CN106873817A - 触摸屏面板 - Google Patents

触摸屏面板 Download PDF

Info

Publication number
CN106873817A
CN106873817A CN201611121021.4A CN201611121021A CN106873817A CN 106873817 A CN106873817 A CN 106873817A CN 201611121021 A CN201611121021 A CN 201611121021A CN 106873817 A CN106873817 A CN 106873817A
Authority
CN
China
Prior art keywords
touch
electrode
pattern
protective layer
touch panel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201611121021.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106873817B (zh
Inventor
金湘甲
金志宪
丁有光
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
Publication of CN106873817A publication Critical patent/CN106873817A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106873817B publication Critical patent/CN106873817B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/40—OLEDs integrated with touch screens

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

公开了一种触摸屏面板。所述触摸屏面板包括：第一触摸电极，设置在基底上，并沿第一方向延伸，第一触摸电极包括第一网状图案，第一网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成；以及第二触摸电极，设置在基底上，并沿与第一方向交叉的第二方向延伸，第二触摸电极包括第二网状图案，第二网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成。

Description

触摸屏面板
技术领域
示例性实施例涉及触摸屏面板、制造触摸屏面板的方法和包括触摸屏面板的触摸显示装置。
背景技术
随着对各种类型的显示装置的需求已经随信息社会的发展而增大，已经对于诸如液晶显示装置、等离子显示面板、场致发射显示装置、电泳显示装置和有机发光显示装置等的显示装置进行了研究。这些研究已经产生了将触摸屏面板功能应用于这样的显示装置的能力。触摸屏面板是能够通过使用诸如手指、笔等的物体触摸(或几乎触摸)显示装置的屏幕来输入命令的输入装置。按照这种方式，触摸屏面板能代替诸如键盘和鼠标等的连接到显示装置的单独的输入装置。
触摸屏面板可以是电阻式覆盖触摸屏面板、光敏触摸屏面板和电容式触摸屏面板等。在各种类型的触摸屏面板中，当诸如用户的肢体、笔等的物体与触摸屏面板接触(或几乎接触，例如，在上方悬停)时，电容式触摸屏面板被构造为通过感测形成在导电感测图案与相邻感测图案或接地电极等之间的电容的变化来将关于触摸交互的位置的信息转变为电信号。
通常，触摸屏面板的触摸电极可以由诸如氧化铟锡(ITO)的透明导电材料形成。然而，要注意的是，ITO相对昂贵，如此，制造成本随着ITO的使用而增加。这样，因为不透明的金属网状图案通常具有相对高的电导率且比ITO便宜，所以对使用不透明的金属网状图案的触摸电极是感兴趣的。然而，金属网状图案通常具有精细的厚度，并会因外部冲击而损坏。由于损坏的金属的反射率的差异，“损坏”可被识别为(观察者所观察的)在伴随的显示装置上的污渍。
本背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对发明构思的背景技术的理解，因此其可能包含不形成本领域的普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
一个或更多个示例性实施例提供一种构造为防止(或减少)缺陷的触摸屏面板。
一个或更多个示例性实施例提供一种制造构造为防止(或减少)缺陷的触摸屏面板的方法。
一个或更多个示例性实施例提供一种包括构造为防止(或减少)缺陷的触摸屏面板的触摸显示装置。
另外的方面将在随后的详细描述中进行阐述，并且部分地通过公开将是明显的，或者可通过发明构思的实践而被获知。
根据一个或更多个示例性实施例，触摸屏面板包括：第一触摸电极，设置在基底上，并沿第一方向延伸，第一触摸电极包括第一网状图案，第一网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成；以及第二触摸电极，设置在基底上，并沿与第一方向交叉的第二方向延伸，第二触摸电极包括第二网状图案，第二网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成。
根据一个或更多个示例性实施例，触摸显示装置包括：显示面板，构造为显示图像；以及触摸屏面板，设置在显示面板上。触摸屏面板包括：第一触摸电极，设置在基底上，并沿第一方向延伸，第一触摸电极包括第一网状图案，第一网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成；以及第二触摸电极，设置在基底上，并沿与第一方向交叉的第二方向延伸，第二触摸电极包括第二网状图案，第二网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成。
根据一个或更多个示例性实施例，制造触摸屏面板的方法包括：在基底上形成第一保护层；在第一保护层上形成沿第一方向延伸的第一触摸电极，第一触摸电极包括第一网状图案，第一网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成；在第一保护层上形成沿与第一方向交叉的第二方向延伸的第二触摸电极，第二触摸电极包括第二网状图案，第二网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成；以及在第一触摸电极和第二触摸电极上形成第二保护层。
前面的总体描述和下面的详细描述是示例性的和解释性的，并意图提供对要求保护的主题的进一步解释。
附图说明
包括附图以提供发明构思的进一步理解，附图包括在本说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了发明构思的示例性实施例，并与描述一起用于解释发明构思的原理。
图1是根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板的平面图。
图2是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“A”的放大平面图。
图3是根据一个或更多个示例性实施例的图2的金属布线的放大平面图。
图4是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线I-I’截取的图3的金属布线的剖视图。
图5是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“B”的放大平面图。
图6是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“B”的放大平面图。
图7是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“B”的放大平面图。
图8是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线II-II’截取的图1的触摸屏面板的剖视图。
图9至图13是根据一个或更多个示例性实施例的在制造的不同阶段的触摸屏面板的剖视图。
图14是根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板的平面图。
图15是根据一个或更多个示例性实施例的图14的部分“E”的放大平面图。
图16是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线III-III’截取的图14的触摸屏面板的剖视图。
图17至图20是根据一个或更多个示例性实施例的在制造的不同阶段的触摸屏面板的剖视图。
图21是根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板的平面图。
图22是根据一个或更多个示例性实施例的图21的部分“G”的放大平面图。
图23是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线IV-IV’截取的图21的触摸屏面板的剖视图。
图24至图27是根据一个或更多个示例性实施例的在制造的不同阶段的触摸屏面板的剖视图。
图28是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
图29是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
图30是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
图31是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
图32是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
图33是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
具体实施方式
在下面的描述中，为了解释的目的，阐述了许多具体的细节，以提供对各种示例性实施例的彻底理解。然而，明显的是，各种示例性实施例可以在没有这些具体细节或者在一个或更多个等同布置的情况下实施。在其它情况下，公知的结构和装置以框图的形式示出以避免使各种示例性实施例不必要地模糊。
除非另有指明，否则所示的示例性实施例要被理解为提供改变各种示例性实施例的细节的示例性特征。因此，除非另有说明，否则特征、组件、模块、层、膜、面板、区域和/或各种图示的方面可以在不脱离所公开的示例性实施例的情况下以其它方式组合、分离、互换和/或重排。另外，在附图中，为了清楚和描述的目的，可以夸大层、膜、面板、区域等的尺寸和相对尺寸。当可以不同地实施示例性实施例时，可以不同于所描述的顺序地执行特定的工艺顺序。例如，两个连续地描述的工艺可以基本上同时执行，或者按照与所描述的顺序相反的顺序来执行。另外，同样的附图标记表示同样的元件。
当元件或层被称为“在”另一元件或层“上”、“连接到”或“结合到”另一元件或层时，该元件或层可以直接在其它元件或层上、直接连接到或结合到其它元件或层，或者可以存在中间元件或层。然而，当元件或层被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接到”或“直接结合到”另一元件或层时，不存在中间元件或中间层。另外，D1轴、D2轴和D3轴不限于直角坐标系的三个轴，并可以以更广泛的意义来解释。例如，D1轴、D2轴和D3轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同的方向。为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一(种/者)”以及“从由X、Y和Z组成的组中选择的至少一(种/者)”可被解释为仅X、仅Y、仅Z或者X、Y和Z中的两个(种/者)或更多个(种/者)的任意组合，诸如以XYZ、XYY、YZ和ZZ为例。如这里所用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关列出的项的任意和全部组合。
虽然在这里可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应该受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、组件、区域、层和/或部分与另一元件、组件、区域、层和/或部分区分开。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层和/或部分可被称为第二元件、组件、区域、层和/或部分。
为了描述的目的，在这里可使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下面的”、“在……上方”和“上面的”等的空间相对术语，并由此来描述如图中所示的一个元件或特征与另外的元件或特征的关系。除了图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含设备在使用、操作和/或制造中的不同方位。例如，如果图中的设备被翻转，那么被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”的元件将随后被定位为“在”其它元件或特征“上方”。因此，示例性术语“在……下方”可包含上方和下方两种方位。另外，设备可被另外定位(例如，旋转90度或在其它方位)，这样，相应地解释这里使用的空间相对描述符。
