CN1065981C - 有增强分辨率的荫罩的制造方法 - Google Patents

有增强分辨率的荫罩的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN1065981C
CN1065981C CN95116778A CN95116778A CN1065981C CN 1065981 C CN1065981 C CN 1065981C CN 95116778 A CN95116778 A CN 95116778A CN 95116778 A CN95116778 A CN 95116778A CN 1065981 C CN1065981 C CN 1065981C
Authority
CN
China
Prior art keywords
aperture
resist layer
photosensitive resist
metallic plate
shadow mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN95116778A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1137166A (zh
Inventor
T·F·辛浦森
I·戈洛
B·G·马克斯
C·M·韦策尔
C·C·艾勒曼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Technicolor USA Inc
Original Assignee
Thomson Consumer Electronics Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Thomson Consumer Electronics Inc filed Critical Thomson Consumer Electronics Inc
Publication of CN1137166A publication Critical patent/CN1137166A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1065981C publication Critical patent/CN1065981C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • H01J29/076Shadow masks for colour television tubes characterised by the shape or distribution of beam-passing apertures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

彩色CRT10的显示设备(8),CRT包括外壳11管颈14玻锥15面板12,板12在其内表面有荧屏22,荫罩25位于屏22附近并包括有多个贯穿孔径的中心部和外部的金属板39,电子枪26置于管颈内和偏转线圈30,以在屏上进行光栅扫描;该设备的改进在于荫罩25,在其面对屏22侧的外部中的孔径(43),具有开孔(45),这些开孔在入射电子束(28)方向上被延伸并相对所述荫罩面对电子枪侧的相应开孔(44)偏移。

