CN106537631A - 照明装置、用于制造照明装置的方法 - Google Patents
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Abstract
在不同的实施例中提供一种照明装置（100），所述照明装置（100）包括：具有载体（102）的衬底（130）；在载体（102）上或上方的第一电汇流排（108‑1）；在载体（102）上或上方的第二电汇流排（108‑2）；载体（102）上或上方的光学功能结构（104），其中光学功能结构（104）构造在第一电汇流排（108‑1）与第二电汇流排（108‑2）之间；以及在衬底（130）上或上方的有机功能层结构（412），其中有机功能层结构（412）被构造用于将电流转变成电磁辐射；以及在有机功能层结构（412）上或上方的第二电极（414）；其中光学功能结构（104）被构造为使得穿过衬底（130）的电磁辐射的光路和/或电磁辐射的谱是可改变的。
Description
技术领域
在不同的实施方式中提供一种照明装置以及一种用于制造照明装置的方法。
背景技术
在制造电子器件时，印刷工艺获得了越来越大的意义。特别地，印刷用于有机发光二极管（organic light emitting diode （有机发光二极管）- OLED）的衬底对于不同的OLED设计而言是具有用于降低成本和用于使制造灵活化的高潜力的领域。
常规的OLED衬底在衬底上方具有电汇流排（busbar（母线））和内部耦合输出层（internal extraction layer（内部提取层） - IEL）。在衬底上方构造阳极和阴极，其中在阳极与阴极之间具有有机功能层系统。有机功能层系统可以具有：一个或多个发射体层，在所述发射体层中生成电磁辐射；一个或多个载流子对生成层结构，所述载流子对生成层结构由分别两个或更多个用于生成载流子对的载流子对生成层（“Charge generating layer（电荷生成层），CGL”）构成；以及也称为空穴传输层（“hole transport layer（空穴传输层）”-HTL）的一个或多个电子封锁层和也称为电子传输层（“electron transport layer（电子传输层）”- ETL）的一个或多个空穴封锁层，用以对电流进行调整（richten）。
常规而言，电汇流排被沉积在阳极上或者被放入衬底中。在衬底中对所放入的电汇流排的制造是相对昂贵的并且对于不同的OLED设计是不灵活的。
在载体上方的其它层的材料在电汇流排处积聚，所述材料在进一步的湿法涂覆中被施加在载体上方。此外，凸出的电汇流排隐藏了由于沉积在其上方的电功能层、也即阳极、阴极和有机功能层系统中的层厚不均匀性而造成的短路风险。因此常规而言，对于凸出的电汇流排，需要要以昂贵的方式`处理的、横向结构化的绝缘覆层以用于平坦化，例如利用光刻胶。
发明内容
在不同的实施方式中提供一种照明装置和一种用于制造照明装置的方法，利用所述照明装置和方法，可以实现新颖的衬底方案。所述新颖的方案之一是，将电汇流排（busbar（母线））和光学功能结构、例如内部耦合输出层（internal extraction layer（内部提取层） - IEL）一起置于在一个层面内。由此可以以简单和有效的方式将汇流排结构与光学功能结构相组合。由此，衬底可以是平整的并且无凸出的结构。
在不同的实施方式中提供根据权利要求1所述的照明装置以及根据权利要求12所述的用于制造照明装置的方法。
在不同的实施方式中，提供一种照明装置。该照明装置包括：具有载体的衬底；在该载体上或上方的第一电汇流排；在该载体上或上方的第二电汇流排；以及在该载体上或上方的光学功能结构。光学功能结构被构造在第一电汇流排与第二电汇流排之间。有机功能层结构被构造在衬底上或上方，其中有机功能层结构被构造用于将电流转变成电磁辐射。第二电极被构造在有机功能层结构上或上方。光学功能结构被构造为使得穿过衬底的电磁辐射的光路和/或电磁辐射的谱可以被改变。
载体可以被构造为对于电磁辐射的至少一部分、例如在可见波长范围中是透明的或半透明的。
汇流排是用于汇集和传递电能的线形导线。线形导线可以式一次或多次弯曲的、折叠的、曲折的、盘绕的或者是直的。
在不同的扩展方案中，第一电汇流排和第二电汇流排例如在具有两个或更多个彼此平行走向的导线或导线片段的情况下可以是唯一电汇流排的不同导线或者导线片段。可替代地，第一电汇流排和第二电汇流排可以是彼此电绝缘的电汇流排或导线。彼此电绝缘的电汇流排或导线可以被构造为使得它们例如可以在照明装置的运行中具有相同或不同的电势。
第一电汇流排以与第二电汇流排相隔一定距离的方式来构造。第一电汇流排在载体上或上方被构造在第二电汇流排旁边。
在不同的扩展方案中，至少一个电汇流排可以平面地布置或构造在载体上，其例如具有平行印制线，例如以曲折、螺旋、网或栅格形式。由此，例如可以借助于唯一的电汇流排在电极的大区域上、例如在电极的整个面上实现电流分布。
在不同的扩展方案中，第一电汇流排和第二电汇流排可以是电流分布结构的部分。换言之：在不同的扩展方案中，衬底具有电流分布结构，其中电流分布结构具有至少一个电汇流排。
在不同的扩展方案中，电流分布结构可以具有两个或更多个电汇流排，其中所述多个电汇流排具有以栅格结构、网结构或以平行印制线形式的布置。栅格结构或网结构例如可以平面地被构造在载体上。
光学功能结构可以具有透明或半透明物质或由其构成。光学功能结构被构造为使得其降低衬底的暴露的表面的粗糙度，例如使具有汇流排的衬底表面被平坦化或平整化。换言之：借助于光学功能结构，可以均衡或减少借助于汇流排构造的“宏观粗糙度”。光学功能结构应当基本上不降低或均衡载体的固有粗糙度。
可替代地，应当借助于双材料系统（也称为双层层堆叠）将处于下方的材料通过处于其上方的材料来平坦化。例如，可以将基于颗粒的散射薄膜借助于处于其上方的、不具有颗粒的层来平坦化。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以具有介电物质或由其构成。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以具有导电物质或由其构成。
在一个扩展方案中，导电光学功能结构可以具有基质中的掺杂物质或由其构成。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以被构造为在第一电汇流排与第二电汇流排之间的电绝缘体，或者具有这样的电绝缘体。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以具有基质中的颗粒。
所述颗粒可以被构造为对于可见光是非散射性的。
可替代地或附加地，光学功能结构可以具有颗粒，所述颗粒被构造为对于可见光是散射性的。
该基质例如可以被构造为非晶的、例如被构造为玻璃。基质可以具有成型原料和/或浇注材料或者由其构成。
所述颗粒可以在基质中被分布为使得光学功能结构在电磁辐射的可见波长范围中与电有源区和/或载体具有层厚取平均的折射率差异，所述折射率差异大于0.05。
在不同的扩展方案中，颗粒可以具有至少部分地吸收电磁辐射的材料、例如波长转换材料、例如发光物质或染料，或者由其构成。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以具有至少一个第一层和第二层。第一层和第二层可以相同或不同地来构造。
在一个扩展方案中，光学功能结构可以被构造为镜结构、例如光子晶体。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以具有基本上均匀的横断面。
在不同的扩展方案中，光学功能层结构可以侧向地被构造在第一电汇流排与第二电汇流排之间。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以被构造为使得第一电汇流排和第二电汇流排例如在衬底的表面暴露，例如以便暴露的电汇流排可以被电接触。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以被构造为使得光学功能结构过度填充第一电汇流排和/或第二电汇流排。光学功能结构的过度填充的部分例如可以例如至少在被过度填充的汇流排的区域中具有或构造基本上平滑的表面。
在不同的扩展方案中，衬底在光学功能结构与第一电汇流排和/或第二电汇流排之间可以具有电绝缘体。电绝缘体可以被构造为使得光学功能结构至少与所述电汇流排之一电绝缘。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以被构造为关于电磁辐射的耦合结构，例如可见波长范围中，例如被构造为耦合输入结构或耦合输出结构。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以具有至少一个如下区域：例如对于某一波长范围和/或某一偏振方向，例如在可见波长范围中，例如对于非偏振光，所述区域被构造为用于电磁辐射的至少一部分的波导。
在不同的扩展方案中，例如对于至少一个波长范围和/或偏振方向，光学功能结构可以被构造为电磁辐射的滤光器结构，例如对于UV辐射和/或红外辐射而言被构造为带通滤光器、长通滤光器、短通滤光器或者截止滤光器。
在不同的扩展方案中，例如对于至少一个波长范围，例如在可见波长范围中，光学功能结构可以被构造为抗反射覆层。
在不同的扩展方案中，光学功能结构可以被构造为波长转换结构。波长转换结构例如具有染料或发光物质。
在不同的扩展方案中，照明装置还可以具有第一电极，其中第一电极被构造在衬底与有机功能层结构之间。
可替代地或附加地，照明装置可以具有第一电极，所述第一电极被构造在光学功能结构与第一电汇流排和/或第二电汇流排之间。可替代地或附加地，第一电极可以被构造在载体与第一电汇流排和/或第二电汇流排之间。
在不同的扩展方案中，第一电汇流排和第二电汇流排可以在载体上方被构造在第一电极上。可替代地或附加地，光学功能结构可以在载体上方被构造在第一电极上。
在不同的扩展方案中，第一电极可以被构造在第一电汇流排、第二电汇流排和/或光学功能结构上。
在不同的扩展方案中，第一电汇流排可以与第二电汇流排电绝缘；并且第一电汇流排可以与第一电极电耦合，并且第二电汇流排可以与第二电极电耦合。
电流分布结构例如可以以第一电汇流排和/或第二电汇流排的形式具有一个或多个导线，所述导线沿着衬底的表面、例如沿着衬底与第一电极和/或有机功能层结构的界面延伸。
在不同的实施方式中，提供一种用于制造照明装置的方法。该方法包括构造衬底。构造衬底包括：提供载体；在载体上或上方构造第一电汇流排；在载体上或上方构造第二电汇流排；以及在载体上或上方构造光学功能结构。光学功能结构、第一电汇流排和第二电汇流排被构造为使得光学功能结构在载体上或上方被构造在第一电汇流排与第二电汇流排之间。此外，用于制造照明装置的方法包括：在载体上或上方构造有机功能层结构，其中有机功能层结构被构造用于将电流转变成电磁辐射；以及在有机功能层结构上构造第二电极。光学功能结构被构造为使得穿过衬底的电磁辐射的光路和/或电磁辐射的谱可以被改变。
对光路和/或谱的改变可以涉及不具有光学功能结构的照明装置。可替代地或附加地，对光路和/或谱的改变可以涉及例如在具有偏振或可偏振物质的光学功能结构的情况下改变光学功能结构的运行状态。
在不同的扩展方案中，第一电汇流排和第二电汇流排可以被构造在光学功能结构中。
可替代地，光学功能结构可以被构造在第一电汇流排与第二电汇流排之间。
在不同的扩展方案中，光学功能结构、第一电汇流排和/或第二电汇流排可以以一个或多个分层的方式被沉积在载体上或上方。第一分层和直接构造在第一分层上的第二分层可以由相同物质或不同物质构造。
光学功能结构可以被构造为使得其作为用于构造第一电汇流排和/或第二电汇流排的支撑结构起作用，例如横向地包围或成形构造有第一支撑结构和第二支撑结构的区域。
在一个扩展方案中，该方法可以包括：在衬底上或上方构造第一电极，其中有机功能层结构被构造在第一电极上或上方。
在不同的扩展方案中，用于制造照明装置的方法可以具有照明装置的特征；并且照明装置可以具有用于制造照明装置的方法的特征，其方式和程度为使得这些特征分别可以有意义地被应用。
附图说明
本发明的实施例在图中予以示出并且在下面予以进一步阐述。
