CN106537551A - 具有四周封闭的腔挤压型材的真空设备、特别是等离子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种真空设备(10)，特别是等离子设备形式的真空设备。所述真空设备(10)具有真空腔(12)。真空腔(12)构造成连续封闭的腔挤压型材的形式。腔挤压型材的第一端侧优选用板件封闭。腔挤压型材的与第一端侧相对置的第二端侧具有能可逆地打开和关闭的门(16)。所述门(16)优选通过至少一个铰链(18、20)能摆动地固定在腔挤压型材上。横向于腔挤压型材的纵轴线完全封闭的侧壁使得能够简单且经济地制造真空腔(12)。优选真空腔(12)至少部分地容纳在壳体(14)中，所述壳体至少部分地同样构造成挤压型材的形式。

Description

具有四周封闭的腔挤压型材的真空设备、特别是等离子设备
技术领域
本发明涉及一种真空设备，所述真空设备具有真空腔，其中真空腔的平行于真空腔纵向中轴线延伸的外侧一体地由腔挤压型材构成。
背景技术
这种类型的真空设备由US 6,405,423 B1已知。这种已知的真空设备具有真空腔。真空腔的侧壁由腔挤压型材构成。腔挤压型材的端侧通过螺纹连接在腔挤压型材上的板件封闭。腔挤压型材在至少一个垂直于腔挤压型材端侧构成的外侧上，即在至少一个侧壁上具有用于对真空腔进行装载和卸载的开口。所述开口必须复杂地铣削到腔挤压型材中。
发明内容
与此相对，本发明的目的是，提供一种真空设备，所述真空设备的真空腔具有高度的密封性并且仍能够以简单且经济的方式和形式制造。
根据本发明，所述目的通过根据权利要求1的真空设备来实现。从属权利要求给出优选的改进方案。
根据本发明的目的因此通过一种真空设备来实现，所述真空设备具有真空腔，其中真空腔的平行于真空腔纵向中轴线延伸的外侧一体地由腔挤压型材构成，其中，所述腔挤压型材横向于真空腔纵向中轴线构造成完全封闭的并且具有端侧的、能可逆地打开和关闭的门。
因此，根据本发明，可以不必复杂地在腔挤压型材中铣削出开口。相反，腔挤压型材横向于真空腔纵向中轴线构造成完全封闭的。真空腔的装载和卸载通过其端侧进行，所述端侧构造成能可逆地打开和关闭的门的形式。与US 6,405,423 B1不同，因此在根据本发明的真空设备中，腔挤压型材在使用时不是竖直立起的，而是水平放置的。因此，在真空设备的运行中，真空腔纵向中轴线水平延伸。总体上，根据本发明的真空设备由此在结构上明显更为简单地构成并且因此可以较为经济地制造。
真空腔可以在第一端侧上具有可安放的门。这种可安放的门可以通过泵吸紧，以便封闭真空腔。备选于此，真空腔可以在第一端侧上具有滑移门。在可安放的门以及能滑移的门的情况下，真空腔都可以构造成无铰链的。但真空腔优选在第一端侧上具有能可摆动地打开和关闭的门。所述门的摆动轴线这里优选横向于真空腔纵向中轴线延伸，特别是垂直于与真空腔纵向中轴线平行的轴线延伸。真空设备由此可以在结构上特别简单和经济地构成。
为了在腔挤压型材上构成在端侧上能摆动的门，腔挤压型材可以在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线延伸的第一铰链突起，用于在门和腔挤压型材之间实现能摆动的连接的第一铰链设置在所述第一铰链突起上。通过第一铰链突起明显简化了第一铰链的安装。
腔挤压型材可以在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线延伸的第二铰链突起，用于在门和腔挤压型材之间实现能摆动的连接的第二铰链设置在所述第二铰链突起上。第二铰链突起加强门和腔挤压型材之间能摆动的连接，从而明显提高了门和腔挤压型材之间的密封性。
