CN106575181A

CN106575181A - 触摸窗

Info

Publication number: CN106575181A
Application number: CN201580043632.9A
Authority: CN
Inventors: 尹汝恩; 李昊旻; 严俊弼; 洪准基; 成东默; 李东建
Original assignee: LG Innotek Co Ltd
Current assignee: LG Innotek Co Ltd
Priority date: 2014-08-14
Filing date: 2015-08-06
Publication date: 2017-04-19
Anticipated expiration: 2035-08-06
Also published as: WO2016024760A1; CN106575181B; US10372279B2; US20170228071A1

Abstract

根据第一实施例的触摸窗是一种如下触摸窗，其包括：基板；树脂层，布置在基板上并且包括第一图案和第二图案；以及布置在第二图案上的电极层，其中，所述电极层包括具有比所述第二图案的宽度小的宽度的导电层以及形成为围绕导电层的上侧和侧面的第一保护层。另外，根据第二实施例的触摸窗是一种如下触摸窗，其包括：包括有效区和无效区的基板；以及在所述基板上的电极层，其中，所述电极层包括导电层和在所述导电层上的保护层，并且所述保护层包含金属氮化物，并且就整个金属氮化物而言包含至少1.3重量％的氮。此外，根据第三实施例的触摸窗包括基板和布置在基板上的电极层，其中，所述电极层包括导电层和布置在导电层的至少一个表面上的保护层，并且所述保护层包含Nb。此外，根据第三实施例的另一触摸窗可以包括布置在导电层与保护层之间的缓冲层。

Description

触摸窗

技术领域

本发明涉及触摸窗。

背景技术

近来，通过使显示在显示装置上的图像与手指或输入装置(例如触控笔)接触来执行输入操作的触摸窗已经应用于各种电子产品。

触摸窗可以典型地分类为电阻膜式触摸窗和电容式触摸窗。在电阻膜式触摸窗中，当向输入装置施加压力时，由于电极之间的连接而引起的电阻上的变化被检测，从而位置被检测。在电容式触摸窗中，当手指与电容式触摸窗接触时，电极之间的电容的变化被检测，从而位置被检测。在考虑到制造方法的便利性、感测能力等的情况下，电容式触摸窗近来在小型号中受到关注。

普遍公知的铟锡氧化物(在下文中，称为ITO)可以用在触摸窗的透明电极中。然而，对于ITO，存在许多问题。在ITO电极中，由于形成ITO的铟材料的稀缺价值高，并且诸如溅射法或化学气相沉积法的真空工艺对于ITO涂覆是必要的，因此其具有相对高的制造成本。此外，ITO电极容易由于基板的弯曲和扭曲而物理损坏，并且其作为电极的性质劣化，因而存在ITO电极不适用于柔性元件的问题。此外，ITO电极具有高电阻特性，并且在增加其面积方面受到限制。为了解决这样的问题，正积极地进行着替代电极的研究。具体地，旨在通过将金属材料形成网来替代ITO。

然而，在电极由金属材料形成的情况下，金属电极可能被氧化，从而可能产生驱动性能例如电阻方面的问题。具体地，用于车辆中的触摸窗通常暴露于高温、极低温度或高湿度下，因而在其可靠性方面存在问题。

此外，因为由于金属的闪光特性，从外部可能看得到从外部入射的光，所以触摸窗的可见性可能劣化。

因此，需要用于解决上述问题的具有新型结构的触摸窗。

发明内容

技术问题

本发明涉及一种具有增强的可靠性和可见性的触摸窗。

技术解决方案

根据本发明的一个方面，提供了根据第一实施方式的触摸窗，其包括：基板；树脂层，其设置在所述基板上并且包括第一图案和第二图案；以及设置在所述第二图案上的电极层，其中，所述电极层包括具有比所述第二图案的宽度小的宽度的导电层以及形成为围绕所述导电层的上表面和侧表面的第一保护层。

根据本发明的另一方面，提供了一种根据第二实施方式的触摸窗，其包括：基板，其包括有效区和无效区；以及形成在所述基板上的电极层，其中，所述电极层包括导电层和形成在所述导电层上的保护层，并且所述保护层包含金属氮化物，并且就整个金属氮化物而言包含1.3重量％或大于1.3重量％的氮。

根据本发明的又一方面，提供了一种根据第三实施方式的触摸窗，其包括基板和设置在基板上的电极层，其中，所述电极层包括导电层和设置在所述导电层的至少一个表面上的保护层，并且所述保护层包含铌(Nb)。此外，根据第三实施方式的另一触摸窗可以包括设置在所述导电层与所述保护层之间的缓冲层。

有益效果

根据第一实施方式的触摸窗包括电极层，其包括保护层和导电层，并且保护层形成为围绕导电层的上表面和侧表面。因此，可以防止电极的氧化，并且还可以防止反射，从而改善由于金属的全反射特性引起的问题。此外，触摸窗还可以包括设置在导电层的下表面上的保护层。因此，可以增强导电层的粘附力。

此外，在树脂层的第二图案上导电层形成为具有比第二图案的宽度小的宽度。因此，保护层可以形成在仅第二图案上，并且电极层的宽度可以形成为等于或小于第二图案的宽度。也就是说，根据第一实施方式的触摸窗可以实现细线宽，而不管第二图案的宽度。因此，根据实施方式的触摸窗可以具有改善的光学特性诸如可见性和透射率。

根据第二实施方式的触摸窗可以包括在感测电极上的保护层或线电极。

此外，可以控制保护层中包含的氮含量。

因此，可以通过控制保护层的氮含量使保护层在不同环境中的颜色变化最小化。因此，可以通过防止保护层的变形和腐蚀而更容易地保护电极层，并且可以通过根据颜色变化防止电极层可见来增强触摸窗的可见性。

因此，根据第二实施方式的触摸窗可以具有增强的可靠性和效率，并且可以增强其可见性。

在根据第三实施方式的触摸窗中，电极层可以包括导电层和保护层。

可以通过防止导电层的变形和腐蚀使保护层更容易地保护电极层，并且还可以通过根据颜色变化防止电极层可见来增强触摸窗的可见性。

此外，缓冲层可以缓解电极层的应力，并且可以通过防止基板和/或电极层的变形来增强触摸窗的可靠性。

因此，根据第三实施方式的触摸窗可以具有增强的可靠性和效率，并且可以增强可见性。

附图说明

图1是根据本发明的第一实施方式的触摸窗的平面图；

图2是根据本发明的第一实施方式的通过切割图1的A-A'区域所截取的截面图；

图3是根据本发明的第一实施方式的通过切割图1的A-A'区域所截取的另一截面图；

图4是根据本发明的第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式的触摸窗的平面图；

图5是图4的一个区域的放大图；

图6至图8是根据本发明的第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式的通过切割图5的A-A'区域所截取的截面图；

图9和图10是根据本发明的第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式的通过切割图5的A-A'区域所截取的其他截面图；

图11至图13是根据本发明的第四实施方式的通过切割图5的A-A'区域所截取的截面图；

图14和图15是根据本发明的第四实施方式的通过切割图5的A-A'区域所截取的其他截面图；

图16至图19是示出根据本发明的第一实施方式、第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式的各种类型的触摸窗的视图；

图20至图22是示出根据本发明的第一实施方式、第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式的显示面板和触摸窗所耦接到的触摸装置的视图；以及

图23至图26是示出应用根据本发明的第一实施方式、第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式的触摸窗的触摸装置的实施例的视图。