图1示出根据不同实施例的照明装置的区域的示意图；
图2示出根据不同实施例的照明装置的区域的示意图；
图3示出根据不同实施例的照明装置的区域的示意图；
图4示出根据不同实施例的照明装置的区域的示意图；
图5A-D示出照明装置的区域的不同实施例的示意图；和
图6示出根据不同实施例的用于制造照明装置的方法的示意图。
具体实施方式
在下面详尽的描述中，参考附图，所述附图构成所述描述的一部分并且在所述附图中为了阐释而示出了能够执行本发明的特定实施方式。在此方面，诸如“在上面”、“在下面”、“在前面”、“在后面”、“前面的”、“后面的”等等方向术语与所描述的（多个）图的取向有关地被使用。由于实施方式的组件可以在多个不同的取向上来定位，因此方向术语用于阐释并且丝毫不是限制性的。能够理解，可以利用其它实施方式并且进行结构上或逻辑上的改变，而不偏离本发明的保护范围。能够理解，只要未特定地另行说明，在此描述的不同示例性实施方式的特征可以被彼此组合。因此，下面的详尽描述不应在限制性意义上来理解，并且本发明的保护范围由所附权利要求书来限定。
在所述描述的范围内，术语“连接”、“连接上”以及“耦合”被用于描述直接以及间接连接、直接或间接接线、以及直接或间接耦合。只要这是适宜的，在图中给相同的或相似的元件配备相同的附图标记。
在不同的实施方式中描述了照明装置，其中照明装置具有光学有源区（optischaktiven Bereich）。光学有源区可以借助于在光学有源区处所施加的电压发射电磁辐射。在不同的实施方式中，照明装置可以被构造为使得电磁辐射具有包括X射线辐射、UV辐射（A-C）、可见光和/或红外辐射（A-C）的波长范围。
照明装置例如可以被构造为发光二极管（light emitting diode（发光二极管）,LED）、有机发光二极管（organic light emitting diode（有机发光二极管）, OLED）、发光晶体管或者有机发光晶体管、例如有机场效应晶体管（organic field effect transistor（有机场效应晶体管），OFET）和/或有机电子设备。此外，可以设置多个发射电磁辐射的器件、例如其被安置在共同的壳体中。照明装置可以具有有机功能层系统，所述有机功能层系统同义地也被称为有机功能层结构。有机功能层结构可以具有有机物质或者有机物质混合物或者由所述有机物质或有机物质混合物构成，所述有机物质/有机物质混合物例如被设立用于从所提供的电流中发射电磁辐射，例如在电流路径中具有电致发光物质或者电致发光物质混合物。
照明装置、例如有机发光二极管可以被构造为所谓顶部发射体和/或所谓底部发射体。在底部发射体的情况下，电磁辐射从电有源区中穿过载体被发射。在顶部发射体的情况下，电磁辐射从电有源区的上侧被发射并且不穿过载体。
顶部发射体和/或底部发射体也可以被构造为光学透明或者光学半透明的，例如随后描述的层或者结构中的每一个对于所吸收或所发射的电磁辐射而言可以被构造为透明的或半透明的或者是透明的或半透明的。
术语“半透明的”或“半透明层”可以在不同的实施例中被理解为：层对于光、例如对于例如一个或多个波长范围的由发光器件生成的光、例如对于可见光的波长范围中的光（例如至少在380nm至780nm的波长范围子范围中）是可透过的。例如，术语“半透明层”在不同的实施例中应当被理解为：在耦合输入到结构（例如层）中的全部光量基本上也从该结构（例如层）中被耦合输出，其中所述光的一部分在此情况下可能被散射。
术语“透明的”或“透明层”在不同的实施例中可以被理解为：层对于光是可透过的（例如至少在380nm至780nm的波长范围子范围中），其中被耦合输入到结构（例如层）中的光在没有散射或光转换的情况下也从该结构（例如层）中被耦合输出。
在不同的实施例中，例如对于被构造为滤光器结构或者为了表示信息而以被染色的方式构造的光学功能结构，光学功能结构可以具有一种染料或多种染料或者由所述一种染料或多种染料构成。染料可以是化学化合物或色素，所述色素可以将结构着色、即针对一波长范围、例如可见波长范围改变外观。染料例如可以是例如下列物质类别之一的有机染料：吖啶、吖啶酮、蒽醌、蒽、花青、丹酰、方酸菁（Squaryllium）、螺吡喃、硼-二吡咯甲烷（BODIPY）、二萘嵌苯、芘、萘、黄素、吡咯、卟啉（Porphrine）及其金属络合物、二芳甲烷、三芳甲烷、硝基、亚硝基、酞菁及其金属络合物、醌、偶氮、靛酚、嗪、噁酮、噻嗪和噻唑、氧杂蒽、芴、荧光酮（Flurone）、焦宁、罗丹明、香豆素、金属茂络合物。可替代地，染料至少之一可以具有无机物质或由所述无机物质构成，所述无机物质来自来该组无机染料类别、无机染料衍生物或无机染料色素：过渡金属、稀土氧化物、硫化物、氰化物、氧化铁、硅酸锆、钒酸铋、氧化铬。可替代地，染料至少之一可以具有纳米颗粒、例如碳、例如炭黑、金、银、铂或由其构成。
在不同的实施例中，光学功能结构可以具有一种或多种发光物质或者所述一种或多种发光物质构成。所述至少一种发光物质借助于电磁辐射的至少一部分以能量方式被激发。在随后的能量式退激发（Abregen）的情况下，发光物质发射一个或多个预先给定的波长谱、例如光色的电磁辐射。因此发生电磁辐射的转换。在转换的情况下，电磁辐射的被吸收部分的波长被推移成更短或更长的波长。光色可以是单色或混合色。单色例如可以具有绿、红或黄光，和/或混合色例如可以由绿、红和/或黄光混合而成，和/或例如具有白光。从第一波长的电磁辐射构成第二波长的电磁辐射被称为波长转换。波长转换在照明装置中被用于颜色转变，例如用于简化白光的生成。在此，例如将蓝光转换成黄光。由蓝光和黄光组成的颜色混合构成白光。发光物质因此是以下物质，该物质有损耗地例如借助于磷光或荧光将一种波长的电磁辐射转变成另一波长、例如较长波长（ 斯托克斯位移）或较短波长（反斯托克斯位移）的电磁辐射。所述至少一种发光物质例如可以是或者具有下列物质中的物质：石榴石、氮化物、硅酸盐、氧化物、磷酸盐、硼酸盐、氮氧化合物、硫化物、硒化物、铝酸盐、钨酸盐以及铝、硅、镁、钙、钡、锶、锌、镉、锰、铟、钨和其它过渡金属或诸如钇、钆或镧的稀土金属的卤化物，其掺杂有活化剂、诸如铜、银、铝、锰、锌、锡、铅、铈、铽、钛、锑或铕。在不同的实施方式中，发光物质可以具有氧化或氮（氧）化发光物质、诸如石榴石、正硅酸盐、氮（铝）硅酸盐、氮化物或者氮正硅酸盐或者卤化物或卤化磷酸盐、例如 掺杂Ce3+的石榴石、诸如YAG:Ce和LuAG、例如(Y,Lu)3(Al,Ga)5O12:Ce3+；掺杂Eu2+的氮化物、例如CaAlSiN3:Eu2+、(Ba,Sr)2Si5N8:Eu2+；掺杂Eu2+的硫化物、SIONe、SiA1ON、正硅酸盐、例如(Ba,Sr)2SiO4:Eu2+；氯硅酸盐、氯磷酸盐和/或BAM（钡镁铝酸盐:Eu）或由其构成。合适的发光物质的具体示例是锶氯磷灰石:Eu((Sr,Ca)5(PO4)3Cl:Eu; SCAP)、钇铝石榴石:Cer(YAG:Ce)或者CaAlSiN3:Eu。另外，在发光物质或发光物质混合物中例如可以包含有具有光散射特性的颗粒和/或助剂。助剂的示例包括表面有源剂和有机溶剂。光散射颗粒的示例是金、银和金属氧化物颗粒。
照明装置的有机组成部分、例如有机发光二极管（organic light emittingdiode（有机发光二极管）， OLED）常常对于日光的UV辐射（具有大约400nm以下波长的辐射）是易受影响的，因为该辐射例如借助于在270-290kJ/mol（E380nm-400nm大约290-305kJ/mol）时例如C-O-O-H化学键的断裂和/或交联而可能导致有机组成部分的老化或降级。在不同的实施例中，光学功能结构因此可以被构造为UV滤光器、例如具有吸收UV的物质。由此，有机功能层结构可以被保护免受UV辐射。
吸收UV的物质可以至少在一个波长范围中对于具有小于大约400nm波长的电磁辐射而言减少透射。较小的UV透射例如可以借助于借助吸收UV的添加物对UV辐射的较高吸收和/或反射和/或散射来构造。在不同的实施例中，吸收UV的物质可以具有来自如下物质组中的物质、物质混合物或化学计量化合物或者由其构成：TiO2、CeO2、Bi2O3、ZnO、SnO2、发光物质、吸收UV的玻璃颗粒和/或合适的吸收UV的金属纳米颗粒，其中发光物质、玻璃颗粒和/或纳米颗粒具有对UV范围中的电磁辐射的吸收。在不同的扩展方案中，吸收UV的纳米颗粒例如在熔化的基质中可以不具有可溶性或具有低可溶性，和/或与所述基质不反应或仅仅很难反应。在不同的扩展方案中，纳米颗粒、例如具有小于大约50 nm粒度、例如由TiO2、CeO2、ZnO或Bi2O3组成的纳米颗粒不能导致电磁辐射的散射或者仅能导致电磁辐射的轻微散射。
在不同的实施例中，在衬底、例如具有电汇流排的载体上的光学功能结构作为平坦化层或平坦化结构相对于不具有光学功能结构的衬底降低了具有汇流排的暴露表面的粗糙度。具有光学功能结构的暴露表面的粗糙度例如可以小于0.25μm、例如小于0.2μm、例如小于0.125μm、例如小于0.1μm、例如小于0.075μm、例如小于0.05μm、例如小于0.04μm、例如小于0.03μm、例如小于0.02μm、例如小于0.01μm、例如小于0.005μm。
在不同的实施例中，照明装置100在衬底130上或在衬底130上方具有电有源区106，例如在图1中阐释出。
电有源区106被构造用于将电流转变成电磁辐射，这诸如在下面更详尽地予以描述。
衬底130具有载体102。载体102可以具有玻璃、石英和/或半导体材料或者由其构成。另外，载体可以具有塑料薄膜或者带有一个或多个塑料薄膜的层压体或者由其构成。塑料可以具有一种或多种聚烯烃（例如具有高和低密度的聚乙烯（PE）或者聚丙烯）或者由其构成。另外，塑料可以具有聚氯乙烯（PVC）、聚苯乙烯（PS）、聚酯和/或聚碳酸酯（PC）、聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚醚砜（PES）和/或聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）或由其构成。
载体102可以具有金属、例如铜、银、金、铂、铁、例如金属化合物、例如钢或由其构成。
载体102可以被实施为不透明的、半透明的或甚至透明的。
在不同的实施例中，载体102被构造为相对于电磁辐射的至少一部分、例如在可见波长范围中是透明的或半透明的。
载体102可以是镜结构的一部分或构成该镜结构。
载体102可以具有机械刚性区域和/或机械挠性区域或者这样来构造、例如构造为薄膜。
载体102可以被构造为用于电磁辐射的波导，例如对于照明装置100的所发射电磁辐射是透明的或半透明的。
在载体102上或在载体102上方构造电流分布结构110。电流分布结构110具有至少一个电汇流排108。
在不同的实施例中，电汇流排108具有两个或更多个彼此平行布置的导线108-n、例如第一电导线108-1、第二电导线108-2和第三电导线108-3。
可替代地或附加地，电流分布结构110可以在载体102上或在载体102上方具有两个或更多个电汇流排108-n、例如第一电汇流排108-1、第二电汇流排108-2和第三电汇流排108-3。
在电导线108-n和电汇流排108-n的情况下，n是自然数并且表征相应的电汇流排或电汇流排的电导线。衬底130的随后描述的实施例根据具有第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2的衬底130来阐释。在相应的实施例中，第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可替代地或附加地可以是或具有单个电汇流排的第一电导线108-1和第二电导线108-2，其方式和程度为使得这分别对于衬底130的应用是有意义的，例如使得避免照明装置的阳极和阴极的电短路。
换言之：在不同的实施例中，第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以是电流分布结构110的部分。换言之：在不同的实施例中，衬底130具有电流分布结构110，其中电流分布结构110具有至少一个电汇流排108。第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以是彼此电连接或彼此绝缘的不同电汇流排；或者是单个电汇流排的例如以电导线形式的不同区域。在不同的实施例中，电流分布结构110具有两个或更多个电汇流排，其中所述多个电汇流排具有以栅格结构或者网结构或以平行印制线（Bahnen）形式的布置。
