CN112810282A - 一种异形pet遮光圈结构及成型工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种异形PET遮光圈结构，具有圆形的片本体，片本体的中心设置有透光孔，透光孔为扩口状，所述片本体包括依次设置的第一遮光层、第一PET层、中间层、第二PET层和第二遮光层，第一遮光层的内径为D1，第一PET层的内径为D2，中间层的内径为D3,第二PET层的内径为D，第二遮光层的内径为D5，且内径D1>内径D2>内径D3>内径D4>内径D5。本发明提供的该遮光片采用五层结构，再分别对不同层形成不同的直径，可以防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，本发明提供的遮光片成型工艺，通过三次成型，形成至少不同的内径的内壁，进而使成型的遮光片防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，成型质量好，易于控制。
Description
技术领域
本发明涉及光学装置加工技术领域，具体为一种异形PET遮光圈结构及成型工艺。
背景技术
遮光片，又称之为挡光片，在摄像机、手机摄像头等领域中作为必须的遮光元件，其目的在于避免杂散光进入取景器内而影响成像的质量，用于摄像头中的挡光片，又叫光阑、遮光圈、麦拉片等，这种挡光片的厚度一般为0.025至0.012mm之间，其中心孔为通光孔。事实上光线间并不是总保持平行的照射，在光线内部因为强弱的不同，光线也会形成交叉，所以中心孔的边壁总会对光进行反射，部分会进一步进入取影器内。
目前，在遮光片领域中，主要核心工艺是如何降低中心孔的边壁反射，通常先是通过冲裁中心孔，然后在中心孔内喷涂吸光涂料来吸光并少射，这种现有技术通常只能一定程度地降低光反射，且随着摄像头使用时间的延长(例如手机、ipad、摄像头等使用时间通常在三年以上)，涂料容易发生自行脱落等缺点，从而因遮光片而影响摄像头成像。
发明内容
本发明的目的在于提供一种异形PET遮光圈结构及成型工艺，本遮光片结构能够大幅降低光反射至取景器中，而该金属层的遮光片采用的成型工艺不但易于批量化成型，而且长时间使用也不会对影像头成型造成影响。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种异形PET遮光圈结构，具有圆形的片本体，片本体的中心设置有透光孔，透光孔为扩口状，所述片本体包括依次设置的第一遮光层、第一PET层、中间层、第二PET层和第二遮光层，第一遮光层的内径为D1，第一PET层的内径为D2，中间层的内径为D3,第二PET层的内径为D，第二遮光层的内径为D5，且内径D1>内径D2>内径D3>内径D4>内径D5。
进一步的，所述中间层为碳素层。
进一步的，所述第一遮光层和第二遮光层均为油墨层。
本发明还提供了一种带金属层的遮光片成型工艺，包括如下成型步骤：
S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层；
S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂
覆第二遮光层，形成遮光带；
S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；
S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；
S5、将遮光片本体置于溶液中对扩口状的工艺孔中的PET层进行表面溶解成型。
进一步的，在S5步骤中，所述溶液为氢氧化钾、氢氧化钠或氢氧化锂。
进一步的，所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钾溶液浓度为50％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钾溶液浓度为40％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。
进一步的，根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钠溶液浓度为35％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钠溶液浓度为30％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。
进一步的，所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化锂溶液浓度为35％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化锂溶液浓度为30％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。
进一步的，在S1步骤中，所述第一遮光层包含有硅烷偶联剂。
进一步的，在S2步骤中，所述第二遮光层包含有硅烷偶联剂。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明提供的一种异形PET遮光圈结构，该遮光片采用五层结构，再利用扩口式结构形成的透光孔，可以防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量；
2、本发明提供的遮光片成型工艺，该成型工艺通过三次成型，从而形成多个齿状分布的内径内壁，进而使成型的遮光片防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，成型质量好，易于控制。
附图说明
图1为本发明的整体结构示意图。
图2为本发明的光路反射图。
图3为本发明的局部结构示意图。
