CN106475887B - 抛光设备 - Google Patents

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Abstract

公开了抛光设备，所述抛光设备包括架单元，该架单元包括具有放置表面的衬底支承部，放置表面被配置为其上待放置具有第一曲率的衬底，放置表面具有与第一曲率对应的第二曲率；以及抛光单元，该抛光单元包括至少一个抛光部，该至少一个抛光部旋转以抛光衬底的加工表面。弯曲的衬底的加工表面可被均匀地抛光，并且防止在抛光加工期间产生的外来物质进入衬底。

Description

抛光设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2015年8月31日提交的第10-2015-0123039号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本公开的实施方式的各方面涉及抛光设备。
背景技术
通常，用作显示装置的窗衬底的衬底由钢化玻璃或塑料制成。为了获得期望的光学性质(即，衬底的设计和透明度)，衬底需要具有均匀的表面平整度。
近年来，由于对弯曲显示装置的需求的增加，存在对均匀加工弯曲衬底的表面的需要。然而，传统的抛光设备在基本上垂直于衬底的方向上将压力施加至衬底，并且因此，衬底的弯曲表面无法被均匀抛光。
发明内容
本公开的示例性实施方式的各方面提供了能够抛光具有曲率(例如，预定的曲率)的弯曲衬底的抛光设备。
本发明构思的实施方式提供了抛光设备，该抛光设备包括架单元，该架单元包括具有放置表面的衬底支承部，放置表面被配置为其上待放置具有第一曲率的衬底，放置表面具有与第一曲率对应的第二曲率；以及抛光单元，该抛光单元包括至少一个抛光部，该至少一个抛光部旋转以抛光衬底的加工表面。
第一曲率可与第二曲率基本上相等。
架单元还可包括旋转台和架驱动部，其中，衬底支承部放置在旋转台上，架驱动部使旋转台旋转。
抛光单元还可包括抛光驱动部以使抛光部旋转。
抛光单元还可包括旋转板和联接构件，其中，旋转板位于抛光部之上以保持抛光部，联接构件连接抛光部和旋转板。
联接构件可用作使抛光部旋转的旋转轴。
联接构件可与加工表面基本上平行地安置。
衬底支承部可包括多个真空抽吸入口以保持衬底。
衬底支承部可具有基本上圆柱形形状，该基本上圆柱形形状具有与第二曲率对应的半径以及限定在其中的空的空间。
衬底支承部可具有基本上圆柱形形状，该基本上圆柱形形状具有与第二曲率对应的半径，并且该半径可比圆柱形形状的高度大。
衬底支承部可在第一方向上旋转，并且抛光部可在与第一方向相反的方向上旋转。
抛光设备还可包括驱动部以使架单元旋转。衬底支承部可包括多个凹口，该多个凹口形成于衬底支承部的内圆周表面和外圆周表面中的一个中且以规则的间隔布置。驱动部可包括驱动齿轮，该驱动齿轮包括分别插入多个凹口中的多个突出物。
多个衬底支承部可彼此堆叠地设置。
抛光部可包括具有圆柱形形状的本体和位于本体的外圆周表面上的抛光层。
抛光层可以是抛光片、抛光垫、刷或海绵。
抛光部可包括第一子抛光部和第二子抛光部，其中，第一子抛光部具有基本上圆柱形形状且位于抛光部的中间部分处，第二子抛光部从第一子抛光部延伸且包括台阶状部分。第二子抛光部可具有比第一子抛光部的圆周大的圆周。
第二子抛光部可与第一子抛光部的上部和/或下部相邻。
抛光层可包括在第一子抛光部中的第一抛光层和在第二子抛光部中的第二抛光层。第一抛光层与第二抛光层可具有不同的表面粗糙度。
根据以上所述，抛光设备包括具有放置表面的衬底支承部，具有第一曲率的衬底放置在放置表面上，并且放置表面具有与第一曲率对应的第二曲率。因此，衬底的弯曲表面可被均匀地抛光。另外，因为加工的衬底与抛光部平行，所以可防止外来物质在抛光加工期间进入衬底中。
附图说明
当结合附图考虑时，通过参照以下详细描述，本公开的上述及其它优点将变得显而易见，在附图中：
图1是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备的立体图；
图2是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备的立体图；
图3是示出了图2中所示的抛光设备的衬底支承部和抛光部的立体图；
