CN106384566B - 像素结构、像素电极及其制备方法 - Google Patents

像素结构、像素电极及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106384566B
CN106384566B CN201610829346.1A CN201610829346A CN106384566B CN 106384566 B CN106384566 B CN 106384566B CN 201610829346 A CN201610829346 A CN 201610829346A CN 106384566 B CN106384566 B CN 106384566B
Authority
CN
China
Prior art keywords
pixel electrode
mixed liquor
curing
film
ionic liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201610829346.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106384566A (zh
Inventor
杨久霞
白峰
刘建涛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201610829346.1A priority Critical patent/CN106384566B/zh
Publication of CN106384566A publication Critical patent/CN106384566A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106384566B publication Critical patent/CN106384566B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
    • H01B1/122—Ionic conductors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本发明公开了一种像素结构、像素电极及其制备方法。该像素结构，包括：像素电极，所述像素电极包括磷烯电极。本发明提供的像素结构不但机械强度高柔韧性好而且方块电阻小。该像素结构可应用于柔性显示。

Description

像素结构、像素电极及其制备方法
技术领域
本发明涉及像素电极技术领域，特别涉及像素结构、像素电极及其制备方法、组合物。
背景技术
柔性显示已经成为显示领域的发展方向，尤其是穿戴设备日渐汹涌的发展趋势，现有技术通常采用透明导电材料，如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)等作为像素电极，然而这些金属氧化物的机械强度和柔韧性决定了其不能很好的应用于柔性显示产品。现有技术中也有采用石墨烯、碳纳米管代ITO作为像素电极，虽然石墨烯和碳纳米管能够满足柔性特性，但其方块电阻较大，不能满足像素电极对低电阻值的要求。
发明内容
本发明提供了像素结构、像素电极及其制备方法，用于现有技术中的像素结构不能兼顾柔韧性和低电阻的问题。
在本发明的第一方面，本发明提供了一种像素结构，包括：像素电极，所述像素电极包括磷烯电极。
其中一种实施方式为，所述像素电极还包括设置在所述磷烯电极上的保护层。
其中一种实施方式为，所述保护层由包括第一导电聚合物、第一固化材料和第一离子液的第一混合液制作而成。
具体地，所述磷烯电极由包括磷烯、固化材料和离子液的混合液制作而成。
其中一种实施方式为，所述混合液还包括导电聚合物。
具体地，所述磷烯与所述导电聚合物、固化材料和离子液之和的重量比为2％～10％。
具体地，基于所述导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，所述导电聚合物的质量百分比为5％～10％。
具体地，所述导电聚合物包括：聚苯乙烯磺酸钠、聚对苯撑乙烯、聚噻吩类聚合物、聚硅烷类聚合物、三苯甲烷类聚合物、三芳胺类聚合物和吡唑啉类聚合物中的至少一种聚合物。
具体地，基于所述导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，所述固化材料的质量百分比为0.5％～5％。
其中一种实施方式为，所述混合液还包括：质量百分比为0.001％～1％的润湿流平剂；和/或基于所述导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，质量百分比为0.001％～1％的附着力促进剂。
在本发明的第二方面，本发明还提供了一种像素电极的制作方法，