具体实施方式

在对优选实施方式的描述中，将理解，当层(或膜)、区域、图案或结构被称为在另一层(或膜)、另一区域、另一焊盘或另一图案“上”或“下”时，术语“上”或“下”包括“直接地”以及经由另一层“间接地”的两个含义。另外，将基于附图进行关于在每个层“上”或“下”的参考。

应当注意，如果在说明书中描述了一个部件“连接至”、“耦接至”或“接合至”另一个部件，则前者可以直接“连接至”、“耦接至”和“接合至”后者或经由另一构件“连接至”、“耦接至”和“接合至”后者。此外，当描述了某一部分包括某一部件时，这意味着不排除另一部件，而是该部分还可以包括另一部件，只要没有具体地作出相反的描述即可。

在附图中，由于出于方便说明或清楚的目的每个层(膜)、区域、图案或结构的厚度或尺寸可能被调整，所以每个层(膜)、区域、图案或结构的厚度或尺寸不完全反映实际尺寸。

现在将详细参考本公开内容的实施方式，其实施例在附图中示出。

首先，将参照图1至图3对根据本发明的第一实施方式的触摸窗进行描述。图1是根据本发明的第一实施方式的触摸窗的平面图，并且图2和图3是根据本发明的第一实施方式的通过切割图1的A-A'区域所截取的截面图。

参照图1和图2，根据本发明的第一实施方式的触摸窗10包括基板100，基板100被划分为有源区AA和无源区UA。具体地，有源区AA是检测输入装置(例如，手指等)的位置并且使得用户能够输入触摸命令的区域。

此处，在有源区AA处可以形成有电极层200以检测输入装置。并且

在无源区UA处可以形成有用于电连接电极层200的线电极300。此外，

尽管在附图中未示出，在无源区UA处可以设置有连接至线电极300的外

电路等。

当诸如手指的输入装置与触摸窗接触时，在与输入装置接触的部分处产生电容差，并且产生这种差的部分可以被检测为接触位置。将对触摸窗进行更详细地描述。

基板100可以由能够支承形成在其上的电极层200、线电极300和电路板的各种材料形成。基板100可以是刚性的或柔性的。例如，基板100可以包括玻璃或塑料。具体地，基板100可以包括诸如钠钙玻璃和铝硅酸盐玻璃的化学强化/半钢化玻璃，可以包括诸如聚酰亚胺(PI)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、丙二醇(PPG)和聚碳酸酯(PC)的增强或柔性塑料，或者可以包括蓝宝石。

蓝宝石具有非常优异的电特性，诸如介电常数，使得可以显著地增加触摸响应速度，并且可以容易实现诸如悬浮的隔空触摸。此外，由于蓝宝石具有高表面强度，因此蓝宝石可应用于盖基板。此处，悬浮是用于即使在距显示器短距离处的情况下识别坐标的技术。

此外，基板100可以包括光学各向同性膜。例如，基板100可以包括环烯烃共聚物(COC)、环烯烃聚合物(COP)、光学各向同性聚碳酸酯(PC)或光学各向同性聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。

此外，基板100可以被弯曲成具有部分弯曲的表面。也就是说，基板100可以被弯曲成具有部分平坦表面和部分弯曲表面。更具体地，基板100可以被弯曲成其一端具有弯曲表面，或者可以被弯曲或弯折成具有包括任意曲率的表面。

此外，基板100可以是具有柔性特性的柔性基板。此外，基板100可以是弯折的或弯曲的基板。也就是说，包括基板100的触摸窗还可以形成为具有柔性的、弯折的或弯曲的特性。因此，根据实施方式的触摸窗可以易于携带，并且可以以各种设计进行改变。

线电极300形成在基板100的无源区UA上。线电极300可以将电信号施加至电极层200。线电极300可以形成在无源区UA处以不可见。

与此同时，尽管在附图中未示出，但是可以进一步设置连接至线电极300的电路板。可以使用各种类型的印刷电路板作为电路板。例如，可以使用柔性印刷电路板(FPCB)等。

此外，在基板100的无源区UA上可以形成外伪层(未示出)。外伪层可以涂覆有具有预定颜色的材料，使得从外部看不到线电极300和用于使线电极300连接至外电路的印刷电路板。外伪层可以具有适合于所期望的外观的颜色。例如，外伪层可以包括黑色颜料，因此可以具有黑色。并且在外伪层上可以以各种方法形成所期望的标识等。这种外伪层可以通过沉积、印刷或湿涂覆工艺来形成。

在基板100的有源区AA上可以形成电极层200。电极层200可以设置在有源区AA上，并且可以用作用于感测触摸的传感器。也就是说，电极层200可以检测诸如手指的输入装置是否与其接触。电极层200包括第一电极层201和第二电极层202。

第一电极层201包括第一感测电极210和用于连接第一感测电极210的第一连接电极230。第一感测电极210可以沿一个方向延伸。此外，第一连接电极230可以沿一个方向连接第一感测电极210。

第二电极层202包括第二感测电极220和用于连接第二感测电极220的第二连接电极240。第二感测电极220可以沿与所述一个方向交叉的另一方向延伸。此外，第二连接电极240可以沿另一方向连接第二感测电极220。

第一感测电极210、第二感测电极220和第二连接电极240设置在基板100上。第一感测电极210、第二感测电极220和第二连接电极240可以被设置成与基板100接触。第一感测电极210、第二感测电极220和第二连接电极240被设置在同一平面上。

与此同时，第一连接电极230电连接第一感测电极210。在此，在第一连接电极230与第二连接电极240之间设置有绝缘层400。可以通过绝缘层400防止第一连接电极230与第二连接电极240之间的电短路。绝缘层400可以由使第一连接电极230与第二连接电极240绝缘的透明绝缘材料形成。例如，绝缘层400可以由诸如硅氧化物的金属氧化物或丙烯酸树脂形成。

图1示出其中包括具有在基板100上沿一个方向上延伸的形状和在基板100上沿另一方向上延伸的形状的两种类型的电极层200的情形。然而，实施方式不限于此。因此，电极层200可以形成为仅包括在一个方向上延伸的形状。

也就是说，第一电极层201和第二电极层202可以形成在一个基板100的一个表面上。此外，第一电极层201和第二电极层202可以分别设置在一个基板100的一个表面和另一个表面上。此外，第一电极层201和第二电极层202可以分别设置在两个基板上。

此外，图1示出了其中第一感测电极210和第二感测电极220设置成菱形的形式的情形。然而，实施方式不限于此，并且第一感测电极210和第二感测电极220可以设置成各种形状的形式，例如，条形、诸如三角形和四边形的多边形、圆形、线型H形或椭圆形。

与此同时，电极层200可以设置成网的形式。在此，可以随机地形成网形状以防止莫尔现象。莫尔现象是当周期性条纹彼此交叠时形成的图案，其中条纹中每个条纹的厚度增加并且比其他条纹更显著地突出。因此，为了防止这样的莫尔现象，导电图案可以设置成各种形状。

具体地，电极层200包括网开口部OA和网线型部LA。在此，网线型部LA的线宽可以为0.1μm至10μm。在制造工艺中可能不能形成具有0.1μm或更小的线宽的网线型部LA。当线宽为10μm或更小时，电极层200的图案可以不可见。优选地，网线型部LA的线宽可以为1μm至7μm，并且更优选地网线型部LA的线宽可以为2μm至5μm。

与此同时，如图1所示，网开口部OA可以具有四边形形状。然而，实施方式不限于此。网开口部OA可以通过不断地设置各种形状例如诸如菱形、五边形和六边形的多边形或圆形来形成。也就是说，网开口部OA可以具有规则形状。然而，实施方式不限于此，网开口部OA可以具有任意形状。