栅格结构或网结构例如可以平面地构造在载体102上。
第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以具有宽度112、高度116和距离114。第一电汇流排108-1以与第二电汇流排108-2相隔距离114地来构造。第一电汇流排108-1在载体102上或在载体102上方被构造在第二电汇流排108-2旁边、例如横向地在其旁边。
第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2相对于彼此可以具有相同或不同的宽度或高度。此外，第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间的距离可以与第二电汇流排108-2和第三电汇流排108-3之间的距离相同或不同。
电汇流排108例如可以具有纳米线或金属或金属合金、例如银、铜、金、铝和/或其它金属；例如作为单壁或多壁碳纳米管的碳纳米管；和/或导电或电传导性金属氧化物、例如铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化锌、氧化镍等等或由其构成。电汇流排例如可以被构造为至少半透明的、例如透明的；和/或被构造为不可见的或几乎不可见的。例如，电汇流排可以具有高的纵横比（高度与宽度的比例），所述纵横比处于例如1：10至10：1或更高的范围内、例如高于1：10、例如高于1：1、例如高于10：1、例如高于15：1或更多。
人眼的分辨能力处于50μm的范围中。电汇流排108的不可见结构宽度、即利用人眼不能分辨的结构宽度例如小于观察者的分辨能力、例如小于大约50μm。例如，具有例如10μm最小结构宽度的汇流排的不可见结构宽度可以利用喷墨印刷方法（Inkjet（喷墨）印刷方法）来构造。
换言之：第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2可以被构造为使得它们具有大于1比10的高度116与宽度112的比例，例如其方式是，第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2被构造为层堆叠。电汇流排108例如可以关于导线的横截面具有一个或多个边长112、116，所述横截面大于0.1μm2、例如大于1μm2、大于10μm2、大于100μm2、例如大于1000μm2、例如处于大约0.1μm2至大约100μm2的范围中。电汇流排108的宽度112可以依赖于汇流排108的分别与载体102的面法线有关的厚度116，其中所述载体102的面法线与电有源区106的面法线平行；以及依赖于（多个）汇流排108的物质组成、例如其电导率。电汇流排108例如可以具有矩形、方形、三角形、梯形或透镜形的横截面。
在不同的实施例中，在载体102上以平面方式布置或构造至少一个电汇流排108，例如具有平行印制线或导线，例如以曲折或螺旋形状。由此可以借助于唯一的汇流排在电极的大面积上实现电流分布。
电流分布结构110或第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排可以被构造为使得它们在平面扩展方面与电有源区106相比、例如与第一电极410或第二电极414相比具有更高的横向导电性，如例如在下面还要更详尽地描述的。
在第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2之间构造光学功能结构104。光学功能结构104被构造为使得穿过衬底130的电磁辐射的光路和/或电磁辐射的谱可被改变。
在不同的实施例中，光学功能结构104是电流分布结构110的一部分，例如其方式是，光学功能结构104被构造用于使第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2电绝缘。可替代地或附加地，光学功能结构104可以具有导电物质或由其构成，并且与第一电汇流排和/或第二电汇流排电耦合。
电流分布结构110或电流分布结构110与光学功能结构104一起具有表面118。在不同的实施例中，在表面118上或在表面118上方构造电有源区106。
在不同的实施例中，光学功能结构104可以至少部分地或完全地充填、例如过度填充第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间的区域，例如在图5D中所阐释的。换言之：光学功能结构104在不同的实施例中至少部分地横向地被构造在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造，使得第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间的区域被构造为使得第一电汇流排108-1、光学功能结构104和第二电汇流排108-2具有基本上平坦的表面118。由此，电有源区106可以被构造在基本上平坦的表面118上，由此电有源区106可以具有高稳定性和/或均匀性。
在不同的实施例中，光学功能结构104具有介电物质或由其构成。
在不同的实施例中，光学功能结构104具有导电物质或由其构成。
在一个实施例中，导电光学功能结构104可以具有下列物质之一或由其构成：金属氧化物、金属氮化物和/或金属氮氧化物、例如照明装置的阻挡层的物质，例如被构造为照明装置的阻挡层，如在下面更详尽地描述的。
在一个实施例中，导电光学功能结构104可以具有至少一个层，所述层具有处于大约0.1nm至大约10μm范围中、例如处于大约30nm至大约50nm范围中的层厚。
在一个实施例中，导电光学功能结构104可以具有基质202中的掺杂物质或由其构成。导电光学功能结构104的基质202例如可以具有透明导电氧化物、例如氧化锌、氧化锡、氧化镍和/或铜铁矿或者由其构成。导电光学功能结构104的掺杂物质例如可以具有或者是金属、例如银、铜、金、铝、锌、锡。在一个实施例中，导电光学功能结构104可以具有用铝掺杂的氧化锌或由其构成。在一个实施例中，导电光学功能结构104可以具有合金或由其构成。
在一个实施例中，导电光学功能结构104的电传导性物质可以具有下列形式之一的导电颗粒204：纳米线、纳米管、片或小板。导电颗粒204可以具有处于大约5nm至大约1μm、例如大约10nm至大约150nm、例如大约15nm至大约60nm范围中的平均直径、和/或处于相应纳米线的直径至大约1mm、例如大约1μm至大约100μm、例如大约20μm至大约50μm的范围中的长度。可替代地或附加地，导电光学功能结构104可以具有石墨烯面形式的导电物质。可替代地或附加地，导电光学功能结构104可以具有下列物质之一或由其构成：碳、银、铜、金、铝、锌、锡。可替代地或附加地，导电光学功能结构104可以具有由碳组成的纳米管或由其构成，例如作为单壁纳米管（single wall carbon nanotube（单壁碳纳米管） - SWCNT）、多壁纳米管（multi wall carbon nanotube（多壁碳纳米管），MWCNT）和/或官能化的纳米管（例如在纳米管的表层处具有化学官能团）。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间的电绝缘体，或者具有这样的电绝缘体。
在不同的实施例中，光学功能结构104具有透明的或半透明的物质或者由其或者这样地构造。
在不同的实施例中，光学功能结构104横向地被构造在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间。换言之：光学功能结构104可以在侧向上由第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2限制。换言之：第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以嵌入在光学功能结构中。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为使得第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2暴露，例如使得所述第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以被电接触。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为使得光学功能结构104过度填充第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2。光学功能结构104的被过度填充的部分例如可以例如至少在过度填充的汇流排的区域中具有或构造基本上平滑的表面。
光学功能结构104被构造为使得所述光学功能结构降低衬底130的暴露的表面118的粗糙度，例如使该表面平坦化。
在不同的实施例中，衬底130在光学功能结构104与第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2之间具有电绝缘体。电绝缘体可以被构造为使得光学功能结构104至少与所述电汇流排之一电绝缘。
在不同的实施例中，光学功能结构104可以被构造为关于电磁辐射的耦合结构，例如在可见波长范围中，例如被构造为耦合输入结构或耦合输出结构。
在不同的实施例中，光学功能结构104关于载体102的折射率和/或可构造在光学功能结构104上方的光学有源层的折射率被构造为使得电磁辐射的可穿过衬底130透射的分量与在不具有光学功能结构104的用于光学有源区106的衬底130的情况下相比更大。
在不同的实施例中，光学功能结构104具有至少一个区域：例如对于某一波长范围和/或某一偏振方向，例如在可见波长范围中，例如对于非偏振光，所述区域被构造为用于电磁辐射的至少一部分的波导。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为用于电磁辐射的波导的芯，并且第一电汇流排108-1和第二电汇流排被构造为波导的外罩。
在不同的实施例中，光学功能结构104与电汇流排108-n一起被构造为用于入射电磁辐射的光学透镜或者作为这样的光学透镜起作用。电磁辐射由此例如可以是可聚焦的、可准直的或可展开的。
在不同的实施例中，例如对于至少一个波长范围和/或偏振方向，光学功能结构104被构造为电磁辐射的滤光器结构、例如对于UV辐射和/或红外辐射而言被构造为带通滤光器、长通滤光器、短通滤光器或者截止滤光器（Kantenfilter）。
在不同的实施例中，光学功能结构104例如对于电磁辐射的至少一个波长范围而言、例如在可见波长范围中被构造为抗反射覆层。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为波长转换结构。波长转换结构例如具有染料或发光物质。
在不同的实施例中，在载体102、电流分布结构110和/或光学功能结构104之间构造第一阻挡层，例如用以例如对于水和/或氧气而言严密地密封载体102，例如在图4和所属描述中阐释的。可替代地或附加地，可以在表面118上、例如在电流分布结构110、光学功能结构104和电有源区之间构造阻挡层。该阻挡层例如可以被构造为导电的和/或具有电贯通接触部。可替代地或附加地，该阻挡层可以被构造为电流分布结构110和/或光学功能结构104的平坦化层，例如在图5D中阐释的。
在不同的实施例中，光学功能结构104具有基本上均匀的横断面，例如在图1中阐释的。
在不同的实施例中，光学功能结构104具有基质202，在所述基质202中分布有颗粒204，例如在图2中阐释的。
颗粒204可以被构造为对于可见光是非散射性的。
可替代地或附加地，光学功能层104可以具有颗粒204，所述颗粒204被构造为对于可见光是散射性的。
基质202例如可以被构造为非晶的、例如被构造为玻璃。基质202可以具有成型原料和/或浇注材料或者由其构成。
