿著J-J線的剖面示意圖。 圖4為圖1的墊圈從光軸往徑向方向向外看所看到的墊圈的內斜面的示意圖。 圖5為圖3之光穿透膜與吸光膜的局部放大剖面示意圖。 圖6為本發明的另一實施例的墊圈從光軸往徑向方向向外看所看到的墊圈的內斜面的示意圖。 圖7為本發明的又一實施例的墊圈的剖面示意圖。 圖8為本發明的再一實施例的墊圈的剖面示意圖。 圖9為本發明的另一實施例的墊圈的剖面示意圖。 圖10為本發明的又一實施例的墊圈的剖面示意圖。 圖11為本發明的再一實施例的墊圈的剖面示意圖。 圖12為本發明的另一實施例的墊圈的墊圈本體在垂直於光軸的一參考平面上的正投影的示意圖。 圖13為上述各實施例的墊圈的內斜面的反射頻譜。 圖14為上述各實施例的墊圈本體的各項參數表。
100:墊圈 110:光穿透膜 120:吸光膜 300:墊圈本體 310:外側面 320:內斜面 322:內緣 324:外緣 330:物側面 340:像側面 A1:物側 A2:像側 Dii:像側面的內徑 Dio:物側面的內徑 Do:墊圈在垂直於光軸的方向上的最大外徑 I:光軸 Lbmax:內斜面從內緣至外緣的長度 O:通光孔 RP:參考平面 Tmax:墊圈在光軸I的方向上的最大厚度 θ:傾斜角

Claims (12)

  1. 一種墊圈，包括： 一墊圈本體，具有： 一外側面； 一內斜面； 一物側面，朝向一物側，且連接該外側面及該內斜面；以及 一像側面，朝向一像側，且連接該外側面及該內斜面，其中該內斜面位於該墊圈的一光軸與該外側面之間，該內斜面包括一靠近該光軸的內緣與一遠離該光軸的外緣，該內緣形成一通光孔，且該墊圈本體的材質為金屬；以及 一光穿透膜與一吸光膜，設置在該內斜面上，其中，該墊圈本體的所有朝向該光軸的表面皆相對於該光軸傾斜，且該墊圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為該墊圈在垂直於該光軸的方向上的最大外徑，且Tmax為該墊圈在該光軸的方向上的最大厚度。
  2. 一種墊圈，包括： 一墊圈本體，具有： 一外側面； 一內斜面； 一物側面，朝向一物側，且連接該外側面及該內斜面；以及 一像側面，朝向一像側，且連接該外側面及該內斜面，其中該內斜面位於該墊圈的一光軸與該外側面之間，該內斜面包括一靠近該光軸的內緣與一遠離該光軸的外緣，該內緣形成一通光孔，該內斜面具有微結構，且該內斜面的面粗糙度大於該物側面的面粗糙度，且該內斜面的面粗糙度大於該像側面的面粗糙度，且該墊圈本體的材質為金屬；以及 一光穿透膜與一吸光膜，設置在該內斜面上， 其中，該墊圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為該墊圈在垂直於該光軸的方向上的最大外徑，且Tmax為該墊圈在該光軸的方向上的最大厚度。
  3. 一種墊圈，包括： 一墊圈本體，具有： 一外側面； 一內斜面； 一物側面，朝向一物側，且連接該外側面及該內斜面；以及 一像側面，朝向一像側，且連接該外側面及該內斜面，其中該內斜面位於該墊圈的一光軸與該外側面之間，該內斜面包括一靠近該光軸的內緣與一遠離該光軸的外緣，該內緣形成一通光孔，該內斜面具有微結構，且該內斜面的面粗糙度大於該物側面的面粗糙度，且大於該像側面的面粗糙度，該內斜面的面粗糙度大於等於0.200微米，且小於等於7.000微米；以及 一光穿透膜與一吸光膜，設置在該內斜面上， 其中，該墊圈符合Do/Tmax≦55.000，其中Do為該墊圈在垂直於該光軸的方向上的最大外徑，且Tmax為該墊圈在該光軸的方向上的最大厚度。
  4. 如請求項1至3中任一項所述的墊圈，其中該吸光膜配置於該光穿透膜與該墊圈本體之間。
  5. 如請求項1至3中任一項所述的墊圈，其中該光穿透膜為抗反射多層膜。
  6. 如請求項1至3中任一項所述的墊圈，其中該光穿透膜包括至少一第一層以及至少一第二層，該至少一第二層的折射率低於該至少一第一層的折射率，該至少一第一層與該至少一第二層交替堆疊。
  7. 如請求項1至3中任一項所述的墊圈，其中該內斜面在400~870nm波長光線範圍內之反射率小於等於0.600%。
  8. 如請求項2或3所述的墊圈，其中該微結構呈不規則分布。
  9. 如請求項2或3所述的墊圈，其中該微結構包括多個從該內緣往該外緣延伸的凸條。
  10. 如請求項1至3中任一項所述的墊圈，其中該墊圈符合Do/Lbmax≦40.000，其中Lbmax為該內斜面從該內緣至該外緣的長度。
  11. 如請求項1至3中任一項所述的墊圈，其中該墊圈符合Do/|Dio-Dii|≦33.000，其中Dio為該物側面的內徑，且Dii為該像側面的內徑。
  12. 如請求項1至3中任一項所述的墊圈，其中該內斜面相對於該光軸的傾斜角大於等於5.000度，且小於等於70.000度。
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