这里使用的术语是出于描述具体实施例的目的，并非意图限制。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种/者)”和“该/所述”也意图包括复数形式。此外，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，说明存在陈述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但不排除存在或附加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
这里参照作为理想化示例性实施例和/或中间结构的示意图的剖视图来描述各种示例性实施例。如此，由例如制造技术和/或公差导致的示出的形状的变化将是预期的。因此，这里公开的示例性实施例不应被解释为局限于具体示出的区域的形状，而是将包括因例如制造导致的形状的偏差。例如，示出为矩形的注入区将通常在其边缘处具有圆形的或弯曲的特征和/或注入浓度的梯度，而不是从注入区到非注入区的二元变化。同样地，由注入形成的埋区可导致在埋区与发生注入的表面之间的区域的一些注入。因此，附图中示出的区域本质上是示意性的，它们的形状不意图示出装置的区域的实际形状，并且不意图是限制性的。
除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开作为其一部分的领域的普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。除非这里明确地如此定义，否则术语(诸如通用字典中定义的术语)应该被解释为具有与在相关领域的上下文中的它们的意思一致的意思，并且将不以理想化的或过于形式化的含义来解释它们。
图1是根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板的平面图。图2是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“A”的放大平面图。图8是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线II-II’截取的图1的触摸屏面板的剖视图。
参照图1、图2和图8，触摸屏面板300可以包括基础基底310，第一保护层320、第一绝缘层340、第二绝缘层350、第二保护层360、第一触摸电极331、第二触摸电极333和连接布线335。
基础基底310可以是透明的基底。基础基底310由柔性材料制成，诸如由从柔性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)组成的组中选择的材料制成。例如，基础基底310可以包括聚碳酸酯(PC)，基础基底310可以是具有λ/4相差的圆形偏振膜。基础基底310可以是显示装置的显示面板的上基底。还预期的是，基础基底310可以是附着到显示面板的单独的基底。
第一保护层320设置在基础基底310上。第一保护层320可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第一保护层320可以包括第一层和第二层，第一层包括有机材料，第二层与第一层叠置并包括氧化硅(SiOx)。第一保护层320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保护层320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保护层320的折射率可以与第二保护层360的折射率不同。
第一保护层320设置在基础基底310上，这样，第一保护层320防止对基础基底310的损坏。此外，第一保护层320和第二保护层360可以补偿由于第一触摸电极331和第二触摸电极333与第一绝缘层340与第二绝缘层350之间的折射率差异而产生的透射率的减小。
第一触摸电极331设置在第一保护层320上。第一触摸电极331沿第一方向D1延伸。第一触摸电极331可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第一网状图案。稍后参照图3和图4描述金属布线ML。在一个或更多个示例性实施例中，第一网状图案可以具有菱形形状；然而，示例性实施例不限于此。第一网状图案可以通过金属布线ML的交叉来形成。
第一网状图案的金属布线ML可以由相对低电阻的金属材料形成。用于金属布线ML的金属材料可以包括诸如铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、钛(Ti)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、铬(Cr)、铁(Fe)、铟(In)和镓(Ga)的相对低电阻的金属材料。
第一绝缘层340形成在第一触摸电极331上。第一绝缘层340可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第一绝缘层340包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第一绝缘层340可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第一绝缘层340中的至少另一层不同的材料。
第二触摸电极333设置在第一绝缘层340上。第二触摸电极333沿与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二触摸电极333可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第二网状图案。参照图3和图4更详细地描述金属布线ML。在一个或更多个示例性实施例中，第二网状图案可以具有菱形形状，然而，示例性实施例不限于此。第二网状图案可以通过金属布线ML的交叉形成。第二网状图案的金属布线ML可以由相对低电阻的金属材料形成。用于金属布线ML的金属材料可以包括诸如铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、钛(Ti)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、铬(Cr)、铁(Fe)、铟(In)和镓(Ga)的相对低电阻的金属材料。
第二绝缘层350形成在第二触摸电极333上。第二绝缘层350可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第二绝缘层350包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第二绝缘层350可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二绝缘层350中的至少另一层不同的材料。
第二保护层360设置在第二绝缘层350上。第二保护层360可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第二保护层360可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二保护层360中的至少另一层不同的材料。第二保护层360的折射率可以大于1.6并且小于1.75。第二保护层360的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第二保护层360的折射率可以与第一保护层320的折射率不同。第二保护层360和第一保护层320可以补偿由于第一触摸电极331和第二触摸电极333与第一绝缘层340和第二绝缘层350之间的折射率的差异而产生的透射率的减小。
触摸电极331和333交替地布置。第一触摸电极331彼此连接以形成具有相同的X坐标的行，第二触摸电极333彼此连接以形成具有相同的Y坐标的列。触摸屏面板可以是电容式触摸屏面板，其中，第一触摸电极331和第二触摸电极333交替地分布并布置在动作区(active area)AA中。第一触摸电极331和第二触摸电极333分别连接到连接布线335。连接布线可以设置在动作区AA的外侧。
根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板是电容式触摸屏面板。如果触摸屏面板被诸如用户的手指、手写笔等接触物体接触(或者被几乎接触)，那么由触摸交互引起的电容的改变通过连接布线335提供给外部驱动电路(未示出)。电容的改变被X和Y输入处理电路(未示出)等转变为电信号，从而检测到触摸交互的位置。
图3是根据一个或更多个示例性实施例的图2的金属布线的放大平面图。图4是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线I-I’截取的图3的金属布线的剖视图。
参照图2、图3和图4，第一触摸电极331可以包括多个第一网状图案，所述多个第一网状图案通过包括多个精细图案的金属布线ML的交叉形成，第二触摸电极333可以包括多个第二网状图案，所述多个第二网状图案通过包括多个精细图案的金属布线ML的交叉形成。即，第一网状图案和第二网状图通过包括多个精细图案的金属布线ML的交叉形成。
金属布线ML包括多个精细图案。具体地，每个金属布线ML可以包括由金属材料形成的多个精细图案(例如，多个图案部分MP)和位于图案部分MP之间的多个空间部分MS。图案部分MP的间隔P可以小于150nm。此外，图案部分MP的宽度W可以小于75nm。当图案部分MP的间隔P大于150nm并且小于400nm时，显示面板可以被视为绿色或黄色。然而，当根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板的图案部分MP的间隔P小于150nm时，可以减少显示面板的缺陷。
金属布线ML的透射率大于50％。图案部分MP的宽度W的总和可以小于空间部分MS的宽度的总和(例如，图案部分MP的间隔P的总和)。
图5是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“B”的放大平面图。图6是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“B”的放大平面图。图7是根据一个或更多个示例性实施例的图1的部分“B”的放大平面图。
参照图5、图6和图7，示出了根据一个或更多个示例性实施例的第一网状图案和第二网状图案的各种形状。图5中的网状图案是不规则的网，制造不规则的网状图案是相对简单的，并且节省相关工艺。图6中的网状图案是矩形形状，图7中的网状图案是六边形形状。即，图6和图7中的网状图案以规则的(或相似的)图案均匀地布置。由于网状图案以规则的图案均匀地布置，所以触摸屏的透射率可以是均匀的，且网状图案的表面电阻分布均匀。此外，由于均匀地布置的网状图案使电阻偏差变小，所以为了使图像均匀的用于校正电阻偏差的设置不是必需的。注意的是，网状图案可以基本上是正交直线晶格图案、弯曲波浪线晶格图案等。网状图案的网状单元可以是诸如三角形、菱形或正多边形等的规则的形状。此外，它也可以是不规则的形状。
图9至图13是根据一个或更多个示例性实施例的在制造的不同阶段的触摸屏面板的剖视图。为了便于描述，将参照图9至图13描述图8的触摸屏面板的制造。
参照图9，在基础基底310上形成第一保护层320。基础基底310可以是透明的基底。基础基底310由柔性材料制成，诸如由从柔性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)组成的组中选择的材料制成。例如，基础基底310可以包括聚碳酸酯(PC)，基础基底310可以是具有λ/4相差的圆形偏振膜。基础基底310可以是显示装置的显示面板的上基底。还预期的是，基础基底310可以是附着到显示面板的单独的基底。
在基础基底310上设置第一保护层320。第一保护层320可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第一保护层320可以包括第一层和第二层，第一层包括有机材料，第二层与第一层叠置并包括氧化硅(SiOx)。
第一保护层320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保护层320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保护层320的折射率可以与第二保护层360的折射率不同。第一保护层320设置在基础基底310上，这样，第一保护层320可以防止对基础基底310的损坏。此外，第一保护层320和第二保护层360可以补偿由于触摸电极与绝缘层之间的折射率差异而产生的透射率的减小。