参照图2，在基板100上可以设置有树脂层600和电极层200。在此，电极层200可以包括导电层200a和保护层200b。此外，树脂层600可以包括第一图案610和第二图案620。

第二图案620形成在基板100上并且设置在网线型部LA处。因此，第二图案620被设置成网的形式。第二图案620可以是浮凸的。

第一图案610形成在基板100上并且设置在网开口部OA处。因此，第一图案610设置在第二图案620之间。第一图案610可以是浮凸的。

第一图案610和第二图案620可以包含树脂或聚合物。在此，第一图案610和第二图案620可以通过压印工艺形成。例如，将树脂组合物或聚合物涂覆在基板100上。然后，将具有预定图案的模具位于树脂组合物或聚合物上方并且在其上进行压印。该图示出了第一图案610和第二图案620中的每一个是正方形突出部。然而，本发明不限于此，并且根据需要可以不同地形成突出部的形状。

电极层200形成在第二图案620上并且设置在网线型部LA处。因此，电极层200被设置成网的形式。该图示出了电极层200的宽度等于第二图案620的宽度W1。然而，电极层200的宽度可以形成为等于或小于第二图案620的宽度W1。

导电层200a设置在第二图案620上。导电层200a的宽度W2形成为小于第二图案620的宽度。因此，导电层200a可以被设置成仅与第二图案620的上表面接触。

也就是说，导电层200a设置在网线型部LA处。导电层200a形成为网的形式。导电层200a可以包含具有优异导电性的各种金属。例如，导电层200a可以包含铬(Cr)、铜(Cu)、金(Au)、银(Ag)、铝(Al)、钛(Ti)、镍(Ni)、钼(Mo)或其合金。例如，导电层200a可以通过溅射法形成在树脂层600上。

保护层200b可以形成为围绕导电层200a的上表面和侧表面。因此，保护层200b形成为与导电层200a的上表面和侧表面接触。也就是说，保护层200b可以形成为围绕导电层200a的三个表面。

保护层200b设置在第二图案620上。由于导电层200a的宽度W2形成为小于第二图案620的宽度W1，因此保护层200b可以形成为与第二图案620的上表面接触。

此外，保护层200b可以形成在仅第二图案620上。因此，保护层200b可以被设置成不与第二图案620的侧表面接触，而是与第二图案620的侧面间隔开。

保护层200b可以形成为围绕导电层200a的上表面和侧表面，以防止由金属形成的导电层200a的氧化。此外，保护层200b可以防止由于形成导电层200a的金属的全反射特性而引起的光反射。

保护层200b可以形成为黑化材料层。黑化材料层可以是黑色金属氧化物。例如，可以应用选自CuO、CrO、FeO和Ni₂O₃中的一种。然而，本发明不限于此，而是可以应用能够限制导电层200a的反射特性的黑色材料。

例如，形成电极层200的方法如下。在包括第二图案620和第一图案610的基板100的正面上形成电极材料层。在此，电极材料层形成在第二图案620的上表面和第一图案610的上表面上。然后，对电极材料层进行蚀刻。在此，由于第二图案620和第一图案610中的每一个的结构而产生电极材料层的接合区域与蚀刻区域的差异。

第二图案620与电极材料层之间的接合区域形成为大于第一图案610与电极材料层之间的接合区域。当以相同的蚀刻速度执行蚀刻工艺时，保留形成在第二图案620上的电极材料层，并且对形成在第一图案610上的电极材料层进行蚀刻和去除。也就是说，可以剥离和去除形成在第一图案610上的电极材料层。

在此，可以执行蚀刻工艺，直到形成在第二图案620上的电极材料层的宽度变得小于第二图案620的宽度。因此，导电层200a可以形成在第二图案620上。然后，以相同的方法在导电层200a上形成并蚀刻黑化材料层，并且保护层200b可以形成为围绕导电层200a。

因此，可以形成设置在第二图案620上并且包括导电层200a和保护层200b的电极层200。电极层200的宽度可以是从围绕导电层200a的保护层200b的一个侧表面到其另一侧表面的距离。电极层200的宽度可以形成为等于或小于第二图案620的宽度W1。

因此，导电层200a和保护层200b可以形成在仅第二图案620上。此外，电极层200可以设置成网的形式。然而，形成导电层200a和保护层200b的方法不限于此，并且可以应用使保护层200b能够形成为围绕导电层200a的上表面和侧表面的任何方法。

当导电层200a的宽度W2形成为等于第二图案620的宽度W1时，由于第二图案620的宽度W1，难以实现电极层200的细线宽。此外，当保护层200b形成在形成为具有等于第二图案620的宽度W1的宽度的导电层200a上时，保护层200b可以形成为围绕第二图案620或者具有大于第二图案620的宽度W1的宽度。也就是说，存在电极层200的宽度形成为大于第二图案620的宽度W1的问题。

因此，在根据实施方式的触摸窗中，由于导电层200a的宽度形成为小于第二图案620的宽度，并且电极层200的宽度形成为等于或小于第二图案620的宽度，所以可以实现细线宽，而不管第二图案620的宽度W1如何。因此，根据实施方式的触摸窗可以具有增强的光学特性诸如可见性和透射率。

虽然在附图中未示出，但是根据实施方式的触摸窗还可以包括设置在其上形成有电极层200的基板100上的盖基板。也就是说，盖基板可以设置在其上形成有电极层200等的基板100上。

在基板100与盖基板之间可以形成有透明粘合剂层。例如，透明粘合剂层可以包括光学透明粘合剂(OCA)或光学透明树脂(OCR)。

在下文中，将参照图3对根据第一实施方式的触摸窗进行描述。可以省略与上述实施方式一致的描述，并且相似的附图标记表示相似或相应的元件。

参照图3，提供了其中限定了有效区和设置成围绕有效区的无效区的基板100。在基板100上形成有树脂层600，并且在基板100的有效区处形成有电极层200。

在此，树脂层600可以包括第一图案610和第二图案620。此外，电极层200可以包括导电层200a和保护层200b。此外，保护层200b可以包括第一保护层201b和第二保护层202b。

第一保护层201b可以形成为围绕导电层200a。例如，第一保护层201b可以形成为围绕导电层200a的上表面和侧表面。也就是说，第一保护层201b可以形成为围绕导电层200a的露出的正面。

此外，第二保护层202b可以设置成与导电层200a的下表面接触。第二保护层202b可以增强导电层200a的粘附力。也就是说，保护层200b可以形成为围绕由金属形成的导电层200a的正面。因此，可以防止氧化，并且可以防止由于金属的全反射特性引起的反射。

在此，第一保护层201b和第二保护层202b可以由相同的材料形成。例如，第一保护层201b和第二保护层202b可以形成为黑化材料层。黑化材料层可以是黑色金属氧化物。例如，可以应用选自CuO、CrO、FeO和Ni₂O₃中的一种。然而，本发明不限于此，并且可以应用能够限制导电层200a的反射性的基于黑色的材料。

例如，形成电极层200的方法如下。在包括第一图案610和第二图案620的基板100的正面上形成第一黑化材料层。在此，第一黑化材料层形成在第一图案610的上表面和第二图案620的上表面上。

然后，对第一黑化材料层进行蚀刻。根据第一图案610和第二图案620中的每一个的结构产生第一黑色化材料层的接合区域与蚀刻区域的差异。因此，形成在第一图案610上的第一黑色化材料层被剥离和去除，并且保留形成在第二图案620上的第一黑化材料层。也就是说，第一黑化材料图案形成在仅第二图案620上。