Description

有增强分辨率的荫罩的制造方法
本发明涉及包括带有偏转线圈的彩色阴极射线管的显示设备,并更具体地涉及具有增强分辨率的荫罩的彩色阴极射线管,并涉及制造这种荫罩的方法。
在一台显示设备中,阴极射线管(CRT)包括在真空管壳内表面上形成的发光屏。如本领域中所已知的,该发光屏或可为点屏或可为线屏。在管壳内设置有电子枪并朝着发光屏发射电子束。荫罩位于发光屏附近并提供选色功能;即荫罩内所形成的每个孔径对应于彩色发射荧光元素的一个三色组,以使电子束精确地入射以触发予定的色-发射荧光元素之一个而产生彩色图象。在这种显象管中,图象质量其中包括由荫罩中孔径的间距或间隔来确定。有增强分辨率的荫罩定义为提供中等或高分辨率图象的荫罩。这种有增强分辨率荫罩的一个缺点是:当孔径阵列(aperture array)在密度上增大时;即孔的数量增多时,荫罩的结构整体性下降,导致荫罩的固有性质薄弱并易于在显象管制造工艺中的正常处理期间损坏。
图1示出具有贯穿形成的多个孔径3的传统显象管荫罩2。孔径3具有在荫罩的坡度侧(grade side)面上的圆孔4.,圆孔4面对电子枪(未示出)并与荫罩锥体即面对屏侧上的圆孔5相对应。为避免入射电子束撞击围绕孔径3的荫罩的外缘部,使荫罩锥体侧面上的孔5的直径显着大于坡度侧上的孔4的直径,而且使锥体侧孔5偏移入射电子束的方向,以便为出射荫罩孔径的电子束提供所需空隙。
1972年12月5日颁布给Naruse等人的美国专利3,705,322公开了一种荫罩--其孔径在荫罩中部为圆形并在趋近其外缘部分时逐渐变为椭圆形。孔径开孔的形状在荫罩的坡度侧和锥面侧是相同的;即,在荫罩外缘部,孔径开孔在荫罩两侧均为椭圆形。其电子枪是一字排列式电子枪,同时荧光屏是向外弯曲的。据称该椭圆孔径是为保持色纯度并对由于电子枪的一字对准排列和荧光屏的曲率引起的电子束着屏位置的扭转(twist)提供校正。该椭圆孔径的长轴与通过孔径各行的桶形曲线之一对准。正如该专利的图10所示,为了保持色纯度,荧光点的形状呈椭圆形。而且,如其图12所示,这些椭圆孔径围绕荫罩中心形成同心圆。在除了沿长轴的所有位置上,椭圆孔径的长轴是横切入射电子束的束角的。这样,为使电子束能通过而不撞击围绕孔径的荫罩外缘部分,必须将孔径做得相当大。这种荫罩结构的一个缺点在于:为形成对电子束提供足够大空隙的大孔径必须从荫罩除去相当大量材料,从而削弱了荫罩的强度。因此有必要提供一种有中等和高分辨率性能但有比现有荫罩较大固有强度的荫罩。
根据本发明,一个显示设备包括彩色CRT,该CRT有一个真空外壳--其面板密封至玻锥的一端,玻锥另一端经一管颈封闭。该面板在其内表面上有荧光屏。荫罩位于荧屏附近。荫罩包括有带有许多穿孔的中心部分和外部的金属板。一个电子枪置于管颈内,用于产生电子束并将电子束对准荧屏。一个偏转线圈置于外壳周围的管颈与玻锥连接处。该线圈偏转电子束的扫过荧屏形成光栅。该显示设备对先有设备的改进在于:荫罩外部中的孔径在其面对荧屏侧上的开孔在入射电子束方向上被拉伸并相对于荫罩面对电子枪侧上的对应开孔偏移。制造荫罩的方法应用光刻。
在附图中:
图1是传统点阵列荫罩的平面视图;
图2是以部分轴向截面示出体现本发明的彩色显象设备的平面图
图3是图2所示显象管的荧屏截面;
图4是根据本发明的一种新颖荫罩的平面视图;
图5是沿对角线所取的该新颖荫罩的一个截面;
图6是该新颖荫罩沿对角线的一部分横截面视图,示出一种最佳刻蚀图样;
图7是该新颖荫罩沿对角线的一部分横截面视图,示出该新颖荫罩的刻蚀图样的第二实施例;
图8是表示本发明另一实施例的荫罩的一段(segment);
图9是荫罩板的一段,表示该板外部的光刻胶层中开孔的图样;
图10表示对图9的荫罩板进行部分光刻后的该板;
图11表示第二次光刻后的图10荫罩板;以及
图12表示除去光刻胶后的具有由此形成的孔径的荫罩板。
图2表示一彩色显示设备8,它包括彩色CRT10,CRT10具有玻璃外壳11--带有矩形面板12和由矩形玻锥15连接的管颈14。玻锥15具有一内部导电涂层(未示出),连接阳极钮16并延伸入管颈14中。如本领域所已知的,导电层(也未示出)覆盖在玻锥15的外表面上并被接地。面板12包括观察面板或衬底18和一外凸缘或侧壁20,面板12通过玻璃熔结点21密封到玻锥15。面板18的内表面上带有三色荧屏22。图3所示荧屏22可为点屏或线屏,包括许多由发红光,发绿光和发蓝光的荧光元素(phoshor elements)R,G和B,分别以循环次序排列成三点或条状色组或象素,组成的荧屏单元(screen elements)。最好,如本领域已知的,至少部分荧光元素覆盖一相对薄,光吸收矩阵23。一层薄的导电层24,最好为铝,叠加在荧屏22和形成用于将均匀电压加至荧屏以及用于反射从荧光元素通过面板18发出的光的装置。多孔选色电极或荫罩25利用传统工具以相对于荧屏22的予定间距被可拆卸地安装。