图4是示出了图2中所示的抛光设备的衬底支承部和衬底的布置的立体图；
图5是图2中所示的抛光设备的剖视图；
图6是图2中所示的抛光设备的平面图；
图7是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备的立体图；
图8A和图8B是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的衬底支承部的布置的立体图和剖视图；
图9是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备的立体图；
图10是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备的立体图；
图11A是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光部的立体图；
图11B是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光部的立体图；以及
图11C是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的、由图11B中所示的抛光部抛光的衬底的视图。
具体实施方式
参照附图的以下描述被提供以帮助全面理解如由权利要求及其等同限定的本公开的多种实施方式。以下描述包括多种具体细节以帮助理解，但是这些具体细节将被认为仅是示例性的。因此，本领域普通技术人员将认识到，在不背离本公开的范围和精神的情况下，可进行本文中所描述的多种实施方式的多种改变和修改。
在附图中，为了清楚起见，层、膜和区域的厚度可能被夸大。在说明书全文中，相同的附图标记指代相同的元件。将理解的是，当元件或层被称为在另一元件或层“上”、“连接至”或“联接至”另一元件或层时，其可直接在另一元件或层上、直接连接或联接至另一元件或层，或者可存在介于其间的元件或层。相反，当元件被称为“直接在”另一元件或层“上”、“直接连接至”或“直接联接至”另一元件或层时，不存在介于其间的元件或层。另外，即使任一层的表面被示为是平的，在上层上也会根据下层表面形状而存在台阶差。
本文中所使用的术语仅用于描述具体实施方式的目的，并不旨在限制本发明。如在本文中使用的，除非上下文清楚地另有指示，否则单数形式“一(a)”和“一(an)”也旨在包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用时，措辞“包含(comprise)”、“包含有(comprising)”、“包括(include)”以及“包括有(including)”指定所述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但是不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或它们的组的存在和添加。如在本文中使用的，措辞“和/或”包括相关的所列项中的一个或多个的任何和全部组合。当诸如“……中的至少一个(at least one of)”的表达在元件的列表之后时，修饰元件的整个列表，并不修饰列表中的单个元件。
将理解的是，虽然措辞“第一”、“第二”、“第三”等可在本文中用于描述多种元件、部件、区域、层和/或段，但是这些元件、部件、区域、层和/或段不应受这些措辞限制。这些措辞用于将一个元件、部件、区域、层或段与另一元件、部件、区域、层或段区分开。因此，在不背离本发明的精神和范围的情况下，下文所描述的第一元件、部件、区域、层或段可被称为第二元件、部件、区域、层或段。
为了便于解释，在本文中可使用诸如“在……下(beneath)”、“在……之下(below)”、“下(lower)”、“在……下方(under)”、“在……之上(above)”、“上(upper)”等的空间相对措辞来描述如附图中所示的一个元件或特征与另一元件(多个元件)或特征(多个特征)的关系。将理解的是，除了附图中描绘的定向外，空间相对措辞旨在包含装置在使用或在操作中的不同定向。例如，如果附图中的装置翻转，则描述为在其它元件或特征“之下”或“下”或“下方”的元件将定向为在其它元件或特征“之上”。因此，示例措辞“在……之下(below)”和“在……下方(under)”可包含在……之上和在……之下两个定向。装置可以以其它方式定向(例如，旋转90度或处于其它定向)，并且，本文中所使用的空间相对描述语应被相应地解释。