参照图10，在第一保护层320上形成第一触摸电极331和第一绝缘层340。第一触摸电极331沿第一方向D1延伸。第一触摸电极331可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第一网状图案。在第一触摸电极331上形成第一绝缘层340。第一绝缘层340可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第一绝缘层340包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第一绝缘层340可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第一绝缘层340中的至少另一层不同的材料。
图11是根据一个或更多个示例性实施例的图10的部分“C”的放大剖视图。
参照图11，第一触摸电极331包括多个第一金属布线ML1。第一金属布线ML1包括多个精细图案。即，多个图案部分MP由金属材料形成。换句话说，每个第一金属布线ML1可以包括由金属材料形成的多个精细图案(例如，多个图案部分MP)和位于图案部分MP之间的多个空间部分MS。可以通过纳米压印工艺形成第一触摸电极331；然而，可以通过各种其它的工艺形成第一触摸电极331。图案部分MP的间隔P可以小于150nm。此外，图案部分MP的宽度W可以小于75nm。第一金属布线ML1的透射率大于50％。
参照图12，在第一绝缘层340上形成第二触摸电极333和第二绝缘层350。第二触摸电极333沿与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二触摸电极333可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第二网状图案。在第二触摸电极333上形成第二绝缘层350。第二绝缘层350可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第二绝缘层350包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第二绝缘层350可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二绝缘层350中的至少另一层不同的材料。
图13是根据一个或更多个示例性实施例的图12的部分“D”的放大剖视图。
参照图13，第二触摸电极333包括多个第二金属布线ML2。即，多个图案部分MP由金属材料形成。换句话说，每个第二金属布线ML2可以包括由金属材料形成的多个精细图案(例如，多个图案部分MP)和位于图案部分MP之间的多个空间部分MS。第二金属布线ML2包括多个精细图案。可以通过纳米压印工艺形成第二触摸电极333，然而，可以通过各种其它的工艺形成第二触摸电极333。图案部分MP的间隔P可以小于150nm。此外，图案部分MP的宽度W可以小于75nm。第二金属布线ML2的透射率大于50％。
如前面参照图8所描述的，可以在第二绝缘层350上形成第二保护层360。第二保护层360可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第二保护层360可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二保护层360中的至少另一层不同的材料。
第二保护层360的折射率可以大于1.6并且小于1.75。第二保护层360的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第二保护层360的折射率可以与第一保护层320的折射率不同。第二保护层360和第一保护层320可以补偿由于触摸电极(例如，第一触摸电极331和第二触摸电极333)与绝缘层(例如，第一绝缘层340和第二绝缘层350)之间的折射率差异而产生的透射率的减小。
图14是根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板的平面图。图15是根据一个或更多个示例性实施例的图14的部分“E”的放大平面图。图16是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线III-III’截取的图14的触摸屏面板的剖视图。除了第一触摸电极1331、第二触摸电极1333和连接电极1337，图14、图15和图16的触摸屏面板与图1至图13的触摸屏面板相似。因此，为了避免使在此公开的示例性实施例不清楚，将省略重复的解释。
参照图14、图15和图16，触摸屏面板1300可以包括基础基底1310、第一保护层1320、第一绝缘层1340、第二绝缘层1350、第二保护层1360、第一触摸电极1331、第二触摸电极1333、连接布线1335和连接电极1337。
第一触摸电极1331和第二触摸电极1333设置在第一保护层1320上。第一触摸电极1331沿第一方向D1延伸。第一触摸电极1331可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第一网状图案。第二触摸电极1333沿与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二触摸电极1333可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第二网状图案。第一网状图案彼此分开，第二网状图案彼此连接。
第一绝缘层1340形成在第一触摸电极1331和第二触摸电极1333上。第一绝缘层1340可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第一绝缘层1340包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第一绝缘层1340可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第一绝缘层1340中的至少另一层不同的材料。
连接电极1337设置在第一绝缘层1340上。连接电极1337可以电连接第一网状图案。连接电极1337可以包括诸如氧化铝锌(AZO)、氧化铟锡(ITO)、氧化镓锌(GZO)和氧化铟锌(IZO)等的透明导电材料，然而，示例性实施例不限于此。连接电极1337可以由具有与第一网状图案相同的形状的网状图案形成。此外，连接电极1337可以包括诸如铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、钛(Ti)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、铬(Cr)、铁(Fe)、铟(In)和镓(Ga)的相对低电阻的金属材料。
第二绝缘层1350形成在连接电极1337上。第二绝缘层1350可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第二绝缘层1350包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第二绝缘层1350可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二绝缘层1350中的至少另一层不同的材料。
第二保护层1360设置在第二绝缘层1350上。第二保护层1360可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第二保护层1360可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二保护层1360中的至少另一层不同的材料。
图17至图20是根据一个或更多个示例性实施例的在制造的不同阶段的触摸屏面板的剖视图。为了便于描述，将参照图17至图20描述图16的触摸屏面板的制造。
参照图17，在基础基底1310上形成第一保护层1320。基础基底1310可以是透明的基底。基础基底1310由柔性材料制成，诸如由从柔性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)组成的组中选择的材料制成。例如，基础基底1310可以包括聚碳酸酯(PC)，基础基底1310可以是具有λ/4相差的圆形偏振膜。基础基底1310可以是显示装置的显示面板的上基底。还预期的是，基础基底1310可以是附着到显示面板的单独的基底。
在基础基底1310上设置第一保护层1320。第一保护层1320可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第一保护层1320可以包括第一层和第二层，第一层包括有机材料，第二层与第一层叠置并包括氧化硅(SiOx)。
第一保护层1320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保护层1320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保护层1320的折射率可以与第二保护层1360的折射率不同。在基础基底1310上设置第一保护层1320，这样，第一保护层1320防止对基础基底1310的损坏。此外，第一保护层1320和第二保护层1360可以补偿由于触摸电极(例如，第一触摸电极1331和第二触摸电极1333)与绝缘层(例如，第一绝缘层1340和第二绝缘层1350)之间的折射率差异而产生的透射率的减小。
参照图18，在第一保护层1320上形成第一触摸电极1331、第二触摸电极1333和第一绝缘层1340。即，第一触摸电极1331与第二触摸电极1333设置在同一层上。如图14中所示，第一触摸电极1331沿第一方向D1延伸。第一触摸电极1331可以包括通过金属布线的交叉形成的多个第一网状图案。第二触摸电极1333沿与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二触摸电极1333可以包括通过金属布线的交叉形成的多个第二网状图案。
在第一触摸电极1331和第二触摸电极1333上形成第一绝缘层1340。第一绝缘层1340可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第一绝缘层1340包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第一绝缘层1340可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第一绝缘层1340中的至少另一层不同的材料。
图19是根据一个或更多个示例性实施例的图18的部分“F”的放大剖视图。
参照图19，第一触摸电极1331和第二触摸电极1333包括多个金属布线ML。金属布线ML包括多个精细图案；即，多个图案部分MP由金属材料形成。换句话说，每个金属布线ML可以包括由金属材料形成的多个精细图案(例如，多个图案部分MP)和位于图案部分MP之间的多个空间部分MS。第一触摸电极1331和第二触摸电极1333可以通过纳米压印工艺形成；然而，第一触摸电极1331和第二触摸电极1333可以通过各种其它工艺形成。图案部分MP的间隔P可以小于150nm。此外，图案部分MP的宽度W可以小于75nm。金属布线ML的透射率大于50％。
参照图20，在第一绝缘层1340上形成连接电极1337和第二绝缘层1350。在第一绝缘层1340上设置连接电极1337。连接电极1337可以电连接第一网状图案。连接电极1337可以包括诸如氧化铝锌(AZO)、氧化铟锡(ITO)、氧化镓锌(GZO)和氧化铟锌(IZO)等的透明导电材料，然而，示例性实施例不限于此。连接电极1337可以由具有与第一网状图案相同的形状的网状图案形成。此外，连接电极1337可以包括诸如铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、钛(Ti)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、铬(Cr)、铁(Fe)、铟(In)和镓(Ga)的相对低电阻的金属材料。
第二绝缘层1350形成在连接电极1337上。第二绝缘层1350可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第二绝缘层1350包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第二绝缘层1350可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二绝缘层1350中的至少另一层不同的材料。
如前面参照图16所描述的，在第二绝缘层1350上形成第二保护层1360。第二保护层1360可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第二保护层1360可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二保护层1360中的至少另一层不同的材料。第二保护层1360的折射率可以大于1.6并且小于1.75。第二保护层1360的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第二保护层1360的折射率可以与第一保护层1320的折射率不同。第二保护层1360和第一保护层1320可以补偿由于触摸电极(例如，第一触摸电极1331和第二触摸电极1333)与绝缘层(例如，第一绝缘层1340和第二绝缘层1350)之间的折射率差异而产生的透射率的减小。