由图2虚线概略示出的电子枪26被对中地安装在管颈14内,以产生三电子束28并使其沿会聚路径通过荫罩25中的孔径指向荧屏22。电子枪26是一种传统的一字排列式电子枪;不过也可采用本领域中已知的任何合适的电子枪。
管10被设计成同位于玻锥-管颈连接区内的诸如偏转线圈30之类的外磁偏转线圈连用。显示设备8包括管10和偏转线圈30的组合。一旦被激励,偏转线圈30便使三束28受到磁场作用,使电子束在荧屏22上以矩形光栅形式作水平和垂直扫描。由图2中线P-P所示的偏转起始平面(零偏转时)处于偏转线圈30的中间左右。为简明起见,图中未示出偏转束路径在偏转区中的真实曲率。
图4中更详细示出的荫罩25基本上是矩形并包括孔径部分32和围绕孔径部分32的无孔边缘部分34。图中示出荫罩25的孔径部分32的九个区。这些区包括在长轴X和短轴Y的交点处的中(心)部(分)36和八个外部区38。这八个外部区38位于长轴,短轴和对角线的末端。在荫罩25的中部36中,多个圆形孔径40是由有选择地将圆形开孔41,42蚀刻入金属板39相对设置的表面而形成的。荫罩的相对表面分别被设计成坡度面,即面对电子枪侧和锥面,即面对荧屏侧。在荫罩25的外部38中,许多孔径43被形成--在坡度侧有圆形开孔44,而在锥面侧,则大致呈椭圆或卵形开孔45。此外,每个基本为椭圆开孔45的长轴是在入射电子束28方向上如此取向的,以致荫罩外部38中的开孔45从中部36向外径向地延伸。由于荫罩25的坡度侧的相应孔径开孔44是圆形的,故当将荫罩用作光靠模(photo-master)以印刷荧屏时,在面板内表面上将产生圆点。最好,在荫罩外部38中的孔径43的大致椭圆的开孔45是相对于相应圆形开孔44是偏移的,以进一步增大电子束通过孔径的空隙。
荫罩25的外部38中的孔径43的基本呈椭圆开孔45胜过传统圆形开孔的优点示于图5中,该图是沿对角线所取的荫罩截面。孔径43在荫罩锥面侧各有基本呈椭圆形的开孔45--其长轴大小“A”沿图2所示的入射电子束28的路径伸展。若“A”为如图5虚线所示的传统圆孔的直径,则为形成圆开孔而必须去除荫罩材料的量显然多于为形成基本呈椭圆开孔45所要去除荫罩材料的量。因此,其外部锥面侧中具有基本呈椭圆开孔45的孔径的荫罩能在罩内保留较多材料,故比直径等于基本呈椭圆孔径开孔的长轴大小的圆形孔径开孔的荫罩,其固有强度较高。
表Ⅰ列出对有对角线尺寸66cm宽高比为16×9和大约106°偏转角的管而言,一种新颖中等分辨率荫罩对应符号和尺寸的各参数。如图5所示,“水平间距”(HP)和“垂直间距”(VP)是指分别在荫罩25的坡度侧相邻水平和垂直圆形孔径开孔44之间的中心至中心的间距,图5中的圆形开孔44的每个直径标为“B”。如图4所示,在荫罩的中部36,孔径40的锥面侧的圆形开孔42的直径标为“D”。再参照图5,孔径的相邻列和行以这样一种方式交错排列以致荫罩的坡度侧上相邻列中圆形孔径开孔44的中心是彼此等距定位的,从而形成等边三角形。从图5和6显见:荫罩坡度侧沿对角线的“对角线间距”(DP),即相邻圆形开孔44之间的中心至中心的间距是等于垂直间距(VP)的;不过,人们认识到DP和VP可以彼此不同。图6所示为“θ”的“入射束角”是指管子Z抽与入射电子束28的路径之间的角。例如,在荫罩25的中心,束28的路径是共同平行(COparallel)于管子Z轴的,故入射束角为零。当电子束在荧屏上以光栅形式扫描时,束角增大,在荫罩各角达到最大。对于上述中等分辨率的管子而言,入射束角“θ”在荫罩角落处为39°左右,荫罩孔径43的大致椭圆形开孔45的长轴尺寸A在各角处较大。沿对角线相邻椭圆间的中心至中心间距标为“C”,并示于图6中。荫罩25的坡度侧上的圆形开孔44的中心和锥面侧上基本为椭圆形开孔45的中心之间的位移,对于相应孔径43而言,标为“偏移”(offset)”并在图6中识别为“OS”。荫罩坡度侧上孔径43的圆形开孔44的直径“B”,可等于荫罩中心处的开孔41的直径,或开孔44可在直径上不同于开孔41,不是从中心到边缘直径减小,就是如本领域已知的,当离荫罩中心的距离增大时直径先增大然后减小。在本实例中,从荫罩中心至边缘保持直径“B ”恒定致使开孔41和44的直径相等。基本椭圆形开孔45的短轴尺寸“E”大于坡度侧圆形开孔44的直径。在表Ⅰ中,所有尺寸以微米,μm为单位,除非另有指示。