如本文中使用的，措辞“基本上”、“约”和类似的措辞用作近似的措辞，并非用作程度的措辞，并且旨在考虑将由本领域普通技术人员辨识的测量值或计算值上的固有偏差。而且，当描述本发明的实施方式时，“可以(may)”的使用表示“本发明的一个或多个实施方式”。如在本文中使用的，措辞“使用(use)”、“使用(using)”和“被使用(used)”可认为分别与措辞“利用(utilize)”、“利用(utilizing)”和“被利用(utilized)”同义。此外，措辞“示例性的”旨在表示示例或图例。
除非另外限定，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与由本发明所属技术领域的普通技术人员所通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，除非本文中明确地如此限定，否则诸如常用词典中定义的那些术语的术语应被解释成具有与其在相关技术领域和/或本说明书的上下文中的含义一致的含义，并且不应以理想化或过于正式的含义进行解释。
在下文中，将参照附图详细解释本发明的一些示例性实施方式。
图1是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备100A的立体图。抛光设备100A包括架单元JU和抛光单元PU。架单元JU可包括具有放置表面的衬底支承部SP，其中，待由抛光设备100A抛光的衬底SUB可被放置(例如，附接或附着)在放置表面上。
由抛光设备100A加工的衬底SUB可以是但不限于玻璃或塑料衬底。另外，衬底SUB可包括可用于形成显示装置的窗衬底(例如，包括可传输光的透明材料的衬底)的丙烯酸树脂或钢化玻璃。应理解的是，待抛光的衬底SUB不限于此或由此限制。
衬底SUB可以是具有预定曲率的弯曲衬底。在一些实施方式中，例如，衬底SUB在一个方向上弯曲成具有单一曲率(例如，单一凸面形曲率或单一凹面形曲率)。抛光设备100A可用于抛光衬底SUB的前表面SUB-F(如图4和图11C中所示)或后表面SUB-B(如图4和图11C中所示)。在包括具有单一曲率的衬底SUB的实施方式中，衬底SUB的前表面SUB-F可具有凸面弯曲表面，并且衬底SUB的后表面SUB-B可具有与凸面弯曲表面相对的表面(例如，与凸面互补的形状)。根据本示例性实施方式的抛光设备100A可加工衬底SUB的前表面SUB-F和后表面SUB-B中的至少一个。
在一些实施方式中，衬底支承部SP包括具有与弯曲衬底SUB的曲率对应的曲率的放置表面。衬底SUB固定至的放置表面可以是衬底支承部SP的内圆周表面SP-I或衬底支承部SP的外圆周表面SP-O。
衬底SUB放置于其上的、衬底支承部SP的内圆周表面SP-I或外圆周表面SP-O可以是具有与衬底SUB的曲率对应的曲率的弯曲表面。例如，在弯曲衬底SUB具有第一曲率且衬底支承部SP的放置表面具有第二曲率的实施方式中，第一曲率可与第二曲率基本上相同。另外，在衬底SUB放置于其上的放置表面是衬底支承部SP的内圆周表面SP-I的实施方式中，衬底SUB的曲率可与衬底支承部SP的内圆周表面SP-I的曲率基本上相同。在衬底SUB放置于其上的放置表面是衬底支承部SP的外圆周表面SP-O的实施方式中，衬底SUB的曲率可与衬底支承部SP的外圆周表面SP-O的曲率基本上相同。在衬底支承部SP成形为使得衬底SUB的曲率与衬底支承部SP的曲率对应的情况下，抛光单元PU可均匀地抛光衬底SUB的表面，并从而可改善抛光质量。
衬底支承部SP可具有空心圆柱形形状。例如，在一些实施方式中，衬底支承部SP在与衬底支承部SP的高度方向垂直的方向上(例如，在基本上竖直的高度方向的水平横截面中)具有基本上环形的横截面。在该实施方式中，弯曲衬底SUB固定于其上的放置表面与圆柱形的内圆周表面SP-I对应。
在衬底SUB放置于其上的放置表面是内圆周表面SP-I的实施方式中，其上未放置衬底SUB的、衬底支承部SP的外圆周表面SP-O在与衬底支承部SP的高度方向垂直的方向上可具有非圆形的横截面形状。也就是说，衬底SUB放置于其上的、衬底支承部SP的内圆周表面SP-I可具有圆形的横截面形状，并且衬底支承部SP的外圆周表面SP-O可拥有具有与内圆周表面SP-I的圆形横截面形状不同的弯曲形状或多边形形状的横截面。
衬底支承部SP可由金属材料形成，以防止衬底支承部SP在抛光加工期间被损坏。例如，衬底支承部SP可包括不锈钢(SUS)。
架单元JU还可包括架驱动部JD以将力(例如，通过旋转)施加至旋转台RT。架驱动部JD可连接至旋转台RT的旋转轴，并且旋转台RT可通过经由旋转轴施加至旋转台RT的力旋转，从而使衬底支承部SP在顺时针方向或逆时针方向上旋转。
抛光单元PU可包括抛光部PP以抛光衬底SUB的表面。另外，抛光单元PU还可包括抛光驱动部PD以使抛光部PP旋转。图1示出了单个抛光部PP，但是抛光部PP的数量不限于一个。也就是说，抛光单元PU可包括多个抛光部PP。
图1示出了根据一些实施方式的架驱动部JD和抛光驱动部PD，但是，在一些实施方式中，可省略架驱动部JD和抛光驱动部PD中的一个。例如，在一些实施方式中，仅使抛光部PP旋转来加工衬底SUB，而不使衬底支承部SP布置于其上的旋转台RT旋转。在该实施方式中，抛光设备100A包括选择性地驱动抛光部PP的抛光驱动部PD，并且架驱动部JD可被省略。在使衬底支承部SP放置于其上的旋转台RT旋转而不使抛光部PP旋转的一些实施方式中，抛光设备100A可包括架驱动部JD，并且抛光驱动部PD可被省略。
另外，在抛光设备100A包括架驱动部JD和抛光驱动部PD的实施方式中，可仅需要架驱动部JD和抛光驱动部PD中的一个驱动部被操作为提供力来抛光衬底SUB。在架驱动部JD和抛光驱动部PD两者都被操作的实施方式中，对于衬底SUB的抛光加工可被改善。
在图1中，仅一个衬底支承部SP位于旋转台RT上，但衬底支承部SP的数量不限于一个。也就是说，多个衬底支承部SP可位于旋转台RT上。另外，衬底支承部SP可在旋转台RT上彼此间隔开地布置，并且多个抛光部PP可设置为分别与衬底支承部SP对应。
图2是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备100B的立体图，以及图3是示出了图2中所示的抛光设备100B的衬底支承部SP和抛光部PP的立体图。
参照图2，抛光设备100B包括架单元JU和抛光单元PU。架单元JU包括旋转台RT、位于旋转台RT上的衬底支承部SP以及驱动旋转台RT的架驱动部JD(未示出)。
根据图2中的实施方式的抛光单元PU包括至少一个抛光部PP和附接抛光部PP的旋转板RP。另外，联接构件JP位于抛光部PP和旋转板RP之间以连接抛光部PP和旋转板RP。而且，抛光单元PU还可包括抛光驱动部PD(未示出)以驱动旋转板RP。固定部JP-E位于联接构件JP的一端处，且固定部JP-E位于旋转板RP上以附接抛光部PP。
连接至抛光部PP的联接构件JP可位于抛光部PP的上表面的中心部分处。联接构件JP附接至抛光部PP并用作旋转轴以使抛光部PP旋转。另外，位于联接构件JP的一端(例如，顶端)处的固定部JP-E可插入穿过旋转板RP形成的联接孔RP-H中并附接至旋转板RP。
因为抛光部PP通过固定部JP-E附接，所以在抛光部PP与衬底SUB的待抛光的表面(衬底SUB的“加工表面”)之间可存在设定的距离(例如，间隙)。例如，在抛光部PP更靠近衬底SUB的加工表面的实施方式中，压力可被施加至衬底SUB的加工表面。
在描绘抛光设备100B的实施方式中，抛光部PP与衬底SUB的加工表面基本上平行。用作抛光部PP的旋转轴的联接构件JP也与衬底SUB的加工表面基本上平行。因此，抛光部PP可与衬底SUB在衬底支承部SP上所处的位置无关地被均匀地提供至衬底SUB的加工表面，并因此，抛光质量可在整个衬底SUB中变得均匀。另外，抛光部PP可沿着衬底SUB的加工表面的弯曲表面被提供至衬底SUB的整个表面。在衬底SUB的加工表面与用作旋转轴的联接构件JP基本上平行的实施方式中，在衬底抛光加工期间产生的抛光残留物可向下排出并从衬底SUB的加工表面移除。因此，可防止出现由抛光加工所引起的质量上的缺陷。