为了在腔挤压型材上保持关闭门，真空设备可以具有第一闭锁件，所述第一闭锁件设置在第一闭锁件保持突起上，所述闭锁件保持突起平行于真空腔纵向中轴线在腔挤压型材的外侧上构成。
在本发明的一个优选实施形式中，所述腔挤压型材在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线延伸的第二闭锁件保持突起，在所述第二闭锁件保持突起上设置用于将门在所述腔挤压型材上保持关闭的闭锁件。通过第二闭锁件进一步提高了门和腔挤压型材之间的密封性。
此外，腔挤压型材可以在其外侧上具有一个平行于真空腔纵向中轴线延伸的冷却片。所述腔挤压型材优选在其外侧上具有多个平行于真空腔纵向中轴线延伸的冷却片。通过所述冷却片，在很多应用场合可以不必使用水冷。
所述真空设备优选具有壳体。为了将真空腔固定在壳体上，所述腔挤压型材在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线延伸的第一固定突起。所述第一固定突起简化了真空腔在壳体上的装配，从而降低了装配成本。
所述腔挤压型材在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线延伸的、用于将真空腔固定在壳体上的第二固定突起。通过所述第二固定突起，真空腔在结构上特别简单同时更可靠地固定在真空设备的壳体上。
在本发明的另一个优选实施形式中，所述腔挤压型材在其内侧上具有两个相对置的、平行于真空腔纵向中轴线延伸的插入凹口，用于插入板件。由此明显简化了真空腔内部中的样品支座的制作。
所述腔挤压型材优选在其内侧上具有多个相对置的、平行于真空腔纵向中轴线延伸的插入凹口，用于插入板件。由此在制造腔挤压型材时就已经制成了多个板支座，由此明显简化了的真空设备的制造。
挤压型材与第一端侧相对的第二端侧可以具有用于向真空腔中导入和/或从真空腔中导出介质的凸缘。如果腔挤压型材由铝或铝合金构成，则可以实现特别简单和经济地制造真空设备。
此外，如果真空设备具有壳体，在所述壳体中容纳真空腔，其中壳体平行于真空腔纵向中轴线延伸的部分构造成壳体挤压型材的形式，则可以进一步明显简化真空设备的制造。换而言之，这样来简化真空设备的制造，即，不仅真空腔的主要部分、即腔挤压型材，而且壳体的一部分、即壳体挤压型材都能够通过挤压法制造。
在本发明的另一个优选实施形式中，腔挤压型材与挤压型材的壳体构造成一体的。
真空设备可以构造成真空干燥器的形式。
为此真空设备可以具有用于至少部分地排空真空腔的泵。此外，真空设备可以具有加热装置。
腔挤压型材可以至少在其内侧上镀镍，以便避免腐蚀。优选整个真空腔在其内侧上镀镍。
在本发明的另一个优选实施形式中，真空设备构造成等离子设备的形式。在这种情况下，在真空腔的内部可以设置至少一个等离子电极。等离子设备形式的真空设备此外可以具有泵、通风阀、气流仪、压力指示器和/或高压电源。
总而言之，可以设想在根据本发明的真空设备中使用挤压型材的以下变型方案：
a)真空腔具有腔挤压型材；
b)真空设备具有壳体挤压型材。
腔挤压型材可以与壳体挤压型材连接。例如腔挤压型材可以与壳体挤压型材连接焊接和/或螺纹连接。备选于此地，腔挤压型材和壳体挤压型材可以构造成一件式的、即一体的。
附图说明
本发明其他的特征和优点由下面参考附图中的图示对本发明的多个实施例的详细说明和权利要求得出，这些附图示出本发明重要的细节。