在不同的实施例中，基质202具有来自下列玻璃系统之一的至少一种物质或物质混合物或者由其构成：含PbO的系统、例如PbO-B2O3、PbO-SiO2、PbO-B2O3-SiO2、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3；和/或含Bi2O3的系统、例如Bi2O3-B2O3、Bi2O3-B2O3-SiO2、Bi2O3-B2O3-ZnO、Bi2O3-B2O3-ZnO-SiO2。可替代地或附加地，基质202可以具有来自下列物质之一的物质或物质混合物或者由其构成：Al2O3、碱土氧化物、碱金属氧化物、ZrO2、TiO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、TeO2、WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物；Ce、Fe、Sn、Ti、Pr、Eu和/或V化合物。
基质202的物质或物质混合物应当在小于载体102的熔化温度或软化温度的温度下是可液化的，例如直到最大大约600°C为止是可液化的。
在不同的实施例中，基质202具有下列物质至少之一或由其构成：硅酮、例如聚二甲基硅氧烷、聚二甲基硅氧烷/聚二苯基硅氧烷和/或其衍生物；硅氮烷、环氧化物、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯等等、例如硅酮混杂物、硅酮-环氧化物混杂物。
颗粒204可以具有无机物或无机物质混合物或者由其构成。例如，颗粒204可以具有来自列物质之一或具有下列物质之一的物质、物质混合物或化学计量化合物或者由其构成：TiO2、CeO2、Bi2O3、ZnO、SnO2、Al2O3、SiO2、Y2O3、ZrO2、发光物质、染料以及玻璃颗粒204、金属纳米颗粒。
可替代地或附加地，颗粒204可以具有空腔。
颗粒204可以具有例如与光学透镜相似或相同的隆起表面。例如，颗粒204可以具有下列几何形状之一和/或下列几何形状之一的一部分：球形的、非球面的、例如棱柱形的、椭圆形的、空心的、小板形的或者杆状体形的。
颗粒204可以具有处于大约0.01μm至大约10μm的范围中、例如处于大约0.1μm至大约5μm的范围中的平均直径。在可见波长范围中非散射性的颗粒204例如可以具有处于10nm至100nm的范围中的平均直径。在可见波长范围中散射性的颗粒204例如可以根据波长和入射角具有处于100nm至5μm的范围中的平均直径。
颗粒204可以在基质202中分布为使得光学功能结构104在电磁辐射的可见波长范围中与载体102具有层厚取平均的折射率差异，所述折射率差异大于0.05。在层厚取平均的情况下，将各个组成部分的折射率与其在该结构处的相应体积份额相乘，并且针对该结构的相应不同的组成部分将所述数学乘积相加。不同的组成部分例如可以是颗粒和基质和/或不同性质的两个或更多个层。
在不同的实施例中，颗粒204可以具有在电磁辐射的可见波长范围中小于1.4或大于1.6的折射率。
在不同的实施例中，颗粒204可以具有至少部分地吸收电磁辐射的材料、例如波长转换材料、例如发光物质或染料，或者由其构成。
在不同的实施例中，颗粒204可以是吸收UV的或者被构造为吸收UV的。
在不同的实施例中，光学功能结构104具有至少一个第一层302和第二层304，其中第一层302和第二层304可以被构造为相同或不同的。针对第一层302与第二层304相同的情况，可以在第一层302与第二层304之间构造界面。第一层302和第二层304可以由相同材料并且利用相同方法来构造，例如用以提高第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2的纵横比。例如，第一电汇流排108-1、第二电汇流排108-2和光学功能结构104可以利用第一层302和第二层304以逐层的方式来构造。由此，例如针对在第一层302与第二层304之间构造有界面的情况可以构造层堆叠。
例如，可以首先构造第一层302。第一层302例如可以以结构化的方式来构造，或者在构造之后被结构化为使得构造用于电汇流排108-n的区域。在这些区域中，例如借助于汽化渗镀（Verdampfen）或刮涂可以与第一层302共面地分别构造电汇流排108-n。接着，第二层304例如可以以结构化的方式被构造在第一层302上或者在构造第二层304之后被结构化为使得在第一层302的区域上方构造用于电汇流排的区域。接着，可以与在第一分层的情况下类似地在第二层304中的经结构化的区域中构造电汇流排108-n。接着，可以在第二层304上构造第三层或第一层302。可以重复如上所述的做法，直到为电汇流排构造了预先给定的纵横比和/或预先给定的横截面。由此，可以随着第一层302和第二层304的分层（Lage）数目增加而以逐层的方式提高纵横比。
在一个实施例中，具有多个层302、304的光学功能层104可以被构造为镜结构、例如被构造为光子晶体。
在不同的实施例中，提供具有上述衬底130的照明装置100，例如在图4中的照明装置的示意片段中阐释的。
照明装置100可以具有衬底130、有源区106和封装结构428。
衬底130例如可以被构造为严密密封的衬底130，例如其方式是，严密密封地构造载体和/或严密密封的衬底具有阻挡层404。
严密密封的结构例如可以对于对有源区106有害的环境影响、例如对于电磁辐射和/或有害物质、例如溶剂或化学反应性物质、例如水和/或氧气是严密密封的。严密密封的结构例如可以具有关于有害物质小于大约10-1g/(m2d)、例如小于大约10-4g/(m2d)、例如处于大约10-4g/(m2d)至大约10-10g/(m2d)的范围中、例如处于大约10-4g/(m2d)至大约10-6g/(m2d)的范围中的扩散速率。对于辐射而言严密密封的结构可以具有小于10%、例如小于5%、例如小于1%的辐射透射。
第一阻挡层404可以具有以下材料之一或由其构成：氧化铝、氧化锌、氧化锆、氧化钛、氧化铪、氧化钽、氧化镧、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂铝的氧化锌、聚对苯二甲酰对苯二胺、尼龙66及其混合和合金。
第一阻挡层404可以借助于下列方法之一来构造：原子层淀积方法（Atomic LayerDeposition（原子层沉积）（ALD)）、例如等离子体增强原子层沉积方法（Plasma EnhancedAtomic Layer Deposition（等离子体增强原子层沉积） (PEALD)）、无等离子体原子层沉积方法（Plasma-less Atomic Layer Deposition （无等离子体原子层沉积）(PLALD)）；化学气相沉积方法（Chemical Vapor Deposition（化学气相沉积） (CVD)）、例如等离子体增强气相沉积方法（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition（等离子体增强化学气相沉积） (PECVD) ）、或者无等离子体气相沉积方法（Plasma-less Chemical VaporDeposition（无等离子体化学气相沉积） (PLCVD)）；或者可替代地借助于其它合适的沉积方法。
在具有多个子层的第一阻挡层404的情况下，所有子层都可以借助于原子层沉积方法来构成。仅仅具有ALD层的层序列也可以称为“纳米层压体”。
在具有多个子层的第一阻挡层404的情况下，第一阻挡层404的一个或多个子层可以借助于与原子层沉积方法不同的沉积方法、例如借助于气相沉积方法来沉积。
第一阻挡层404可以具有大约0.1nm（一个原子层（Atomlage））至大约1000nm的层厚、例如根据一个实施例大约10nm至大约100nm、例如根据一个实施例大约40nm的层厚。
第一阻挡层404可以具有一种或多种高折射性材料、例如带有高折射率、例如带有至少2的折射率的一种或多种材料。
另外应当指出，在不同的实施例中，例如对于载体102以严密密封的方式被构造、例如具有玻璃、金属、金属氧化物或由其构成的情况，也可以完全放弃第一阻挡层404。
电有源区106可以具有第一电极410、第二电极414和在第一电极410与第二电极414之间的有机功能层结构412。有机功能层结构412被构造用于将电流转变成入射电磁辐射和/或将辐射转变成电流。在不同的实施例中，第一电极410可以是可选的，例如其方式是，衬底130具有第一电极410或作为这样的第一电极410起作用。
电有源区106例如可以是或者具有照明装置100的光学有源区106。电有源区106例如是照明装置100的如下区域：在所述区域中用于运行照明装置100的电流流动，和/或在所述区域中生成和/或吸收电磁辐射。
第一电极404可以被构造为阳极或阴极。
第一电极410可以具有下列导电材料之一或由其构成：金属；导电透明氧化物（transparent conductive oxide（透明导电氧化物）； TCO）；由金属纳米线和纳米粒子构成的网，所述纳米线和纳米粒子例如由Ag组成，例如与导电聚合物相组合；由碳纳米管构成的网，所述碳纳米管例如与导电聚合物相组合；石墨烯粒子和层；由半导体纳米线构成的网；导电聚合物；过渡金属氧化物；和/或其复合物。由金属构成的或者具有金属的第一电极410可以具有下列材料之一或由其构成：Ag、Pt、Au、Mg、Al、Ba、In、Ca、Sm或Li以及这些材料的化合物、组合或合金。第一电极410可以具有下列材料之一作为透明导电氧化物：例如金属氧化物：例如氧化锌、氧化锡、氧化镉、氧化钛、氧化铟或者铟锡氧化物（ITO）。除了诸如ZnO、SnO2或In2O3的二元金属氧化合物以外，三元金属氧化合物、例如A1ZnO、Zn2SnO4、CdSnO3、ZnSnO3、MgIn2O4、GaInO3、Zn2In2O5或In4Sn3O12或者不同透明导电氧化物的混合也属于TCO组，并且也可以被用在不同的实施例中。此外，TCO不必强制性地对应于化学计量组成，并且另外可以是p掺杂的或n掺杂的、例如传导空穴的（p-TCO）或传导电子的（n-TCO）。
第一电极410可以具有一个层或相同材料或不同材料的多个层的层堆叠。第一电极410可以由一层金属在一层TCO上或反过来的组合的层堆叠构成。示例是施加在铟锡氧化物层（ITO）上的银层（Ag在ITO上）或者ITO-Ag-ITO多层。
第一电极404例如可以具有处于10nm至500nm、例如小于25nm至250nm、例如50nm至100nm范围中的层厚。
第一电极410可以具有第一电接线端子，在所述接线端子上可以施加第一电势。第一电势可以由能量源、例如电流源或电压源提供。可替代地，第一电势可以施加在导电载体102上并且第一电极40可以通过载体102来间接地输送电。第一电势例如可以是地电势或其它预先给定的参考电势。
有机功能层结构412可以具有一个、两个或更多个功能层结构单元以及处于层结构单元之间的一个、两个或更多个中间层结构，例如3、4、5、6、7、8、9、10个或甚至更多个、例如15个或更多个、例如70个。有机功能层结构412例如可以具有第一有机功能层结构单元416、中间层结构418和第二有机功能层结构单元420。
第一有机功能层结构单元416和可选地另外的有机功能层结构可以相同地或不同地来构造，例如具有相同或不同的发射体材料。第二有机功能层结构单元420或者所述另外的有机功能层结构单元可以如第一有机功能层结构单元416的随后描述的扩展方案之一那样来构造。
第一有机功能层结构单元416可以具有空穴注入层、空穴传输层、发射体层、电子传输层和电子注入层。
在有机功能层结构单元412中，可以设置所述层中的一个或多个，其中相同的层可以具有实体接触、可以仅仅彼此电连接或者甚至可以彼此电绝缘地来构造，例如可以并排地来构造。所述层中的各个层可以是可选的。