根据图1至图3，抛光设备100A和100B的架单元JU和抛光单元PU中的一个可被固定，并且另一单元可旋转以实现衬底SUB的期望的抛光度。另外，架单元JU可在第一方向RD1(即，顺时针或逆时针)上旋转，并且抛光单元PU可在与第一方向RD1相反的方向RD2上旋转。例如，架单元JU可在逆时针方向上旋转，并且抛光单元PU可在顺时针方向上旋转，反之亦然。而且，抛光单元PU和架单元JU可以以不同的速度旋转。
图4是示出了图2中所示的抛光设备100B的衬底支承部SP和衬底SUB的布置的立体图。参照图4，衬底支承部SP可包括底部表面SP-B和侧表面SP-S，并可具有基本上空心圆柱形形状。另外，衬底支承部SP可具有恒定厚度T1。在一些实施方式中，可省略底部表面SP-B。
另外，衬底支承部SP可通过具有半径R21的内圆周表面SP-I和具有半径R22的外圆周表面SP-O来具有环形横截面形状。衬底支承部SP的圆柱形形状的高度H2可比衬底支承部SP的半径R21和R22的长度短。
如图4中所示，在衬底SUB放置在衬底支承部SP的内圆周表面SP-I上的实施方式中，内圆周表面SP-I的半径R21可与衬底SUB的半径R11基本上相等。在衬底SUB放置在衬底支承部SP的外圆周表面SP-O上的实施方式中，外圆周表面SP-O的半径R22可与衬底SUB的半径R11基本上相等。
衬底支承部SP可具有比衬底支承部SP的高度H2大的半径R21和/或半径R22。在这种实施方式中，多个衬底SUB可布置在衬底支承部SP的内圆周表面SP-I或外圆周表面SP-O上。
图5是图2中所示的抛光设备100B的剖视图，以及图6是图2中所示的抛光设备100B的平面图。
参照图5和图6，抛光设备100B的衬底支承部SP可包括多个真空抽吸入口SP-H。例如，衬底SUB可使用真空被附接，其中，真空由通过真空抽吸入口SP-H抽吸空气产生。
另外，抛光部PP可通过联接构件JP连接至旋转板RP。位于联接构件JP的一端部处的固定部JP-E位于旋转板RP上，以将抛光部PP附接至旋转板RP。固定部JP-E可在穿过旋转板RP形成的联接孔RP-H中移动(例如，以相对于衬底SUB重新定位抛光部PP)。例如，附接至联接孔RP-H的固定部JP-E的位置可基于抛光部PP的尺寸(例如，抛光部PP的直径)确定。
在下文中，将参照图7至图10详细描述根据一些示例性实施方式的抛光设备。与前述实施方式中的各部或部分相同或类似的各部或部分将用相同的附图标记来描述，并且不重复其描述。
图7是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备100C的立体图。
在图7中所示的抛光设备100C中，具有弯曲表面的衬底SUB附接至衬底支承部SP的外圆周表面SP-O。在该实施方式中，放置衬底SUB的放置表面与衬底支承部SP的外圆周表面SP-O对应，并且衬底SUB的加工表面对外部暴露。
在图7中的实施方式中，衬底支承部SP具有基本上圆柱形形状。具体地，衬底支承部SP在与衬底支承部SP的高度方向垂直的横截面中(例如，在基本上竖直的高度方向的水平横截面中)具有基本上圆形形状，并且圆形形状的半径比衬底支承部SP的高度长。在衬底SUB附接至衬底支承部SP的外圆周表面SP-O的实施方式中，衬底支承部SP可具有基本上空心圆柱形形状。
图7中的实施方式中的抛光部PP面对附接至外圆周表面SP-O的衬底SUB，并且允许抛光部PP的联接构件JP与衬底SUB的加工表面基本上平行。另外，在衬底SUB附接至衬底支承部SP的外圆周表面SP-O的实施方式中，抛光部PP附接至的旋转板RP的圆周可比衬底支承部SP的圆周大。
根据图1至图7中所示的抛光设备，衬底支承部SP成形为允许衬底SUB的曲率与衬底SUB附接至的衬底支承部SP的曲率对应。因此，抛光部PP可沿衬底SUB的弯曲表面均匀地抛光衬底SUB的表面，并从而可对于衬底SUB的弯曲表面实现均匀的抛光质量。
另外，因为抛光部PP与衬底SUB的加工表面基本上平行，所以在衬底抛光加工期间产生的抛光残留物可向下排出并从衬底SUB的加工表面移除。因此，可防止出现由抛光加工所引起的质量上的缺陷。
图8A和图8B是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的衬底支承部SP的布置的立体图和剖视图。
参照图8A和图8B，架单元JU可包括多个衬底支承部SP。衬底支承部SP可彼此间隔开或可定位成使得衬底支承部SP的上表面和下表面彼此相邻。如图8A中所示，每个衬底支承部SP可具有没有上表面和下表面的基本上空心圆柱形形状。
