TR201810324T4 - Tamamen kapatılmış bir hazne kalıptan çekme profiline sahip vakum tesisi, özellikle de plazma tesisi. - Google Patents

Tamamen kapatılmış bir hazne kalıptan çekme profiline sahip vakum tesisi, özellikle de plazma tesisi. Download PDF

Info

Publication number
TR201810324T4
TR201810324T4 TR2018/10324T TR201810324T TR201810324T4 TR 201810324 T4 TR201810324 T4 TR 201810324T4 TR 2018/10324 T TR2018/10324 T TR 2018/10324T TR 201810324 T TR201810324 T TR 201810324T TR 201810324 T4 TR201810324 T4 TR 201810324T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
chamber
vacuum
profile
vacuum chamber
plant
Prior art date
Application number
TR2018/10324T
Other languages
English (en)
Inventor
Diener Christof-Herbert
Original Assignee
Christof Herbert Diener
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Christof Herbert Diener filed Critical Christof Herbert Diener
Publication of TR201810324T4 publication Critical patent/TR201810324T4/tr

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/04Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by evaporation or sublimation of moisture under reduced pressure, e.g. in a vacuum
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32458Vessel
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/16Vessels; Containers
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/14Plasma, i.e. ionised gases
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/087Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B01J19/088Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67155Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
    • H01L21/6719Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0894Processes carried out in the presence of a plasma

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Buluş, özellikle de bir plazma tesisi formunda bir vakum tesisiyle (10) ilgilidir. Vakum tesisi (10), bir vakum haznesi (12) içerir. Vakum haznesinin (12) yan duvarları, sürekli kapatılmış bir hazne kalıptan çekme profili formunda yapılandırılmıştır. Hazne kalıptan çekme profilinin bir birinci alın tarafı tercihen bir plakayla kapatılmıştır. Hazne kalıptan çekme profilinin birinci alın tarafının karşısında bulunan bir ikinci alın tarafı, tersinir açılabilen ve kapatılabilen bir kapı (16) içerir. Kapı (16) tercihen en az bir menteşe (18, 20) vasıtasıyla döndürülebilecek şekilde hazne kalıptan çekme profilinde sabitlenmiştir. Hazne kalıptan çekme profilinin uzunlamasına ekseninin enine tamamen kapatılmış yan duvarlar, vakum haznesinin (12) basit ve ucuz bir imalatını mümkün kılarlar. Tercihen, vakum haznesi (12), en azından kısmen aynı şekilde bir kalıptan çekme profili formunda yapılandırılmış bir muhafaza (14) içerisine, en azından kısmen alınmıştır.