在待形成像素电极的区域形成至少包括磷烯的混合膜层，对所述混合膜层进行构图工艺，形成像素电极。
在一些实施方式中，在待形成像素电极的区域形成至少包括磷烯的混合膜层，对所述混合膜层进行构图工艺，形成像素电极，包括：
将包括磷烯、第二固化材料和第二离子液的第二混合液固化形成薄膜；
在所述薄膜上喷墨打印光刻胶，或在所述薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对具有所述光刻胶的所述薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形，
用包含第二导电聚合物、第三固化材料和第三离子液的第三混合液喷淋所述像素电极图形；
加热固化而形成所述像素电极。
在另一些实施方式中，在待形成像素电极的区域形成至少包括磷烯的混合膜层，对所述混合膜层进行构图工艺，形成像素电极，包括：
将包括磷烯、第四固化材料和第四离子液的第四混合液固化形成第一薄膜；
用包含第三导电聚合物、第五固化材料和第五离子液的第五混合液喷淋所述第一薄膜；
加热固化而形成第二薄膜；
在所述第二薄膜上喷墨打印光刻胶，或在所述第二薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对具有所述光刻胶的所述第二薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形，从而获得所述像素电极。
在本发明的第四方面，本发明还提供了一种像素电极，其为上述的像素电极制作方法形成的像素电极。
本发明实施例提供的技术方案的有益效果是：本发明提供的像素结构不但机械强度高柔韧性好而且方块电阻小。该像素结构可应用于柔性显示。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一种实施例提供的一种像素结构的结构示意图；
图中的附图标记分别表示：
1、栅极；2、栅线；3、公共电极；4、栅极绝缘层；5、有源层；6、源电极；7、漏电极；8、钝化层；81、过孔；像素电极9；100、玻璃基板。
具体实施方式
为使本发明的技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
在第一方面，本发明提供了一种像素结构，包括：像素电极，该像素电极包括磷烯电极。
本发明提供的一种像素结构的像素电极包括由磷烯制成的磷烯电极。该磷烯电极保持了磷烯原有的机械强度高柔韧性好的优点，并且具有电阻值低和电性能稳定的特点，使得像素结构不但机械强度高柔韧性好而且方块电阻小。该像素结构可应用于柔性显示。
该像素结构与现有技术中Twisted Nematic(简称TN，扭曲向列型)，In-PlaneSwitching(简称IPS，平面转换)或Advanced Super Dimension Switch(简称ADS，高级超维场转换)等结构的区别仅在于像素电极不同。由于像素结构中的其他组成为本领域公知常识本发明在此不作赘述。
在实际应用中，像素结构通常包括：栅极、栅线、公共电极、栅极绝缘层、有源层、源电极、漏电极、钝化层、过孔和设置在过孔中的像素电极。
在实际应用中，磷烯电极可以由包括磷烯、固化材料和离子液的混合液制作而成。磷烯与固化材料和离子液之和的重量比为2％～10％，优选为6％。
在本发明的一种实施例中，所述混合液还包括导电聚合物。由于导电聚合物的链内与链间P电子轨道重叠交盖所形成的导电能带为载流子的转移和跃迁提供了通道，因此，相比于没有添加导电聚合物的磷烯电极，具有更高的透过率和载流子传输速率，具有更好的导电性能。使得像素结构具有更好的导电性能。
对于上述混合液的制备过程，可以为先将离子液与固化材料混合，低温加热(通常可以为45～60℃)混合均匀，待固化材料完全溶解后，冷却至室温，再加入导电聚合物，混合均匀，然后加入磷烯，混合均匀，制成上述混合液。混合的方式可以为振荡或搅拌，搅拌转速可以为50～300转/min，在混合磷烯时，搅拌时间可以为18～36h，从而使磷烯均匀分散在导电聚合物、固化材料和离子液之中。
在本发明的另一种实施例中，导电聚合物可以包括：聚苯乙烯磺酸钠、聚对苯撑乙烯、聚噻吩类聚合物、聚硅烷类聚合物、三苯甲烷类聚合物、三芳胺类聚合物和吡唑啉类聚合物中的至少一种聚合物。
其中，聚噻吩类聚合物包括：3,4-乙撑二氧噻吩聚合物、3,4-乙撑二氧噻吩聚合物、3-己基噻吩聚合物、苯并噻吩聚合物、2-氯噻吩聚合物、3-甲氧基噻吩聚合物和2,3-二溴噻吩聚合物中的一种或多种；
聚硅烷类聚合物包括：乙烯基三乙氧基硅烷聚合物、乙烯基三乙酰氧基硅烷聚合物、(γ-甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷聚合物和γ-氯丙基三乙氧基硅烷聚合物中的一种或多种；
三苯甲烷类聚合物包括：三氨基三苯甲烷聚合物或三苯甲烷聚合物中的一种或多种；
