CN106467941A - 一种真空电子管封接低银多元合金材料及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请人提供了一种真空电子管低银封接合金材料的制备方法,其组分及各组分的质量百分比为:Ag:35~45%,Cu:45~55%,Si:5~8%,Ni:0.6~0.8%,B:0.4~0.6%,Ge:0.3%~0.5%,Nd:0.3%~0.5%,Ce:0.2~0.3%,Co:0.2%~0.3%。其制备方法为熔炼、铸造、固溶、时效、车削、冷轧、回火、退火及精加工。本发明制备得到的封接材料具有清洁度高,流淌性好,防腐蚀、抗氧化性能好,封接温度低,成本低等优点。
Description
技术领域
本发明涉及真空电子行业中真空电子管的封接材料技术领域,尤其是涉及一种低银含量多元合金封接材料。
背景技术
在真空电子管封接行业中,由于真空电子管较高的使用频率,这就要求真空电子管封接气密性要高,封接材料力学性能要好,耐腐蚀性能以及抗氧化性能要强。银基封接材料因其具有优异的封接性能,已经在真空电子管封接材料的使用中占据了稳固地位。由于银的价格逐渐飙升,大大提高了封接材料的成本。因此,一种综合性能优异的低银合金钎料成为当前迫切需求的封接材料。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题,本申请人提供了一种真空管封接合金材料及其制备方法。本发明既降低了材料成本,又减少了焊接时的能力损耗,同时使用封接材料的清洁度及浸润性有了很大的提高,封接后气密性好,防腐蚀,抗氧化性能强。
本发明的技术方案如下:
本申请人提供了一种真空电子管封接低银多元合金材料,所述合金材料的各组分的质量百分比为:
Ag:35~45%,Cu:45~55%,Si:5~8%,Ni:0.6~0.8%,B:0.4~0.6%,Ge:0.3%~0.5%,Nd:0.3%~0.5%,Ce:0.2~0.3%,Co:0.2%~0.3%。
本申请人还提供了一种所述合金材料的制备方法,具体制备步骤如下:
(1)将Cu、Co、Ni放入真空熔炼炉中,炉内抽真空至0.1~1Pa后,再将炉内加热到1200~1350℃,然后冷却到室温,制成铜钴镍中间合金;
(2)将铜钴镍中间合金和Ag、Si、B、Ge、Ce、Nd组分一起放入真空炉内抽真至4×10-2~4×10-1Pa后,再将炉内加热到1000~1100℃,继续保温20~30分钟;待形成熔融液后,降温至900~1000℃,将熔融液倒入模具内,待温度降至室温后,将模具从真空炉内取出,得到所需的铸锭;
(3)将步骤(2)中得到的铸锭先进行车剥,以去除铸锭表面的脏污及氧化层,然后采用热挤压开坯,开坯厚度达到1~2mm后,进行热轧处理,带材轧制厚度为0.3~0.4mm;
(4)将步骤(3)中得到的带材在氮气保护下进行退火处理,退火温度在500~600℃下,保温2~3小时后,将带材冷精轧到厚度达0.05~0.1mm,经修整冲压成所需形状即可。
本发明有益的技术效果在于:
(1)本多元低银材料大大降低了材料成本,提高了经济效益和市场竞争力;
(2)合金中微量B元素、Nd元素以及稀土元素Ce的加入,固溶强化和晶粒细化使得合金的强度得到提升。同时,合金中Ce易与Cu形成第二相金属间化合物或由于氧化形成Ce氧化物,这些特殊的弥散相阻碍层错运动,使合金得到进一步强化。此外,微量Nd的添加,还可以大大提高真空器件封接接头的气密性。
(3)合金中微量Ge、Co和Ni元素的添加,除了起到固溶强化和晶粒细化的作用,还可以明显增强封接材料的抗氧化性能;
(4)本申请人在大量的实验基础和丰富的经验的基础上,选择的合金元素可以互相协同,大幅度提升了封接材料的各项性能。
具体实施方式
下面结合实施例,对本发明进行具体描述。
实施例1
本申请人提供了一种真空电子管封接低银多元合金材料,其组分及各组分的质量百分比为如表1所示。其制备方法的具体制备步骤如下:
(1)将Cu、Co、Ni放入真空熔炼炉中,炉内抽真空至1Pa后,再将炉内加热到1200℃,然后冷却到室温,制成铜钴镍中间合金;
(2)将铜钴镍中间合金和Ag、Si、B、Ge、Ce、Nd组分一起放入真空炉内抽真至4×10- 2Pa后,再将炉内加热到1000℃,继续保温20分钟;待形成熔融液后,降温至900℃,将熔融液倒入模具内,待温度降至室温后,将模具从真空炉内取出,得到所需的铸锭;
(3)将步骤(2)中得到的铸锭先进行车剥,以去除铸锭表面的脏污及氧化层,然后采用热挤压开坯,开坯厚度达到1mm后,进行热轧处理,带材轧制厚度为0.3mm;
(4)将步骤(3)中得到的带材在氮气保护下进行退火处理,退火温度在500℃下保温2小时后,将带材冷精轧到厚度达0.05mm,经修整冲压成所需形状即可。
实施例2
本申请人提供了一种真空电子管封接低银多元合金材料,其组分及各组分的质量百分比为如表1所示。其制备方法的具体制备步骤如下:
(1)将Cu、Co、Ni放入真空熔炼炉中,炉内抽真空至0.5Pa后,再将炉内加热到1300℃,然后冷却到室温,制成铜钴镍中间合金;