Description

TARIFNAMETAMAMEN KAPATILMIS BIR HAZNE KALIPTAN CEKME PROFILINE SAHIP VAKUM TESISI. ÖZELLIKLE DE PLAZMA TESISIBulus, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan vakum haznesi dis tarafinin tek parça halinde bir hazne kaliptan çekme profilinden yapilandirilmis oldugu, bir vakum haznesine sahipbir vakum tesisiyle ilgilidir.Bu tarz bir türüne uygun vakum tesisi US 6,405,423 B1”den bilinmektedir. Bilinen vakum tesisi, bir vakuin haznesi içerir. Vakum haznesinin yan duvarlari bir hazne kaliptan çekme profilinden olusurlar. Hazne kaliptan çekme profilinin alin taraflari, hazne kaliptan çekme profiline Vidalanmis plakalar vasitasiyla kapatilmistir.
Hazne kaliptan çekme profili, hazne kaliptan çekme profilinin alin tarafina dik olarak yapilandirilmis en az bir dis tarafta, yani bir yan duvarda, vakum haznesinin doldurulmasi ve bosaltilmasi için bir açiklik içerir. Açikligin, hazne kaliptan çekme profili içerisine çaba vepara harcanarak frezeleninesi gerekir.Buna göre, mevcut bulusun görevi, vakum haznesi yüksek bir sizdirmazlik içeren ve buna ragmeii kolay ve ucuz bir sekilde imaledilebilen bir vakum tesisinin temin edilmesidir.
Bu görev, bulusa uygun olarak, istem 1°e uygun bir vakuin tesisi sayesinde yerine getirilir. Alt istemler, tercih edilen daha dagelistirilmis uygulama sekillerini verirler.Bulusa uygun görev, böylece, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan vakum haznesi dis tarafinin tek parça halinde bir hazne kaliptan çekme profilinden yapilandirilmis oldugu, bir vakum haznesine sahip bir vakum tesisi sayesinde yerine getirilmekte olup, burada hazne kaliptan çekme profili, vakuin haznesi inerkezi uzunlamasina ekseninin enine tamamen kapatilmis olarak yapilandirilmistir ve alin tarafinda tersinir açilabilen ve kapatilabilenbir kapi içerir.Bulusa göre, böylece, hazne kaliptan çekme profili içerisine bir açikligin çaba ve harcama gerektiren frezelenmesinden feragat edilir.
Daha ziyade, hazne kaliptan çekme profili, vakum haznesi merkezi uzunlamasina ekseninin eniiie tamamen kapatilmis olarak yapilandirilir. Vakum haznesinin doldurulmasi ve bosaltilmasi, bunun bir tersinir açilabilen ve kapatilabilen kapi formunda yapilandirilmis alin tarafi üzerinden gerçeklesir. US 6,405,423 Bl”in tersine, hazne kaliptan çekme profili, böylece, bulusa uygun vakum tesisinde, dikey duracak sekilde degil, bilakis yatay duracak sekilde kullanilir. Vakum haznesi merkezi uzunlamasina ekseni, bu yüzden, vakum tesisinin isletiminde yatay olarak uzanir. Toplamda, bulusa uygun vakum tesisi, bu sekilde konstrüktif açidan çok daha basit yapilandirilabilir ve böylelikle daha ucuz imal edilebilir.Vakum haziiesi, bir birinci aliii tarafinda, üste yerlestirilebilir bir kapiiçerebilir. Bu tür bir üste yerlestirilebilir kapi, vakum haznesinin kapatilmasi için, bir pompa vasitasiyla emilebilir. Buna alternatif olarak, vakum haznesi, bir birinci alin tarafinda bir sürme kapi içerebilir. Hem üste yerlestirilebilir bir kapi, hem de bir sürme kapi durumunda, vakum haznesi mentesesiz olarak yapilandirilabilir.
Bulusa göre, vakum haznesi, ancak bir birinci alin tarafinda bir dönerek açilabilen ve kapatilabilen kapi içerir. Kapinin dönme ekseni burada tercihen vakum haznesi merkezi uzunlamasina ekseninin enine, özellikle de vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel bir eksene dik olarak uzanir. Vakum tesisi bu sekilde konstrüktif açidan özellikle basit ve ucuz imal edilebilir.Alin tarafinda döndürülebilen bir kapinin hazne kaliptan çekme profilinde yapilandirilmasi için, hazne kaliptan çekme profili, bulusa göre dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan bir birinci mentese çikintisi içermekte olup, bu mentese çikintisinda bir birinci mentese, kapi ile hazne kaliptan çeknie profili arasinda bir döner baglanti için düzenlenmistir. Birinci mentese çikintisi sayesinde, bir birinci mentesenin montaji önemli ölçüde kolaylastirilir. Hazne kaliptan çekme