表Ⅰ参数                  符号  尺寸μm坡度侧孔径开孔41,44    B    225锥面侧孔径开孔42        D    280锥面侧长轴开孔45        A    370锥面侧短轴开孔45        E    305荫罩厚度                t    170垂直间距                VP   463水平间距                HP   802对角线间距              DP   463偏移                    OF    84最大入射束角            0     39°
表Ⅱ列出对角线尺寸66cm,宽高比16×9,和偏转角106°的管子而言,一个高分辨率荫罩的各参数,相应符号和尺寸。在中等分辨率荫罩中所用的相同标号和符号用于命名高分辨率荫罩中的相应参数。除非另有指示,所有尺寸均以微米,μ为单位。
表Ⅱ参数                  符号  尺寸μm坡度侧孔径开孔41,44    B    127锥面侧孔径开孔42        D    140锥面侧长轴开孔45        A    254锥面侧短轴开孔45        E    210荫罩厚度                t    150垂直间距                VP   270水平间距                HP   468对角线间距              DP   270偏移                    OF    60最大入射束角             0    44°
荫罩25通过刻蚀金属板39以形成贯穿孔径而制成。如图6所示,金属板39分别有两个相对设置的主表面50和51。在板39的两个主表面上涂敷有已知的液态涂料成分,这种成分在干燥时,分别在表面50和51产生第一光敏抗蚀剂层52和第二光敏抗蚀剂层53。这些层覆盖在板39两表面的中心部分和外部。该涂料成分可为重铬酸盐敏化的聚乙烯醇或任何等同材料。
当涂层52和53干燥时,将被覆板39放入真空印刷框架或凹槽,两个主图样之间有不透明区,各支承在一块独立的玻璃板上。尽管既未示出凹槽,也未示出框架,但它们是1986年5月13日颁发给Moscony等人的美国专利4,588,676中所述的那种框架或凹槽。在与板39的表面51上的光敏抗蚀剂层53接触的图样与传统图样不同之处在于:其外部中的图样的不透明区是在入射电子束方向上被伸展,而中心部分的不透明区是圆形的。最好,图样的外部中的不透明区基本呈椭圆形,每个椭圆的长轴位于入射电子束的方向上。与光敏抗蚀剂52接触的图样是传统式的并在其中心部分和外部均有圆形不透明区。与涂层52接触的图样的圆形不透明区在直径上小于与涂层53接触的图样的不透明圆形区和基本呈椭圆的不透明区。图样中基本为椭圆的不透明区是用下法制成的:对基本椭圆孔径的单次曝光;或适当直径的圆孔径多次曝光进行光绘图(photo plotting),接着位移或偏置孔径,以产生所需尺寸的基本椭圆不透明区。
板39和其上有不透明图样的玻璃板被放置在真空凹槽内玻璃板和金属板之间形成的腔室被抽真空,以使图样与涂层52和53直接接触。来自适当光源的光化辐射照亮涂层52和53的没有被不透明区荫蔽的那些部分。当涂层52和53已被适当曝光时,便停止曝光,对印刷框架去真空(devacuated)并取出被覆板39。
现对已曝光涂层52和53显影,如通过用水或其他含水溶剂冲洗,以除去未曝光部分,涂层的较可溶的掩蔽区。如图6所示,显影后,板39在其主表面上带有对应于玻璃板上不透明区的开孔图样。在板39的坡度侧,涂层5 2的第一图样中形成的开孔60在板的中心部分和外部都是圆形的。板39的外部锥面侧,涂层53的第二图样所形成的开孔62是基本椭圆并相对第一图样所形成的圆孔60偏移。涂层53第二图样的中心部分所形成的圆形开孔在图6中未示出,但它们是与第一图样的中心部分所形成的开孔60同轴对齐并大于孔60。现使带有其内形成开孔图样的涂层52和53在空气中大约250℃至275℃下焙烧,以形成耐腐蚀的图样。现将其上带有耐腐蚀图样的板39从其两侧最好一步地作有选择地蚀刻,以产生具有对应于第一和第二光敏抗蚀剂图样中的开孔的开孔孔径。
在玻璃板上形成基本椭圆不透明图样的一种方法是对圆孔径多次曝光,但也可通过曝光圆图象,接着在多块板上的图样外部的入射电子束方向上连续向外位移,然后多次将不同板印刷到一块合成板上,也可获得同样效果。这一工艺规程比上述方法费时得多因而不是最好。