图中所示特征是这样示出的，即，能够使得根据本发明的特别之处清晰可见。不同的特征可以本身单独地或多个按任意组合地在本发明的变型方案中实现。
其中：
图1示出等离子设备形式的真空设备的透视图；
图2示出第一腔挤压型材的俯视图；
图3示出根据图2的第一腔挤压型材的俯视图，其中第一腔挤压型材固定在第一壳体挤压型材上；以及
图4示出第二腔挤压型材的俯视图，该第二腔挤压型材与第二壳体挤压型材构造成一体的。
具体实施方式
图1示出具有真空腔12的真空设备10。真空腔12基本上由壳体14包围。真空腔12具有门16，所述门通过铰链18、20能可摆动地打开和关闭。铰链18、20一方面固定在门16上，另一方面固定在腔挤压型材22(见图2)上。为了在腔挤压型材22上保持关闭门16，设有闭锁件24、26。闭锁件24、26一方面固定在腔挤压型材22(见图2)上，另一方面在门16关闭时嵌入门16的相应支座中。
真空腔12水平设置，就是说，在真空设备10的运行状态下，真空腔纵向中轴线28沿水平方向延伸。
真空设备10具有压力指示器30、计时器32、气流控制装置34、36以及高压控制装置38。压力指示器30用于显示真空腔12的内压。计时器32用于设定处理时间。通过气流测量装置34、36可以调整和控制进入真空腔12的气流。高压控制装置38用于给真空腔12中的等离子电极(未示出)供电。
图2示出腔挤压型材22。所述腔挤压型材22沿真空腔纵向中轴线28构造成同形的，真空腔纵轴线在图2中仅以点状示出。此外，腔挤压型材22关于真空腔纵向中平面40对称地构成。腔挤压型材22由铝制成。
腔挤压型材22在其外侧上具有第一铰链突起42和第二铰链突起44。铰链18、20(见图1)安装在所述铰链突起42、44上。腔挤压型材22此外还具有第一闭锁件保持突起46，第一闭锁件24(见图1)安装在第一闭锁件保持突起上。第二闭锁件26(见图1)固定在第二闭锁件保持突起48上。突起42、44、46、48使得能够实现，在结构上非常简单并且同时非常密封地以能摆动的布置形式将门16(见图1)设置在腔挤压型材22上。
为了冷却腔挤压型材22，腔挤压型材可以在其外侧上具有一个或多个冷却片50、52、54(在图2中用虚线示出)。
腔挤压型材22在其内侧上具有多个插入凹口，能够分别将一个板件(未示出)导入所述插入凹口中。为了清楚起见，在图2中仅第一插入凹口56和第二插入凹口58设有附图标记。插入凹口56、58彼此相对地关于真空腔纵向中平面40对称构成。
为了将腔挤压型材22固定在壳体14(见图1)上，腔挤压型材22具有固定突起60、62。
图3示出腔挤压型材22，所述腔挤压型材通过固定件64、66安装在壳体挤压型材68上。壳体挤压型材68构成壳体14(见图1)的一部分。在当前情况下，固定件64、66构造成螺栓的形式。
图4示出第二腔挤压型材70以及第二壳体挤压型材72，其中，与挤压型材22、68(见图3)不同，挤压型材70、72相互构造成一体的。由此可以实现特别高效地制造真空设备。
总而言之，本发明涉及一种真空设备、特别是等离子设备形式的真空设备。所述真空设备具有真空腔。所述真空腔的侧壁构造成连续封闭的腔挤压型材的形式。腔挤压型材的第一端侧优选用板件封闭。腔挤压型材的与第一端侧相对置的第二端侧具有能可逆地打开和关闭的门。所述门优选通过至少一个铰链能摆动地固定在腔挤压型材上。横向于腔挤压型材的纵轴线完全封闭的侧壁使得能够简单且经济地制造真空腔。优选真空腔至少部分地容纳在壳体中，所述壳体至少部分地同样构造成挤压型材的形式。