图21是根据一个或更多个示例性实施例的触摸屏面板的平面图。图22是根据一个或更多个示例性实施例的图21的部分“G”的放大平面图。图23是根据一个或更多个示例性实施例的沿剖面线IV-IV’截取的图21的触摸屏面板的剖视图。除了第一触摸电极2331、第二触摸电极2333和连接电极2337，图21、图22和图23的触摸屏面板与图1至图13的触摸屏面板相似。因此，为了避免使在此公开的示例性实施例不清楚，将省略重复的解释。
参照图21、图22和图23，触摸屏面板2300可以包括基础基底2310、第一保护层2320、第一绝缘层2340、第二绝缘层2350、第二保护层2360、第一触摸电极2331、第二触摸电极2333、连接布线2335和连接电极2337。
连接电极2337设置在第一保护层2320上。连接电极2337可以电连接第一网状图案。连接电极2337可以包括诸如氧化铝锌(AZO)、氧化铟锡(ITO)、氧化镓锌(GZO)和氧化铟锌(IZO)等的透明导电材料，然而，示例性实施例不限于此。连接电极2337可以由具有与第一网状图案相同的形状的网状图案形成。此外，连接电极2337可以包括诸如铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、钛(Ti)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、铬(Cr)、铁(Fe)、铟(In)和镓(Ga)的相对低电阻的金属材料。
第一绝缘层2340形成在连接电极2337上。第一绝缘层2340可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第一绝缘层2340包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第一绝缘层2340可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第一绝缘层2340中的至少另一层不同的材料。
第一触摸电极2331和第二触摸电极2333设置在第一绝缘层2340上。第一触摸电极2331沿第一方向D1延伸。第一触摸电极2331可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第一网状图案。第二触摸电极2333沿与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二触摸电极2333可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第二网状图案。第一网状图案彼此分开，第二网状图案彼此连接。
第二绝缘层2350形成在第一触摸电极2331和第二触摸电极2332上。第二绝缘层2350可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第二绝缘层2350包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第二绝缘层2350可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二绝缘层2350中的至少另一层不同的材料。
第二保护层2360设置在第二绝缘层2350上。第二保护层2360可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第二保护层2360可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二保护层2360中的至少另一层不同的材料。
图24至图27是根据一个或更多个示例性实施例的在制造的不同阶段的触摸屏面板的剖视图。为了便于描述，将参照图24至图27描述图23的触摸屏面板的制造。
参照图24，在基础基底2310上形成第一保护层2320。基础基底2310可以是透明的基底。基础基底2310由柔性材料制成，诸如由从柔性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)组成的组中选择的材料制成。例如，基础基底2310可以包括聚碳酸酯(PC)，基础基底2310可以是具有λ/4相差的圆形偏振膜。基础基底2310可以是显示装置的显示面板的上基底。还预期的是，基础基底2310可以是附着到显示面板的单独的基底。
在基础基底2310上设置第一保护层2320。第一保护层2320可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第一保护层2320可以包括第一层和第二层，第一层包括有机材料，第二层与第一层叠置并包括氧化硅(SiOx)。第一保护层2320的折射率可以大于1.7并且小于1.8。第一保护层2320的厚度可以大于50nm并且小于150nm。第一保护层2320的折射率可以与第二保护层2360的折射率不同。在基础基底2310上设置第一保护层2320，这样，第一保护层2320防止对基础基底2310的损坏。此外，第一保护层2320和第二保护层2360可以补偿由于触摸电极(例如，第一触摸电极2331和第二触摸电极2333)与绝缘层(例如，第一绝缘层2340和第二绝缘层2350)之间的折射率差异而产生的透射率的减小。
参照图25，在第一保护层2320上形成连接电极2337和第一绝缘层2340。在第一保护层2320上设置连接电极2337。连接电极2337可以电连接第一网状图案。连接电极2337可以包括诸如氧化铝锌(AZO)、氧化铟锡(ITO)、氧化镓锌(GZO)和氧化铟锌(IZO)等的透明导电材料；然而，示例性实施例不限于此。连接电极2337可以由具有与第一网状图案相同的形状的网状图案形成。此外，连接电极2337可以包括诸如铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)、钛(Ti)、银(Ag)、金(Au)、镍(Ni)、铬(Cr)、铁(Fe)、铟(In)和镓(Ga)的相对低电阻的金属材料。
在连接电极2337上形成第一绝缘层2340。第一绝缘层2340可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第一绝缘层2340包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第一绝缘层2340可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第一绝缘层2340中的至少另一层不同的材料。
参照图26，在第一绝缘层2340上形成第一触摸电极2331、第二触摸电极2332和第二绝缘层2350。在第一绝缘层2340上设置第一触摸电极2331和第二触摸电极2333。如图21中所示，第一触摸电极2331沿第一方向D1延伸。第一触摸电极2331可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第一网状图案。第二触摸电极2333沿与第一方向D1交叉的第二方向D2延伸。第二触摸电极2333可以包括通过金属布线ML的交叉形成的多个第二网状图案。第一网状图案彼此分开，第二网状图案彼此连接。
在第一触摸电极2331和第二触摸电极2333上形成第二绝缘层2350。第二绝缘层2350可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第二绝缘层2350包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第二绝缘层2350可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第二绝缘层2350中的至少另一层不同的材料。
图27是根据一个或更多个示例性实施例的图26的部分“H”的放大剖视图。
参照图27，第一触摸电极2331和第二触摸电极2333包括多个金属布线ML。金属布线ML包括多个精细图案；即，多个图案部分MP由金属材料形成。换句话说，每个金属布线ML可以包括由金属材料形成的多个精细图案(例如，多个图案部分MP)和位于图案部分MP之间的多个空间部分MS。第一触摸电极2331和第二触摸电极2333可以通过纳米压印工艺形成；然而，第一触摸电极2331和第二触摸电极2333可以通过各种其它的工艺形成。图案部分MP的间隔P可以小于150nm。此外，图案部分MP的宽度W可以小于75nm。金属布线ML的透射率大于50％。
如前面参照图23所描述的，在第二绝缘层2350上形成第二保护层2360。第二保护层2360可以包括从由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氧化铝(AlOx)组成的组中选择的材料中的至少一种。此外，第二保护层2360可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料。
图28是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
参照图28，触摸显示装置可以包括构造为显示图像的显示面板DP和设置在显示面板DP上的触摸屏面板TSP。触摸显示装置可以是有机发光二极管触摸显示装置，然而，示例性实施例不限于此。
显示面板DP包括下基底100、缓冲层102、栅极绝缘层104、绝缘中间层106、平坦化层108、像素限定层112、薄膜晶体管(TFT)130、第一电极146、第二电极148、有机发光元件200和包封基底150。
下基底100可以包括透明的绝缘基底。例如，下基底100可以包括玻璃基底、石英基底、包括透明树脂的透明树脂基底等。可以用于下基底100的透明树脂的示例可以包括聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂、聚丙烯酸酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、磺酸类树脂等。
缓冲层102设置在下基底100上，并包括绝缘材料。可以用于缓冲层102的绝缘材料的示例可以包括诸如氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、碳氧化硅(SiOxCy)、氮碳化硅(SiCxNy)等的无机绝缘材料。无机绝缘材料可以单独使用、使用其组合、使用其混合物或使用其堆叠结构。当缓冲层102包括堆叠结构时，缓冲层102可以具有包括氧化硅层、氮化硅层、氮氧化硅层、碳氧化硅层和/或氮碳化硅层的多层结构。缓冲层102防止金属原子或杂质从下基底100扩散以控制在有源图案135的随后的结晶化工艺期间的热传递的速度。因此，可以改善有源图案135的电特性。另外，缓冲层102使下基底100的表面平坦。
有源图案135设置在缓冲层102上。例如，有源图案135可以包括多晶硅。有源图案135包括漏极接触部132、源极接触部136和沟道部134。漏极接触部132与薄膜晶体管130的漏电极142接触。源极接触部136与薄膜晶体管130的源电极144接触。沟道部134设置在漏极接触部132与源极接触部136之间。
栅极绝缘层104设置在其上形成有有源图案135的缓冲层102上，以将有源图案135与栅电极138和栅极线(未示出)电绝缘。栅极绝缘层104可以包括氮化硅、金属氧化物等。可以用于栅极绝缘层104的绝缘材料的示例可以包括氧化铪(HfOx)、氧化铝(AlOx)、氧化锆(ZrOx)、氧化钛(TiOx)、氧化钽(TaOx)等。这些可以单独使用、使用其组合、使用其混合物或使用其堆叠结构。栅极绝缘层104可以包括多个接触孔，源极接触部136和漏极接触部132通过所述多个接触孔暴露。
栅电极138设置在栅极绝缘层104上。栅电极138设置在有源图案135的沟道部134上。当电压差形成在栅电极138与源电极144之间时，薄膜晶体管130导通，使得电流流经沟道部134朝向漏电极142。
栅电极138可以包括诸如金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等的导电材料。可以用于栅电极138的导电材料的示例可以包括铝、铝合金、氮化铝(AlNx)、银(Ag)、银合金、钨(W)、氮化钨(WNx)、铜(Cu)、铜合金、镍(Ni)、铬(Cr)、氮化铬(CrNx)、钼(Mo)、钼合金、钛(Ti)、氮化钛(TiNx)、铂(Pt)、钽(Ta)、氮化钽(TaNx)、钕(Nd)、钪(Sc)、氧化锶钌(SRO)、氧化锌(ZnOx)、氧化铟锡(ITO)、氧化锡(SnOx)、氧化铟(InOx)、氧化镓(GaOx)、氧化铟锌(IZO)等。这些可以单独使用或以它们的组合使用。另外，栅电极138可以具有包括金属层、合金层、金属氮化物层、导电金属氧化物层和/或透明导电材料层的单层结构或多层结构。
绝缘中间层106形成在其上形成有栅电极138和栅极线(未示出)的栅极绝缘层104上。绝缘中间层106将栅电极138和栅极线(未示出)与源电极144和漏电极142绝缘。绝缘中间层106可以包括硅化合物。可以用于绝缘中间层106的绝缘材料的示例可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氮碳化硅、碳氧化硅等。这些可以单独使用或以它们的组合使用。绝缘中间层106具有多个接触孔，有源图案135的源极接触部136和漏极接触部132通过所述多个接触孔暴露。