图7示出在金属板39一侧制作基本椭圆孔径开孔的一种反复蚀刻方法。图7的结构表示已完成蚀刻后的板39。起初,板39的两表面50和51被涂敷,以在其上形成光敏抗蚀剂(未示出)。然后,将带有圆形不透明区的玻璃板被定位于同表面50和51上的光敏抗蚀剂层接触,被抽真空和对光化性辐射曝光,以有选择地改变光敏抗蚀剂层的可溶解性。用水显影光敏抗蚀剂层,以除去被玻璃板图样的不透光区掩蔽的易溶区,以形成光敏抗蚀层中开孔的中间图样。将光敏抗蚀剂图样加热以使它们耐腐蚀,然后对金属板39选择地通过在光敏抗蚀剂层中的开孔蚀刻以至少在其两表面中部分形成开孔。停止蚀刻然后剥离板39以除去硬化的光敏抗蚀层。接着再用光敏抗蚀剂材料重新涂敷板39以在其两侧形成新涂层。该光敏抗蚀剂材料覆盖在板39的先前蚀刻的开孔以及未蚀刻部分。将其上带有或是不透明圆图样的玻璃板,或是透明玻璃板放置于同板39的坡度侧50上的光敏抗蚀剂层相接触。若采用透明玻璃板,则会使板39坡度侧上的整个抗蚀剂层不能通过光化性辐射溶解,不会发生对板坡度侧的进一步蚀刻。然而,具有圆形不透明区的第二玻璃板--这些不透明区在玻璃板外部的入射电子束方向上向外偏移,被置于同金属板锥面侧51上的光敏抗蚀剂层相接触,以便进行第二次曝光。第二玻璃板的中心部分中的圆形区未从第一次曝光的中心部分改变,以致在板39中部形成的开孔在两侧均是对齐的。将光敏抗蚀剂层曝露于光化性辐照下,显影形成图样,再对板39进行蚀刻。第二蚀刻之后,板39锥面侧的开孔45基本上按椭圆形外延,而坡度侧开孔44是圆形。通过用另一层已经受过曝光和加热使其耐腐蚀的光敏抗蚀剂材料保护先前蚀刻开孔,则可将这些开孔延伸至更深的荫罩内而不必去除该表面附近的金属,这并不影响电子束传输,但却提供荫罩的强度。虽然将该多重蚀刻工艺描述成仅用两步蚀刻,但应懂得:附加涂敷,曝光(photoexposing),显影和蚀刻步骤均在本
发明的范围内。
以上所述有关在荫罩一表面的外部形成基本呈椭圆形开孔和在荫罩另一表面上形成相应圆孔的技术同样可用于在荫罩外部形成多边形开孔和在其相对侧上形成矩形开孔。由此产生的荫罩可用于制造显象管的线屏(line screen)。一种不透明多边形曝光图样可在玻璃板的外部中形成,即可用以上所述的多次曝光技术。在后面的方法中,可在玻璃板的中部形成矩形不透明区并可在其外部中形成多边形不透明区。多边形区是通过对矩形图样的重复曝光--连续在入射电子束方向上偏移而形成的。采用玻璃板以对提供涂层中开孔图样的光敏抗蚀剂层进行曝光。图8示出荫罩125的外部,沿其对角线,在锥面侧有孔径143,带有利用具有本文所述矩形和多边形开孔图样的光敏抗蚀剂层制成的多边形开孔145。在荫罩125的中部,孔径140在锥面侧有矩形开孔142以及坡度侧有开孔141。换言之,多边形和矩形开孔可由多步骤蚀刻工艺形成。
多步骤蚀刻的以下方法可用于在荫罩锥面侧的外部形成延伸孔径。参照图9-12,板139分别具有置于其坡度侧和锥面侧表面150和151上的光敏抗蚀剂层152和153。具有不透光区的适当主图样被设置在接触被覆板139的第一组玻璃板上。将玻璃离板和金属板放大凹槽并对其光化性辐射曝光以有选择地改变光致抗蚀剂层的可溶性。玻璃板不透明图样和凹槽都不显示。于是,层152和153被显影,以除去光致抗蚀剂的多余可溶的掩蔽区(shadowed areas)以形成图9所示开孔160和162。开孔160可例如为矩形或圆形,而开孔162可例如为矩形或基本椭圆形。最好,如图9所示,抗蚀层153中的开孔162大于并向外偏移于抗蚀层152中的开孔160。然后,金属板139如图10所示从两侧开始被蚀刻以分别提供板139的坡度侧和锥而侧的开孔170和172。开孔170和172形状基本上分别对应于开孔160和162并仅仅部分地贯穿板139。接着,将包含围绕孔径170和172的表面的板139的两侧再涂敷以光致抗蚀剂材料,以形成涂层252和253,这两层实际上通过其上不透光区小于第一组玻璃板的不透光区的另一组玻璃板(未示出)被再次曝光于光化性辐照下。可用该第二组玻璃板的不透光区偏移板139中的开孔170和172。将139显影以除去抗蚀剂层的多余可溶性掩蔽区并再进行蚀刻以分别形成从先前已蚀刻开孔170和172外延的开孔270和272并形成孔径190,如图12中所示。虽然上面描述的多步蚀刻仅由两步蚀刻组成,但在本发明范围内可包括两步以上的蚀刻。图9-12所示多步方法的优点在于:通过改变每一步蚀刻中开孔的大小及其位置,使得合成孔径190具有所需斜度和为使电子束28能穿过那里而不打在荫罩139的孔径190的边缘部分所必需的内部结构。此外,该多步蚀刻法使从板139沿入射电子束方向上除去的材料量降至最小,从而提供一种比其锥面侧外部呈圆孔径的传统荫罩具有较强结构强度的荫罩125。