profili, dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan bir ikinci mentese çikintisi içerebilir, bu mentese çikintisinda bir ikinci mentese, kapi ile hazne kaliptan çekme profili arasinda bir döner baglanti için düzenlenmistir. Ikinci mentese, kapi ile hazne kaliptan çekme profili arasinda döner baglantiyi sabitler, böylece kapi ile hazne kaliptançekme profili arasindaki sizdirmazlik önemli ölçüde arttirilir.Hazne kaliptan çekme profiliiide kapinin kapatilmasi için, vakum tesisi, bir birinci mandal tutma çikintisinda düzenlenmis bir birincimandal içerebilir, burada manda] tutma çikintisi, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel olarak hazne kaliptan çekmeprofilinin dis tarafinda yapilandirilmistir.Bulusun tercih edilen yapilandirma seklinde, hazne kaliptan çekme profili, dis tarafinda vakuin haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan bir ikinci maiidal tutma çikintisi içermekte olup, bu mandal tutma çikintisinda bir ikinci mandal, kapinin hazne kaliptan çekme profilinde kapatilmasi için düzenlenmistir. Ikinci maiidal vasitasiyla, kapi ile hazne kaliptaii çekme profili arasindakisizdirinazlik daha da arttirilir.Hazne kaliptan çekme profili, ayrica, dis tarafinda, vakum haznesi nierkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan bir sogutma kanadi da içerebilir. Tercihen, hazne kaliptan çekme profili, dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan çok sayida sogutma kanadi içerir. Sogutma kanadi(kanatlari) sayesinde birçokuygulamada suyun sogutulinasindan feragat edilebilir.Vakum tesisi tercihen bir muhafaza içerir. Vakum haznesinin bu muhafazada sabitlenmesi için, hazne kaliptan çekme profili, dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan bir birinci sabitleme çikintisi içerebilir. Birinci sabitleme çikintisi, vakum haznesinin muhafazaya montajini kolaylastirir,böylece montaj maliyeti düsürülür.Tercihen, hazne kaliptan çekme profili, dis tarafinda, vakum haznesiniii vakum tesisinin muhafazasinda sabitlenmesi için, vakumhaznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan bir ikinci sabitleme çikintisi içerir. Ikinci sabitleine çikintisi sayesinde, vakum haznesi konstrüktif açidan 'özellikle basit ve ayni zainanda emniyetliolarak vakum tesisinin muhafazasinda sabitlenir.Bulusun daha da tercih edilen yapilandirma seklinde, hazne kaliptan çekme profili, iç tarafinda, bir plakanin içeri itilmesi için, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan iki karsilikli içeri itme oyugu içerir. Bu sayede, bir vakum haznesinin içerisinde birnumune tutucunun imalati basitlestirilir.Tercihen, haziie kaliptan çekme profili, iç tarafinda, plakalarin içeri itilmesi için, vakum haznesi inerkezi uzunlainasina eksenine paralel uzanan çok sayida karsilikli içeri itme oyugu içerir. Hazne kaliptan çekine profilinin iinalatinda bile, bu sayede, birden fazla plaka tutucu elde edilir, bu sekilde vakum tesisinin imalati 'Önemli ölçüdekolaylastirilir.Kaliptan çekme profilinin birinci alin tarafinin karsisinda bulunan bir ikinci alin tarafi, bir vasatin hazne içerisine beslenmesi ya dahazneden disari bosaltilmasi için bir flans içerebilir.Hazne kaliptan çekme profili alüminyumdan veya bir alüminyum alasiinindan yapilandirildiginda, vakum haznesinin 'ozellikle basit veucuz bir imalati gerçeklesir.Vakum tesisi, içerisine vakuin haziiesinin alindigi bir muhafaza içerdiginde, vakum tesisinin imalati çok daha kolaylastirilir, bu siradamuhafazanin vakum haznesi merkezi uzunlainasina eksenine paralel uzanan bir kisini, bir muhafaza kaliptan çekme profili formunda yapilandirilmistir. Bir baska deyisle: vakum tesisinin imalati, vakuin haznesinin sadece 'Önemli bir kisminin, yani hazne kaliptan çekme profilinin degil, bilakis ayrica muhafazanin bir kisminin, yani muhafaza kaliptan çekme profiliiiin de bir kaliptan çekme yöntemivasitasiyla elde edilebilmesi sayesinde basitlestirilir.Bulusuii daha da tercih edilen yapilandirma seklinde, hazne kaliptan