空穴注入层可以被构造在第一电极410上或上方。空穴注入层可以具有下列材料中的一种或多种或由其构成：HAT-CN、Cu(I)pFBz、MoOX、WOX、VOX、ReOX、F4-TCNQ、NDP-2、NDP-9、Bi(III)pFBz、F16CuPc；NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；β-NPB N,N'-双(萘-2-基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；TPD (N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；螺 TPD (N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；螺-NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-螺)；DMFL-TPD N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二甲基-芴)；DMFL-NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二甲基-芴)；DPFL-TPD (N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二苯基-芴)；DPFL-NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二苯基-芴)；螺-TAD (2,2',7,7'-四(n,n-二苯基氨基)- 9,9 '-螺联芴)；9,9-双[4-(N,N-双联苯-4-基-氨基)苯基]-9H-芴；9,9-双[4-(N,N-双萘-2-基-氨基)苯基]-9H-芴；9,9-双[4-(N,N'-双萘-2-基-N,N'-双苯基-氨基)-苯基]-9H-氟；N,N'-双(菲-9-基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺；2,7-双[N,N-双(9,9-螺-联芴-2-基)-氨基]-9,9-螺-联芴；2,2'-双[N,N-双(联苯-4-基)氨基]9,9-螺-联芴；2,2'-双(N,N-二-苯基-氨基)9,9-螺-联芴；二-[4-(N,N-二甲苯基-氨基)-苯基]环己烷；2,2',7,7'-四(N,N-二-甲苯基)氨基-螺-联芴；和/或N,N,N',N'-四-萘-2-基-联苯胺。
空穴注入层可以具有处于大约10nm至大约1000nm范围中、例如处于大约30nm至大约300nm范围中、例如处于大约50nm至大约200nm范围中的层厚。
在空穴注入层上或上方可以构造空穴传输层。空穴传输层可以具有下列材料中的一种或多种或由其构成：NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；β-NPB N,N'-双(萘-2-基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；TPD (N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；螺 TPD (N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺)；螺-NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-螺)；DMFL-TPD N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二甲基-芴)；DMFL-NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二甲基-芴)；DPFL-TPD (N,N'-双(3-甲基苯基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二苯基-芴)；DPFL-NPB (N,N'-双(萘-1-基)-N,N'-双(苯基)-9,9-二苯基-芴)；螺-TAD (2,2',7,7'-四(n,n-二苯基氨基)- 9,9 '-螺联芴)；9,9-双[4-(N,N-双联苯-4-基-氨基)苯基]-9H-芴；9,9-双[4-(N,N-双萘-2-基-氨基)苯基]-9H-芴；9,9-双[4-(N,N'-双萘-2-基-N,N'-双苯基-氨基)-苯基]-9H-氟；N,N'-双(菲-9-基)-N,N'-双(苯基)-联苯胺；2,7-双[N,N-双(9,9-螺-联芴-2-基)-氨基]-9,9-螺-联芴；2,2'-双[N,N-双(联苯-4-基)氨基]9,9-螺-联芴；2,2'-双(N,N-二-苯基-氨基)9,9-螺-联芴；二-[4-(N,N-二甲苯基-氨基)-苯基]环己烷；2,2',7,7'-四(N、N-二-甲苯基)氨基-螺-联芴；和N,N,N',N'-四-萘-2-基-联苯胺、叔胺、咔唑衍生物、传导性聚苯胺和/或聚亚乙基二氧基噻吩。
空穴传输层可以具有处于大约5nm至大约50nm范围中、例如处于大约10nm至大约30nm范围中、例如处于大约20nm的层厚。
在空穴传输层上或上方可以构造发射体层。有机功能层结构单元416、420中的每个都可以分别具有一个或多个发射体层，其例如具有发荧光的和/或发磷光的发射体。
发射体层可以具有有机聚合物、有机低聚体、有机单体、有机非聚合物小分子（“small molecules（小分子）”）或者这些材料的组合或由其构成。
照明装置100在发射体层中可以具有下列材料中的一种或多种或由其构成：有机化合物或有机金属化合物，诸如聚芴、聚噻吩和聚亚苯基的衍生物 (例如2-或2,5-取代的聚对亚苯基亚乙烯基) 以及金属络合物、例如铱络合物、诸如发蓝色磷光的FIrPic (双(3,5-二氟-2-(2-吡啶基)苯基-(2-羧基吡啶基)-铱 III)、发绿色磷光的Ir(ppy)3 (三(2-苯基吡啶)铱 III)、发红色磷光的Ru (dtb-bpy)3*2(PF6) (三[4,4’-二-叔丁基-(2,2’)-联吡啶]钌(III)络合物)以及发蓝色荧光的DPAVBi (4,4-双[4-(二-对甲苯基氨基)苯乙烯基]联苯)、发绿色荧光的TTPA (9,10-双[N,N-二-(对甲苯基)-氨基]蒽) 和发红色荧光的DCM2(4-二氰基亚甲基)-2-甲基-6-久洛尼定基（julolidyl）-9-烯基-4H-吡喃) 作为非聚合物发射体。
这样的非聚合物发射体例如可以借助于热汽化渗镀来沉积。另外，可以使用聚合物发射体，所述聚合物发射体例如可以借助于湿化学方法、诸如离心涂布方法（亦称SpinCoating（旋转涂覆））来沉积。
发射体材料可以以合适方式嵌入在基质材料、例如技术陶瓷或聚合物、例如环氧化物或硅酮中。
在不同的实施例中，发射体层具有处于大约5nm至大约50nm范围中、例如处于大约10nm至大约30nm范围中、例如大约20nm的层厚。
发射体层可以具有单色地或不同颜色地（例如蓝色和黄色或蓝色、绿色和红色）进行发射的发射体材料。可替代地，发射体层可以具有发射不同颜色的光的多个子层。借助于混合不同颜色，可以得出具有白色颜色印象的光发射。可替代地也可以规定，在通过这些层生成的一次发射的光路中布置转换材料，所述转换材料至少部分地吸收一次辐射并且发射其它波长的二次辐射，使得从（还不为白色的）一次辐射中通过组合一次辐射和二次辐射得出白色颜色印象。
有机功能层结构单元416可以具有被实施为空穴传输层的一个或多个发射体层。
此外，有机功能层结构单元416可以具有被实施为电子传输层的一个或多个发射体层。
在发射体层上或上方可以构造、例如沉积电子传输层。
电子传输层可以具有下列材料中的一种或多种或由其构成：NET-18；2,2',2" -(1,3,5-苯三基)-三(1-苯基-1-H-苯并咪唑)；2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉 (BCP)；8-羟基喹啉合-锂、4-(萘-1-基)-3,5-二苯基-4H-1,2,4-三唑；1,3-双[2-(2,2'-联吡啶-6-基)-1,3,4-噁二唑-5-基]苯；4,7-二苯基-1,10-菲咯啉 (BPhen)；3-(4-联苯基)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1,2,4-三唑；双(2-甲基-8-喹啉)-4-(苯基苯酚)铝；6,6'-双[5-(联苯-4-基)-1,3,4-噁二唑-2-基]-2,2'-联吡啶；2-苯基-9,10-二(萘-2-基)-蒽；2,7-双[2-(2,2'-联吡啶-6-基)-1,3,4-噁二唑-5-基]-9,9-二甲基芴；1,3-双[2-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑-5-基]苯；2-(萘-2-基)-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉；2,9-双(萘-2-基)-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉；三(2,4,6-三甲基-3-(吡啶-3-基)苯基)硼烷；1-甲基-2-(4-(萘-2-基)苯基)-1H-咪唑并[4,5-f][1,10]菲咯啉；苯基-二芘基氧化膦；萘四甲酸二酐或其酰亚胺；苝四甲酸二酐或其酰亚胺；和基于具有硅杂环戊二烯单元的噻咯的物质。
电子传输层可以具有处于大约5nm至大约50nm范围中、例如处于大约10nm至大约30nm范围中、例如处于大约20nm的层厚。
在电子传输层上或上方可以构造电子注入层。电子注入层可以具有下列材料中的一种或多种或者由其构成：NDN-26、MgAg、Cs2CO3、Cs3PO4、Na、Ca、K、Mg、Cs、Li、LiF；2,2',2"-(1,3,5-苯三基)-三(1-苯基-1-H-苯并咪唑)；2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉 (BCP)；8-羟基喹啉合-锂、4-(萘-1-基)-3,5-二苯基-4H-1,2,4-三唑；1,3-双[2-(2,2'-联吡啶-6-基)-1,3,4-噁二唑-5-基]苯；4,7-二苯基-1,10-菲咯啉 (BPhen)；3-(4-联苯基)-4-苯基-5-叔丁基苯基-1,2,4-三唑；双(2-甲基-8-喹啉)-4-(苯基苯酚)铝；6,6'-双[5-(联苯-4-基)-1,3,4-噁二唑-2-基]-2,2'-联吡啶；2-苯基-9,10-二(萘-2-基)-蒽；2,7-双[2-(2,2'-联吡啶-6-基)-1,3,4-噁二唑-5-基]-9,9-二甲基芴；1,3-双[2-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑-5-基]苯；2-(萘-2-基)-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉；2,9-双(萘-2-基)-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉；三(2,4,6-三甲基-3-(吡啶-3-基)苯基)硼烷；1-甲基-2-(4-(萘-2-基)苯基)-1H-咪唑并[4,5-f][1,10]菲咯啉；苯基-二芘基氧化膦；萘四甲酸二酐或其酰亚胺；苝四甲酸二酐或其酰亚胺；和基于具有硅杂环戊二烯单元的噻咯的物质。
电子注入层可以具有处于大约5nm至大约200nm范围中、例如处于大约20nm至大约50nm范围中、例如处于大约30nm的层厚。
在具有两个或更多个有机功能层结构单元416、420的有机功能层结构412的情况下，第二有机功能层结构单元420可以被构造在第一功能层结构单元416上方或旁边。在有机功能层结构单元416、420之间可以以电方式构造中间层结构418。
在不同的实施例中，中间层结构418例如根据第一电极410的扩展方案之一被构造为中间电极418。中间电极418可以与外部电压源电连接。外部电压源例如可以在中间电极418处提供第三电势。但是中间电极418也可以不具有外部电接线端子，例如其方式是，中间电极具有悬浮电势。
在不同的实施例中，中间层结构418被构造为载流子对生成层结构418（chargegeneration layer（电荷生成层），CGL）。载流子对生成层结构418可以具有一个或多个传导电子的载流子对生成层以及一个或多个传导空穴的载流子对生成层。（多个）传导电子的载流子对生成层和（多个）传导空穴的载流子对生成层可以分别由固有传导性物质或基质中的掺杂物质来构成。载流子对生成层结构418应当关于（多个）传导电子的载流子对生成层和（多个）传导空穴的载流子对生成层的能量水平被构造为使得在传导电子的载流子对生成层与传导空穴的载流子对生成层的界面处可以进行电子和空穴的分离。载流子对生成层结构418还可以在相邻层之间具有扩散阻挡体。