Claims (5)

1.一种在用作阴极射线管中的多孔眼荫罩的金属板上形成多个孔眼(190)的方法,所述多孔眼荫罩有一个中央部分(36)和一个外侧部分(38),而且还有呈锥形的一面和呈阶梯状的一面,所述方法的特征在于,它包括下列步骤:
往所述金属板的所述锥形面和所述阶梯面上涂敷光敏抗蚀材料层,从而形成上面有中央部分和外侧部分的第一光敏抗蚀层(152,153);
在所述金属板的所述阶梯面的第一光敏抗蚀层(152)中设置第一孔口(160)的型模,所述阶梯面上在第一光敏抗蚀层的外侧部分和中央部分的各第一孔口都相同;
在所述金属板的所述锥面的第一光敏抗蚀层(153)中设置第一孔口(162)的型模,在所述锥面上的第一光敏抗蚀层外侧部分的第一孔口与在第一光敏抗蚀层中央部分的第一孔口不同;
通过第一光敏抗蚀层中的第一孔口腐蚀所述金属板,从而形成部分延伸入所述金属板的孔口(170,172),所述金属板中的所述诸孔口在形状上基本上相当于第一光敏抗蚀层所述型模中的各第一孔口;
往所述金属板的所述锥形面和所述阶梯面上涂敷另一光敏抗蚀材料层,从而在所述金属板的各面上形成具有中央部分和外侧部分的第二光敏抗蚀层(252,253);
在第二光敏抗蚀层中设置第二孔口的型模,至少在所述金属板的锥形面上,第二光敏抗蚀层的外侧部分中的第二孔眼与第二光敏抗蚀层的中央部分中的第二孔眼不同;和
通过第二光敏抗蚀层中的各第二孔口腐蚀所述金属板,从而形成具有多个孔眼(190)的荫罩板,各孔口基本上与第一和第二光敏抗蚀层的所述型模中的第一和第二孔口相当。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括这样的一个步骤:通过第一光敏抗蚀层中的各第一孔口腐蚀所述金属板之后剥除第一光敏抗蚀层。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,第一光敏抗蚀层(153)中的各第一孔口(162)和第二光敏抗蚀层(253)中的各第二孔口在所述金属板外侧部分中的锥形面的部分,相对于第一光敏抗蚀层中的各第一孔口(160)和第二光敏抗蚀层中的各第二孔口在所述金属板的阶梯面的部分偏移。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述金属板的各外侧部分中所述各孔眼的各所述孔口在所述金属板的锥形面上径向延伸。
5.一种在用作阴极射线管多孔眼荫罩的金属板(139)上开多个孔眼(190)的方法,所述多孔眼荫罩有一个中央部分(36)、一个外侧部分(38)、一个与所述阴极射线管的荧光屏(22)间隔一段距离的锥形面和一个面对着所述阴极射线管的电子枪(26)的阶梯面,所述电子枪提供多束入射到所述荧光屏的电子束,所述方法的特征在于,它包括下列步骤:
往所述金属板的所述锥形面和所述阶梯面上涂敷光敏抗蚀材料层,从而形成上面有中央部分和外侧部分的第一光敏抗蚀层(152,153);
在所述金属板的所述阶梯面上的第一光敏抗蚀层中设置第一孔口(160)的型模,所述阶梯面在第一光敏抗蚀层外侧部分的各第一孔口与在第一光敏抗蚀层中央部分的各第一孔口相同;
在所述金属板的锥形面上的第一光敏抗蚀层(153)中设置诸第一孔口(162)的型模,第一光敏抗蚀层的锥形面上的外侧面部分中的各第一孔口相对于所述金属板的阶梯面上的第一光敏抗蚀层中相应的各第一孔口偏移;
通过第一光敏抗蚀层中的各第一孔口腐蚀所述金属板,从而形成部分延伸伸入所述金属板中的多个孔口,所述金属板中的各所述孔口在形状上与第一光敏抗蚀层中各第一孔口的所述型模相当;
从所述金属板剥除所述第一光敏抗蚀层;
往所述金属板的所述锥形面和所述阶梯面上涂敷第二光敏抗蚀材料层,从而在所述金属板各面形成具有中央部分和外侧部分的第二光敏抗蚀层(252,253);
在第二光敏抗蚀层中设置诸第二孔口的型模,第二光敏抗蚀层锥形面的外侧部分中的各第二孔口相对于所述金属板的阶梯面上第二光敏抗蚀层中相应的各第二孔口偏移,第二光敏抗蚀层的外侧部分中的各第二孔口小于第一光敏抗蚀层中的各第一孔口;
通过第二光敏抗蚀层中的各第二孔口腐蚀所述金属板,从而形成具多孔眼(190)的所述多孔眼荫罩,锥形面上的各孔口沿入射电子束的方向延伸,且相对于所述多孔眼荫罩的阶梯面上相应的各孔眼偏移。
CN95116778A 1994-10-14 1995-10-13 有增强分辨率的荫罩的制造方法 Expired - Fee Related CN1065981C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US32113194A 1994-10-14 1994-10-14
US321,131 1994-10-14
US321131 1994-10-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1137166A CN1137166A (zh) 1996-12-04
CN1065981C true CN1065981C (zh) 2001-05-16