源电极144和漏电极142形成在绝缘中间层106上。源电极144和漏电极142分别与有源图案135的源极接触部136和漏极接触部132接触。源电极144和漏电极142可以包括诸如金属、合金、金属氮化物、导电金属氧化物、透明导电材料等的导电材料。可以用于源电极144和漏电极142的导电材料的示例可以包括铝、铝合金、氮化铝(AlNx)、银(Ag)、银合金、钨(W)、氮化钨(WNx)、铜(Cu)、铜合金、镍(Ni)、铬(Cr)、氮化铬(CrNx)、钼(Mo)、钼合金、钛(Ti)、氮化钛(TiNx)、铂(Pt)、钽(Ta)、氮化钽(TaNx)、钕(Nd)、钪(Sc)、氧化锶钌(SRO)、氧化锌(ZnOx)、氧化铟锡(ITO)、氧化锡(SnOx)、氧化铟(InOx)、氧化镓(GaOx)、氧化铟锌(IZO)等。这些可以单独使用或以它们的组合使用。另外，源电极144和漏电极142可以具有包括金属层、合金层、金属氮化物层、导电金属氧化物层和/或透明导电材料层的单层结构或多层结构。
平坦化层108形成在其上形成有源电极144、漏电极142和数据线(未示出)的绝缘中间层106上，以将源电极144与第一电极146电绝缘。平坦化层108可以包括有机绝缘材料或无机绝缘材料。可以用于平坦化层108的绝缘材料的示例可以包括光致抗蚀剂、丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、硅氧烷树脂、光致抗蚀剂丙烯酸羧基树脂、酚醛清漆树脂、碱溶性树脂、硅化合物、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、氮碳化硅等。这些可以单独使用或以它们的组合使用。平坦化层108具有接触孔，漏电极142通过所述接触孔暴露。
第一电极146设置在与像素区对应的平坦化层108上，并穿过平坦化层108的接触孔电连接到漏电极142。
当显示面板DP是前照式时，第一电极146可以包括反射金属、反射合金等。例如，第一电极146可以包括银、铂、金、铬、钨、钼、钛、钯、铱、它们的合金等。这些可以单独使用或以它们的组合使用。可选择地，第一电极146可以包括诸如氧化铟锡、氧化锡、氧化铟锌、氧化锌、氧化铟镓、氧化镓等的透明导电材料。这些可以单独使用或以它们的组合使用。
像素限定层112设置在其上形成有第一电极146的平坦化层108上，以暴露第一电极146的一部分。像素限定层112可以包括有机材料或无机材料。可以用于像素限定层112的材料的示例可以包括光致抗蚀剂、聚丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、丙烯酸树脂、硅化合物等。显示区和非显示区被第一电极146的暴露部分(其被像素限定层112暴露)限定在OLED上。例如，被像素限定层112暴露的第一电极146的暴露部分对应于显示区。像素限定层112的剩余部分限定非显示区。
有机发光元件200设置在被像素限定层112暴露的第一电极146上。第二电极148覆盖有机发光元件200和像素限定层112。
当显示面板DP是前照式时，第二电极148可以包括透明导电材料。可以用于第二电极148的透明导电材料的示例可以包括氧化铟锡、氧化锡、氧化铟锌、氧化锌、氧化铟镓、氧化镓等。这些可以单独使用或以它们的组合使用。
图28的触摸屏面板与图1至图13的触摸屏面板相似。即，触摸屏面板TSP可以包括基础基底310、第一保护层320、第一绝缘层340、第二绝缘层350、第二保护层360、第一触摸电极331和第二触摸电极333。如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图29是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
参照图29，触摸显示装置可以包括构造为显示图像的显示面板DP和设置在显示面板DP上的触摸屏面板TSP。触摸显示装置是有机发光二极管触摸显示装置，然而，示例性实施例不限于此。图29的显示面板DP与图28的显示面板相似，如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图29的触摸屏面板TSP与图14至图20的触摸屏面板相似。即，触摸屏面板TSP可以包括基础基底1310、第一保护层1320、第一绝缘层1340、第二绝缘层1350、第二保护层1360、第一触摸电极1331、第二触摸电极1333和连接电极1337。如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图30是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
参照图30，触摸显示装置可以包括构造为显示图像的显示面板DP和设置在显示面板DP上的触摸屏面板TSP。触摸显示装置是有机发光二极管触摸显示装置，然而，示例性实施例不限于此。图30的显示面板DP与图28和图29的显示面板相似，如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图30的触摸屏面板TSP与图21至图27的触摸屏面板相似。即，触摸屏面板TSP可以包括基础基底2310、第一保护层2320、第一绝缘层2340、第二绝缘层2350、第二保护层2360、第一触摸电极2331、第二触摸电极2333和连接电极2337。如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图31是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
参照图31，触摸显示装置可以包括构造为显示图像的显示面板DP和设置在显示面板DP上的触摸屏面板TSP。触摸显示装置是液晶触摸显示装置，然而，示例性实施例不限于此。
显示面板DP包括下基底1110、栅电极GE、源电极SE、漏电极DE、有源图案AP、像素电极PE、第一绝缘层1120、第二绝缘层1130、有机层1140、液晶层LC、上基底1210、黑矩阵1220、滤色器1230、包覆层1240和共电极1250。
下基底1110的示例可以包括玻璃基底、石英基底、硅基底和塑料基底等。
栅电极GE设置在下基底1110上。栅电极GE与栅极线GL电连接。栅电极GE可以具有包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的混合物的单层结构。此外，栅电极GE可以具有多层结构，所述多层结构具有包括彼此不同的材料或者与栅电极GE中的至少另一层不同的材料的多个层。例如，栅电极GE可以包括铜层和设置在铜层上和/或铜层下的钛层。
第一绝缘层1120形成在栅电极GE上。第一绝缘层1120可以覆盖下基底1110和包括栅电极GE的第一导电图案。第一绝缘层1120可以包括诸如氧化硅(SiOx)和/或氮化硅(SiNx)的无机材料。例如，第一绝缘层1120包括氧化硅(SiOx)，并可以具有大约的厚度。此外，第一绝缘层1120可以包括多个层，所述多个层包括彼此不同的材料或者与第一绝缘层1120中的至少另一层不同的材料。
有源图案AP形成在第一绝缘层1120上。在其中形成有栅电极GE的区域中，有源图案AP形成在第一绝缘层1120上。有源图案AP可以与栅电极GE叠置。有源图案AP可以与源电极SE和漏电极DE部分地叠置。有源图案AP可以设置在栅电极GE与源电极SE之间。有源图案AP可以设置在栅电极GE与漏电极DE之间。
源电极SE和漏电极DE可以形成在有源图案AP上。栅电极GE、有源图案AP、源电极SE和漏电极DE可以构成开关SW。源电极SE和漏电极DE可以彼此分隔开。源电极SE和漏电极DE可以由与数据线DL相同的层形成。源电极SE和漏电极DE可以具有包括铜(Cu)、银(Ag)、铬(Cr)、钼(Mo)、铝(Al)、钛(Ti)、锰(Mn)或它们的混合物的单层结构。此外，源电极SE和漏电极DE可以具有多层结构，所述多层结构具有包括彼此不同的材料的多个层。例如，源电极SE和漏电极DE可以包括铜层和设置在铜层上和/或铜层下的钛层。
第二绝缘层1130可以形成在源电极SE和漏电极DE上。第二绝缘层1130可以利用包括氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiNx)的材料形成。
有机层1140设置在第二绝缘层1130上。有机层1140使基底的上表面平坦，从而可以防止诸如信号线断开的与台阶有关的问题。有机层1140可以是包括有机材料的绝缘层。有机层1140可以是滤色器。
像素电极PE形成在有机层1140上。像素电极PE可以穿过第一接触孔与漏电极DE电连接。像素电极PE可以包括诸如氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌(IZO)的透明导电材料。此外，像素电极PE可以包括钛(Ti)和/或钼钛(MoTi)。
上基底1210的示例可以包括玻璃基底、石英基底、硅基底和塑料基底等。
黑矩阵1220设置在上基底1210上。黑矩阵1220阻挡光，并与其上不显示图像的非显示区对应地设置。
滤色器1230设置在其上设置有黑矩阵1220的上基底1210上。滤色器1230将颜色供应到穿过液晶层LC的光。滤色器1230可以包括红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器。滤色器1230对应于单位像素。彼此相邻的滤色器1230可以具有不同的颜色。滤色器1230可以与相邻的滤色器1230在相邻的单位像素的边界中叠置。此外，滤色器1230可以在相邻的单位像素的边界中与相邻的滤色器1230分隔开。
包覆层1240设置在滤色器1230和黑矩阵1220上。包覆层1240使滤色器1230平坦、保护滤色器1230并使滤色器1230绝缘。包覆层1240可以包括丙烯酸环氧树脂材料。共电极1250设置在包覆层1240上。
液晶层LC设置在下基底1110与上基底1210之间。液晶层LC包括具有光学各向异性的液晶分子。液晶分子被电场驱动使得通过穿过或阻挡通过液晶层LC的光来显示图像。此外，显示面板DP还可以包括将光提供到显示面板DP的背光组件。
图31的触摸屏面板TSP与图1至图13的触摸屏面板相似。即，触摸屏面板TSP可以包括基础基底310、第一保护层320、第一绝缘层340、第二绝缘层350、第二保护层360、第一触摸电极331和第二触摸电极333。如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图32是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
参照图32，触摸显示装置可以包括构造为显示图像的显示面板DP和设置在显示面板DP上的触摸屏面板TSP。触摸显示装置是液晶触摸显示装置，然而，示例性实施例不限于此。图32的显示面板DP与图31的显示面板DP相似，如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图32的触摸屏面板TSP与图14至图20的触摸屏面板TSP相似。即，触摸屏面板TSP可以包括基础基底1310、第一保护层1320、第一绝缘层1340、第二绝缘层1350、第二保护层1360、第一触摸电极1331、第二触摸电极1333和连接电极1337。如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图33是根据一个或更多个示例性实施例的触摸显示装置的剖视图。
参照图33，触摸显示装置可以包括构造为显示图像的显示面板DP和设置在显示面板DP上的触摸屏面板TSP。触摸显示装置是液晶触摸显示装置；然而，示例性实施例不限于此。图33的显示面板DP与图31和图32的显示面板DP相似，如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
图33的触摸屏面板TSP与图21至图27的触摸屏面板TSP相似。即，触摸屏面板TSP可以包括基础基底2310、第一保护层2320、第一绝缘层2340、第二绝缘层2350、第二保护层2360、第一触摸电极2331、第二触摸电极2333和连接电极2337。如此，已经省略了重复的描述以避免使示例性实施例不清楚。
根据一个或更多个示例性实施例，触摸屏面板的触摸电极包括多个网状图案，所述多个网状图案通过包括多个精细图案的金属布线的交叉形成。金属布线的透射率大于50％。因此，可以增大触摸屏面板的透射率。此外，金属布线包括多个精细图案，这样，防止(或减少)金属布线由于金属的反射率差异而被用户认为是污渍，其中，金属的反射率差异可以被减小。此外，触摸屏面板包括设置在基础基底与第一触摸电极之间的第一保护层和设置在第二触摸电极上的第二保护层。以这种方式，第一保护层可以防止对基础基底的损坏。
根据一个或更多个示例性实施例，第一保护层的折射率可以与第二保护层的折射率不同。以这种方式，第一保护层和第二保护层可以补偿由于触摸电极与绝缘层之间的折射率的差异而产生的透射率的减小。
尽管已经在此描述了某些示例性实施例和实施方式，但是通过本描述，其它的实施例和修改将是明显的。因此，发明构思不限于这样的实施例，而是由给出的权利要求以及各种明显的修改和等同布置的更宽广的范围来限定。

