CN106841242A - 探测方法与装置 - Google Patents
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 140
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 25
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 9
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 241000406668 Loxodonta cyclotis Species 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
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- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/06—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and measuring the absorption
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01V—GEOPHYSICS; GRAVITATIONAL MEASUREMENTS; DETECTING MASSES OR OBJECTS; TAGS
- G01V5/00—Prospecting or detecting by the use of ionising radiation, e.g. of natural or induced radioactivity
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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- G01N2223/03—Investigating materials by wave or particle radiation by transmission
- G01N2223/04—Investigating materials by wave or particle radiation by transmission and measuring absorption
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
- G01N2223/1016—X-ray
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/106—Different kinds of radiation or particles neutrons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/30—Accessories, mechanical or electrical features
- G01N2223/302—Accessories, mechanical or electrical features comparative arrangements
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/40—Imaging
- G01N2223/413—Imaging sensor array [CCD]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/60—Specific applications or type of materials
- G01N2223/66—Specific applications or type of materials multiple steps inspection, e.g. coarse/fine
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01V—GEOPHYSICS; GRAVITATIONAL MEASUREMENTS; DETECTING MASSES OR OBJECTS; TAGS
- G01V5/00—Prospecting or detecting by the use of ionising radiation, e.g. of natural or induced radioactivity
- G01V5/20—Detecting prohibited goods, e.g. weapons, explosives, hazardous substances, contraband or smuggled objects
- G01V5/22—Active interrogation, i.e. by irradiating objects or goods using external radiation sources, e.g. using gamma rays or cosmic rays
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Abstract
本发明提供一种探测方法与装置。该探测方法,包括:调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率;根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像,所述待检测对象包括至少一个检测范围;根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。本发明的技术方案,通过对待检测对象的间歇照射,防止持续对待检测对象进行照射造成的辐射量大的问题。
Description
技术领域
本发明涉及安全检测技术,尤其涉及一种探测方法与装置。
背景技术
目前,很多场所使用射线对货物进行安全检查或者对物质进行内部探伤。这主要是利用了加速器和X安检仪在不同物质上的穿透率不同,而衰减率不同来实现的。
目前X射线透射成像技术,测量的是穿过被检测对象的X光子数目,X光被吸收的几率反映了被检测物质的密度信息。透射成像技术的检测方法是通过工作人员对被检测物质形状和密度信息的解释来进行的。即现有技术是使用固定能量的X射线持续照射待检测对象体,获得待检测对象体的照射图像,由于不同的待检测对象体的X射线的穿透率不相同,根据待检测对象体的照射图像即可获得待检测对象体的材质等信息。
但是,现有技术在检测过程中使用的射线装置在最大能量下持续曝光,其对周围环境的辐射比较严重,有可能造成安全事故。
发明内容
本发明实施例提供一种探测方法与装置,用于解决现有的探测装置在辐射检测过程中射线对周围环境的辐射量大的问题。
第一方面,本发明实施例提供一种探测方法,包括:
调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率;