图中：片本体--1，第一遮光层--11，第一PET层--12，中间层--13，第二PET层--14，第二遮光层--15，透光孔--2。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-3，本发明提供的一种异形PET遮光圈结构，具有圆形的片本体1，片本体1的中心设置有透光孔2，透光孔为扩口状，所述片本体1包括依次设置的第一遮光层11、第一PET层12、中间层13、第二PET层14和第二遮光层15，所述透光孔的内壁设置为内凹齿形分布。第一遮光层的内径为D1，第一PET层的内径为D2，中间层的内径为D3,第二PET层的内径为D，第二遮光层的内径为D5，且内径D1>内径D2>内径D3>内径D4>内径D5，该遮光片采用五层结构，采用扩口式结构形成的透光孔，这样，可以防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量；在实际使用中，不同角度的光线在照射的在透光孔的边壁时，由于其特殊的角度特性，透光孔的扩口角度大于或等于45度，绝大部分非平行的散射光线会进行再反射并大幅减少进入取景器内。
所述中间层为碳素层，该炭素层可进一步的选择为含碳黑的丙烯树脂油墨，另需要强调的是，所述PE层的内壁表面需要保持为光面，这样可以减少非光滑表面产生的材料脱离。
在本技术方案中，所述第一遮光层11和第二遮光层15均为油墨层。油墨层采用防透光及吸光油墨，该油墨层的作用时防止光线穿过PET层形成的散光影响成像。具体可以参考图2所示的光路反射图，第一遮光层因属于吸光油墨，所以光线会被直接吸收，基本可以消除可见光反射，其他余光反射到PET层及中间层时，会形成相应的阻挡及光线吸收。
本发明还提供了一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，本工艺的实施方式如下。
实施例1，按如下成型步骤：
S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层；
S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂覆第二遮光层，形成遮光带；遮光带在成型后以带料收卷，第一遮光层和第二遮光层无采用防透光油墨，从而可防止光线从PET层透过，该油墨为碳素油墨耐酸腐蚀；
S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；单个的遮光片本体可根据实际需要进行不同大小规格的冲切。
S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；冲切后形成光滑镜面的内壁，从而保证冲切的精度。
S5、将遮光片本体置于溶液中对扩口状的工艺孔中的PET层进行表面溶解成型；
本实施例中的成型工艺通过三次成型，从而形成至少三个不同的内径的内壁，进而使成型的遮光片防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，成型产品质量好，易于实现精确控制每一段的不同内径大小，从而实现齿状式的内壁面。
实施例2，按如下成型步骤：
S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层；
S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂覆第二遮光层，形成遮光带；遮光带在成型后以带料收卷，第一遮光层和第二遮光层无采用防透光油墨，从而可防止光线从PET层透过，该油墨为碳素油墨耐酸腐蚀；
S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；单个的遮光片本体可根据实际需要进行不同大小规格的冲切。
S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；冲切后形成光滑镜面的内壁，从而保证冲切的精度。
S5、将批量(可根据溶液池大小来确定，单次至少可腐蚀数十万个)的遮光片本体置于强碱溶液氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化锂中进行溶解成型；溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钾溶液浓度为50％，温度为40℃，腐蚀时间为180分钟，所述第二次成型的乙酸溶液浓度为40％，温度为35℃，腐蚀时间为60～80分钟，第二次成型后将遮光片本体进行残留物清洗，本步骤中，使PET层的内径达到需要的数值D2。
本实施例中的成型工艺通过三次成型，从而形成至少三个不同的内径的内壁，进而使成型的遮光片防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，成型产品质量好，易于实现精确控制每一段的不同内径大小，从而实现齿状的内凹内壁面。
实施例3，按如下成型步骤：
S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层；
S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂覆第二遮光层，形成遮光带；遮光带在成型后以带料收卷，第一遮光层和第二遮光层无采用防透光油墨，从而可防止光线从PET层透过，该油墨为碳素油墨耐酸腐蚀；
S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；单个的遮光片本体可根据实际需要进行不同大小规格的冲切。
S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；冲切后形成光滑镜面的内壁，从而保证冲切的精度。