Claims (10)

1.一种触摸屏面板，所述触摸屏面板包括：
第一触摸电极，设置在基底上，并沿第一方向延伸，所述第一触摸电极包括第一网状图案，所述第一网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成；以及
第二触摸电极，设置在所述基底上，并沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸，所述第二触摸电极包括第二网状图案，所述第二网状图案由包括精细图案的交叉金属布线形成。
2.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中，所述第一网状图案和/或第二网状图案的所述精细图案的间隔小于150nm。
3.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中，所述第一网状图案和/或第二网状图案的所述金属布线的透射率大于50％。
4.如权利要求1所述的触摸屏面板，其中：
所述金属布线中的每个包括由金属材料形成的图案部分和设置在所述图案部分之间的空间部分；
所述图案部分的宽度的总和比所述空间部分的宽度的总和小。
5.如权利要求1所述的触摸屏面板，所述触摸屏面板还包括：
第一保护层，设置在所述基底与所述第一触摸电极之间；以及
第二保护层，设置在所述第一触摸电极与所述第二触摸电极上。
6.如权利要求5所述的触摸屏面板，其中，所述第一保护层的折射率大于1.7并且小于1.8。
7.如权利要求6所述的触摸屏面板，其中，所述第二保护层的折射率大于1.6并且小于1.75。
8.如权利要求5所述的触摸屏面板，其中，所述第一保护层包括从由氧化硅、氮化硅和氧化铝组成的组中选择的至少一种材料。
9.如权利要求8所述的触摸屏面板，其中，所述第一保护层包括：
第一层，包括有机材料；以及
第二层，与所述第一层叠置，所述第二层包括氧化硅。
10.如权利要求5所述的触摸屏面板，其中，所述第二保护层包括从由氧化硅、氮化硅和氧化铝组成的组中选择的至少一种材料。
CN201611121021.4A 2015-12-11 2016-12-08 触摸屏面板 Active CN106873817B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150177142A KR102415044B1 (ko) 2015-12-11 2015-12-11 터치 스크린 패널, 이의 제조 방법 및 터치 스크린 패널을 포함하는 터치 표시 장치
KR10-2015-0177142 2015-12-11