根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像,所述待检测对象包括至少一个检测范围;
根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。
在第一方面的一种可能的实现方式中,所述调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,具体包括:
根据所述待检测对象的体积,确定所述射线的单次照射范围;
根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度,确定所述射线的照射频率。
在第一方面的另一种可能的实现方式中,所述方法还包括:
判断所述第一图像是否满足预设条件;
若否,将所述第一图像中不符合所述预设条件的部分作为新的照射范围;
根据所述预设条件调整所述射线的照射能量,获得新的照射能量;
采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围,获得新的第一图像。
在第一方面的另一种可能的实现方式中,所述预设条件包括目标阴影面积,判断所述第一图像是否满足预设条件,具体包括:
解析所述第一图像,获取所述第一图像的阴影面积;
判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。
在第一方面的另一种可能的实现方式中,探测装置为安检仪,所述调整射线的单次照射范围,具体可以包括:
调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式,确定所述射线的单次照射范围。
第二方面,本发明提供一种探测装置,包括:
调整模块,用于调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率;
检测获取模块,用于根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像;
获取模块,用于根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。
在第二方面的一种可能的实现方式中,所述调整模块,具体用于根据所述待检测对象的体积,确定所述射线的单次照射范围,并根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度,确定所述射线的照射频率。
在第二方面的另一种可能的实现方式中,所述装置还包括:判断模块,所述判断模块,用于判断所述第一图像是否满足预设条件;
所述检测获取模块,还用于在所述判断模块判断所述第一图像不满足预设条件时,将所述第一图像中不符合预设条件的部分作为新的照射范围,并根据所述预设条件调整所述射线的照射能量,获取新的照射能量,采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围,获得新的第一图像。
在第二方面的另一种可能的实现方式中,所述判断模块包括解析单元和判断单元:
所述解析单元,用于解析所述第一图像,获取所述第一图像的阴影面积;
所述判断单元,用于判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。
在第二方面的另一种可能的实现方式中,所述探测装置为安检仪,所述调整模块,还用于调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式,确定所述射线的单次照射范围。
本发明提供的探测方法与装置,探测装置调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像,根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。即本实施例的方法实现对待检测对象的间歇照射,防止持续对待检测对象进行照射造成的辐射量大的问题。在辐射检查时,首先使用较低能量的射线或中子来进行曝光和成像;如果在成像结果中,发现存在低能量的射线或中子未能穿透被测物体而产生的阴影,再使用更高能量的射线或中子进行曝光。
附图说明
为了更清楚地说明本发明或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的探测方法实施例一的流程示意图;
图2为本发明提供的探测方法实施例二的流程示意图;
图3为本发明提供的探测方法实施例三的流程示意图;
图4为本发明提供的探测装置实施例一的结构示意图;
图5为本发明提供的探测装置实施例二的结构示意图;
图6为本发明提供的探测装置实施例三的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明提供的探测方法与装置,用于解决现有的探测装置在辐射检测过程中射线对周围环境的辐射量大的问题。
本发明的技术方案,通过调整射线的单次照射范围和射线的照射频率,并根据射线的单次照射范围和射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得待检测对象的每个检测范围对应的第一图像,再根据第一图像,获得待检测对象的目标照射图像,进而实现了对待检测对象的间歇性照射,降低了辐射检测的辐射量,从而提高了辐射检测的安全性。
需要说明的是,本文中的术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
下面以具体地实施例对本发明的技术方案进行详细说明。下面这几个具体的实施例可以相互结合,对于相同或相似的概念或过程可能在某些实施例不再赘述。
图1为本发明提供的探测方法实施例一的流程示意图。本实施例的执行主体是具有辐射检测功能的探测装置,例如安检仪。本实施例涉及的是探测装置调整射线的单次照射范围和射线的照射频率,并使用该射线的照射范围和照射频率对待检测对象进行间歇照射获得目标照射图像的具体过程。如图1所示,本实施例的方法可以包括:
S101、调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率。
具体的,探测装置调整射线的照射范围具体可以是增大射线的一次照射范围。可选的,探测装置根据待检测对象的体积和待检测对象的运行速度,调整射线的一次照射范围和射线的照射频率。可选的,还可以期望检测时间和待检测对象的运行速度,调整射线的一次照射范围和照射频率。可选的,还可以根据待检测对象预设的检测范围确定射线的照射范围,例如射线的单次照射范围等于检测范围。
探测装置可以通过调节准直器的射线出口大小,进而实现对射线的照射范围的调节。在本实施例中,探测装置优选的使用恰当的照射范围来对待检测对象进行辐射检测。
在本实施例中当待检测对象的尺寸较小时,探测装置可以将射线的照射范围的大小调整成与待检测对象的体积相等,使得对待检测对象进行一次辐射检测即可,避免对待检测对象进行连续性辐射造成的检测辐射量大的问题。