Claims (10)

1.真空设备(10)，具有真空腔(12)，其中真空腔(12)的平行于真空腔纵向中轴线(28)延伸的外侧一体地由腔挤压型材(22、70)构成，其特征在于，所述腔挤压型材(22、70)横向于真空腔纵向中轴线(28)构造成完全封闭的并且具有端侧的、能可逆地打开和关闭的门。
2.根据权利要求1所述的真空设备，其中，所述真空腔(12)在一个端侧上具有能安放的门、能滑移打开和关闭的门或者能可摆动地打开和关闭的门(16)。
3.根据权利要求2所述的真空设备，其中，所述腔挤压型材(22、70)在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线(28)延伸的铰链突起(42、44)，在所述铰链突起上设置用于在门(16)与腔挤压型材(22、70)之间实现能摆动的连接的铰链(18、20)。
4.根据上述权利要求之一所述的真空设备，其中，所述腔挤压型材(22、70)在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线(28)延伸的闭锁件保持突起(46、48)，在所述闭锁件保持突起上设置用于将门(16)在所述腔挤压型材(22、70)上关闭的闭锁件(24、26)。
5.根据上述权利要求之一所述的真空设备，其中，所述腔挤压型材(22、70)在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线(28)延伸的冷却片(50、52、54)。
6.根据上述权利要求之一所述的真空设备，其中，所述腔挤压型材(22、70)在其外侧上具有平行于真空腔纵向中轴线(28)延伸的固定突起(60、62)，用于将真空腔(12)固定在真空设备(10)的壳体(14)上。
7.根据上述权利要求之一所述的真空设备，其中，所述腔挤压型材(22、70)在其内侧上具有两个相对置的、平行于真空腔纵向中轴线(28)延伸的插入凹口(56、58)，用于插入板件。
8.根据上述权利要求之一所述的真空设备，其中，所述真空设备(10)具有壳体(14)，真空腔(12)容纳在所述壳体中，壳体(14)平行于真空腔纵向中轴线(28)延伸的部分构造成壳体挤压型材(68、72)的形式。
9.根据权利要求1至8之一所述的真空设备，其中，所述真空设备构造成真空干燥器的形式。
10.根据权利要求1至8之一所述的真空设备，其中，所述真空设备(10)构造成等离子设备的形式。
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ES (1) ES2670703T3 (zh)
TR (1) TR201810324T4 (zh)
WO (1) WO2016008844A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110177422A (zh) * 2018-02-21 2019-08-27 克里斯托夫-赫伯特·迪纳 低压等离子体腔及其制造方法和低压等离子体设备

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014213942B4 (de) * 2014-07-17 2016-01-28 Christof-Herbert Diener Vakuumanlage, insbesondere Plasmaanlage, mit einem rundum geschlossenen Kammerstrangpressprofil
JP1562489S (zh) * 2015-08-14 2016-11-07
EP3564538B1 (de) * 2019-02-20 2021-04-07 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumsystem und verfahren zur herstellung eines solchen
CN112414014A (zh) * 2020-11-13 2021-02-26 河南泓医药业有限公司 一种独一味粉（冻干）的生产装置及生产方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1984002287A1 (en) * 1982-12-09 1984-06-21 Rovac Ab Arrangement enabling the treatment and/or manufacture of objects to take place inside a chamber
US6405423B1 (en) * 1998-09-10 2002-06-18 Applied Materials, Inc. Method for producing vacuum processing chambers
EP1221492A2 (de) * 2000-12-29 2002-07-10 Alcan Technology & Management AG Behälter aus einer Leichtmetalllegierung und Verfahren zu seiner Herstellung
US20080286697A1 (en) * 2001-08-31 2008-11-20 Steven Verhaverbeke Method and apparatus for processing a wafer
CN101642002A (zh) * 2007-02-12 2010-02-03 互曼迈迪泰克公司 一种真空室门
CN102712021A (zh) * 2010-02-12 2012-10-03 诺尔斯海德公司 模块化挤压模具
CN202673051U (zh) * 2012-07-07 2013-01-16 东莞百进五金塑料有限公司 产品表面喷涂真空室活动支铰密封门
CN103675734A (zh) * 2012-09-05 2014-03-26 通用电气公司 热膛筒组件