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106873817A true CN106873817A (zh) 2017-06-20
CN106873817B CN106873817B (zh) 2021-11-05

Family

ID=57485399

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611121021.4A Active CN106873817B (zh) 2015-12-11 2016-12-08 触摸屏面板

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10310685B2 (zh)
EP (1) EP3179350A1 (zh)
KR (1) KR102415044B1 (zh)
CN (1) CN106873817B (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109920828A (zh) * 2019-03-21 2019-06-21 京东方科技集团股份有限公司 一种oled基板及其制备方法
CN110287758A (zh) * 2018-03-19 2019-09-27 东友精细化工有限公司 触摸传感器和包括触摸传感器的图像显示装置
CN111936955A (zh) * 2018-03-30 2020-11-13 东友精细化工有限公司 高性能膜状触摸传感器

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102285456B1 (ko) 2015-02-10 2021-08-03 동우 화인켐 주식회사 도전패턴
US10572080B2 (en) * 2016-06-13 2020-02-25 Samsung Display Co., Ltd. Optical touch film, display device including the same, and manufacturing method thereof
CN106249979B (zh) * 2016-08-31 2019-05-31 京东方科技集团股份有限公司 触控电极结构以及触控显示装置
KR102690264B1 (ko) * 2016-10-31 2024-07-30 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
KR102545420B1 (ko) * 2016-11-25 2023-06-19 동우 화인켐 주식회사 Oled 일체형 터치 센서 및 이를 포함하는 oled 화상 표시 장치
KR102361262B1 (ko) * 2017-05-30 2022-02-09 동우 화인켐 주식회사 Oled 일체형 터치 센서 및 이를 포함하는 oled 화상 표시 장치
KR101936939B1 (ko) * 2017-07-11 2019-01-10 동우 화인켐 주식회사 터치 센서 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
JP6977042B2 (ja) * 2017-07-27 2021-12-08 富士フイルム株式会社 タッチパネル用導電部材およびタッチパネル
KR102467874B1 (ko) 2017-10-16 2022-11-16 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102424442B1 (ko) * 2017-10-18 2022-07-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102632179B1 (ko) 2018-02-22 2024-02-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
US11262880B2 (en) * 2018-03-30 2022-03-01 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. High performance film-type touch sensor
KR102640257B1 (ko) * 2018-11-08 2024-02-26 엘지디스플레이 주식회사 표시패널
KR102530306B1 (ko) * 2019-03-19 2023-05-08 동우 화인켐 주식회사 메쉬 패턴 전극을 갖는 터치 센서
JP7165094B2 (ja) * 2019-03-29 2022-11-02 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 静電容量タッチパネル
CN110299377B (zh) * 2019-07-03 2022-12-16 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及制造方法、显示装置
CN110827685B (zh) * 2019-10-28 2021-05-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板和电子设备
KR20210069779A (ko) * 2019-12-03 2021-06-14 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서, 그의 제조 방법, 및 이를 구비한 표시 장치
CN114185445B (zh) * 2020-09-14 2024-05-07 瀚宇彩晶股份有限公司 金属网格、触控面板与其制造方法
CN114510167B (zh) * 2020-11-17 2024-04-12 瀚宇彩晶股份有限公司 触控感测面板