çekme profili, kaliptan çekme profiliiiin muhafazasiyla tek parçahalinde yapilandirilmistir.Vakum tesisi, bir vakumlu kurutucu formunda yapilandirilmis olabilir.Vakum tesisi, bunun için, vakum haznesinin havasinin en azindan kismen bosaltilmasi amaciyla bir pompa içerebilir. Ayrica, vakumtesisi bir isitici da içerebilir.Kaliptan çekme profili, korozyonu önlemek için, en azindan iç tarafinda nikelle kaplanmis olabilir. Tercihen, toplam vakum haznesi,iç tarafinda nikelle kaplanmistir.Bulusun daha da tercih edilen yapilandirma seklinde, vakum tesisi, bir plazma tesisi formunda yapilandirilmistir. Vakum tesisinin içerisinde, bu durumda, en az bir plazma elektrotu düzenlenmis olabilir. Bir plazma tesisi formunda vakum tesisi, ayrica, bir pompa, bir havalandirma valfi, bir gaz akis ölçer, bir basinç göstergesi ve/veya biryüksek gerilim besleme birimi de içerebilir.
Ozetlemek gerekirse, bulusa uygun vakum tesisi kapsaminda bir kaliptan çekme profilinin kullanimi içiii asagidaki varyantlardüsünülebilir:a) vakum haznesi bir hazne kaliptan çekme profili içerir;b) vakum tesisi bir muhafaza kaliptan çekme profili içerir.Hazne kaliptan çekme profili, muhafaza kaliptan çekme profiline baglanmis olabilir. Örnegin, hazne kaliptan çekme profili, muhafaza kaliptan çekme profiline kaynaklanmis ve/Veya Vidalanmis olabilir.
Buna alternatif olarak, hazne kaliptan çekme profili ve muhafaza kaliptan çekme profili tek kisim halinde, yani tek parça halinde yapilandirilmis olabilir. Bulusun diger özellikleri ve avantajlari, bulus açisindan önemli detaylari gösteren çizimin Sekilleri yardimiyla, bulusun birden fazla uygulama örneginin asagidaki detayli tarifinden ve ayrica istemlerden elde edilir. Çizim içerisinde gösterilen özellikler, bulusa uygun detaylar açikça görülebilecek sekildegösterilmistir.Burada:Sekil 1, bir plazma tesisi formunda bir vakum tesisinin bir perspektif görünüsünü;Sekil 2, bir birinci hazne kaliptan çekme profilinin bir yukaridan görünüsünü;Sekil 3, Sekil Z'ye göre birinci hazne kaliptan çekme profilinin bir yukaridan görünüsünü göstermekte olup, burada birinci hazne kaliptan çekme profili, bir birinci muhafaza kaliptan çekme profilindesabitlenmistir; ve Sekil 4, bir ikinci muhafaza kaliptan çekme profiliyle tek parça halinde yapilandirilmis bir ikinci hazne kaliptan çekine profilinin biryukaridan görünüsünügösterir.Sekil 1, bir vakum haznesine (12) sahip bir vakum tesisini (10) gösterir. Vakum haznesi (12), mümkün oldugunca bir muhafaza (14) tarafindan çevrelenmistir. Vakum haznesi (12), menteseler (18, 20) vasitasiyla dönerek açilabilen ve kapatilabilen bir kapi (16) içerir.
Menteseler (18, 20), bir uçtan kapida (16) ve diger uçtan bir hazne kaliptan çekme profilinde (22) (bkz. Sekil 2) sabitlenmistir. Kapinin (16) hazne kaliptan çekme profilinde (22) kapatilmasi için, mandallar (24, 26) öngörülmüstür. Mandallar (24, 26), bir uçtan hazne kaliptan çekme profilinde (22) (bkz. Sekil 2) sabitlenmistir, ve kapi (16) kapali oldugunda, diger uçtan, kapinin (16) uygun tutuculari içerisinekavrarlar.Vakum haznesi (12) yatay olarak düzenlenmistir, yani bir vakum haznesi merkezi uzunlamasina ekseni (28), vakum tesisinin (10)isletim durumunda yatay yönde uzanir.Vakum tesisi (10), bir basinç göstergesi (30), bir zaman ayarlayici (32), gaz akisi kumanda tesisatlari (34, 36) ve ayrica bir yüksek gerilim kuinandasi (38) içerir. Basinç göstergesi (30), vakum haznesinin (12) iç basincinin gösterilmesine yarar. Zaman ayarlayici (32), bir proses zamaninin ayarlanmasi islevini görür. Gaz akisikumanda tesisatlari (34, 36) sayesinde, vakum haznesi (12) içerisindeki gaz akisi ayarlanabilir ve kontrol edilebilir. Yüksek gerilim kumandasi (38), vakum haznesi (12) içerisinde (gösterilmeyen) bir plazma elektrotunun geriliminin beslenmesineyarar.Sekil 2, hazne kaliptan çekme profilini (22) gösterir. Hazne kaliptan çekme profili (22), Sekil 2”de sadece noktali çizgilerle gösterilmis olan vakuin haziiesi merkezi uzunlamasina ekseni (28) yönünde düzgün olarak yapilandirilmistir. Ayrica, hazne kaliptan çekme profili (22), bir vakum haznesi merkezi uzunlamasina düzlemine (40) simetrik olarak yapilandirilmistir. Hazne kaliptan çekme profili (22)alüminyumdan yapilmistir.Hazne kaliptan çekme profili (22), dis tarafinda, bir birinci mentese çikintisi (42) ve bir ikinci mentese çikintisi (44) içerir. Menteseler (18, ) (bkz. Sekil 1), mentese çikintilarina (42, 44) monte edilmistir.