三芳胺类聚合物包括：N,N′-双(3,5-二甲基苯基)-N,N′-二苯基-1,1′-联苯-4,4′-二胺聚合物、N,N,N′N′-四苯基联苯胺聚合物、3-甲基三苯胺聚合物、4-甲基三苯胺聚合物和4,4′-二甲基三苯胺聚合物中的一种或多种；
吡唑啉类聚合物包括：5-氧代-2-吡唑啉聚合物、三苯基吡唑啉聚合物和1,3-二苯基-2-吡唑啉聚合物中的一种或多种。
在实际应用中，磷烯与导电聚合物、固化材料和离子液之和的重量比为2％～10％，优选为6％。
在本发明的再一种实施例中，基于导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，导电聚合物的质量百分比为5％～10％。
在本发明的再一种实施例中，基于导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，固化材料的质量百分比为0.5％～5％，优选为1.5％～3％。此外，固化材料包括可聚合树脂和固化剂；其中可聚合树脂与固化剂的重量比为2000:1～10:1。可聚合树脂可以为不饱和的聚酯类树脂、酚醛树脂和环氧树脂中的至少一种；固化剂可以为脂肪族胺类固化剂，如二乙烯三胺或二甲氨基丙胺等，固化剂也可以为芳香胺类固化剂，如间苯二胺或二氨基二苯基甲烷等。
本发明上述或下述的质量百分比也称质量分数，指某种物质质量占总质量的百分比。
在本发明的再一种实施例中，离子液包括水以及选自1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(简称[EMIM]PF6)、1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(简称[BMIM]PF6)、1-辛基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐(简称[OMIM]PF6)、1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐(简称[EMIM]BF6)、1-丁基-3-甲基咪唑三氟甲基磺酸盐(简称[BMIM]CF3S03)、氯化1-丁基-3-甲基咪唑盐(简称[BMIM]Cl)中的至少一种盐。基于离子液的总质量，至少一种盐的质量百分比为10％～99％，优选30％～70％，更优选为65％。
作为本发明的一种改进方式，混合液还可以包括：润湿流平剂。基于导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，润湿流平剂的质量百分比可以为0.001％～1％，优选为0.2％。润湿流平剂的加入使混合液具有适合的表面张力和降低表面张力梯度的能力，更容易形成平整、光滑、均匀的薄膜。
在实际应用中，润湿流平剂包括有机硅氧烷润湿剂，氟碳改性聚丙烯酸酯流平剂，丙烯酸酯类流平剂中的至少一种。
作为本发明的另一种改进方式，所述像素电极还包括设置在所述磷烯电极上的保护层；所述保护层由包括第一导电聚合物、第一固化材料和第一离子液的第一混合液制作而成。在磷烯电极上设置保护层，使得像素电极的电性能稳定，从而使得像素结构能满足人们对柔性显示产品的电性能长期稳定的信赖性要求。
需要说明的是，第一导电聚合物、第一固化材料和第一离子液的种类和各自相对于第一导电聚合物、第一固化材料和第一离子液之和的重量比请参见本发明关于导电聚合物、固化材料和离子液的种类和重量比的相关叙述。本领技术人员可以理解的是，第一导电聚合物与导电聚合物可以是相同的也可以是不同的；第一固化材料和固化材料可以是相同的也可以是不同的；第一离子液与离子液可以是相同的也可以是不同的。
作为本发明的再一种改进方式，第一混合液还可以包括：附着力促进剂。基于第一导电聚合物、第一固化材料和第一离子液的总质量，附着力促进剂的质量百分比可以为0.001％～1％，优选为0.2％。附着力促进剂的加入提高了第一混合液对像素电极的附着力和结合力，从而更好的在磷烯电极上形成一层保护层，使得像素电极的电性能更稳定，像素结构的电性能更稳定。
在实际应用中，附着力促进剂可以选自：γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己烷)乙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、长链烷基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-氯丙基三乙氧基硅烷、双-(γ-三乙氧基硅基丙基)四硫化物、苯胺甲基三乙氧基硅烷、N-β(氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三乙氧基硅烷、N-β(氨乙基)-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷和γ-巯基丙基三乙氧基硅烷中的至少一种。
在第二方面，本发明提供了一种像素电极的制作方法，所述像素电极为本发明第一方面提供的像素电极，该像素电极由以下步骤制得：
将包括磷烯、第二固化材料和第二离子液的第二混合液固化形成薄膜；
在所述薄膜上喷墨打印光刻胶，或在所述薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对具有所述光刻胶的所述薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形，
用包含第二导电聚合物、第三固化材料和第三离子液的第三混合液喷淋所述像素电极图形；
加热固化而形成所述像素电极。
需要说明的是，第二固化材料和第二离子液的种类，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。基于第二固化材料和第二离子液的总质量，第二固化材料的质量百分比为0.5％～5％。
还有，基于第二固化材料和第二离子液的总质量，磷烯的质量百分比为2％～10％。
再有，第二混合液中还可以包括导电聚合物、润湿流平剂和附着力促进剂中的至少一种，对于导电聚合物、润湿流平剂和附着力促进剂的种类和用量，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。
另外，对于第二导电聚合物、第三固化材料和第三离子液的种类和各自相对于第二导电聚合物、第三固化材料和第三离子液之和的重量比，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。
此外，第三混合液中还可以包括润湿流平剂和附着力促进剂中的至少一种，对于润湿流平剂和附着力促进剂的种类和用量，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。
需要进一步说明的是，在实际应用中，将第二混合液固化形成薄膜，可以将第二混合液涂布于基板上，冷却至室温，通常为25±3℃，并保持30～180s，固化形成薄膜。其中，涂布的方法可以为旋转涂抹法或狭缝式涂布法结合旋转涂抹法。
还有，在薄膜上喷墨打印光刻胶，或在薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影，其中一种实施方式为，在薄膜上喷墨打印光刻胶，以减少磷烯污染。本发明可以采用现有技术中的喷墨打印技术和曝光显影技术，本领域技术人员可以根据现场的制造条件进行选取。
此外，将第三混合液加热固化到像素电极图形上的条件，具体可以为：在220～300℃的条件下，保持60～120s。
在第三方面，本发明还提供了一种像素电极的制作方法，其特征在于，所述像素电极为本发明第一方面提供的像素电极，该像素电极由以下步骤制得：
将包括磷烯、第四固化材料和第四离子液的第四混合液固化形成第一薄膜；
用包含第三导电聚合物、第五固化材料和第五离子液的第五混合液喷淋所述第一薄膜；
加热固化而形成第二薄膜；
在所述第二薄膜上喷墨打印光刻胶，或在所述第二薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对具有所述光刻胶的所述第二薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形，从而获得所述像素电极。
需要说明的是，第四固化材料和第四离子液的种类，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。基于第四固化材料和第四离子液的总质量，第四固化材料的质量百分比为0.5％～5％。
还有，基于第四固化材料和第四离子液的总质量，磷烯的质量百分比为2％～10％。
再有，第四混合液中还可以包括导电聚合物、润湿流平剂和附着力促进剂中的至少一种，对于导电聚合物、润湿流平剂和附着力促进剂的种类和用量，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。
另外，对于第三导电聚合物、第五固化材料和第五离子液的种类和各自相对于第三导电聚合物、第五固化材料和第五离子液之和的重量比，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。
此外，第五混合液中还可以包括润湿流平剂和附着力促进剂中的至少一种，对于润湿流平剂和附着力促进剂的种类和用量，请参见本发明第一方面的相关叙述，本发明在此不作赘述。
需要进一步说明的是，将第四混合液固化形成第一薄膜的条件，请参见本发明第二方面的相关叙述，在此不作赘述。
还有，将第五混合液加热固化在第一薄膜上的条件，请参见本发明第二方面的相关叙述，在此不作赘述。
在第四方面，本发明提供了一种像素电极，其为本发明第二方面和第三方面提供的像素电极。该像素电极具有电阻值低和电性能稳定的特点，并且机械强度高柔韧性好。