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202649958U (zh) * 2012-02-16 2013-01-02 淳安电子股份有限公司 触控面板
CN203480458U (zh) * 2013-08-22 2014-03-12 理义科技股份有限公司 触控面板的感应电极结构
CN103748538A (zh) * 2011-07-19 2014-04-23 苹果公司 触摸敏感显示器

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5116004B2 (ja) 2006-08-03 2013-01-09 日東電工株式会社 透明導電性積層体及びそれを備えたタッチパネル
EP4300190A3 (en) * 2008-02-28 2024-03-20 3M Innovative Properties Co. Touch screen sensor
CN103069365B (zh) * 2010-06-11 2017-01-18 3M创新有限公司 包括力测量的定位触摸传感器
EP3521986B1 (en) * 2011-01-19 2020-05-20 Lg Innotek Co. Ltd Touch panel
CN103649883B (zh) * 2011-07-11 2017-09-08 富士胶片株式会社 导电片及其制造方法、触摸屏以及显示装置
WO2013143615A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Applied Materials, Inc. Transparent body for use in a touch panel and its manufacturing method and apparatus
CN103853380B (zh) 2012-12-03 2017-04-12 Lg伊诺特有限公司 电极构件及包括该电极构件的触屏
JPWO2014157234A1 (ja) * 2013-03-29 2017-02-16 昭和電工株式会社 透明導電基板の製造方法及び透明導電基板
TW201503243A (zh) 2013-07-10 2015-01-16 Ind Tech Res Inst 導電結構及其製造方法和以導電結構作爲電極的元件
US20150052747A1 (en) 2013-08-22 2015-02-26 Chih-Chung Lin Manufacturing method of touch substrate
KR102116308B1 (ko) 2013-09-04 2020-06-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20150029817A (ko) 2013-09-10 2015-03-19 삼성디스플레이 주식회사 편광판, 이를 갖는 표시장치 및 이의 제조방법
CN105975126A (zh) * 2013-09-29 2016-09-28 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板及其制作方法
KR20150036903A (ko) 2013-09-30 2015-04-08 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
KR102079163B1 (ko) 2013-10-02 2020-02-20 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광자, 이를 포함하는 표시 장치 및 이의 제조방법
KR102260875B1 (ko) 2013-10-11 2021-06-04 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20150045042A (ko) 2013-10-17 2015-04-28 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널
KR20150046644A (ko) 2013-10-22 2015-04-30 삼성전자주식회사 나노 임프린트용 레진 디스펜서
US20150138452A1 (en) 2013-11-19 2015-05-21 Uni-Pixel Displays, Inc. Touch screen with conductive mesh under polarizer
KR102132883B1 (ko) 2013-12-10 2020-07-13 삼성디스플레이 주식회사 광추출 효율이 향상된 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP2015127928A (ja) * 2013-12-30 2015-07-09 日本写真印刷株式会社 透明導電性シート、および透明導電性シートを用いたタッチパネル
KR102150859B1 (ko) 2014-01-13 2020-09-03 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
KR102148417B1 (ko) 2014-01-13 2020-08-27 삼성전자주식회사 인셀 편광자, 이를 포함한 액정 표시장치 및 그 제조 방법
JP6384058B2 (ja) * 2014-02-12 2018-09-05 三菱電機株式会社 タッチスクリーン、タッチパネル、タッチパネル付き表示装置および電子機器
KR20150095971A (ko) 2014-02-12 2015-08-24 삼성디스플레이 주식회사 마스터 몰드, 임프린트 몰드 및 임프린트 몰드를 이용하여 표시장치를 제조하는 방법
KR102133211B1 (ko) 2014-03-28 2020-07-15 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광자의 제조방법
KR102214828B1 (ko) 2014-05-02 2021-02-15 삼성전자주식회사 임프린트 장치 및 방법
TWI790965B (zh) 2014-05-30 2023-01-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 觸控面板
CN105446507B (zh) * 2014-06-19 2018-12-25 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控面板
KR102215134B1 (ko) 2014-07-28 2021-02-15 삼성디스플레이 주식회사 편광자 및 이를 포함하는 표시 패널
KR102241418B1 (ko) 2014-09-12 2021-04-19 삼성디스플레이 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 이의 제조방법
KR102254533B1 (ko) 2014-10-22 2021-05-24 삼성디스플레이 주식회사 편광 소자의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 패널
KR20160049162A (ko) 2014-10-24 2016-05-09 삼성디스플레이 주식회사 몰드의 제조 방법 및 편광 소자의 제조 방법
KR20160085949A (ko) 2015-01-08 2016-07-19 삼성디스플레이 주식회사 마스터 몰드 제조 방법 및 이를 이용한 와이어 그리드 편광자 제조 방법
KR102319565B1 (ko) 2015-01-08 2021-11-01 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN106276778B (zh) 2015-05-21 2018-08-14 清华大学 一种金属纳米线膜的制备方法以及导电元件

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103748538A (zh) * 2011-07-19 2014-04-23 苹果公司 触摸敏感显示器
CN202649958U (zh) * 2012-02-16 2013-01-02 淳安电子股份有限公司 触控面板
CN203480458U (zh) * 2013-08-22 2014-03-12 理义科技股份有限公司 触控面板的感应电极结构

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110287758A (zh) * 2018-03-19 2019-09-27 东友精细化工有限公司 触摸传感器和包括触摸传感器的图像显示装置
CN110287758B (zh) * 2018-03-19 2024-06-04 东友精细化工有限公司 触摸传感器和包括触摸传感器的图像显示装置
CN111936955A (zh) * 2018-03-30 2020-11-13 东友精细化工有限公司 高性能膜状触摸传感器
CN111936955B (zh) * 2018-03-30 2024-07-02 东友精细化工有限公司 高性能膜状触摸传感器
CN109920828A (zh) * 2019-03-21 2019-06-21 京东方科技集团股份有限公司 一种oled基板及其制备方法
US11487374B2 (en) 2019-03-21 2022-11-01 Mianyang Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Display substrate and method for manufacturing the same, and display apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
EP3179350A1 (en) 2017-06-14
KR20170070335A (ko) 2017-06-22
US20170168608A1 (en) 2017-06-15
KR102415044B1 (ko) 2022-07-01
CN106873817B (zh) 2021-11-05
US10310685B2 (en) 2019-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106873817A (zh) 触摸屏面板
US11687184B2 (en) Touch display device
US11347358B2 (en) Flexible touch panel and flexible display device
US20200333918A1 (en) Flexible touch display panel
KR102245511B1 (ko) 플렉서블 유기 발광 표시 장치 및 플렉서블 유기 발광 표시 장치 제조 방법
CN103972260B (zh) 集成有触摸屏面板的有机发光显示器
CN101539819B (zh) 显示面板及其制造方法
CN108241451A (zh) 显示装置
CN106997894A (zh) 有机发光显示装置
CN108874206A (zh) 显示装置
US20180101270A1 (en) Touch screen and display device having the same
CN104981908A (zh) 用于led的像素中电容触摸传感器
KR102162426B1 (ko) 터치 패널 및 이의 제조 방법
CN108258010A (zh) 显示装置
US9946420B2 (en) Touch screen panel and method for manufacturing the same
KR102037727B1 (ko) 터치 표시 장치 및 이의 제조 방법
US10845907B2 (en) Display panel
CN107870696A (zh) 触摸屏、具有触摸屏的显示装置和触摸屏的驱动方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant