CN101642002A - 一种真空室门 - Google Patents
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- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 7
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 4
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 7
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 7
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 231100000167 toxic agent Toxicity 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
- A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32458—Vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32715—Workpiece holder
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/16—Vessels
- H01J2237/166—Sealing means
Landscapes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Pressure Vessels And Lids Thereof (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
本发明涉及一种真空室门。其目的在于,提供一种真空室门,防止开闭真空室一侧开口的门,受真空室形成真空时的弯曲荷载变形,保证真空室内部确实形成真空的同时,节省门的维护费用。为达到上述目的,本发明提供一种真空室门,其特征是,包括:真空室,其一侧形成开口;门,随旋转开闭上述真空室开口;导板,固定结合于上述门外面并保持一定间距,其一端可旋转地结合于固定的铰链组件。
Description
技术领域
本发明涉及一种真空室门,尤其是一种在具有门,可在内部收纳物品结构的真空室中,在上述真空室内部形成真空时,防止受弯曲荷载变形的真空室门。
背景技术
现有技术中,除固体、液体及气体等物质状态之外,利用作为第四物质状态的等离子的方法,广泛用于各个工业领域。
例如,包括日常生活中广泛使用的荧光灯、霓虹灯等,在半导体及平板显示装置的制造工程中,制作晶片或电路板工艺的干法刻蚀、物理或化学气相沉积、感光剂清洗及其他处理等单位工艺中,广泛采用利用等离子的方法。
另外,不能有细菌的医疗机构等,对物品进行消毒、灭菌时,也采用利用等离子的方法。
本发明申请人曾公开等离子灭菌装置并获得多项专利,是利用过氧化氢对医疗器械等被消毒物进行霉菌,并利用等离子将所使用过的过氧化氢分解成非毒性物质。如图1所示,等离子灭菌装置10,包括可形成真空状态的真空室20和形成于一侧,可向真空室20内部收纳医疗器械等被消毒物的门30。
上述真空室20呈只开放一侧的密闭性状,而在开放的一侧,设置有可开闭的门30。
在上述真空室20开口,设置有中央开口的底板40,而在上述底板40前面,设置有可开闭上述底板中央开口的门30,上述门30的一侧通过铰链组件50结合于底板40一侧,上述门30以铰链组件50为中心相对于底板40旋转,从而实现开闭。
因此,以铰链组件50为中心旋转上述门30,通过底板40开口及真空室20一侧开口,将所要灭菌的医疗器械等被消毒物放入真空室,并再次以铰链组件50为中心旋转上述门30,闭合底板40开口及真空室20开口之后,在真空室20中产生等离子进行灭菌处理。
在此,为在真空室20产生等离子对被消毒物进行灭菌,需在上述真空室20内部形成真空状态,当在真空室20形成真空状态之后,因外部大气压的作用,门30将受到向真空室20内侧的力弯曲。
这样,每次在真空室20产生真空时,门30反复向真空室20内侧弯曲,上述门30的铰链组件50受力变形,可能导致整个门30的扭曲。
即,因门30的铰链组件50只设置于门30的一侧,因此在真空室20形成真空时,门30向真空室20内侧弯曲,应力集中在上述铰链组件50,铰链组件50将受力变形,导致门30扭曲,影响真空室20和门30的密封,不能保证真空室20内确实形成真空状态。
因此,需经常更换门30,导致维护费用上升。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供一种真空室门,防止开闭真空室一侧开口的门,受真空室形成真空时的弯曲荷载变形,保证真空室内部确实形成真空的同时,节省门的维护费用。
为达到上述目的,本发明提供一种真空室门,其特征是,包括:真空室,其一侧形成开口;门,随旋转开闭上述真空室开口;导板,固定结合于上述门外面并保持一定间距,其一端可旋转地结合于固定的铰链组件。
此时,较佳地,在上述门按一定间隔形成一定深度的结合槽,而在上述导板形成与上述结合槽相对应的贯通孔,从而使结合部件的末端贯通上述贯通孔结合于上述结合槽,完成上述门和导板的结合。
另外,较佳地,在上述门上与导板相接触的面,按一定间隔形成凹槽,而在上述导板形成与上述门的凹槽相对应的凹槽,从而在上述门和导板相接触时,通过上述凹槽形成一定大小的空间。
此时,较佳地,上述门的凹槽,在结合槽周围按一定深度形成,而上述导板的凹槽,在贯通孔周围按一定深度形成。
另外,较佳地,在上述空间部设置弹性部件,其一端固定于门的凹槽,另一端固定于导板的凹槽,上述弹性部件采用螺旋弹簧。
另外,还可包括导引衬套,包括:第一部件,形成可使上述结合部件贯通的通孔,可贯通上述导板的贯通孔,在上述空间部滑动一定间隔;第二部件,其直径大于上述导板的贯通孔直径,挂接于上述导板外面。
较佳地,上述导引衬套,在结合部件的末端完全结合于门结合槽的状态下,使其第二部件相对于导板外面,保持一定的间隔G。
另外,较佳地,在上述导板上,还结合可增加导板刚性,具有导引上述导引衬套的通孔的单元。
另外,较佳地,在上述真空室的开口前端,设置有在其中央形成开口的底板,随上述门的旋转开闭上述底板开口及真空室开口。
此时,较佳地,上述铰链组件设置于底板一侧,而上述导板的一侧,可旋转地结合于上述铰链组件。
如上所述,本发明真空室门,在其一侧安装有可通过铰链组件旋转的门的真空室中,在上述门的上下两侧,结合有与门相隔一定间距的导板,而上述导板的一端可旋转地结合于固定的铰链组件,而且,在上述导板和门之间设置弹性部件,从而在上述真空室内部形成真空状态时,即使门向真空室内部弯曲,但因导板维持固定状态,应力不集中于铰链组件,防止发生变形。
即,上述门的铰链组件不会因应力过于集中而发生变形,门可始终密闭真空室开口,确保确实的真空状态,顺利完成等离子处理,而且,无需对门进行持续维护,节省维护费用。
附图说明
图1为现有等离子灭菌装置中真空室和门的结合关系示意图;
图2为本发明真空室和门结合关系示意图;
图3为图2的A-A不结合剖面图;
图4为图3的分离剖面图。
<附图标记>
10:等离子灭菌装置
20:真空室 30:门
32:凹槽 34:结合槽
40:底板 60:铰链组件
70:导板 72:凹槽
74:贯通孔 82:结合部件
84:导引衬套 84a:通孔
84b:第一部件 84c:第二部件
90:弹性部件 92:空间部
具体实施方式
下面,结合附图对本发明较佳实施例进行详细说明。
图2为本发明真空室和门结合关系示意图;图3为图2的A-A不结合剖面图;图4为图3的分离剖面图。
如图所示,包括:真空室20,为产生等离子而形成真空状态;门30,设置于真空室20一侧,用于向真空室20内部收纳医疗器械等被消毒物。
除一侧开口之外,上述真空室20呈密闭性状,而且设置有可开闭上述开口的门30。
即,在上述真空室20的开口,设置中央开口的底板40,而在上述底板40的前面,设置开闭底板40的中央开口的门30。
上述底板40为支撑真空室20的框架的一部分,保持固定的状态,在上述底板40的一侧,可旋转地结合在与上述门30相结合的导板70。
即,在上述底板40的一侧面,设置铰链组件60,而上述铰链组件60上可旋转地结合导板70一侧端,上述导板70通过多个结合构件90与门结合。
另外,在上述门30的外面与导板70相接触的部分,按一定间隔形成一定深度的凹槽32,而在上述凹槽32的中央,形成比上述凹槽32更深的结合槽34。
另外,在上述导板70上与上述门30的外面相接触的内面,按一定深度形成与上述门30的凹槽32相对应的凹槽72。
因此,在将上述导板70和门30相接触的状态下,各凹槽32、72叠加形成一定大小的空间部92。
另外,在上述导板70的凹槽72中央,形成可使将要后述的导引衬套84和结合部件82贯通其中的贯通孔74。
上述导引衬套84,包括:第一部件84b,大致呈T字形,即贯通上述导板70的贯通孔74,其一部分可在上述空间部92滑动一定间隔;第二部件84c,其直径大于上述导板70的贯通孔74直径,挂接于上述导板70外面。
此时,在上述导引衬套84上,形成可使结合部件82贯通其中的通孔84a,将上述结合部件82通过导引衬套84的通孔84a插入后,将其末端结合于门30的结合槽34即可。此时,在结合部件82的末端完全结合于门30结合槽34的状态下,使导引衬套84的第二部件84c相对于导板70外面,保持一定的间隔G,其原因将要后述。
另外,通过上述门30和导板70的凹槽32、72所形成的空间部92中,以围绕导引衬套84第一部件84b外面的形式设置弹性部件90,上述弹性部件90的一端固定于门30的凹槽32内面,另一端固定于导板70的凹槽72内面。
上述弹性部件90,可采用具备一定弹性的现有技术的任何形式,较佳地,采用螺旋弹簧。
另外,围绕上述导引衬套80来导引其滑动,且增加导板70刚性的单元,通过螺栓设置于导板70。
上述结构的真空室门的工作原理说明如下:
打开门30将被消毒物放入真空室20,并关门30密闭真空室20之后,在真空室20内部形成真空状态并产生等离子。
此时,上述门30可随通过结合构件80结合的导板70,相对于固定设置于底板40一侧的铰链组件60的旋转,完成开闭动作。
在上述真空室20形成真空状态之后,受大气压的影响,门30将向真空室20内侧弯曲。
此时,在上述门30上下两侧边缘结合槽34,结合有结合部件82末端,当上述门30弯曲之后,结合部件82也将随之向内侧移动。此时,设置于由上述门30的凹槽32和导板70的凹槽72所形成的空间部92的弹性部件90,因门30的弯曲被拉伸,与此同时,结合部件82所贯通的导引衬套84也随之向内侧弯曲一定间距。
此时,上述导引衬套84所弯曲的最大间距为,如前所述的导板70和导引衬套84的第二部件84c之间所形成的间隔G。
即,当门30因真空室20内所形成的真空状态,受大气压作用向真空室20内侧弯曲时,结合部件82随之向内侧移动,拉伸弹性部件90,而上述结合部件82所贯通的导引衬套84也向内侧移动,但导板70将保持固定位置。
因此,固定设置于上述导板70和底板40的铰链组件60,将承受较大的荷载。
另外,当解除上述真空室20内部真空状态,重新恢复到大气压状态时,门30受弹性部件90的恢复力向外侧移动并与导板70相接触,与此同时,结合部件82也随导引衬套84一起向外移动,从而使上述导引衬套84的第二部件84c,重新与导板70保持一定间距。
可供参考的是,本发明一实施例说明了用作等离子灭菌装置的真空室,但本发明适用于在其一侧设置可开闭的门的任何结构的真空室。
Claims (11)
1.一种真空室门,包括:
真空室,其一侧形成开口;
门,随旋转开闭上述真空室开口;
导板,固定结合于上述门外面并保持一定间距,其一端可旋转地结合于固定的铰链组件。
2.根据权利要求1所述的真空室门,其特征在于:在上述门按一定间隔形成一定深度的结合槽,而在上述导板形成与上述结合槽相对应的贯通孔,从而使连接部件的末端贯通上述贯通孔结合于上述结合槽,完成上述门和导板的结合。
3.根据权利要求1所述的真空室门,其特征在于:在上述门上与导板相接触的面,按一定间隔形成凹槽,而在上述导板形成与上述门的凹槽相对应的凹槽,从而在上述门和导板相接触时,通过上述凹槽形成一定大小的空间。
4.根据权利要求2或3所述的真空室门,其特征在于:上述门的凹槽,在结合槽周围按一定深度形成,而上述导板的凹槽,在贯通孔周围按一定深度形成。
5.根据权利要求3所述的真空室门,其特征在于:在上述空间部设置弹性部件,其一端固定于门的凹槽,另一端固定于导板的凹槽。
6.根据权利要求5所述的真空室门,其特征在于:上述弹性部件为螺旋弹簧。
7.根据权利要求2所述的真空室门,其特征在于:还包括导引衬套,包括:第一部件,形成可使上述结合部件贯通的通孔,可贯通上述导板的贯通孔,在上述空间部滑动一定间隔;第二部件,其直径大于上述导板的贯通孔直径,挂接于上述导板外面。
8.根据权利要求7所述的真空室门,其特征在于:上述导引衬套,在结合部件的末端完全结合于门结合槽的状态下,使其第二部件相对于导板外面,保持一定的间隔。
9.根据权利要求7所述的真空室门,其特征在于:在上述导板上,还结合可增加导板刚性,具有导引上述导引衬套的通孔的单元。
10.根据权利要求1所述的真空室门,其特征在于:在上述真空室的开口前端,设置有在其中央形成开口的底板,随上述门的旋转开闭上述底板开口及真空室开口。
11.根据权利要求10所述的真空室门,其特征在于:上述铰链组件设置于底板一侧,而上述导板的一侧,可旋转地结合于上述铰链组件。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070014230 | 2007-02-12 | ||