在第五方面，本发明提供了一种用于形成像素电极的组合物，其为制作本发明第一方面的像素结构所使用的混合液。该混合液可以包括：磷烯、导电聚合物、固化材料和离子液，还可以包括：润湿流平剂和附着力促进剂中的至少一种。对于混合液中各组分的种类和比例，请参见本发明第一方面的相关叙述，在此不作赘述。
材料和仪器
实施例中所用到试剂药品均市售可得。
仪器
磁力搅拌器品牌：艾卡(IKA)，型号：RCT
方块电阻仪厂家：苏州晶格电子有限公司，型号：ST2253
实施例1-5组合物的制备
实施例1
精密称取2g的固化材料，加入到94g的离子液中，加热至270℃，200转/min，搅拌20h，使之完全溶解，冷却至室温，之后加入2g的聚对苯撑乙烯、1g的3,4-乙撑二氧噻吩聚合物和1g的乙烯基三乙氧基硅烷聚合物，200转/min，搅拌22h，混匀后，加入4g的磷烯，200转/min，搅拌24h，使磷烯分散均匀，制得组合物。其中，离子液为含有质量百分比为6％的1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-辛基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐、1-乙基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐溶液。固化材料为1.8g的不饱和的聚酯类树脂和0.2g的脂肪族多胺固化剂。
实施例2-5与实施例1的制备方法和条件相同，只是组合物的成分不同。如表1所示。
表1实施例2-5制备的组合物中各种成分的用量
实施例6像素电极的制备
将实施例4组合物涂布于玻璃基板上，冷却至室温，并在室温下保持120秒，固化形成薄膜；
在薄膜上喷墨打印光刻胶；
对具有光刻胶的薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形；
在真空度为10-5托，加热至260℃，保持20min，将光刻胶剥离，获得像素电极。
实施例7像素电极的制备
第一混合液的制备，10g的磷烯加入到含有2g的固化材料和88g的离子液的溶液中，150转/min，搅拌18h，混合均匀，得到第一混合液；其中，固化材料的种类和离子液中盐的种类和质量百分比与实施例2的相同；
第一薄膜的制备，将第一混合液涂布于玻璃基板上，固化而形成第一薄膜；
第二混合液的制备，将3g的固化材料加入到89g离子液中，混匀；再向其中加入3g的聚苯乙烯磺酸钠、3g的三苯基吡唑啉聚合物和2g的4-甲基三苯胺，150转/min，搅拌18h，混合均匀，得到第二混合液；其中，固化材料的种类和离子液中盐的种类和质量百分比与实施例2的相同；
将第二混合液喷淋在第一薄膜上，在220℃的条件下，保持120s，之后冷却至室温，固化而形成第二薄膜；
在第二薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对具有光刻胶的第二薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形；
在真空度为10-5托，加热至260℃，保持20min，将光刻胶剥离，获得像素电极。
相对于实施例6制备的像素电极，实施例7这种通过在磷烯薄膜的表面形成保护层的方法制备的像素电极的稳定性更高。
实施例8像素结构的制备
通过一次构图工艺在玻璃基板100上形成栅极1、栅线2、以及公共电极3；
依次沉积栅极绝缘层4和有源层5，通过一次构图工艺形成有源层图形；
在有源层5上形成源电极6和漏电极7；
在源电极6和漏电极7上形成钝化层8，并通过一次构图工艺在钝化层8上形成过孔81；
在过孔81中对位贴附实施例6制备的像素电极9，加热至230℃，保持90s，从而获得像素结构。该像素结构如图1所示。
实施例9像素结构的制备
通过一次构图工艺在玻璃基板上形成栅极、栅线、以及公共电极；
依次沉积栅极绝缘层和有源层，通过一次构图工艺形成有源层图形；
在有源层上形成源电极和漏电极；
在源电极和漏电极上形成钝化层，并通过一次构图工艺在钝化层上形成过孔；
在过孔中对位贴附实施例7制备的像素电极，加热至230℃，保持90s，从而获得像素结构。
对比例
混合溶液的制备，10g的磷烯加入到含有2g的固化材料和88g的离子液的溶液中，150转/min，搅拌18h，混合均匀，得到混合液；其中，固化材料的种类和离子液中盐的种类和质量百分比与实施例2的相同；
薄膜的制备，将混合液涂布于玻璃基板上，固化而形成薄膜；
在薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对涂布有所述光刻胶的薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形；
在真空度为10-5托，加热至260℃，保持20min，将光刻胶剥离，获得像素电极。