每个有机功能层结构单元416、420都例如可以具有最大大约3μm的层厚、例如最大大约1μm的层厚、例如最大大约300nm的层厚。
照明装置100可选地可以具有另外的有机功能层，其例如布置在所述一个或多个发射体层上或上方或者布置在所述一个或多个电子传输层上或上方。所述另外的有机功能层例如可以是内部或外部耦合输入/耦合输出结构，其进一步改善照明装置的功能并且因此改善效率。
在有机功能层结构412上或上方或者必要时在所述一个或多个另外的有机功能层结构和/或有机功能层上或上方可以构造第二电极414。
第二电极414可以根据第一电极410的扩展方案之一来构造，其中第一电极410和第二电极414可以相同或不同地来构造。第二电极414可以被构造为阳极、即空穴注入电极或者被构造为阴极、即电子注入电极。
第二电极414可以具有第二电接线端子，在所述第二电接线端子上可以施加第二电势。第二电势可以由与第一电势和/或可选的第三电势相同或不同的能量源来提供。第二电势可以与第一电势和/或可选的第三电势不同。第二电势例如可以具有如下的值，使得与第一电势的差具有处于大约1.5V至大约20V范围中的值、例如处于大约2.5V至15V范围中的值、例如处于大约3V至大约12V范围中的值。
封装结构428可以具有第二阻挡层408、紧密结合（schlüssige）连接层422和覆盖部424。
第二阻挡层408可以构造在第二电极414上。
第二阻挡层408也可以称为薄层封装部（thin film encapsulation ，（薄膜封装）TFE）。第二阻挡层408可以根据第一阻挡层404的扩展方案之一来构造。
另外应当指出，在不同的实施例中，也可以完全放弃第二阻挡层408。在这样一种实施例中，照明装置100例如可以具有另外的封装结构、例如覆盖部424、例如腔玻璃封装部或金属封装部，由此第二阻挡体可以变为可选的。
另外，在不同的实施例中，可以附加地还在照明装置100中构造一个或多个耦合输入/耦合输出层，例如在载体102上或上方构造外部耦合输出薄膜（未示出）或者在照明装置100的层横断面中构造内部耦合输出层（未示出）。耦合输入/耦合输出层可以具有基质和分布在其中的散射中心，其中耦合输入/耦合输出层的平均折射率大于或小于从中提供电磁辐射的层的平均折射率。另外，在不同的实施例中，附加地在照明装置100中设置一个或多个反射消除层（例如与第二阻挡层408相组合）。
在不同的实施例中，在第二阻挡层408上或上方设置紧密结合连接层422，其例如由粘接剂或漆组成。借助于紧密结合连接层422，可以紧密结合地将覆盖部424连接、例如粘接在第二阻挡层408上。
由透明材料组成的紧密结合连接层422例如可以具有散射电磁辐射的颗粒、例如光散射颗粒。由此，紧密结合连接层422可以作为散射层起作用并且导致颜色角延迟（Farbwinkelverzug）和耦合输出效率的改善。
作为光散射颗粒，可以设置介电散射颗粒，其例如由金属氧化物、例如氧化硅（SiO2）、氧化锌（ZnO）、氧化锆（ZrO2）、铟锡氧化物（ITO）或铟锌氧化物（IZO）、氧化镓（Ga2OX）、氧化铝或氧化钛组成。只要其它颗粒具有与紧密结合连接层422的基质的有效折射率不同的折射率，则所述其它颗粒也可以是合适的，例如气泡、丙烯酸酯或者玻璃空心球。另外，例如可以设置金属纳米颗粒、金属、诸如金、银、铁纳米颗粒等等作为光散射颗粒。
紧密结合连接层422可以具有大于1μm的层厚、例如几μm的层厚。在不同的实施例中，紧密结合连接层422具有层压粘接剂或者是这样的层压粘接剂。
紧密结合连接层422可以被设立为使得所述紧密结合连接层具有拥有比覆盖部424的折射率更小的折射率的粘接剂。这样的粘接剂例如可以是低折射性粘接剂、诸如丙烯酸酯，其具有大约1.3的折射率。但是粘接剂也可以是高折射性粘接剂，该粘接剂例如具有高折射性、非散射性颗粒以及具有层厚取平均的折射率，该折射率大约对应于有机功能层结构412的平均折射率，例如处于大约1.7至大约2.0的范围中。此外，可以设置多种不同粘接剂，所述粘接剂构成粘合剂层序列。
在不同的实施例中，在第二电极414与紧密结合连接层422还施加有或施加电绝缘层（未示出）、例如SiN，其例如具有处于大约300nm至大约1.5μm范围中的层厚、例如具有处于大约500nm至大约1μm范围中的层厚，以便例如在湿化学工艺期间保护在电方面不稳定的材料。
在不同的实施例中，例如如果覆盖部424、例如由玻璃组成的借助于等离子体喷射构造的覆盖部424被直接构造在第二阻挡层408上，则紧密结合连接层422可以是可选的。
在电有源区106上或上方，还可以布置所谓的吸气剂层或者吸气剂结构、例如横向地结构化的吸气剂层（未示出）。
吸气剂层可以具有以下材料或由其构成，所述材料吸收并结合对电有源区106有害的物质。吸气剂层例如可以具有沸石衍生物或者由其构成。吸气剂层可以被构造为对于在光学有源区中被发射和/或被吸收的电磁辐射而言半透明的、透明的或不透明和/或不可穿透的。吸气剂层可以具有大于大约1μm的层厚、例如几μm的层厚。
在不同的实施例中，吸气剂层具有层压粘接剂或者被嵌入在紧密结合连接层422中。
在紧密结合连接层422上或上方可以构造覆盖部424。覆盖部424可以借助于紧密结合连接层422与电有源区106以紧密结合的方式连接或者保护所述电有源区106免受有害物质。覆盖部424例如可以是玻璃覆盖部424、金属薄膜覆盖部424或密封塑料薄膜覆盖部424。玻璃覆盖部424例如可以借助于玻璃料连接（英语glass frit bonding（玻璃粉接合）/glass soldering（玻璃焊接）/seal glass bonding（密封玻璃接合））借助于常规玻璃焊料在照明装置100的几何边缘区域中被与第二阻挡层408或电有源区106以紧密结合的方式连接。
覆盖部424和/或紧密结合连接层422可以具有1.55的折射率（例如在633nm波长情况下）。
照明装置100例如可以被构造为面器件。在不同的实施例中，照明装置100被构造为有机光电子器件100、例如显示指示器和/或有机发光二极管。
在不同的实施例中，第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2电绝缘；并且第一电汇流排108-1与照明装置的第一电极410电耦合，并且第二电汇流排108-2与照明装置的第二电极414电耦合。可替代地，第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2与第一电极410、第二电极414或中间电极418电耦合。
电流分布结构110例如可以以第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2的形式具有一个或多个导线，所述导线沿着衬底130与电有源区106的界面延伸。
在不同的实施例中，电流分布结构110具有至少一个电汇流排108和电传导性贯通接触部，其中贯通接触部与所述至少一个电汇流排108以电传导性方式连接，使得所述至少一个电汇流排108借助于贯通接触部与电有源区106、例如与照明装置100的第一电极410或第二电极414以电传导性方式耦合。
在具有第一电导线108-1和第二电导线108-2的电汇流排的情况下，所述导线分别与相同的电极电耦合，因为否则可能构成短路。
在具有基质202中的颗粒204的光学功能结构的一个实施例中，颗粒204可以在基质202中分布为使得光学功能结构104在电磁辐射的可见波长范围中与电有源区106、有机功能层结构412和/或载体102具有层厚取平均的折射率差异，所述折射率差异大于0.05。
在不同的实施例中，第一电极410被构造在第一电汇流排108-1、第二电汇流排108-2和/或光学功能结构104的表面118上，例如在图5A中阐释的。
将光学功能结构104和一个或多个电汇流排108-n布置在一个层面内、例如将其表面布置在一个层面内可以构造平整的或平坦的表面118，例如构造为用于其它覆层的平坦衬底130，例如由透明导电氧化物（TCO）构造或施加第一电极410、例如阳极410；例如借助于原子层沉积（ALD）构造或施加导电阻挡层；或者由/利用高传导性材料或纳米线构造或者施加载流子注入层（空穴注入层——hole injection layer（空穴注入层） HIL; electroninjection layer（电子注入层） EIL）。此外，封装结构428、例如第二阻挡层408（薄膜封装部——thin film encapsulation（薄膜封装））中的缺陷的概率可以被降低，因为缺陷常常在所述一个/多个电汇流排上方的抗蚀剂（Resist）中的边沿附近或边沿处出现。所述一个/多个电汇流排108-n也可以在其结构大小、例如宽度112方面具有银网（silver mesh）的大小。
在不同的实施例中，第一电极410被构造在载体102上，并且第一电汇流排108-1、第二电汇流排108-2和另外的电汇流排108-n以及光学功能结构104被构造在第一电极410上，例如在图5B中阐释的。
在不同的实施例中，第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2在载体102上方被构造在第一电极410上。可替代地或附加地，光学功能结构104可以在载体102上方被构造在第一电极410上。
这例如在构造导电光学功能结构104的情况下是有利的。由此，例如可以沉积由银纳米线组成的层，所述层借助于激光被重新结构化。接着可以在其上或其上方印上光学功能结构104和所述一个或多个电汇流排108-n。由此，对第一电极410进行结构化可以是可选的。
在不同的实施例中，第一电极410被构造在光学功能结构104与电汇流排108-n之间，例如在图5C中阐释的。在不同的实施例中，第一电极410被构造在光学功能结构104与第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2之间。可替代地或附加地，第一电极410可以被构造在载体102与第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2之间。
在不同的实施例中，光学功能结构104借助于印刷方法来构造、例如结构化。在光学功能结构104和经结构化的区域上和/或上方，可以构造、例如溅射第一电极410。然后，所述一个或多个电汇流排可以被构造，例如被印刷到光学功能结构104的剩余的经结构化的区域、例如沟槽中。溅射可以相对良好地使经结构化、例如经分段的光学功能结构104变形。由此，可以在构造所述至少一个或多个电汇流排108-n以后构造基本上平整的面。在所述平整的表面上可以构造、例如借助于湿法处理沉积另外的层。
在不同的实施例中，光学功能结构104在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间被构造为使得所述光学功能结构过度填充第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2，例如在图5D中阐释的。光学功能结构104在第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2上或上方的部分例如可以使表面118例如至少在由光学功能结构104过度填充的电汇流排108-n的区域中平坦化，例如在图5D中借助于区域504阐释的。可替代地或附加地，被过度填充的区域504可以整块地作为光学功能结构104的层来构造。
在不同的实施例中，提供一种用于制造照明装置100的方法600。
照明装置100例如可以被构造为面器件。
在不同的实施例中，照明装置100被构造为有机光电子器件100、例如显示指示器（Display-Anzeige）和/或有机发光二极管。
用于制造600照明装置100的方法包括：构造衬底130。为此，提供602载体102。
载体102可以被构造为对于电磁辐射的至少一部分、例如在可见波长范围中是透明的或半透明的。