然后，在其上形成有第一黑化材料图案的基板100的正面上形成电极材料层。电极材料层形成在第二图案620的上表面和第一图案610的上表面上，并且对形成在第一图案610上的电极材料层进行蚀刻。因此，形成在第二图案620和第一黑化材料图案上的电极材料层变为导电层200a。也就是说，第一黑化材料图案形成为与导电层200a的下表面接触。

在此，导电层200a的宽度形成为小于第二图案620的宽度。也就是说，第二图案620的远端形成在比导电层200a的远端更远的外侧处。

然后，在其上形成有导电层200a的基板100的正面上形成第二黑化材料层。由于导电层200a的宽度形成为小于第二图案620的宽度，所以形成在第二图案620上的第二黑色化材料层形成为围绕导电层200a。也就是说，形成在第二图案620上的第二黑色化材料层形成为与导电层200a的上表面和侧表面接触。

然后，对第二黑化材料层进行蚀刻。去除形成在第一图案610的上表面上的第二黑化材料层，并且保留形成在第二图案620的上表面上的第二黑化材料层。因此，形成形成为围绕导电层200a的上表面和侧表面的第二黑化材料图案。因此，形成在导电层200a的上表面和侧表面上的第二黑化材料图案可以与形成在导电层200a的下表面上的第一黑化材料图案一体地连接。也就是说，可以形成其中第一保护层201b和第二保护层202b一体地连接的保护层200b。换句话说，保护层200b可以形成为围绕电极层200的正面。

然而，形成导电层200a和保护层200b的方法不限于此，可以应用使保护层200b能够形成为围绕导电层200a的四个表面的任何方法。

尽管在附图中未示出，但是根据实施方式的触摸窗还可以包括设置在基板100上的盖基板，在基板100上形成有电极层200。也就是说，盖基板可以设置在其上形成有电极层200等的基板100上。

在下文中，将参照图4至图10对根据第二实施方式的触摸窗进行描述。可以省略与上述第一实施方式一致的描述，并且相似的附图标记表示相似或相应的元件。

参照图4至图10，根据第二实施方式的触摸窗可以包括基板100、电极层200和印刷电路板350。

电极层200、印刷电路板350等可以设置在基板100上。也就是说，基板100可以是支承基板。

基板100可以包括盖基板。也就是说，电极层200和印刷电路板350可以由盖基板支承。可替选地，在基板100上可以进一步设置单独的盖基板。也就是说，电极层200和印刷电路板350可以由基板100支承，并且基板100和盖基板可以通过粘合剂层接合。

电极层200可以包括第一感测电极210、第二感测电极220和线电极300。

第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板100上。具体地，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板100的有源区AA和无源区UA中至少之一中。优选地，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板100的有源区AA处。

第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板100的一个表面上。具体地，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板100的同一表面上。也就是说，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置在基板100的同一表面上，而不彼此接触，而是彼此间隔开。此外，第一感测电极210和第二感测电极220可以设置成与基板100直接或间接接触。

第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包含透明导电材料，以使得电力能够在不阻碍光透射的情况下流动。例如，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包含金属氧化物，诸如铟锡氧化物、铟锌氧化物、铜氧化物、锡氧化物、锌氧化物和钛氧化物。

可替选地，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包含纳米线、光敏纳米线膜、碳纳米管(CNT)、石墨烯、导电聚合物或其混合物。

可替选地，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包含各种金属。例如，第一感测电极210和第二感测电极220中的至少一个感测电极可以包含铬(Cr)、镍(Ni)、铜(Cu)、铝(Al)、银(Ag)、钼(Mo)、金(Au)、钛(Ti)及其合金中至少之一。

第一感测电极210和第二感测电极220可以包括网形状。具体地，第一感测电极210和第二感测电极220可以包括多个子电极，并且子电极可以设置成以网的形式彼此相交，并且通常可以形成为网电极。

具体地，参照图5，第一感测电极210和第二感测电极220可以包括网线LA和网线LA之间的网开口部OA，网线LA由形成为以网形式彼此相交的多个子电极形成。在此，网线LA的宽度可以为约0.1μm至约10μm。在制造工艺中可能不能形成具有小于0.1μm的线宽的网线LA。当线宽大于10μm时，可以从外部看到感测电极图案，并且可能降低可见性。可替选地，网线LA的宽度可以为约1μm至约5μm。可替选地，网线LA的宽度可以为约1.5μm至约3μm。

网开口部OA可以形成为各种形状。此外，网开口部OA可以形成为规则形状或任意形状。

由于感测电极形成为网形状，所以感测电极的图案可以在有源区AA或无源区UA上不可见。也就是说，即使当感测电极由金属形成时，感测电极也可以是不可见的。此外，即使当感测电极应用于大尺寸触摸窗时，也可以减小触摸窗的电阻。

线电极300可以设置在基板100上。具体地，线电极300可以与第一感测电极210和第二感测电极220一起设置在同一平面上。

线电极300可以设置在基板100的有源区AA和无源区UA中至少之一上。例如，线电极300可以设置在基板100的有源区AA和无源区UA处。

参照图4，线电极300可以设置成从有源区AA向无源区UA延伸。具体地，线电极300可以在有源区AA处连接至第一感测电极210和第二感测电极220。并且线电极300可以在无源区UA处连接至印刷电路板350。

印刷电路板350可以设置在基板100的有源区AA和无源区UA中至少之一中。

印刷电路板350可以包括驱动芯片。因此，从第一感测电极210和第二感测电极220感测到的触摸信号可以通过线电极300传递。触摸信号可以被传递到驱动芯片。

线电极300可以包括与第一感测电极210和第二感测电极220的材料相同或相似的材料。此外，与感测电极类似，线电极300可以包括网形状。

参照图4和图5，线电极300可以包括设置在有源区AA上的第一线电极310和设置在无源区UA上的第二线电极320。第一线电极310和第二线电极320中至少之一可以包括网形状。例如，第一线电极310通过彼此交叉的多个子电极设置成网的形式，并且第二线电极320可以设置成块状线的形式。然而，实施方式不限于此，并且第一线电极310和第二线电极320两者可以形成为网形状，或者第一线电极310和第二线电极320两者可以形成为块状线。

此外，第一线电极310和第二线电极320可以一体形成。

图6至图8是示出根据本发明的第二实施方式的触摸窗的电极层的一个截面的视图。图6至图8示出了感测电极。然而，在下面的描述中，电极层还可以包括除了感测电极之外的线电极。

参照图6至图8，电极层200可以设置在基板100上。电极层200可以包括导电层200a即感测电极以及感测电极上的保护层200b。

保护层200b可以设置在导电层200a的一个表面和另一个表面中至少之一上。

参照图6，保护层200b可以设置在导电层200a的上表面上。保护层200b可以设置在导电层200a的上表面上，并且可以与导电层200a直接或间接接触。具体地，导电层200a可以包括与基板100接触的一个表面和与该一个表面相对的另一个表面，并且保护层200b可以设置在导电层200a的另一个表面上。

导电层200a和保护层200b中的每一个可以包含相同的材料或类似的材料。例如，导电层200a和保护层200b可以包含彼此对应的导电材料。例如，导电层200a和保护层200b可以包含彼此对应的金属。

保护层200b可以设置成纳米尺寸(nm)。保护层200b可以设置成具有与导电层200a的厚度相同或类似的厚度。可替选地，保护层200b可以设置成具有与导电层200a的厚度不同的厚度。