Family

ID=23249310

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN95116778A Expired - Fee Related CN1065981C (zh) 1994-10-14 1995-10-13 有增强分辨率的荫罩的制造方法

Country Status (11)

Country Link
US (1) US5730887A (zh)
EP (1) EP0707335B1 (zh)
JP (1) JP3961037B2 (zh)
KR (1) KR100223119B1 (zh)
CN (1) CN1065981C (zh)
CA (1) CA2159370C (zh)
DE (1) DE69515095T2 (zh)
MX (1) MX9504348A (zh)
MY (1) MY140620A (zh)
SG (1) SG46953A1 (zh)
TW (1) TW378334B (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08287841A (ja) * 1995-02-13 1996-11-01 Nec Kansai Ltd シャドウマスク型カラー陰極線管
JP3353712B2 (ja) * 1998-07-16 2002-12-03 関西日本電気株式会社 カラー陰極線管
JP4124387B2 (ja) * 1999-01-26 2008-07-23 大日本印刷株式会社 ブラウン管用シャドウマスク
US6452320B1 (en) * 1999-08-10 2002-09-17 Sarnoff Corporation Lens aperture structure for diminishing focal aberrations in an electron gun
JP2001196003A (ja) * 2000-01-11 2001-07-19 Hitachi Ltd カラー陰極線管
DE10139802A1 (de) * 2000-08-16 2002-04-25 Dainippon Printing Co Ltd Lochmaske
EP1220275A3 (en) * 2000-12-28 2007-06-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Shadow mask and color cathode ray tube
US6599322B1 (en) 2001-01-25 2003-07-29 Tecomet, Inc. Method for producing undercut micro recesses in a surface, a surgical implant made thereby, and method for fixing an implant to bone
US7018418B2 (en) * 2001-01-25 2006-03-28 Tecomet, Inc. Textured surface having undercut micro recesses in a surface
US6620332B2 (en) * 2001-01-25 2003-09-16 Tecomet, Inc. Method for making a mesh-and-plate surgical implant
KR100505095B1 (ko) * 2002-05-31 2005-08-03 엘지.필립스 디스플레이 주식회사 컬러 음극선관의 새도우 마스크
EP2575144B1 (en) 2003-09-05 2017-07-12 Carl Zeiss Microscopy GmbH Particle-optical systems and arrangements and particle-optical components for such systems and arrangements
US7531216B2 (en) * 2004-07-28 2009-05-12 Advantech Global, Ltd Two-layer shadow mask with small dimension apertures and method of making and using same
KR100748957B1 (ko) * 2004-12-28 2007-08-13 엘지.필립스 디스플레이 주식회사 음극선관용 섀도우마스크
US7329980B2 (en) 2004-12-15 2008-02-12 Lg.Philips Displays Korea Co., Ltd. Shadow mask for cathode ray tubes