(2)将铜钴镍中间合金和Ag、Si、B、Ge、Ce、Nd组分一起放入真空炉内抽真至2×10- 1Pa后,再将炉内加热到1050℃,继续保温25分钟;待形成熔融液后,降温至950℃,将熔融液倒入模具内,待温度降至室温后,将模具从真空炉内取出,得到所需的铸锭;
(3)将步骤(2)中得到的铸锭先进行车剥,以去除铸锭表面的脏污及氧化层,然后采用热挤压开坯,开坯厚度达到1.5mm后,进行热轧处理,带材轧制厚度为0.35mm;
(4)将步骤(3)中得到的带材在氮气保护下进行退火处理,退火温度在550℃下保温2.5小时后,将带材冷精轧到厚度达0.08mm,经修整冲压成所需形状即可。
实施例3
本申请人提供了一种真空电子管封接低银多元合金材料,其组分及各组分的质量百分比为如表1所示。其制备方法的具体制备步骤如下:
(1)将Cu、Co、Ni放入真空熔炼炉中,炉内抽真空至0.1Pa后,再将炉内加热到1350℃,然后冷却到室温,制成铜钴镍中间合金;
(2)将铜钴镍中间合金和Ag、Si、B、Ge、Ce、Nd组分一起放入真空炉内抽真至4×10- 1Pa后,再将炉内加热到1100℃,继续保温30分钟;待形成熔融液后,降温至1000℃,将熔融液倒入模具内,待温度降至室温后,将模具从真空炉内取出,得到所需的铸锭;
(3)将步骤(2)中得到的铸锭先进行车剥,以去除铸锭表面的脏污及氧化层,然后采用热挤压开坯,开坯厚度达到2mm后,进行热轧处理,带材轧制厚度为0.4mm;
(4)将步骤(3)中得到的带材在氮气保护下进行退火处理,退火温度在600℃下保温3小时后,将带材冷精轧到厚度达0.1mm,经修整冲压成所需形状即可。
实施例1~3所用的各原料组分的质量如表1所示。
表1
原料 | 实施例1(%) | 实施例2(%) | 实施例3(%) |
Ag | 35 | 40 | 45 |
Cu | 55 | 51 | 48 |
Si | 7 | 6.5 | 5 |
Ni | 0.8 | 0.75 | 0.6 |
B | 0.6 | 0.5 | 0.4 |
Ge | 0.5 | 0.4 | 0.3 |
Nd | 0.5 | 0.35 | 0.3 |
Co | 0.3 | 0.25 | 0.2 |
Ce | 0.3 | 0.25 | 0.2 |
实施例1~3得到的封接材料进行测试,结果如表2所示。
表2
性能 | 封接温度 | 硬度(HV) | 抗拉强度(KN/cm2) |
实施例1 | 800~850℃ | 140 | 6.3 |
实施例2 | 800~830℃ | 145 | 6.0 |
实施例3 | 790~820℃ | 138 | 5.9 |
传统银钎料 | 830~900℃ | 120 | 4.8 |
实施例1~3得到的封接材料与传统银钎料进行耐腐蚀试验,4个样品分别标号放在中性5%NaCl溶液中,恒温20℃浸泡30天,取出后去除样品表面腐蚀产物称重,失重最多则耐腐蚀性最弱,结果如表3所示。
表3
样品 | 相对质量损失率(%) |
实施例1 | 0.75% |
实施例2 | 0.73% |
实施例3 | 0.81% |
传统银钎料 | 1.32% |
实施例1~3得到的封接材料与传统银钎料进行抗氧化试验,4个样品分别放在大气气氛下加热至400℃,保温10min,表面氧化渣量越多,则抗氧化性越弱,结果如表4所示。
表4
样品 | 氧化渣量(g) |
实施例1 | 0.58 |
实施例2 | 0.53 |
实施例3 | 0.5 |
传统银钎料 | 0.75 |
综合以上测试结果可以看出,本发明所制备的封接材料的焊接温度比传统焊料要低,同时耐腐蚀性能和抗氧化性能也明显优于传统焊料,能够满足真空电子管的高频高气密性使用的要求。
Claims (2)
1.一种真空电子管封接低银多元合金材料,其特征在于所述合金材料的各组分的质量百分比为:
Ag:35~45%,Cu:45~55%,Si:5~8%,Ni:0.6~0.8%,B:0.4~0.6%,Ge:0.3%~0.5%,Nd:0.3%~0.5%,Ce:0.2~0.3%,Co:0.2%~0.3%。
2.一种权利要求1所述的合金材料的制备方法,其特征在于具体制备步骤如下:
(1)将Cu、Co、Ni放入真空熔炼炉中,炉内抽真空至0.1~1Pa后,再将炉内加热到1200~1350℃,然后冷却到室温,制成铜钴镍中间合金;
(2)将铜钴镍中间合金和Ag、Si、B、Ge、Ce、Nd组分一起放入真空炉内抽真至4×10-2~4×10-1Pa后,再将炉内加热到1000~1100℃,继续保温20~30分钟;待形成熔融液后,降温至900~1000℃,将熔融液倒入模具内,待温度降至室温后,将模具从真空炉内取出,得到所需的铸锭;
(3)将步骤(2)中得到的铸锭先进行车剥,以去除铸锭表面的脏污及氧化层,然后采用热挤压开坯,开坯厚度达到1~2mm后,进行热轧处理,带材轧制厚度为0.3~0.4mm;
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