保护层200b可以是化合物。例如，保护层200b可以包括包含氮N和金属(下文中称为M)的金属氮化物。例如，保护层200b可以由化学式MxNy(其中，0<x≤1，0<y≤1)表示。可替选地，保护层200b可以包括包含氮、金属和氧的金属氮氧化物。例如，保护层200b可以由化学式MxNyOz(其中，0<x≤1，0<y≤1，0<z≤1)表示。

保护层200b可以包含预定量的氮。例如，保护层200b可以就100重量％的金属氮化物而言包含1.3重量％或大于1.3重量％的氮。具体地，保护层200b可以就100重量％的金属氮化物而言包含约1.3重量％至约10重量％的氮。更具体地，保护层200b可以就100重量％的金属氮化物而言包含约1.3重量％至约4重量％的氮。

可替选地，假设金属氮化物中包含的氮和金属的含量，即金属氮化物的含量为100重量％，保护层200b可以就100重量％的金属氮化物而言包含约1.3重量％或大于1.3重量％的氮。具体地，保护层200b可以就100重量％的金属氮化物而言包含约1.3重量％至约10重量％的氮。更具体地，保护层200b可以就100重量％的金属氮化物而言包含约1.3重量％至约4重量％的氮。

当保护层200b的氮含量小于约1.3重量％时，根据保护层200b的颜色的变化，可见性和导电性可能降低。此外，当保护层200b的氮含量大于约10重量％时，工艺效率可能劣化。

保护层200b可以具有颜色。例如，保护层200b可以具有基于黑色的颜色。例如，保护层200b可以具有诸如黑色和其中黑色与如白色的另一种颜色混合的黑混色的基于黑色的颜色。

保护层200b可以设置在导电层200a上以保护感测电极免受外来物质等的渗透。例如，保护层200b可以设置在感测电极的一个表面上以保护感测电极免受外来物质影响，从而防止感测电极被腐蚀或损坏。此外，可以防止感测电极被腐蚀和变色，使得变色的感测电极从外部不可见。也就是说，保护层200b可以是电极保护层。

此外，保护层200b可以包括基于黑色的颜色。因此，当感测电极由类似金属的材料形成时，可以防止由于金属的闪光特性从外部看到感测电极。也就是说，保护层200b可以是防反射层。

参照图7和图8，保护层200b可以被设置在导电层200a的另一个表面上。

参照图7，保护层200b可以被设置在导电层200a的下表面上。例如，保护层200b可以被设置在导电层200a的下表面上，并且可以与导电层200a直接或间接接触。

可替选地，参照图8，保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面和下表面上。例如，保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面和下表面上，并且可以与导电层200a直接或间接接触。

可替选地，尽管在附图中未示出，但是保护层200b可以被设置在导电层200a的至少一个侧表面上。

图9和图10是示出了根据本发明的第二实施方式的触摸窗的电极层的一个截面的图。图9和图10示出了感测电极。然而，在下面的描述中，电极层还可以包括除感测电极之外的线电极。

参照图9和图10，根据第二实施方式的触摸窗还可以包括中间层，即设置在基板100上的树脂层600。

参照图9，树脂层600可以包括第一图案610和第二图案620。第一图案610和第二图案620可以具有彼此不同的尺寸。具体地，第二图案620可以具有比第一图案610的尺寸更大的尺寸。例如，第一图案610的宽度可以具有纳米尺寸(nm)，并且第二图案620的宽度可以具有微米尺寸(μm)。

导电层200a可以被设置在第二图案620上。例如，形成导电层200a的导电材料被设置在第一图案610和第二图案620两者上，然后由于执行蚀刻工艺时由导电材料和第一图案610的接合区与导电材料和第二图案620的接合区之间的差异而引起的蚀刻速度的差异，使得导电材料能够保留在仅第二图案620上，因此使得导电层200a能够保留在仅第二图案620上。

上述保护层200b可以被设置在导电层200a上。图9示出了保护层200b被设置在仅导电层200a的上表面上的情形。然而，实施方式不限于此，并且保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面、下表面和侧表面中至少之一上。

参照图10，树脂层600可以包括图案P。例如，树脂层600可以包括凹入图案。

导电层200a可以被设置在图案P上。例如，导电层200a可以被设置在凹入图案内。

上述保护层200b可以被设置在导电层200a上。图10示出了保护层200b被设置在仅导电层200a的上表面上的情形。然而，实施方式不限于此，并且保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面、下表面和侧表面中至少之一上。

在下文中，将通过实施例和比较例对本发明进行更详细地描述。提供实施例仅是为了更详细地解释本发明。因此，本发明不限于这些实施例。

实施例和比较例

使用溅射装置在聚碳酸酯(PC)基底上形成铜(Cu)层。

在氩(Ar)环境中使用铜靶形成铜层，同时将溅射装置设置成0.5rpm、3mTorr的压力和1500W。

然后，当溅射装置的rpm、压力和电功率如表1所提供地设定并且氩(Ar)、氧(O₂)和氮(N₂)各自的流量也如表1中所提供地设定时，保护层被沉积。

在室温下测量保护层的颜色E1，并且将保护层放入温度约105℃的腔室中约72小时，然后从腔室取出，并且测量保护层的颜色E2。然后，测量保护层的颜色变化ΔE(ΔE＝E1-E2)。

表1

参考表1，可以理解，假设氮含量和铜含量的总和为100重量％，实施例1至实施例4中的氮含量为1.3重量％或大于1.3重量％。此外，可以理解，实施例1至实施例4中的保护层的颜色变化ΔE小。

此外，可以理解，假设氮含量和铜含量的总和为100重量％，比较例1和比较例2中的氮含量小于1.3重量％。此外，可以理解，比较例1和比较例2中的保护层的颜色变化ΔE大。

也就是说，在实施例1至实施例4的情况下，可以理解，由于相对于铜的氮含量为1.3重量％或大于1.3重量％，所以使保护层的颜色变化最小化。也就是说，在实施例1至实施例4的情况下，即使保护层暴露于高温下，也可以使保护层的变形最小化。

然而，在比较例1和比较例2的情况下，可以理解，由于相对于铜的氮含量小于1.3重量％，所以保护层的颜色变化增加。也就是说，在比较例1和比较例2的情况下，可以理解，当保护层暴露于高温时，保护层的变形变大。

因此，可以通过控制保护层的氮含量使保护层的颜色变化最小化，因此可以通过防止保护层的变形和腐蚀而容易地保护电极层，并且可以通过根据颜色变化防止电极层可见来增强触摸窗的可见性。

在下文中，将参照图6至图10对根据第三实施方式的触摸窗进行描述。可以省略与上述实施方式一致的描述，并且相似的附图标记表示相似或对应的元件。

图6至图8是示出了根据本发明的第三实施方式的触摸窗的电极层的一个截面的图。图6至图8示出了感测电极。然而，实施方式不限于此，并且在下面的描述中，电极层还可以包括除感测电极之外的线电极。

参照图6至图8，电极层200可以被设置在基板100上。电极层200可以包括导电层200a和保护层200b。

此外，导电层200a可以被设置成与基板100直接或间接接触。

保护层200b可以被设置在导电层200a的一个表面和另一个表面中至少之一上。例如，保护层可以被设置成与导电层200a的至少一个表面接触。

参照图6，保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面上。保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面上，并且可以与导电层200a直接或间接接触。具体地，导电层200a可以包括与基板100接触的一个表面和与该一个表面相对的另一个表面，并且保护层200b可以被设置在导电层200a的另一个表面上。