可选的,在本实施例的探测装置可以为安检仪时,本实施例的方法还可以通过调整安检仪中的电荷耦合元件(Charge Coupled Device,简称CCD)的排列方式,确定所述射线的单次照射范围。例如,为了改变射线的照射范围,本实施例可以在安检仪出厂时,将现有的线性排列的CCD设置成具有一定宽度的整面的CCD,以调整射线的照射范围。
本实施例的方法,通过调整射线的一次照射的照射范围,使得射线在一次照射时可以照射到待检测对象的较多体积,进而避免了现有技术持续对待检测对象进行辐射检测,造成对周围环境辐射量大的问题。
S102、根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像,所述待检测对象包括至少一个检测范围。
具体的,探测装置使用当前照射范围和照射频率的射线对待检测对象进行照射,获得待检测对象的不同检测范围对应的第一图像。例如,货车车厢长10m、高3m,射线的单次照射范围为长5m高3m,单次曝光的时间长为1/60s,即该货车的检测范围为长5m高3m,假设货车的运行速度为5m/min,此时货车的检测范围为两个,在第0.5min时货车的第一检测范围的中点正对着探测装置,在该时刻探测装置采用上述照射能量的射线对第一检测范围进行一次照射,获得第一图像A。接着,射线发生装置关闭,在第1.5min时第二个检测范围的中点正对探测装置,在该时刻探测装置的射线发生装置开启对第二检测范围进行一次照射,获得第一图像B,然后射线发生装置再关闭。由此可知,使用本实施例的方法,只需要货车进行两次间歇性照射即可完成对货车的辐射检测,其避免了连续对货车进行照射造成的辐射量大得问题。优选地,在设置检测范围时,所获得的相邻两个第一图像的内容可以存在重叠的部分,以避免漏检的情况发生。
S103、根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。
具体的,探测装置根据上述确定的待检测对象的不同检测范围对应的第一图像,获得待检测对象的目标照射图像。可选的,可以将每个第一图像按照顺序合成,获得待检测对象的目标照射图像。参照上述例子,可以将第一图像A和第一图像B进行合成,获得待检测对象的目标照射图像。
本发明提供的探测方法,探测装置调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像,根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。即本实施例的方法实现对待检测对象的间歇照射,防止持续对待检测对象进行照射造成的辐射量大的问题。
图2为本发明提供的探测方法实施例二的流程示意图。在上述实施例的基础上,本实施例涉及的是探测装置调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率的具体过程。即上述S101具体可以包括:
S201、根据所述待检测对象的体积,确定所述射线的单次照射范围。
具体的,探测装置获得待检测对象的体积,其具体方法可以是探测装置对待检测对象进行射线扫描或其它非射线扫描(例如红外扫描或可见光扫描)获得待检测对象的体积;可选的,还可以是用户直接将待检测对象的体积输入到探测装置中;可选的,还可以是探测装置从待检测对象的相关资料中获取待检测对象的体积。需要说明的是,上述探测装置通过扫描的方式获得待检测对象体积的方法所使用的射线的剂量较小或无。
接着,探测装置根据待检测对象的体积,确定射线对待检测对象进行一次照射的照射范围。
S202、根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度,确定所述射线的照射频率。
具体的,探测装置根据射线的单次照射范围和待检测对象的运行速度,确定射线的照射频率。例如,射线的照射频率等于射线的单次照射范围的长度除以待检测对象的运行速度,即射线的照射频率等于待检测对象通过一个照射范围所用的时间。可选的,还可以使得射线的照射频率小于待检测对象通过一个照射范围所用的时间,进而避免对待检测对象的检测范围漏检的情况发生。
本发明提供的探测方法,探测装置通过根据待检测对象的体积和运行速度确定射线的单次照射范围和射线的照射频率,进而实现了对射线的单次照射范围的射线和照射频率的准确确定。
图3为本发明提供的探测方法实施例三的流程示意图。在上述实施例的基础上,本实施例的探测方法可以包括:
S301、判断所述第一图像是否满足预设条件。
具体的,探测装置将上述步骤获得的当前待检测范围的第一图像与预设条件进行比较,判断该当前待检测范围的第一图像是否满足预设条件。可选的,本实施例的预设条件可以是图像的清晰度或者图像的阴影面积;可选的,预设条件还可以是生成第一图像的射线的辐射量等,本实施例对预设条件的类型不做限制,具体根据实际情况设定。
S302、若否,将所述第一图像中不符合所述预设条件的部分作为新的照射范围。
S303、根据所述预设条件调整所述射线的照射能量,获得新的照射能量。
S304、采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围,获得新的第一图像。
具体的,根据上述步骤,判断当前待检测范围的第一图像是否满足预设条件,若是,则说明获得第一图像的射线的照射能量满足要求,可以使用该照射能量的射线照射待检测对象的其他待检测范围。如果探测装置判断第一图像不满足预设条件时,则需要根据预设条件来确定射线的新的照射能量。具体为将第一图像中不符合预设条件的部分作为新的照射范围,同时根据预设条件调整射线的照射能量,进而获得新的照射范围。接着,探测装置采用新的照射能量照射新的照射范围,获得新的第一图像。进一步的,探测装置还可以判断新的第一图像是否满足预设条件,若否,则继续调整射线的照射能量,直到新的第一图像满足预设条件为止。
例如,如果在成像结果中,发现存在低能量的射线或中子未能穿透被测物体而产生的阴影,再使用更高能量的射线或中子进行曝光,以避免因之前使用低能量的射线或中子进行曝光而导致无法获得测物体的完整影像;若仍无法获得清晰影像,还可以考虑继续增加射线或中子的能量进行下一次曝光,这一步骤可以一直重复至获得清晰的图像为止。可选的,探测装置还可以只对第一图像中的不清楚的地方进行局部照射,进而降低整体照射的辐射量。
在本实施例的一种可能的实现方式中,当预设条件包括目标阴影面积时,探测装置判断所述第一图像是否满足预设条件的具体过程可以如下所述,即上述S301具体可以包括:
S3011、解析所述第一图像,获取所述第一图像的阴影面积。
S3012、判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。
具体的,当本实施例的预设条件为目标阴影面积时,则上述探测装置解析当前待检测范围的第一图像的阴影面积,判断该第一图像的阴影面积是否大于或等于目标阴影面积。若是,则使用该第一图像对应的射线的照射强度照射待检测对象的其余待检测范围。若否,则根据该目标阴影面积调整射线的照射能量。例如,当第一图像的清晰度低于目标阴影面积时,探测装置根据目标阴影面积将射线的照射能量增大,使得新的照射能量的射线可以获得满足目标阴影面积的第一图像。当第一图像的清晰度高于目标清晰度时,探测装置根据目标阴影面积降低射线的照射能量,以降低对辐射监测的辐射量。