在抛光设备包括多个衬底支承部SP的实施方式中，抛光单元PU的抛光部PP可具有足够长以基本上同时抛光位于多个衬底支承部SP上的衬底SUB的高度H1。例如，抛光部PP的高度H1可与彼此堆叠的多个衬底支承部SP的总高度对应。如图8A和图8B中所示，当多个衬底支承部SP彼此堆叠时，多个衬底SUB基本上同时被加工，并从而可改善抛光设备的生产率并可均匀地维持衬底SUB的表面的抛光质量。
图9是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备100D的立体图。
与图2中所示出的衬底支承部SP不同，如图9中所示，衬底支承部SP可在竖直方向上布置。在该实施方式中，架驱动部JD可相对于衬底支承部SP安置在左侧或右侧。
另外，如图9中所示，抛光驱动部PD可相对于抛光部PP位于左侧或右侧。例如，在存在有限的空间来安装抛光设备100D的实施方式中，如图9中所示，衬底支承部SP可在竖直方向上布置。
图10是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光设备100E的立体图。
参照图10，抛光设备100E包括抛光单元PU和架单元JU。架单元JU还包括驱动部，且驱动部可包括驱动齿轮JD-G。在该实施方式中，驱动部可以是架驱动部JD(例如，用于施加力以使旋转台RT旋转)。
抛光设备100E包括衬底SUB附接至的衬底支承部SP，并且衬底支承部SP可包括形成于内圆周表面SP-I或外圆周表面SP-O中且以固定间隔布置的多个凹口SP-R。例如，衬底SUB可放置在衬底支承部SP的内圆周表面SP-I上，并且凹口SP-R可形成于衬底支承部SP的外圆周表面SP-O中。
另外，驱动齿轮JD-G可包括多个突出物GP，且突出物GP可分别插入形成于衬底支承部SP中的凹口SP-R中。在该实施方式中，具有驱动齿轮JD-G的架驱动部JD可根据形成于衬底支承部SP中的凹口SP-R的位置位于衬底支承部SP的内部或外部。
衬底支承部SP可通过包括驱动齿轮JD-G的架驱动部JD旋转。也就是说，在驱动齿轮JD-G旋转时，形成于驱动齿轮JD-G上的突出物GP可顺序地插入衬底支承部SP的凹口SP-R中，并从而使衬底支承部SP旋转。
在图10中的本示例性实施方式中，抛光单元PU还可包括单独的抛光驱动部PD(未示出)。因此，由于驱动齿轮JD-G的操作，可使衬底支承部SP旋转，并且可固定抛光部PP以抛光衬底SUB的表面。另外，可使衬底支承部SP和抛光部PP同时旋转以抛光衬底SUB的表面。
图11A是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光部PP的立体图。
参照图11A，抛光部PP包括本体PP-B和围绕本体PP-B的抛光层PP-S。本体PP-B可包括金属材料以维持抛光部PP的形状，但是不限于此或由此限制。本体PP-B可包括穿过本体PP-B的中心部分形成的孔PP-H，其中，联接构件JP可插至孔PP-H。另外，围绕抛光部PP的本体PP-B的抛光层PP-S可具有预定的厚度。
例如，抛光层PP-S可以是但不限于抛光片、抛光垫、刷或海绵。另外，抛光片或抛光垫可通过模制包括抛光颗粒的树脂层形成。用于抛光层PP-S的材料可根据衬底SUB的加工表面所需的抛光度来选择。
图11B是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的抛光部PP的立体图，以及图11C是示出了根据本公开的一些示例性实施方式的、通过图11B中所示的抛光部PP抛光的衬底SUB的视图。
参照图11B，抛光部PP包括本体PP-B和围绕本体PP-B的抛光层PP-S。另外，抛光部PP具有基本上圆柱形形状，并且包括位于抛光部PP的中间部分处的第一子抛光部PP-1和从第一子抛光部PP-1延伸且具有台阶状部分PP-ST的第二子抛光部PP-2。第二子抛光部PP-2可与第一子抛光部PP-1的上部和/或下部相邻。
第二子抛光部PP-2可具有比第一子抛光部PP-1的圆周大的圆周。另外，第二子抛光部PP-2的台阶状部分PP-ST可具有根据衬底SUB的形状而改变的可变的形状。例如，在如图11C中所示的、衬底SUB的边缘具有曲率SUB-R的实施方式中，抛光部PP的第二子抛光部PP-2可具有与衬底SUB的边缘的曲率SUB-R对应的台阶状部分PP-ST。