导电层200a和保护层200b可以包括彼此不同的金属层。

此外，导电层200a和保护层200b可以包含具有彼此不同的电阻的导电材料。

导电层200a和保护层200b可以是具有彼此不同的晶格常数的金属层。

例如，导电层200a可以包含铬(Cr)、镍(Ni)、铜(Cu)、铝(Al)、银(Ag)、钼(Mo)、金(Au)、钛(Ti)及其合金中至少之一。具体地，导电层200a可以包含铜(Cu)。

例如，保护层可以包含铌(Nb)。然而，实施方式不限于此，并且可以应用可以防止导电层200a氧化并且可以限制其反射性能的基于黑色的材料。

保护层200b可以具有颜色。例如，保护层200b可以包括基于黑色的颜基色。例如，保护层200b可以具有诸如黑色和其中黑色与如白色的另一种颜色混合的黑混色的基于黑色的颜色。

保护层200b可以被设置在导电层200a上以保护导电层200a免于外来物质等的渗透。例如，保护层200b可以被设置在导电层200a的一个表面上以保护导电层200a免受外来物质影响，从而防止导电层200a被腐蚀或损坏。

也就是说，保护层200b可以防止导电层200a被腐蚀和变色，使得变色的导电层200a从外部不可见。例如，保护层200b可以是导电层200a的防氧化层。

此外，保护层200b可以包括基于黑色的颜色。因此，当导电层200a由如金属的材料形成时，由于金属的闪光特性，可以防止导电层200a从外部可见。也就是说，保护层200b可以是防反射层。

此外，保护层200b可以具有导电性。也就是说，电极层200可以包括导电层200a和保护层200b，并且保护层200b可以具有导电性和基于黑色的颜色。

导电层200a和保护层200b可以具有彼此不同的厚度。具体地，导电层200a的厚度可以大于保护层200b的厚度。

例如，导电层200a的厚度可以为约100nm至约500nm。具体地，导电层200a的厚度可以为约150nm至约250nm。更具体地，导电层200a的厚度可以为约180nm至约200nm。

当导电层200a的厚度大于约500nm时，触摸窗的厚度会增加。

例如，保护层200b的厚度可以为约1nm至约30nm。具体地，保护层200b的厚度可以为约10nm至约30nm。更具体地，保护层200b的厚度可以为约20nm至约30nm。

当保护层200b的厚度小于约1nm时，导电层200a的防氧化性质和/或防反射性质可能劣化。

当保护层200b的厚度大于约30nm时，保护层200b变厚，从而可能发生蚀刻缺陷。

图9和图10是示出了根据本发明的第三实施方式的触摸窗的电极层的一个截面的图。图9和图10示出了感测电极。然而，在下面的描述中，电极层还可以包括除感测电极之外的线电极。

参照图9和图10，根据第三实施方式的触摸窗还可以包括中间层，即设置在基板100上的树脂层600。

参照图9，导电层200a可以被设置在第二图案620上。上述保护层200b可以被设置在导电层200a上。图9示出了保护层200b被设置在仅导电层200a的上表面上的情形。然而，实施方式不限于此，并且保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面、下表面和侧表面中至少之一上。

在根据第三实施方式的触摸窗中，由于保护层200b被设置在导电层200a的一个表面和另一个表面中至少之一上，所以可以防止导电层200a的氧化。此外，可以防止导电层200a由于其全反射性质的反射。因此，根据第三实施方式的触摸窗可以具有增强的可靠性和可见性。

在下文中，将参照图11至图15对根据第四实施方式的另一触摸窗进行描述。

图11至图13是示出了根据本发明的第四实施方式的另一触摸窗的电极层的一个截面的图。图11至图13示出了感测电极。然而，实施方式不限于此，并且在下面的描述中，电极层还可以包括除感测电极之外的线电极。

参照图11至图13，电极层200和缓冲层500可以被设置在基板100上。电极层200可以包括导电层200a和保护层200b。

此外，缓冲层500的一个表面可以被设置成与导电层200a接触，并且与该一个表面相对的另一个表面可以被设置成与保护层200b接触。

参照图11，保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面上。保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面上，并且缓冲层500可以被设置在导电层200a与保护层200b之间。具体地，导电层200a可以包括与基板100接触的一个表面和与该一个表面相对的另一个表面，并且保护层200b可以被设置在导电层200a的另一个表面上。

例如，缓冲层500可以被设置成与导电层200a的另一个表面直接接触，并且保护层200b可以被设置成与其间接接触。

例如，导电层200a和保护层200b可以包括与第三实施方式中的材料相同或相似的材料。

缓冲层500可以包含氧化物。

缓冲层500可以包含金属氧化物。例如，缓冲层500可以是包含与导电层200a的金属相同的金属的氧化物。

缓冲层500可以是包含与导电层200a的材料不同的材料的氧化物。例如，缓冲层500可以包含二氧化硅。

导电层200a、保护层200b和缓冲层500的晶格常数可以彼此不同。例如，缓冲层500的晶格常数可以具有导电层200a的晶格常数与保护层200b的晶格常数之间的值，并且因此可以缓解导电层200a与保护层200b之间的应力。

也就是说，具有导电层200a的晶格常数与保护层200b的晶格常数之间的值的缓冲层500被设置在导电层200a与保护层200b之间，因此可以减轻在导电层200a和保护层200b的接触界面处生成的应力。

例如，当导电层200a被设置在基板100上并且保护层200b被设置在导电层200a上时，导电层200a和保护层200b的膜可以由于彼此不同的材料以及晶格之间的差异而被去除，并且随着应力也增加，可能在基板100和/或电极层200处产生弯曲现象。

缓冲层500可以是应力释放层或应力分散层。也就是说，缓冲层500可以减轻在由不同材料形成的导电层200a与保护层200b之间的接触界面处生成的应力。因此，可以防止基板100和/或电极层200的变形。

例如，可以防止通过将电极层设置在柔性基板上而产生的基板100和/或电极层200的变形。

具体地，可以防止基板100收缩或卷曲。此外，可以防止在电极层200的表面上产生小丘或皱褶。

导电层200a、保护层200b和缓冲层500可以具有彼此不同的厚度。导电层200a的厚度可以大于保护层200b的厚度。导电层200a的厚度可以大于缓冲层500的厚度。

例如，保护层200b的厚度可以大于缓冲层500的厚度。

例如，导电层200a和保护层200b的厚度可以与第一实施方式中的相同或相似。

例如，缓冲层500的厚度可以为约1nm至30nm。具体地，缓冲层500的厚度可以为约1nm至20nm。更具体地，缓冲层500的厚度可以为约10nm至20nm。

当缓冲层500的厚度小于约1nm时，基板100可能弯曲或卷起，因此难以均匀地形成电极层200。

当缓冲层500的厚度大于约30nm时，触摸窗的电特性可能劣化。

参照图12和图13，保护层200b可以被设置在导电层200a的另一个表面上。

参照图12，保护层200b可以被设置在导电层200a的下表面上。例如，保护层200b可以被设置在导电层200a的下表面上，并且缓冲层500可以被设置在导电层200a与保护层200b之间。

可替选地，参照图13，保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面和下表面上。例如，保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面和下表面上，并且缓冲层500可以被设置在导电层200a与保护层200b之间。

图14和图15是示出了根据本发明的第四实施方式的触摸窗的电极层的一个截面的图。图14和图15示出了感测电极。然而，在下面的描述中，电极层还可以包括除了感测电极之外的线电极。

参照图14和图15，根据第四实施方式的触摸窗还可以包括中间层，即设置在基板100上的树脂层600。

参照图14，树脂层600可以包括第一图案610和第二图案620。第一图案610和第二图案620可以具有彼此不同的尺寸。具体地，第二图案620可以具有比第一图案610的尺寸更大的尺寸。例如，第一图案610的宽度可以具有纳米尺寸(nm)，并且第二图案620的宽度可以具有微米尺寸(μm)。

上述保护层200b可以被设置在导电层200a上，并且上述缓冲层500可以被设置在导电层200a与保护层200b之间。图14示出了保护层200b被设置在仅导电层200a的上表面上的情形。然而，实施方式不限于此，并且保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面、下表面和侧表面中至少之一上。

参照图15，树脂层600可以包括图案P。例如，树脂层600可以包括凹入图案。

上述保护层200b可以被设置在导电层200a上，并且上述缓冲层500可以被设置在导电层200a与保护层200b之间。图15示出了保护层200b被设置在仅导电层200a的上表面上的情形。然而，实施方式不限于此，并且保护层200b可以被设置在导电层200a的上表面、下表面和侧表面中至少之一上。

在根据第四实施方式的触摸窗中，由于保护层200b被设置在导电层200a的一个表面和另一个表面中至少之一上，因此可以防止导电层200a的氧化。此外，可以防止导电层200a由于其全反射特性的反射。因此，根据第四实施方式的触摸窗可以具有增强的可靠性和可见性。

此外，在根据第四实施方式的触摸窗中，由于缓冲层500被设置在导电层200a与保护层200b之间，所以可以防止基板100和/或电极层200的变形。因此，根据第四实施方式的触摸窗可以具有增强的可靠性。

将参照图16至图19对根据第一实施方式、第二实施方式、第三实施方式和第四实施方式的各种类型的触摸窗进行描述。

参照图16，根据实施方式的触摸窗可以包括盖基板101。此外，第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在盖基板101上。

例如，第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在盖基板101的一个表面上。具体地，第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在盖基板101的同一表面上。

沿彼此不同的方向延伸的第一感测电极210和第二感测电极220以及连接到第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个的线电极300可以被设置在盖基板101的同一表面上，并且第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在盖基板101的同一表面上以彼此间隔或彼此绝缘。也就是说，第一感测电极210可以在一个方向上延伸，并且第二感测电极220可以在与该一个方向不同的方向上延伸。

参照图17，根据实施方式的触摸窗可以包括盖基板101和盖基板101上的基板100。

此外，第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在基板100上。

例如，第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在基板100的一个表面上。具体地，第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在基板100的同一表面上。

沿彼此不同的方向延伸的第一感测电极210和第二感测电极220以及连接到第一感测电极210和第二感测电极220中的每一个的线电极300可以被设置在基板100的同一表面上，并且第一感测电极210和第二感测电极220可以被设置在基板100的同一表面上以彼此间隔或彼此绝缘。也就是说，第一感测电极210可以在一个方向上延伸，并且第二感测电极220可以在与该一个方向不同的方向上延伸。

参照图18，根据实施方式的触摸窗可以包括盖基板101和在盖基板101上的基板100。

此外，第一感测电极210可以被设置在盖基板101上，并且第二感测电极220可以被设置在基板100上。基板100可以包含与盖基板101的材料相同或相似的材料。

具体地，沿一个方向延伸的第一感测电极210和连接到第一感测电极210的线电极300可以被设置在盖基板101的一个表面上，并且沿与第一感测电极210的方向不同的方向延伸的第二感测电极220和连接到第二感测电极220的线电极300可以被设置在基板100的一个表面上。

可替选地，第一感测电极210和第二感测电极220两者可以被设置在基板100上。例如，第一感测电极210可以被设置在基板100的一个表面上，并且第二感测电极220可以被设置在基板100的与该一个表面相对的另一个表面上。

参照图19，根据实施方式的触摸窗可以包括盖基板101、在盖基板101上的第一基板110和在第一基板110上的第二基板120。

此外，第一感测电极210可以被设置在第一基板110上，并且第二感测电极220可以被设置在第二基板120上。

具体地，沿一个方向延伸的第一感测电极210和连接到第一感测电极210的线电极300可以被设置在第一基板110的一个表面上，并且沿与第一感测电极210的方向不同的方向延伸的第二感测电极220和连接到第二感测电极220的线电极300可以被设置在第二基板120的一个表面上。

在下文中，将参照图20至图22对上述触摸窗被耦接到显示面板的触摸装置进行描述。

参照图20，根据实施方式的触摸装置可以包括显示面板800和设置在显示面板800上的触摸窗。例如，显示面板800和触摸窗可以通过包括光学透明粘合剂(OCA)的粘合剂层700彼此接合和耦接。

例如，图20示出了以下情形：具有盖基板101和基板100，并且盖基板101和基板100通过粘合剂层700接合，并且第一感测电极210和第二感测电极220被设置在基板100上以彼此间隔开的触摸窗以及显示面板800通过粘合剂层700接合。然而，实施方式不限于此，并且可以将根据前述各个实施方式的触摸窗接合到显示面板800。

当显示面板800是液晶显示面板时，显示面板800可以形成为以下结构：包括薄膜晶体管(TFT)和像素电极的第一基板810和包括滤色器层的第二基板820在其间插入有液晶层的情况下彼此接合。

此外，显示面板800可以是具有在第一基板810上形成有TFT、滤色器和黑矩阵的晶体管上滤色器(COT)的液晶显示面板，并且第二基板820接合到第一基板810，其中，其间插入液晶层。也就是说，TFT可以形成在第一基板810上，并且保护膜可以形成在TFT上，并且滤色器层可以形成在保护层上。此外，与TFT接触的像素电极被形成在第一基板810上。在此，为了提高开口率并简化掩模工艺，可以省略黑矩阵，并且公共电极可以执行黑矩阵的功能。

此外，在显示面板800是液晶显示面板的情况下，显示装置还可以包括从显示面板800的背表面提供光的背光单元。

在显示面板800是有机电致发光显示面板的情况下，显示面板800可以包括不需要单独的光源的自发光装置。在显示面板800中，TFT可以形成在第一基板810上，并且可以形成与TFT接触的有机发光装置。有机发光装置可以包括阳极、阴极和形成在阳极与阴极之间的有机发光层，并且还可以包括第二基板820，所述第二基板820用作用于在有机发光装置上的封装的封装基板。

参照图21，根据另一实施方式的触摸装置可以包括与显示面板一体形成的触摸窗。也就是说，可以省略支承至少一个电极的基板。

具体地，至少一个感测电极可以被设置在显示面板800的至少一个表面上。显示面板800可以包括第一基板810和第二基板820。也就是说，至少一个感测电极可以被设置在第一基板810和第二基板820中至少之一的一个表面上。

参照图21，第一感测电极210可以被设置在显示面板800的上表面上。此外，可以设置连接到第一感测电极210的第一导线。其上设置有第二感测电极220和第二导线的基板100可以形成在其上设置有第一感测电极210的显示面板800上。粘合剂层700可以被设置在基板100与显示面板800之间。

实施方式不限于附图，并且可以应用以下的任意结构：第一感测电极210形成在显示面板800的上表面上；支承第二感测电极220的基板100被设置在显示面板800上；以及基板100接合到显示面板800。

此外，基板100可以是偏振片。也就是说，第二感测电极220可以形成在偏振片的上表面或背表面上。因此，第二感测电极220可以与偏振片一体形成。

此外，偏振片可以与基板100分开地被包括。在此，偏振片可以被设置在基底100下面。例如，偏振片可以被设置在基板100与显示面板800之间。此外，偏振片可以被设置在基板100上方。