Hazne kaliptan çekme profili (22), ayrica, birinci mandalin (24) (bkz.
Sekil 1) monte edilmis oldugu bir birinci mandal tutma çikintisi (46) da içerir. Ikinci inandal (26) (bkz. Sekil 1), bir ikinci mandal tutma çikintisinda (48) sabitlenmistir. Çikintilar (42, 44, 46, 48), kapinin (16) (bkz. Sekil 1), hazne kaliptan çekme profilinde (22), dönebilecek sekilde, konstrüktif açidan basit ve ayni zamanda çok sizdirmaz olarakdüzenlenmesini mümkün kilarlar.Hazne kaliptan çekme profilinin (22) sogutulmasi için, bu dis tarafinda bir veya daha fazla sogutma kanadi (50, 52, 54) (Sekil 2”dekesik çizgilerle gösterilmistir) içerebilir.
Hazne kaliptan çekme profili (22), iç tarafinda, içlerine birer (gösterilmeyen) plakanin geçirilebildigi birden fazla içeri itme oyugu içerir. Kolay görülebilme açisindan, Sekil 2'de, sadece, bir birinci içeri itme oyugu (56) ve bir ikinci içeri atma oyugu (58) bir referans isaretle donatilmistir. Içeri itme oyuklari (56, 58), vakum haznesi uzunlamasina düzlemine (40) simetrik olarak karsilikliyapilandirilmistir.Hazne kaliptan çekme profilinin (22) muhafazada (14) (bkz. Sekil 1) sabitlenmesi için, hazne kaliptan çekme profili (22), sabitlemeçikintilari (60, 62) içerir.Sekil 3, sabitleme araçlari (64, 66) vasitasiyla bir muhafaza kaliptan çekme profiline (68) monte edilmis olan hazne kaliptan çekme profilini (22) gösterir. Muhafaza kaliptan çekme profili (68), muhafazanin (14) bir kismini (bkz. Sekil 1) olusturur. Mevcut durumda, sabitleme araçlari (64, 66), Vidalar formundayapilandirilmistir.Sekil 4, bir ikinci hazne kaliptan çekme profilini (70) ve ayrica bir ikinci muhafaza kaliptan çekme profilini (72) göstermekte olup, burada kaliptan çekme profilleri (70, 72), kaliptan çekme profillerinin (22, 68) tersine (bkz. Sekil 3) tek parça halinde yapilandirilmistir. Busayede, bir vakum tesisi özellikle de verimli bir sekilde iinal edilebilir.Kisaca özetlemek gerekirse, bulus, 'Özellikle de bir plazma tesisi formunda bir vakuin tesisiyle ilgilidir. Vakum tesisi, bir vakuinhaznesi içerir. Vakum haznesinin yan duvarlari, sürekli kapatilmis bir hazne kaliptan çekme profili formunda yapilandirilmistir. Hazne kaliptan çekme profilinin bir birinci alin tarafi tercihen bir plakayla kapatilmistir. Hazne kaliptan çekme profilinin birinci alin tarafinin karsisinda bulunan bir ikinci alin tarafi, tersinir açilabilen ve kapatilabilen bir kapi içerir. Kapi en az bir inentese vasitasiyla döndürülebilecek sekilde hazne kaliptan çekme profilinde sabitlenmistir. Bunun için, hazne kaliptan çekme profili, dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine paralel uzanan bir mentese çikintisi içerinekte olup, bu mentese çikintisinda bir mentese düzenlenmistir. Hazne kaliptan çekme profilinin uzunlamasina ekseninin enine tamamen kapatilmis yan duvarlar, vakum haznesinin basit ve ucuz bir imalatini mümkün kilarlar. Tercihen, vakum haznesi, en azindan kismen ayni sekilde bir kaliptan çekme profili formundayapilandirilmis bir muhafaza içerisine, en azindan kismen alinmistir. 12TARIFNAME IÇERISINDE ATIF YAPILAN REFERANSLARBasvuru sahibi tarafindan atif yapilan referanslara iliskin bu liste, yalnizca okuyucunun yardimi içindir ve Avrupa Patent Belgesinin bir kismini olusturmaz. Her ne kadar referanslarin derlenmesine büyük önem verilmis olsa da, hatalar veya eksiklikler engellenememektedirve EPO bu baglamda hiçbir sorumluluk kabul etmemektedir.Tarifname içerisinde atifta bulunulan patent dökümanlari:. US 6405423 B1 [0002] [0006]

Claims (8)

ISTEMLER
1. Vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine (28) paralel uzanan vakum haznesi (12) dis tarafinin tek parça halinde bir hazne kaliptan çekme profiliiiden (22, 70) yapilandirilmis oldugu, bir vakuin haznesiiie (12) sahip vakum tesisi (10) olup, karakterize edici merkezi uzunlamasina ekseniniii (28) enine tainaineii kapatilmis olarak yapilandirilmis olmasi ve alin tarafinda tersinir açilabilen ve kapatilabilen bir kapi içermesi, burada vakum haznesinin (12), bir alin tarafinda, dönerek açilabilen ve kapatilabilen bir kapi (16) içermesi, burada hazne kaliptan çekme profilinin (22, 70), bir dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzunlamasina ekseniiie (28) paralel uzanan bir mentese çikintisi (42, 44) içermesi, bu mentese çikintisinda, kapi (16) ile hazne kaliptan çekme profili (22, 70) arasiiida bir döner baglanti için bir mentesenin (18, 20) düzenlenmis olmasidir,
2. Istem lie uygun vakuin tesisi olup, burada hazne kaliptan çekme profili (22, 70), bir dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzuiilamasina eksenine (28) paralel uzanan bir inandal tutma çikintisi (46, 48) içerir, bu manda] tutma çikintisinda, kapinin (16) hazne kaliptan çekme profilinde (22, 70) kapatilmasi için bir manda] (24, 26) düzenlenmistir.
3. Oiiceki istemlerden birine uygun vakum tesisi olup, burada hazne kaliptan çekme profili (22, 70), bir dis tarafinda, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine (28) paralel uzanan bir sogutma kanadi (50, 52, 54) içerir.
4. Önceki istemlerden birine uygun vakum tesisi olup, burada hazne kaliptan çekme profili (22, 70), bir dis tarafinda, vakum haznesinin (12) vakum tesisinin (10) bir muhafazasinda (14) sabitlenmesi için, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine (28) paralel uzanan bir sabitleme çikintisi (60, 62) içerir.
5. Onceki istemlerden birine uygun vakum tesisi olup, burada hazne kaliptan çekme profili (22, 70), bir iç tarafinda, bir plakaiiin içeri itilinesi için, vakum haznesi merkezi uzunlamasina eksenine (28) paralel uzanan iki karsilikli içeri itnie oyugu (56, 58) içerir.
6. Onceki istemlerden birine uygun vakum tesisi olup, burada vakum tesisi (10), içerisine vakum haznesi (12) alinan bir muhafaza (14) içerir, burada muhafazanin (14) vakum haznesi merkezi uzunlamasina ekseniiie (28) paralel uzanan bir kismi, bir muhafaza kaliptan çekme profili (68, 72) formunda yapilandirilmistir.
7. l”den 6sya kadar olan istemlerdeii birine uygun vakum tesisi olup, burada vakum tesisi, bir vakumlu kurutucu formunda yapilandirilmistir.
8. l”den 6'ya kadar olan istenilerden birine uygun vakum tesisi olup, burada vakum tesisi (10), bir plazma tesisi formunda yapilandirilmistir.
TR2018/10324T 2014-07-17 2015-07-13 Tamamen kapatılmış bir hazne kalıptan çekme profiline sahip vakum tesisi, özellikle de plazma tesisi. TR201810324T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014213942.2A DE102014213942B4 (de) 2014-07-17 2014-07-17 Vakuumanlage, insbesondere Plasmaanlage, mit einem rundum geschlossenen Kammerstrangpressprofil

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201810324T4 true TR201810324T4 (tr) 2018-08-27

Family

ID=53682673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2018/10324T TR201810324T4 (tr) 2014-07-17 2015-07-13 Tamamen kapatılmış bir hazne kalıptan çekme profiline sahip vakum tesisi, özellikle de plazma tesisi.

Country Status (7)

Country Link
US (1) US10041730B2 (tr)
EP (1) EP3170196B1 (tr)
CN (1) CN106537551B (tr)
DE (1) DE102014213942B4 (tr)
ES (1) ES2670703T3 (tr)
TR (1) TR201810324T4 (tr)
WO (1) WO2016008844A1 (tr)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014213942B4 (de) * 2014-07-17 2016-01-28 Christof-Herbert Diener Vakuumanlage, insbesondere Plasmaanlage, mit einem rundum geschlossenen Kammerstrangpressprofil
JP1562489S (tr) * 2015-08-14 2016-11-07
DE102018103949A1 (de) * 2018-02-21 2019-08-22 Christof-Herbert Diener Niederdruckplasmakammer, Niederdruckplasmaanlage und Verfahren zur Herstellung einer Niederdruckplasmakammer
EP3564538B1 (de) * 2019-02-20 2021-04-07 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumsystem und verfahren zur herstellung eines solchen
CN112414014A (zh) * 2020-11-13 2021-02-26 河南泓医药业有限公司 一种独一味粉(冻干)的生产装置及生产方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3795986A (en) * 1971-12-13 1974-03-12 Cenco Medical Health Supply Co Modular compartment sublimator
SE450692B (sv) * 1982-12-09 1987-07-20 Rovac Technology Ab Anordning for att mojliggora undertrycksbehandling i en behandlingskammare
US4526670A (en) * 1983-05-20 1985-07-02 Lfe Corporation Automatically loadable multifaceted electrode with load lock mechanism
US5288218A (en) * 1993-02-11 1994-02-22 Mikron Industries Extrusion calibrator
WO1996022496A1 (en) * 1995-01-20 1996-07-25 Freezedry Specialties, Inc. Freeze dryer
US5746434A (en) * 1996-07-09 1998-05-05 Lam Research Corporation Chamber interfacing O-rings and method for implementing same
US6182851B1 (en) * 1998-09-10 2001-02-06 Applied Materials Inc. Vacuum processing chambers and method for producing
US6579579B2 (en) * 2000-12-29 2003-06-17 Alcan Technology & Management Ltd. Container made of a light metal alloy and process for its manufacture
US20030045098A1 (en) * 2001-08-31 2003-03-06 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for processing a wafer
US8648977B2 (en) * 2004-06-02 2014-02-11 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for providing a floating seal having an isolated sealing surface for chamber doors
US8206075B2 (en) * 2004-06-02 2012-06-26 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for sealing a chamber
WO2007127286A2 (en) * 2006-04-24 2007-11-08 Medical Instill Technologies, Inc. Needle penetrable and laser resealable lyophilization device and related method
KR100892781B1 (ko) * 2007-02-12 2009-04-15 주식회사 휴먼메디텍 진공챔버용 도어
DE102007021386A1 (de) * 2007-05-04 2008-11-06 Christof-Herbert Diener Kurztaktniederdruckplasmaanlage
DE102007060515A1 (de) * 2007-12-13 2009-06-18 Christof-Herbert Diener Oberflächenbehandlungsverfahren
DE102009002337B4 (de) * 2009-04-09 2013-07-11 Christof-Herbert Diener Indikator zur Überwachung eines Plasmas
WO2011099868A1 (en) * 2010-02-12 2011-08-18 Norsk Hydro Asa Modular extrusion die
CN202673051U (zh) * 2012-07-07 2013-01-16 东莞百进五金塑料有限公司 产品表面喷涂真空室活动支铰密封门
US10281538B2 (en) * 2012-09-05 2019-05-07 General Electric Company Warm bore cylinder assembly
CA2888741C (en) * 2012-10-26 2022-01-04 James J. Sanfilippo Flexible package and method of making the same
US10207850B2 (en) * 2012-10-26 2019-02-19 Primapak, Llc. Flexible package and method of making same
WO2014159696A1 (en) * 2013-03-13 2014-10-02 Stryker Corporation Sterilization container capable of providing an indication regarding whether or not surgical instruments sterilized in the container were properly sterilized
DE102014213942B4 (de) * 2014-07-17 2016-01-28 Christof-Herbert Diener Vakuumanlage, insbesondere Plasmaanlage, mit einem rundum geschlossenen Kammerstrangpressprofil