本实施例的探测装置可以将当前待检测范围的第一图像与下一个待检测范围对应的第一图像进行拼接,获得待检测对象的整幅检测图像。
本发明提供的探测方法,通过判断所述第一图像是否满足预设条件,若否,根据所述预设条件调整所述射线的照射能量,获得新的照射能量,并采用所述新的照射能量照射所述检测范围,进而实现对射线的照射能量的精确确定,保证第一图像满足预设条件的前提下,进一步降低了射线的照射能量。
图4为本发明提供的探测装置实施例一的结构示意图。该装置可以通过软件、硬件或者软硬结合的方式实现成为探测系统的部分或者全部。本实施例的探测装置可以包括:
调整模块10,用于调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率。
检测获取模块20,用于根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像。
获取模块30,用于根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。
本实施例的装置,可以用于执行上述所示方法实施例的技术方案,其实现原理和技术效果类似,此处不再赘述。
在本发明的一种可能的实现方式中,所述调整模块10,具体用于根据所述待检测对象的体积,确定所述射线的单次照射范围,并根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度,确定所述射线的照射频率。
在本发明的另一种可能的实现方式中,当上述探测装置为安检仪,则上述调整模块10,还用于调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式,确定所述射线的单次照射范围。
图5为本发明提供的探测装置实施例二的结构示意图。在上述实施例的基础上,所述装置还包括:判断模块40。
所述判断模块40,用于判断所述第一图像是否满足预设条件;
所述检测获取模块20,还用于在所述判断模块40判断所述第一图像不满足预设条件时,将所述第一图像中不符合预设条件的部分作为新的照射范围,并根据所述预设条件调整所述射线的照射能量,获取新的照射能量,采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围,获得新的第一图像。
本实施例的装置,可以用于执行上述所示方法实施例的技术方案,其实现原理和技术效果类似,此处不再赘述。
图6为本发明提供的探测装置实施例三的结构示意图,在上述实施例的基础上,本实施例的判断模块40包括解析单元401和判断单元402:
所述解析单元401,用于解析所述第一图像,获取所述第一图像的阴影面积;
所述判断单元402,用于判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。
本实施例的装置,可以用于执行上述所示方法实施例的技术方案,其实现原理和技术效果类似,此处不再赘述。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种探测方法,其特征在于,包括:
调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率;
根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像,所述待检测对象包括至少一个检测范围;
根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,具体包括:
根据所述待检测对象的体积,确定所述射线的单次照射范围;
根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度,确定所述射线的照射频率。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
判断所述第一图像是否满足预设条件;
若否,将所述第一图像中不符合所述预设条件的部分作为新的照射范围;
根据所述预设条件调整所述射线的照射能量,获得新的照射能量;
采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围,获得新的第一图像。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述预设条件包括目标阴影面积,判断所述第一图像是否满足预设条件,具体包括:
解析所述第一图像,获取所述第一图像的阴影面积;
判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,探测装置为安检仪,所述调整射线的单次照射范围,具体可以包括:
调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式,确定所述射线的单次照射范围。
6.一种探测装置,其特征在于,包括:
调整模块,用于调整射线的单次照射范围和所述射线的照射频率;
检测获取模块,用于根据所述射线的单次照射范围和所述射线的照射频率,对待检测对象进行照射,获得所述待检测对象的不同检测范围对应的第一图像;
获取模块,用于根据每个所述第一图像,获得所述待检测对象的目标照射图像。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述调整模块,具体用于根据所述待检测对象的体积,确定所述射线的单次照射范围,并根据所述射线的单次照射范围和所述待检测对象的运动速度,确定所述射线的照射频率。
8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:判断模块,
所述判断模块,用于判断所述第一图像是否满足预设条件;
所述检测获取模块,还用于在所述判断模块判断所述第一图像不满足预设条件时,将所述第一图像中不符合预设条件的部分作为新的照射范围,并根据所述预设条件调整所述射线的照射能量,获取新的照射能量,采用所述新的照射能量照射所述新的照射范围,获得新的第一图像。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述判断模块包括解析单元和判断单元:
所述解析单元,用于解析所述第一图像,获取所述第一图像的阴影面积;
所述判断单元,用于判断所述第一图像的阴影面积是否小于或等于目标阴影面积。
10.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述探测装置为安检仪,所述调整模块,还用于调整所述安检仪中的电荷耦合元件CCD的排列方式,确定所述射线的单次照射范围。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN106841242A true CN106841242A (zh) | 2017-06-13 |
CN106841242B CN106841242B (zh) | 2019-02-22 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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