KR1020070014230A KR100892781B1 (ko) | 2007-02-12 | 2007-02-12 | 진공챔버용 도어 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101642002A true CN101642002A (zh) | 2010-02-03 |
Family
ID=39690245
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN200880004762A Pending CN101642002A (zh) | 2007-02-12 | 2008-02-12 | 一种真空室门 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100090573A1 (zh) |
EP (1) | EP2116113B1 (zh) |
JP (1) | JP2010518291A (zh) |
KR (1) | KR100892781B1 (zh) |
CN (1) | CN101642002A (zh) |
BR (1) | BRPI0807488A2 (zh) |
ES (1) | ES2466670T3 (zh) |
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- 2008-02-12 CN CN200880004762A patent/CN101642002A/zh active Pending
- 2008-02-12 EP EP08712465.7A patent/EP2116113B1/en not_active Not-in-force
- 2008-02-12 ES ES08712465.7T patent/ES2466670T3/es active Active
- 2008-02-12 WO PCT/KR2008/000818 patent/WO2008100056A1/en active Application Filing
- 2008-02-12 BR BRPI0807488-7A2A patent/BRPI0807488A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2008-02-12 US US12/526,880 patent/US20100090573A1/en not_active Abandoned
- 2008-02-12 JP JP2009549516A patent/JP2010518291A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN114809888A (zh) * | 2022-04-06 | 2022-07-29 | 常州雷宁电磁屏蔽设备有限公司 | 等离子电磁屏蔽门 |
CN114809888B (zh) * | 2022-04-06 | 2023-08-29 | 常州雷宁电磁屏蔽设备有限公司 | 等离子电磁屏蔽门 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2466670T3 (es) | 2014-06-10 |
EP2116113A1 (en) | 2009-11-11 |
KR100892781B1 (ko) | 2009-04-15 |
JP2010518291A (ja) | 2010-05-27 |
WO2008100056A1 (en) | 2008-08-21 |
BRPI0807488A2 (pt) | 2014-05-13 |
EP2116113B1 (en) | 2014-03-26 |
KR20080075279A (ko) | 2008-08-18 |
US20100090573A1 (en) | 2010-04-15 |
EP2116113A4 (en) | 2011-11-30 |
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C06 | Publication | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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