S5、将批量(可根据溶液池大小来确定，单次至少可腐蚀数十万个)的遮光片本体置于溶液中进行溶解成型；溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钠溶液浓度为35％，温度为40℃，腐蚀时间为240分钟，所述第二次成型的氢氧化钠溶液浓度为30％，温度为35℃，腐蚀时间为100分钟，通过两次分别溶解，能够更好的控制内径大小，第二次成型后将遮光片本体进行残留物清洗，本步骤中，使PET层的内径达到需要的数值D2。
本实施例中的成型工艺通过三次成型，从而形成至少三个不同的内径的内壁，进而使成型的遮光片防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，成型产品质量好，易于实现精确控制每一段的不同内径大小，从而实现齿状的内凹内壁面。
实施例4，按如下成型步骤：
S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层，所述第一遮光层包含有硅烷偶联剂，从而增加遮光层的附着力；
S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂覆第二遮光层，形成遮光带；所述第二遮光层包含有硅烷偶联剂，从而增加遮光层的附着力。遮光带在成型后以带料收卷，第一遮光层和第二遮光层无采用防透光油墨，从而可防止光线从PET层透过，该油墨为碳素油墨耐酸腐蚀；
S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；单个的遮光片本体可根据实际需要进行不同大小规格的冲切。
S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；冲切后形成光滑镜面的内壁，从而保证冲切的精度。
S5、将批量(可根据溶液池大小来确定，单次至少可腐蚀数十万个)的遮光片本体置于氢氧化锂溶液中进行溶解成型；溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化锂溶液浓度为40％，温度为40℃，腐蚀时间为240分钟，所述第二次成型的乙酸溶液浓度为30％，温度为35℃，腐蚀时间为80～100分钟，第二次成型后将遮光片本体进行残留物清洗，本步骤中，使PET层的内径达到需要的数值D2。
本实施例中的成型工艺通过三次成型，从而形成至少三个不同的内径的内壁，进而使成型的遮光片防止多余光线反射进入取景器内，提高成像质量，成型产品质量好，易于实现精确控制每一段的不同内径大小，从而实现齿状的内凹内壁面。
以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
Claims (10)
1.一种异形PET遮光圈结构，具有圆形的片本体，其特征在于：片本体的中心设置有透光孔，透光孔为扩口状，所述片本体包括依次设置的第一遮光层、第一PET层、中间层、第二PET层和第二遮光层，第一遮光层的内径为D1，第一PET层的内径为D2，中间层的内径为D3,第二PET层的内径为D，第二遮光层的内径为D5，且内径D1>内径D2>内径D3>内径D4>内径D5。
2.根据权利要求1所述的一种异形PET遮光圈结构，其特征在于：所述中间层为碳素层。
3.根据权利要求1所述的一种异形PET遮光圈结构，其特征在于：所述第一遮光层和第二遮光层均为油墨层。
4.一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于，包括如下成型步骤：
S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层；
S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂覆第二遮光层，形成遮光带；
S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；
S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；
S5、将遮光片本体置于溶液中对扩口状的工艺孔中的PET层进行表面溶解成型。
5.根据权利要求4所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：在S5步骤中，所述溶液为氢氧化钾、氢氧化钠或氢氧化锂。
6.根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钾溶液浓度为50％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钾溶液浓度为40％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。
7.根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钠溶液浓度为35％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钠溶液浓度为30％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。
8.根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化锂溶液浓度为35％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化锂溶液浓度为30％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。
9.根据权利要求4所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：在S1步骤中，所述第一遮光层包含有硅烷偶联剂。
10.根据权利要求9所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：在S2步骤中，所述第二遮光层包含有硅烷偶联剂。
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