将对比例制备的像素电极与实施例7中制备的像素电极进行电阻测试实验。结果如表2所示：
表2电阻测试实验
由表2可知，采用本发明的技术方案制备的像素电极，不但方块电阻小，而且电性能稳定，从而可知由该像素电极制备的像素结构也具有电阻值小，电性能稳定的特点，可应用于柔性显示。
以上所述仅是为了便于本领域的技术人员理解本发明的技术方案，并不用以限制本发明。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种像素结构，包括：像素电极，其特征在于，所述像素电极包括磷烯电极；其中，
所述像素电极通过对混合膜层进行构图工艺形成，所述混合膜层在待形成像素电极的区域形成；
所述混合膜层包括由混合液固化形成的薄膜，所述混合液包括磷烯、固化材料和离子液。
2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素电极还包括设置在所述磷烯电极上的保护层。
3.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述保护层由包括第一导电聚合物、第一固化材料和第一离子液的第一混合液制作而成。
4.根据权利要求1-3任一项所述的像素结构，其特征在于，所述磷烯电极由包括磷烯、固化材料和离子液的混合液制作而成。
5.根据权利要求4所述的像素结构，其特征在于，所述混合液还包括导电聚合物；所述磷烯与所述导电聚合物、固化材料和离子液之和的重量比范围为2％～10％。
6.根据权利要求5所述的像素结构，其特征在于，基于所述导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，所述导电聚合物的质量百分比为5％～10％。
7.根据权利要求5所述的像素结构，其特征在于，所述导电聚合物包括：聚苯乙烯磺酸钠、聚对苯撑乙烯、聚噻吩类聚合物、聚硅烷类聚合物、三苯甲烷类聚合物、三芳胺类聚合物和吡唑啉类聚合物中的至少一种聚合物。
8.根据权利要求5所述的像素结构，其特征在于，基于所述导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，所述固化材料的质量百分比为0.5％～5％。
9.根据权利要求5所述的像素结构，其特征在于，所述混合液还包括：质量百分比为0.001％～1％的润湿流平剂；和/或
基于所述导电聚合物、固化材料和离子液的总质量，质量百分比为0.001％～1％的附着力促进剂。
10.一种像素电极的制作方法，其特征在于，
在待形成像素电极的区域形成至少包括磷烯的混合膜层，对所述混合膜层进行构图工艺，形成像素电极；
其中，所述混合膜层包括由混合液固化形成的薄膜，所述混合液包括磷烯、固化材料和离子液，所述像素电极包括磷烯电极。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，在待形成像素电极的区域形成至少包括磷烯的混合膜层，对所述混合膜层进行构图工艺，形成像素电极，包括：
将包括磷烯、第二固化材料和第二离子液的第二混合液固化形成薄膜；
在所述薄膜上喷墨打印光刻胶，或在所述薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对具有所述光刻胶的所述薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形，
用包含第二导电聚合物、第三固化材料和第三离子液的第三混合液喷淋所述像素电极图形；
加热固化而形成所述像素电极；
或者，
将包括磷烯、第四固化材料和第四离子液的第四混合液固化形成第一薄膜；
用包含第三导电聚合物、第五固化材料和第五离子液的第五混合液喷淋所述第一薄膜；
加热固化而形成第二薄膜；
在所述第二薄膜上喷墨打印光刻胶，或在所述第二薄膜上涂布光刻胶，再进行曝光显影；
对具有所述光刻胶的所述第二薄膜进行刻蚀，形成像素电极图形，从而获得所述像素电极。
12.一种像素电极，其特征在于，所述像素电极为如权利要求10或11所述方法制作而成的像素电极。
CN201610829346.1A 2016-09-18 2016-09-18 像素结构、像素电极及其制备方法 Expired - Fee Related CN106384566B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610829346.1A CN106384566B (zh) 2016-09-18 2016-09-18 像素结构、像素电极及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610829346.1A CN106384566B (zh) 2016-09-18 2016-09-18 像素结构、像素电极及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106384566A CN106384566A (zh) 2017-02-08