偏振片可以是线性偏振片或防外部光反射的偏振片。例如，当显示面板800是液晶显示面板时，偏振片可以是线性偏振片。此外，当显示面板800是有机电致发光显示面板时，偏振片可以是防外部光反射偏振片。

参照图22，根据又一实施方式的触摸装置可以包括与显示面板一体地形成的触摸面板。

例如，可以将设置在有效区处用作用于感测触摸的传感器的感测电极和将电信号施加到感测电极的导线设置在显示面板内。具体地，可以将至少一个感测电极或至少一个导线设置在显示面板内。

显示面板可以包括第一基板810和第二基板820。在此，第一感测电极210和第二感测电极220中至少之一可以被设置在第一基板810与第二基板820之间。也就是说，至少一个感测电极可以形成在第一基板810或第二基板820的至少一个表面上。

参照图22，第一感测电极210和第一导线可以被设置在第一基板810与第二基板820之间。此外，第二感测电极220和第二导线可以被设置在盖基板101上。盖基板101可以被设置在包括第一基板810和第二基板820的显示面板上。也就是说，第一感测电极210和第一导线可以被设置在显示面板内，并且第二感测电极220和第二导线可以被设置在显示面板外。

可以将第一感测电极210和第一导线设置在第一基板810的上表面或第二基板820的背表面上。此外，可以将粘合剂层设置在盖基板101与显示面板之间。

实施方式不限于附图，而是可以应用以下的任意结构：第一感测电极210和第一导线被设置在显示面板内，并且第二感测电极220和第二导线被设置在显示面板外。

此外，盖基板101可以是偏振片。也就是说，第二感测电极220可以形成在偏振片的上表面或背表面上。因此，第二感测电极220可以与偏振片一体形成。

此外，偏振片可以与盖基板101分开地被包括。在此，偏振片可以被设置在盖基板101下面。例如，偏振片可以被设置在盖基板101与显示面板800之间。此外，偏振片可以被设置在盖基板101上方。

在显示面板是液晶显示面板并且感测电极形成在第一基板810的上表面上的情况下，感测电极可以与TFT或像素电极一起形成。此外，在感测电极形成在第二基板820的背表面上的情况下，在感测电极上可以形成滤色器层，或者感测电极可以形成在滤色器层上。在显示面板是有机电致发光显示面板并且感测电极形成在第一基板810的上表面上的情况下，感测电极可以与TFT或有机发光装置一起形成。

在下文中，将参照图23至图26对应用根据上述实施方式的触摸窗的显示装置的示例进行描述。

参照图23，移动终端被示出为触摸装置的示例。移动终端可以包括有源区AA和无源区UA。有源区AA可以通过手指等的触摸来感测触摸信号，并且可以在无源区UA处形成命令图标图案部分、标志等。

参照图24，触摸窗可以包括柔性触摸窗。因此，包括这样的触摸窗的触摸装置可以是柔性触摸装置。因此，触摸装置可能被用户卷曲或弯曲。

参照图25，触摸窗不仅可以应用于如移动终端的触摸装置，而且可以应用于车辆导航系统。

此外，参照图26，触摸窗可以应用在车辆内部。也就是说，触摸窗可以应用于可以应用触摸窗的车辆中的各种部件。因此，触摸窗不仅可以应用于个人导航显示器(PND)，而且可以应用于仪表板，并且因此可以实现中心信息显示(CID)。然而，实施方式不限于此，并且触摸装置可以用在各种电子产品中。

即使实施方式的所有元件被耦接成一个或以组合状态操作，但是本公开内容不限于这样的实施方式。也就是说，在不脱离本发明的范围的情况下，所有元件可以选择性地彼此组合。此外，当描述一个包括(或包括或具有)一些元件时，如果没有具体限制，则应当理解它可以包括(或包括或具有)仅那些元件，或者它可以包括(或包括或具有)其它元件以及那些元件。除非本文另有具体定义，否则包括技术或科学术语的所有术语将被给予本领域技术人员所理解的含义。除非本文另有明确定义，否则与词典中定义的术语类似，通常使用的术语需要被解释为技术上下文中使用的含义，并且不被解释为理想的或过度正式的含义。

尽管已经参考其多个说明性实施方式描述了实施方式，但是本领域技术人员将理解，在不脱离由所附权利要求限定的本发明的范围的情况下，可以在其中进行形式和细节上的各种改变。因此，优选实施方式应当被认为是仅描述性的，而不是出于限制的目的，并且本发明的技术范围也不限于这些实施方式。此外，本发明不是由本发明的详细描述而是由所附权利要求限定的，并且该范围内的所有差异将被解释为包括在本公开内容中。

Claims

1.一种触摸窗，包括：

基板；

树脂层，其设置在所述基板上并且包括第一图案和第二图案；

设置在所述第二图案上的电极层，

其中，所述电极层包括具有比所述第二图案的宽度小的宽度的导电层；以及

形成为围绕所述导电层的上表面和侧表面的第一保护层。

2.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述第一保护层形成为与所述第二图案的上表面接触。

3.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述第一保护层被设置成与所述第二图案的侧表面间隔开。

4.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述电极层的宽度等于或小于所述第二图案的宽度。

5.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，所述第一保护层形成为黑化材料层。

6.根据权利要求1所述的触摸窗，其中，还包括形成为与所述导电层的下表面接触的第二保护层，并且所述第一保护层和所述第二保护层被设置成围绕所述导电层的上表面、侧表面和下表面。

7.根据权利要求6所述的触摸窗，其中，所述第一保护层和所述第二保护层由相同的材料形成。

8.一种触摸窗，包括：

基板，其包括有效区和无效区；以及

形成在所述基板上的电极层，

其中，所述电极层包括导电层和形成在所述导电层上的保护层，并且所述保护层包含金属氮化物，并且就整个金属氮化物而言包含1.3重量％或大于1.3重量％的氮。

9.根据权利要求8所述的触摸窗，其中，所述金属包括铬(Cr)、镍(Ni)、铜(Cu)、铝(Al)、银(Ag)、钼(Mo)、金(Au)、钛(Ti)及其合金中至少之一。

10.根据权利要求8所述的触摸窗，其中，就整个金属氮化物而言包含1.3重量％至4重量％的氮。

11.根据权利要求8所述的触摸窗，其中，所述保护层设置在所述导电层的一个表面和另一个表面中至少之一上。

12.根据权利要求8所述的触摸窗，其中，所述导电层包括与所述基板接触的一个表面和与所述一个表面相对的另一个表面，并且

所述保护层被设置在所述导电层的所述另一个表面上。

13.根据权利要求8所述的触摸窗，其中，所述金属包括与所述导电层彼此对应的材料。

14.一种触摸窗，包括基板和设置在所述基板上的电极层，

其中，所述电极层包括导电层和设置在所述导电层的至少一个表面上的保护层，并且

所述保护层包含铌(Nb)。

15.根据权利要求14所述的触摸窗，其中，所述保护层被设置在所述导电层的两个表面上。

16.根据权利要求14所述的触摸窗，其中，所述保护层的厚度为1nm至30nm。

17.根据权利要求14所述的触摸窗，还包括被设置在所述导电层与所述保护层之间的缓冲层。

18.根据权利要求17所述的触摸窗，其中，所述保护层被设置在所述导电层的两个表面上，并且

所述缓冲层被设置在所述导电层与所述保护层之间。

19.根据权利要求17所述的触摸窗，其中，所述缓冲层的厚度为1nm至30nm。

20.根据权利要求8或14所述的触摸窗，其中，所述电极层包括感测电极和连接至所述感测电极的线电极，并且

所述感测电极和所述线电极中至少之一包括网形状。