Also Published As

Publication number Publication date
CN106537551A (zh) 2017-03-22
US20170122663A1 (en) 2017-05-04
EP3170196A1 (de) 2017-05-24
EP3170196B1 (de) 2018-05-02
DE102014213942B4 (de) 2016-01-28
WO2016008844A1 (de) 2016-01-21
CN106537551B (zh) 2018-05-08
US10041730B2 (en) 2018-08-07
ES2670703T3 (es) 2018-05-31
DE102014213942A1 (de) 2016-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TR201810324T4 (tr) Tamamen kapatılmış bir hazne kalıptan çekme profiline sahip vakum tesisi, özellikle de plazma tesisi.
EP2762815A2 (en) A home appliance comprising a transfer element between a body and a door thereof
CN105466778B (zh) 一种适用于多环境真空测试的设备
ITTO20130710A1 (it) Apparecchio di refrigerazione con passaggio per elemento tubolare flessibile tra armadio e porta
KR20190068701A (ko) 좁은 회전 반경을 갖는 접이식 여닫이 도어장치
CA3023517C (en) Hinge mounted cabinet
Bajpai et al. Binding of DNA-bending non-histone proteins destabilizes regular 30-nm chromatin structure
ES2310859T3 (es) Sistema de apertura de movimiento dual para unidades expositoras.
ES2551509T3 (es) Sistema de transferencia de agua
US10080446B2 (en) Refrigerated sales furniture
CN209463433U (zh) 一种多功能钱箱
CN210886123U (zh) 铝型材精密在线风冷淬火系统
KR101397430B1 (ko) 가스유입조절수단이 구비된 세포배양 인큐베이터
JP2010227272A (ja) 防曇鏡付き混合水栓装置
CN209413745U (zh) 活动门组件
CN205858009U (zh) 一种柜体暗铰链
CN208462247U (zh) 散热水排
CN204346913U (zh) 一种气室结构、气体检测箱及气体检测系统
CN111111797A (zh) 一种内嵌环形水冷管的恒温水冷设备
US10123633B2 (en) Refrigerated display case
CN215626919U (zh) 带温度控制紫外线消毒器
CN213883007U (zh) 一种电热毛巾架
CN215668190U (zh) 一种用于调节晶振探头角度的装置
CN216745184U (zh) 真空烘箱
CN220454644U (zh) 一种组合式防冻水表箱