在载体102上或上方构造具有至少一个电汇流排108的电流分布结构110。例如可以在载体102上或上方构造第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2。可替代地或附加地，可以构造具有第一电导线108-1和第二电导线108-2的电汇流排，其中第一电导线108-1至少在一个区域中与第二电导线108-2平行地并且与所述第二电导线相隔一定距离地来构造。
此外，在载体102上或上方构造光学功能结构104。光学功能结构104、第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2被构造为使得光学功能结构104在载体102上或上方被构造在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间。
例如，将光学功能结构104构造在电汇流排的第一电导线108-1与第二电导线108-2之间，和/或将光学功能结构104构造在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间。换言之：光学功能结构104可以被构造在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间。
可替代地，光学功能结构104可以以结构化的方式来构造，并且电汇流排的第一电导线108-1和第二电导线108-2和/或第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2在光学功能结构104上或上方被构造为使得光学有源结构104的至少一部分被构造在电导线108-1/2和/或电汇流排108-1/2之间。换言之，第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以被构造在光学功能结构104中或者由光学功能结构104包围地来构造。
此外，光学功能结构104被构造为使得对于入射到光学功能结构104上的电磁辐射、例如由电有源区发射的电磁辐射而言，穿过衬底130的光路和/或电磁辐射的谱是可改变的。
在不同的实施例中，光学功能结构104、第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2可以以一个或多个分层被沉积在载体102上或上方。第一分层和直接构造在第一分层上的第二分层可以由相同物质或不同物质构造。
光学功能结构104可以被构造为使得所述光学功能结构作为用于构造第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2的支撑结构起作用，例如横向地包围或成形构造有第一支撑结构和第二支撑结构的区域。
电汇流排108例如可以由下列各项构成：纳米线或金属或金属合金，例如具有银、铜、金、铝和/或其它金属；碳纳米管，例如作为单壁或多壁碳纳米管；和/或一种或多种导电的和/或电传导性的金属氧化物、例如铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化锌、氧化镍等等。
电汇流排例如可以被构造为至少半透明的、例如透明的和/或不可见或几乎不可见的，例如其方式是，电汇流排的结构宽度小于观察者的分辨能力、例如小于大约0.5μm；或者电汇流排的高度是小的、例如小于100nm。
例如，可以以例如1:10或更大的相对高的纵横比（高度与宽度的比例）来构造电汇流排108。换言之：第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2可以被构造为使得它们具有大于1比10的高度116与宽度112的比例。
电汇流排108例如可以以关于导线的横截面处于大约0.1μm至大约100μm范围中的一个或多个边长来构造。导线的宽度112可以依赖于导线分别关于载体102的面法线的厚度（也称为高度116）以及依赖于（多个）导线的物质组成、例如其电导率。
在不同的实施例中，平面地在载体102上构造至少一个电汇流排108，例如利用也称为电导线的平行印制线；例如以曲折或螺旋形状来构造。由此，例如可以借助于唯一的电汇流排在电极的整个面上实现电流分布。
在不同的实施例中，具有至少一个第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2或者可替代地具有至少一个第一电导线108-1和第二电导线108-2的电流分布结构110被构造。换言之，在不同的实施例中，具有电流分布结构110的衬底130被构造，所述电流分布结构110具有至少两个在至少一个区域中彼此平行的电导线108。第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以是不同的电汇流排，所述电汇流排彼此电连接或被彼此电连接或彼此绝缘或被彼此绝缘；或者是单个电汇流排的例如以电导线形式的不同区域。
电流分布结构110或第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排可以被构造为使得它们关于平面伸展与例如电有源区相比、例如与构造在衬底上并且与至少一个电汇流排电耦合的第一电极410或第二电极相比具有更高的横向导电性。
在不同的实施例中，具有两个或更多个电汇流排108-n的电流分布结构110被构造，其中所述多个电汇流排以具有栅格结构、网结构的布置或以平行印制线的形式来构造。栅格结构或网结构例如可以平面地被构造在载体102上。
第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2相隔距离114地被构造或布置。第一电汇流排108-1在载体102上或上方被构造或布置在第二电汇流排108-2旁边。
在不同的实施例中，光学功能结构104用或由介电物质构造。
在不同的实施例中，光学功能结构104用或由导电物质、例如用/由下列物质之一构造：金属氧化物、金属氮化物、和/或金属氮氧化物、例如照明装置的阻挡层的物质、例如作为照明装置的阻挡层。
在一个实施例中，导电光学功能结构104用或由至少一个具有处于大约0.1nm至大约10μm范围中的层厚的层、例如用/由具有处于大约30nm至大约50nm范围中的层厚的层构造。
在一个实施例中，导电光学功能结构104可以用或由分布在基质202中的掺杂物质构成。导电光学功能结构104的基质202例如可以具有透明导电氧化物、例如氧化锌、氧化锡、氧化镍和/或铜铁矿或者由其构成。导电光学功能结构104的掺杂物质例如可以具有或者是金属、例如银、铜、金、铝、锌、锡。在一个实施例中，导电光学功能结构104可以用或由掺杂铝的氧化锌构成。在一个实施例中，导电光学功能结构104可以用或由合金构成。
在一个实施例中，导电光学功能结构104可以用或由导电颗粒204构成，所述导电颗粒204具有或由下列形式的至少一种电传导性物质组成：纳米线、纳米管、片或小板。由碳组成的纳米管例如可以作为单壁纳米管（single wall carbon nanotube（单壁碳纳米管）- SWCNT）、多壁纳米管（multi wall carbon nanotube（多壁碳纳米管），MWCNT）和/或官能化的纳米管（例如在纳米管的表层处具有化学官能团）。导电颗粒204例如可以具有处于大约5nm至大约1μm、例如大约10nm至大约150nm、例如大约15nm至大约60nm范围中的平均直径、和/或处于相应纳米线的直径至大约1mm、例如大约1μm至大约100μm、例如大约20μm至大约50μm范围中的长度。可替代地或附加地，导电光学功能结构104可以用或由石墨烯面形式的导电物质构造。可替代地或附加地，导电光学功能结构104可以由或用下列物质之一构成：碳、银、铜、金、铝、锌、锡。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间的电绝缘体，或者被构造有这样的电绝缘体。
光学功能结构104可以由或用透明或半透明物质构造。
在不同的实施例中，光学功能结构104由或用分布在基质202中的颗粒204构成。颗粒204可以被构造为对于可见光是非散射性的。可替代地或附加地，光学功能结构104可以由或用颗粒204构造，所述颗粒204被构造为关于可见光是散射性的。
基质202例如可以被构造为非晶的、例如被构造为玻璃。基质202可以具有成型原料和/或浇注材料或者由其构成。
在不同的实施例中，基质202由或用来自下列玻璃系统之一的至少一种物质或物质混合物构成：含PbO的系统、例如PbO-B2O3、PbO-SiO2、PbO-B2O3 -SiO2、PbO-B2O3-ZnO2、PbO-B2O3-Al2O3；和/或含Bi2O3的系统、例如Bi2O3-B2O3、Bi2O3-B2O3-SiO2、Bi2O3-
B2O3-ZnO、Bi2O3-B2O3-ZnO-SiO2。可替代地或附加地，基质202可以具有来自下列物质之一的物质或物质混合物或者由其构成：Al2O3、碱土氧化物、碱金属氧化物、ZrO2、TiO2、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、TeO2、WO3、MO3、Sb2O3、Ag2O、SnO2、稀土氧化物；Ce、Fe、Sn、Ti、Pr、Eu和/或V化合物。
基质202的物质或物质混合物应当在小于载体102的熔化温度或软化温度的温度下是可液化的，例如直到最大大约600°C为止是可液化的。
在不同的实施例中，基质202由或用下列物质至少之一构成：硅酮、例如聚二甲基硅氧烷、聚二甲基硅氧烷/聚二苯基硅氧烷和/或其衍生物；硅氮烷、环氧化物、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯等等、例如硅酮混杂物、硅酮-环氧化物混杂物。
颗粒204可以由或用无机物质或无机物质混合物构成。例如，颗粒204可以由或用来自或具有下列物质之一的物质、物质混合物或化学计量化合物构成：TiO2、CeO2、Bi2O3、ZnO、SnO2、Al2O3、SiO2、Y2O3、ZrO2、发光物质、染料、以及玻璃颗粒204、金属纳米颗粒204。
可替代地或附加地，颗粒204可以由或用空腔构成或者被构成。
颗粒204可以具有例如与光学透镜相似或相同的隆起表面或者这样地来构造。例如，颗粒204可以具有下列几何形状之一和/或下列几何形状之一的一部分或者这样地来构造：球形的、非球面的、例如棱柱形的、椭圆形的、空心的、小板形的或者杆状体形的。
颗粒204可以具有处于大约0.01μm至大约10μm范围中、例如处于大约0.1μm至大约5μm范围中的平均直径或者这样来构造。在可见波长范围中非散射性的颗粒204例如可以具有处于10nm至100nm范围中的平均直径或者这样地来构造。在可见波长范围中散射性的颗粒204例如可以根据波长和电磁辐射到光学功能结构上的入射角而具有处于100nm至5μm范围中的平均直径d50或者这样地来构造。
颗粒204可以在基质202中被分布为使得光学功能结构104在电磁辐射的可见波长范围中与载体102具有层厚取平均的折射率差异，所述折射率差异大于0.05。
在不同的实施例中，颗粒204可以构造为或被构造为使得所述颗粒具有在电磁辐射的可见波长范围中小于1.4或大于1.6的折射率。
在不同的实施例中，颗粒204可以具有至少部分地吸收电磁辐射的材料、例如波长转换材料、例如发光物质或染料，或者由其构成。在不同的实施例中，颗粒204可以具有波长转换材料、例如发光物质或染料，或者由其构成。
在不同的实施例中，光学功能结构14用或者由至少一个第一层302和第二层304构成。第一层302和第二层304可以相同或不同地来构造。在相同的第一层302和第二层304的情况下，内部界面可以构造在第一层302与第二层之间，和/或是可见的。
在一个实施例中，光学功能结构104可以被构造为镜结构、例如光子晶体。
在不同的实施例中，光学功能结构104以基本上均匀的横断面来构造。