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4168450A (en) * 1976-07-19 1979-09-18 Hitachi, Ltd. Slot type shadow mask
US4427028A (en) * 1979-11-13 1984-01-24 Vsi Corporation Resistance welded accumulator device
JPH0410335A (ja) * 1990-04-25 1992-01-14 Dainippon Printing Co Ltd シャドウマスクおよびその製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3519869A (en) * 1967-04-11 1970-07-07 Victor Company Of Japan Shadow mask having apertures progressively tapered from center to periphery
JPS4831373B1 (zh) 1969-05-31 1973-09-28
JPS4874783A (zh) * 1971-12-30 1973-10-08
US3973965A (en) * 1972-05-30 1976-08-10 Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. Making shadow mask with slit-shaped apertures for CRT
NL7404209A (nl) * 1974-03-28 1975-09-30 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van reproduk- tiemaskers voor het schaduwmasker van een beeld- buis en beeldbuis vervaardigd volgens deze werk- wijze.
GB2020892A (en) * 1978-05-10 1979-11-21 Rca Corp C.R.T. Silt Type Shadow Mask
JPS577041A (en) * 1980-05-12 1982-01-14 Buckbee Mears Co Structure with visual sense opening line and method of manufacturing same
JPS5757449A (en) * 1981-04-30 1982-04-06 Dainippon Printing Co Ltd Production of slit masi
US4429028A (en) * 1982-06-22 1984-01-31 Rca Corporation Color picture tube having improved slit type shadow mask and method of making same
CA1204143A (en) * 1982-08-27 1986-05-06 Kanemitsu Sato Textured shadow mask
US4588676A (en) 1983-06-24 1986-05-13 Rca Corporation Photoexposing a photoresist-coated sheet in a vacuum printing frame
JPS6070185A (ja) * 1983-09-26 1985-04-20 Toshiba Corp シヤドウマスクの製造方法
US4743795A (en) * 1984-07-13 1988-05-10 Bmc Industries, Inc. Multi-graded aperture masks
US4632726A (en) * 1984-07-13 1986-12-30 Bmc Industries, Inc. Multi-graded aperture mask method
JPS6160889A (ja) * 1984-08-30 1986-03-28 Toshiba Corp シヤドウマスクの製造方法
JP3282347B2 (ja) * 1993-09-07 2002-05-13 ソニー株式会社 エッチング法、色選別機構及びその作製方法、並びに、陰極線管
US5484074A (en) * 1994-05-03 1996-01-16 Bmc Industries, Inc. Method for manufacturing a shadow mask

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4168450A (en) * 1976-07-19 1979-09-18 Hitachi, Ltd. Slot type shadow mask
US4427028A (en) * 1979-11-13 1984-01-24 Vsi Corporation Resistance welded accumulator device
JPH0410335A (ja) * 1990-04-25 1992-01-14 Dainippon Printing Co Ltd シャドウマスクおよびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69515095T2 (de) 2000-08-24
EP0707335B1 (en) 2000-02-16
JP3961037B2 (ja) 2007-08-15
US5730887A (en) 1998-03-24
MX9504348A (es) 1997-03-29
KR960015670A (ko) 1996-05-22
TW378334B (en) 2000-01-01
JPH08185807A (ja) 1996-07-16
MY140620A (en) 2009-12-31
EP0707335A1 (en) 1996-04-17
SG46953A1 (en) 1998-03-20
CN1137166A (zh) 1996-12-04
DE69515095D1 (de) 2000-03-23
KR100223119B1 (ko) 1999-10-15
CA2159370A1 (en) 1996-04-15
CA2159370C (en) 2000-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1065981C (zh) 有增强分辨率的荫罩的制造方法
US3947718A (en) Shadow mask having elongated apertures concave to vertical center line and increasing in pitch along x-axis with distance from said line
US3973965A (en) Making shadow mask with slit-shaped apertures for CRT
US4070596A (en) In-line plural beams cathode ray tube having color phosphor element strips spaced from each other by intervening light absorbing areas and slit-shaped aperture mask
US3666462A (en) Process of screening a shadow mask color tube
CA1052673A (en) Method for producing an apertured work piece
KR100239618B1 (ko) 슬롯형 새도우 마스크
US3067349A (en) Method for producing registered color screen cathode-ray tubes
US3653901A (en) Color kinescope production with a temporary mask
KR100310404B1 (ko) 컬러음극선관용섀도우마스크및그의제조방법
CN1023524C (zh) 用于制备彩色显象管荫罩的方法
US3707640A (en) Shadow mask having double-sized apertures
US6013400A (en) Method of manufacturing a luminescent screen assembly for a cathode-ray tube
JPS6349336B2 (zh)
KR100194096B1 (ko) 모아레 개선 음극선관
US5336587A (en) Method of manufacturing main plates for exposure printing
JPS6367308B2 (zh)
KR840002184B1 (ko) 슬리트형 샤도우 마스크를 구비한 칼라 수상관
KR100209649B1 (ko) 칼라 음극선관의 스크린 제조방법
KR19980057636A (ko) 칼라 음극선관용 섀도우 마스크
KR820002373B1 (ko) 컬러 표시관
KR100365524B1 (ko) 비관통선을 가지는 새도우 마스크 및 이의 제조방법
JP3474271B2 (ja) カラーブラウン管用シャドウマスクおよびその製造方法
JPS61114439A (ja) 高精細度シヤドウマスク
KR19990027074A (ko) 칼라수상관용 새도우마스크 제조용 플랫마스크

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20010516

Termination date: 20101013