抛光层PP-S在第一子抛光部PP-1和第二子抛光部PP-2中围绕本体PP-B。另外，抛光层PP-S可在第二子抛光部PP-2上定位为允许本体PP-B的一部分被暴露。
抛光层PP-S可包括在第一子抛光部PP-1中的第一抛光层PP-S1和在第二子抛光部PP-2中的第二抛光层PP-S2。第一抛光层PP-S1和第二抛光层PP-S2可由相同的材料制成，但是不限于此或由此限制。例如，第一抛光层PP-S1和第二抛光层PP-S2可根据衬底的形状具有彼此不同的表面粗糙度。
在一些实施方式中，抛光设备可包括单独的抛光液供给部。抛光液可包括含有抛光颗粒的材料并且可用于允许抛光加工平滑地进行。抛光液可被提供至抛光部PP与衬底SUB之间的空间。
抛光设备可用于加工具有曲率的衬底SUB的表面，并从而可改善衬底SUB的表面的抛光质量。具体地，具有曲率的衬底SUB附接至的衬底支承部SP可成形为具有与衬底SUB的曲率对应的曲率。因此，抛光部PP可旋转成与衬底SUB的弯曲形状对应，并从而衬底SUB的表面可被均匀地抛光。因此，对于衬底SUB的弯曲表面，可实现均匀的抛光质量。
另外，因为具有相同曲率的多个衬底SUB可附接至衬底支承部SP，所以衬底SUB的表面可被基本上同时加工，并且抛光设备的生产率可被改善。而且，因为衬底SUB的加工表面与抛光部PP基本上平行，所以在衬底抛光加工期间产生的例如抛光残留物的外来物质可向下排出并从衬底SUB的加工表面移除。因此，可防止出现由抛光加工引起的质量上的缺陷。
虽然已描述了本发明的示例性实施方式，但是应理解的是，本发明不限于这些示例性实施方式，并且在如以下权利要求所要求的本发明的精神和范围内，本领域普通技术人员可进行多种改变和修改。
参照附图的以上描述被提供以帮助全面理解如由权利要求及其等同所限定的本公开的多种实施方式。以上描述包括多种具体细节以帮助理解，但是这些具体细节将被认为仅是示例性的。因此，本领域普通技术人员将认识到，在不背离本公开的范围和精神的情况下，可进行本文中所描述的多种实施方式的多种改变和修改。

Claims (9)

1.抛光设备，包括：
架单元，包括衬底支承部，所述衬底支承部包括放置表面，所述放置表面被配置为其上待放置具有第一曲率的衬底，其中，所述放置表面具有与所述第一曲率对应的第二曲率；以及
抛光单元，包括至少一个抛光部，所述至少一个抛光部配置为旋转以抛光所述衬底的加工表面；旋转板，位于所述抛光部之上以保持所述抛光部；以及联接构件，连接所述抛光部和所述旋转板，
其中，所述衬底支承部具有圆柱形形状，所述圆柱形形状具有限定在其中的空的空间，以及所述放置表面限定在所述衬底支承部的内圆周表面上；以及
其中，所述抛光部安置在所述衬底支承部的所述空的空间内，使得所述抛光部的侧表面面对所述放置表面。
2.如权利要求1所述的抛光设备，其中，所述抛光单元还包括抛光驱动部以使所述抛光部旋转。
3.如权利要求1所述的抛光设备，其中，所述联接构件限定使所述抛光部旋转的旋转轴。
4.如权利要求1所述的抛光设备，其中，所述圆柱形形状具有与所述第二曲率对应的半径。
5.如权利要求4所述的抛光设备，其中，所述半径比所述圆柱形形状的高度大。
6.如权利要求1所述的抛光设备，还包括驱动部以使所述架单元旋转，其中，所述衬底支承部包括多个凹口，所述多个凹口形成于所述衬底支承部的所述内圆周表面和外圆周表面中的一个中并以规则的间隔布置，并且所述驱动部包括驱动齿轮，所述驱动齿轮包括配置为分别插入所述多个凹口中的多个突出物。
7.如权利要求1所述的抛光设备，其中，所述衬底支承部包括彼此堆叠的多个衬底支承部。
8.如权利要求1所述的抛光设备，其中，所述抛光部包括：
本体，具有圆柱形形状；以及
抛光层，位于所述本体的外圆周表面上。
9.如权利要求8所述的抛光设备，其中，所述抛光部包括：
第一子抛光部，具有圆柱形形状并且位于所述抛光部的中间部分处；以及
第二子抛光部，从所述第一子抛光部延伸并且包括台阶状部分，以及
其中，所述第二子抛光部具有比所述第一子抛光部的圆周大的圆周。
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