在不同的实施例中，光学功能结构104横向地被构造在第一电汇流排108-1与第二电汇流排108-2之间。换言之：光学功能结构104可以在侧向上由第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2限制，和/或第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以被嵌入在光学功能结构中。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为使得第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2暴露。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为使得光学功能结构104过度填充第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2。光学功能结构104的过度填充的部分例如可以例如至少在被过度填充的汇流排的区域中以基本上平滑的表面被构造或者构造这样的平滑表面。
光学功能结构104被构造为使得其降低衬底130的暴露的表面118的粗糙度，例如使该表面平坦化。
在不同的实施例中，衬底130在光学功能结构104与第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2之间被构造有电绝缘体。电绝缘体可以被构造为使得光学功能结构104至少与所述电汇流排之一电绝缘。
在不同的实施例中，光学功能结构104可以被构造为关于电磁辐射的耦合结构，例如对于电磁辐射的可见波长范围，例如被构造为耦合输入结构或耦合输出结构。
在不同的实施例中，光学功能结构104关于载体102的折射率和/或可构造在光学功能结构104上方的光学有源层的折射率被构造为使得电磁辐射可通过衬底130透射的分量与在没有光学功能结构104的衬底130的情况下相比更大。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造有至少一个如下区域或者被构造为至少一个如下区域：例如对于电磁辐射的某一波长范围和/或某一偏振方向、例如在可见波长范围中、例如对于非偏振光，所述区域作为用于电磁辐射的至少一部分的波导起作用。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为用于电磁辐射的波导的芯，并且第一电汇流排108-1和第二电汇流排被构造为波导的外罩。
在不同的实施例中，光学功能结构104与电汇流排108-1/2一起被构造为用于入射电磁辐射的光学透镜或者作为这样的光学透镜起作用。入射电磁辐射由此例如可以是可聚焦的、可准直的或可展开的。
在不同的实施例中，例如对于至少一个波长范围和/或偏振方向，光学功能结构104被构造为电磁辐射的滤光器结构，例如对于UV辐射和/或红外辐射，例如被构造为带通滤光器、长通滤光器、短通滤光器或者截止滤光器。
在不同的实施例中，例如对于至少一个波长范围、例如在可见波长范围中，光学功能结构104被构造为抗反射覆层。
在不同的实施例中，光学功能结构104被构造为波长转换结构。波长转换结构例如具有染料或发光物质。
此外，用于制造照明装置100的方法600包括：在衬底130上或上方构造606电有源区106。
构造606电有源区106包括：在衬底130上或上方构造有机功能层结构412；以及在有机功能层结构412上构造第二电极414。
有机功能层结构412被构造为将电流转变成电磁辐射。
光学功能结构104被构造为使得穿过衬底130的电磁辐射的光路和/或电磁辐射的谱是可改变的。
在不同的实施例中，第一电极410被构造在衬底130上或上方，并且有机功能层结构412被构造在第一电极410上或上方。但是在第一电极410上或上方构造有机功能层结构412也可以是可选的，其中所述第一电极被构造在衬底130上或上方。例如，电流分布结构110可以与至少一个电汇流排108和光学功能结构104一起作为用于有机功能层结构412的第一电极起作用。
在不同的实施例中，第一电极410被构造在光学功能结构104与第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2之间。可替代地或附加地，第一电极410可以被构造在载体102与第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2之间。
在不同的实施例中，第一电汇流排108-1和第二电汇流排108-2可以在载体102上方被构造在第一电极410上。可替代地或附加地，光学功能结构104可以在载体102上方被构造在第一电极410上。
在不同的实施例中，第一电极410可以被构造在第一电汇流排108-1、第二电汇流排108-2和/或光学功能结构104上。
在一个实施例中，该方法还包括：构造至少一个另外的电极，使得第一电极410和/或第二电极被构造为中间电极418。
在不同的实施例中，第一电汇流排108-1以与第二电汇流排108-2电绝缘的方式来构造；并且第一电汇流排108-1以与照明装置的第一电极410电耦合的方式来构造，并且第二电汇流排108-2以与照明装置的第二电极414电耦合的方式来构造。
电流分布结构110例如可以以第一电汇流排108-1和/或第二电汇流排108-2的形式具有一个或多个导线，所述导线被构造为使得其沿着衬底130与电有源区106的界面118延伸。
在不同的实施例中，电流分布结构110用或者由至少一个电汇流排108和（可选的）电传导性贯通接触部来构造，其中贯通接触部以与所述至少一个电汇流排108电传导地连接的方式来构造，使得所述至少一个电汇流排108借助于贯通接触部变得可与光电子器件、例如与照明装置的第一电极410或第二电极414电传导地耦合。
在一个实施例中，颗粒204可以在基质202中被分布为使得光学功能结构104在电磁辐射的可见波长范围中与电有源区106和/或载体102具有层厚取平均的折射率差异，所述折射率差异大于0.05。
在不同的实施例中，提供一种照明装置和一种用于制造照明装置的方法，利用所述照明装置和方法可以实现新颖的衬底方案。所述新颖的方案之一是，将电汇流排（busbar（母线））和光学功能结构、例如内部耦合输出层（internal extraction layer（内部提取层） - IEL）一起置于一个层面中，使得它们例如构造基本上平整的表面。由此可以以简单和有效方式将汇流排结构与光学功能层相组合。由此，衬底保持为平整的并且不具有凸出的结构。
通过印刷（多个）电汇流排的材料（也称为母线材料）和例如作为内部耦合输出结构的光学功能结构，可以实现电汇流排的材料与光学功能结构的简单和有效组合。上面阐释的结构的优点在于简化例如用于有机发光二极管的衬底的构造。尤其是可以构成由衬底和内部耦合输出层组成的层面，这可以导致可能缺陷的减少。所述缺陷常常可能出现在电汇流排上方的抗蚀剂的边沿处。此外，构造在衬底上的层或所施加的随后的有机功能材料和/或电极材料可以被均匀地沉积，例如因为在衬底的表面处不存在边沿或边。此外，可以在平整的表面上实施另外的湿法涂覆，因为这不会引起材料在凸出结构处聚集。汽化渗镀的或湿法沉积的层可以更均匀地被沉积。
此外，可以构造所述至少一个电汇流排和光学功能结构，使得不形成电汇流排和光学功能结构的垂直堆叠。这可以导致材料节省和层的经改善的进一步可用性。
此外，阳极可以构造在电汇流排和/或光学功能结构上方。这可以实现：所有其它真空工艺、例如阴极溅射、阴极和有机物的蒸发可以在一个工艺中在无真空破坏的情况下来实施。
Claims (15)
1.一种照明装置（100），包括：
• 具有载体（102）的衬底（130）；
• 在所述载体（102）上或上方的第一电汇流排（108-1）；
• 在所述载体（102）上或上方的第二电汇流排（108-2）；以及
•在所述载体（102）上或上方的光学功能结构（104），其中所述光学功能结构（104）横向地被构造在所述第一电汇流排（108-1）与所述第二电汇流排（108-2）之间；以及
•在所述载体（102）上或上方的第一电极（410），所述第一电极（410）与所述第一电汇流排（108-1）和/或所述第二电汇流排（108-2）电耦合；以及
•在所述第一电极（410）上或上方的有机功能层结构（412），其中所述有机功能层结构（412）被构造用于将电流转变成电磁辐射；以及
•在所述有机功能层结构（412）上或上方的第二电极（414）；
•其中所述光学功能结构（104）被构造，使得穿过所述衬底（130）行进的电磁辐射的光路和/或穿过所述衬底（130）行进的电磁辐射的谱能够借助于所述光学功能结构（104）被改变。
2.根据权利要求1所述的照明装置（100），
其中所述第一电汇流排（108-1）和/或所述第二电汇流排（108-2）被构造，使得所述第一电汇流排（108-1）和/或所述第二电汇流排（108-2）具有大于1比10的高度（116）与宽度（112）的比例。
3.根据权利要求1或2所述的照明装置（100），
其中所述光学功能结构（104）具有导电材料或由所述导电材料构成。
4.根据权利要求1或3之一所述的照明装置（100），
其中所述光学功能结构（104）具有基质（202）中的颗粒（204）。
5.根据权利要求4所述的照明装置（100），
其中所述颗粒（204）被构造为对于可见光是非散射性的并且分布在所述基质（202）中，使得所述光学功能结构（104）在所述电磁辐射的可见波长范围中与所述载体（102）具有层厚取平均的折射率差异，所述折射率差异大于0.05。
6.根据权利要求4所述的照明装置（100），
其中所述颗粒（204）被构造为对于可见光是散射性的。
7.根据权利要求4至6之一所述的照明装置（100），
其中所述颗粒（204）具有至少部分地吸收所述电磁辐射的材料、优选波长转换材料、优选发光物质或染料，或者由其构成。
8.根据权利要求1至7之一所述的照明装置（100），
其中所述光学功能结构（104）具有至少一个第一层（302）和第二层（304），其中所述第一层（302）和所述第二层（304）相同或不同地来构造。
9.根据权利要求1至8之一所述的照明装置（100），
其中所述光学功能结构（104）被构造为使得所述光学功能结构（104）过度填充所述第一电汇流排（108-1）和/或所述第二电汇流排（108-2），使得被过度填充的部分（504）至少在被过度填充的汇流排（108）的区域中构造基本上平滑的表面（118）。
10.根据权利要求1至9之一所述的照明装置（100），
其中所述照明装置（100）被构造为有机发光二极管或者有机显示指示器。
11.根据权利要求1至10之一所述的照明装置（100），
其中所述载体（102）被构造为对于所述电磁辐射的至少一部分是透明的或半透明的。
12.一种用于制造（600）照明装置（100）的方法，该方法包括：
•构造衬底（130），包括：
提供（602）载体（102）；
在所述载体（102）上或上方构造第一电汇流排；
在所述载体（102）上或上方构造第二电汇流排；以及
在所述载体（102）上或上方构造光学功能结构（104），其中所述光学功能结构（104）、所述第一电汇流排（108-1）和所述第二电汇流排（108-2）被构造为使得所述光学功能结构（104）在所述载体（102）上或上方横向地被构造在所述第一电汇流排（108-1）与所述第二电汇流排（108-2）之间；
• 在所述载体（102）上或上方构造第一电极（410），所述第一电极（410）与所述第一电汇流排（108-1）和/或所述第二电汇流排（108-2）电耦合；以及
•在所述第一电极（410）上或上方构造有机功能层结构（412），其中所述有机功能层结构（412）被构造用于将电流转变成电磁辐射；
•在所述有机功能层结构（412）上构造第二电极（414）；以及
•其中所述光学功能结构（104）被构造为使得穿过所述衬底（130）行进的电磁辐射的光路和/或穿过所述衬底（130）行进的电磁辐射的谱能够借助于所述光学功能层结构（104）被改变。
13.根据权利要求12所述的方法（600），
其中所述光学功能结构（104）、所述第一电汇流排（108-1）和/或所述第二电汇流排（108-2）以一个或多个分层被沉积在所述载体（102）上或上方。
14.根据权利要求12或13所述的方法（600），
其中所述光学功能结构（104）被构造为使得所述光学功能结构（104）作为用于构造所述第一电汇流排（108-1）和/或所述第二电汇流排（108-2）的支撑结构起作用。
15.根据权利要求12至14之一所述的方法（600），
其中所述载体（102）被构造为对于所述电磁辐射的至少一部分是透明的或半透明的。
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