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3795986A (en) * 1971-12-13 1974-03-12 Cenco Medical Health Supply Co Modular compartment sublimator
US4526670A (en) * 1983-05-20 1985-07-02 Lfe Corporation Automatically loadable multifaceted electrode with load lock mechanism
US5288218A (en) * 1993-02-11 1994-02-22 Mikron Industries Extrusion calibrator
WO1996022496A1 (en) * 1995-01-20 1996-07-25 Freezedry Specialties, Inc. Freeze dryer
US5746434A (en) * 1996-07-09 1998-05-05 Lam Research Corporation Chamber interfacing O-rings and method for implementing same
US8648977B2 (en) * 2004-06-02 2014-02-11 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for providing a floating seal having an isolated sealing surface for chamber doors
US8206075B2 (en) * 2004-06-02 2012-06-26 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for sealing a chamber
WO2007127286A2 (en) * 2006-04-24 2007-11-08 Medical Instill Technologies, Inc. Needle penetrable and laser resealable lyophilization device and related method
DE102007021386A1 (de) * 2007-05-04 2008-11-06 Christof-Herbert Diener Kurztaktniederdruckplasmaanlage
DE102007060515A1 (de) * 2007-12-13 2009-06-18 Christof-Herbert Diener Oberflächenbehandlungsverfahren
DE102009002337B4 (de) * 2009-04-09 2013-07-11 Christof-Herbert Diener Indikator zur Überwachung eines Plasmas
CA2888741C (en) * 2012-10-26 2022-01-04 James J. Sanfilippo Flexible package and method of making the same
US10207850B2 (en) * 2012-10-26 2019-02-19 Primapak, Llc. Flexible package and method of making same
WO2014159696A1 (en) * 2013-03-13 2014-10-02 Stryker Corporation Sterilization container capable of providing an indication regarding whether or not surgical instruments sterilized in the container were properly sterilized
DE102014213942B4 (de) * 2014-07-17 2016-01-28 Christof-Herbert Diener Vakuumanlage, insbesondere Plasmaanlage, mit einem rundum geschlossenen Kammerstrangpressprofil

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1984002287A1 (en) * 1982-12-09 1984-06-21 Rovac Ab Arrangement enabling the treatment and/or manufacture of objects to take place inside a chamber
US6405423B1 (en) * 1998-09-10 2002-06-18 Applied Materials, Inc. Method for producing vacuum processing chambers
EP1221492A2 (de) * 2000-12-29 2002-07-10 Alcan Technology & Management AG Behälter aus einer Leichtmetalllegierung und Verfahren zu seiner Herstellung
US20080286697A1 (en) * 2001-08-31 2008-11-20 Steven Verhaverbeke Method and apparatus for processing a wafer
CN101642002A (zh) * 2007-02-12 2010-02-03 互曼迈迪泰克公司 一种真空室门
CN102712021A (zh) * 2010-02-12 2012-10-03 诺尔斯海德公司 模块化挤压模具
CN202673051U (zh) * 2012-07-07 2013-01-16 东莞百进五金塑料有限公司 产品表面喷涂真空室活动支铰密封门
CN103675734A (zh) * 2012-09-05 2014-03-26 通用电气公司 热膛筒组件

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110177422A (zh) * 2018-02-21 2019-08-27 克里斯托夫-赫伯特·迪纳 低压等离子体腔及其制造方法和低压等离子体设备
US11532465B2 (en) 2018-02-21 2022-12-20 Christof-Herbert Diener Low-pressure plasma chamber, low-pressure plasma installation and method for producing a low-pressure plasma chamber

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