CN106384566B true CN106384566B (zh) 2019-05-17

Family

ID=57936479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610829346.1A Expired - Fee Related CN106384566B (zh) 2016-09-18 2016-09-18 像素结构、像素电极及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106384566B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106298986B (zh) 2016-09-22 2017-11-10 京东方科技集团股份有限公司 阴极及其制备方法、太阳能单元、组合物、薄膜

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101150093A (zh) * 2007-11-14 2008-03-26 友达光电股份有限公司 像素结构及其制作方法
CN101159276A (zh) * 2007-11-19 2008-04-09 友达光电股份有限公司 像素结构及其制造方法
CN101847941A (zh) * 2009-03-24 2010-09-29 索尼公司 致动器
KR20120003577A (ko) * 2010-07-05 2012-01-11 국민대학교산학협력단 유연 전자소자용 전도성 고분자-금속 나노입자 하이브리드 투명전극필름 및 이의 제조방법
CN202443974U (zh) * 2012-02-29 2012-09-19 北京京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及应用其的显示装置
CN104393194A (zh) * 2014-12-10 2015-03-04 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性电极、其制作方法、电子皮肤及柔性显示装置
CN105116034A (zh) * 2015-09-08 2015-12-02 无锡百灵传感技术有限公司 一种基于黑磷电极的传感器及其制备方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101150093A (zh) * 2007-11-14 2008-03-26 友达光电股份有限公司 像素结构及其制作方法
CN101159276A (zh) * 2007-11-19 2008-04-09 友达光电股份有限公司 像素结构及其制造方法
CN101847941A (zh) * 2009-03-24 2010-09-29 索尼公司 致动器
KR20120003577A (ko) * 2010-07-05 2012-01-11 국민대학교산학협력단 유연 전자소자용 전도성 고분자-금속 나노입자 하이브리드 투명전극필름 및 이의 제조방법
CN202443974U (zh) * 2012-02-29 2012-09-19 北京京东方光电科技有限公司 一种阵列基板及应用其的显示装置
CN104393194A (zh) * 2014-12-10 2015-03-04 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性电极、其制作方法、电子皮肤及柔性显示装置
CN105116034A (zh) * 2015-09-08 2015-12-02 无锡百灵传感技术有限公司 一种基于黑磷电极的传感器及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN106384566A (zh) 2017-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10818806B2 (en) Cathode of solar unit and solar cell
CN105527757B (zh) 液晶显示面板的制作方法
WO2017206204A1 (zh) 配向膜材料、液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
CN109575604A (zh) 一种柔性透明复合导电弹性体的制备方法
CN106047374B (zh) 液晶取向剂、液晶取向膜及其制造方法、以及液晶元件
CN105085937A (zh) 富勒烯/pedot:pss混合溶液的制备方法及具有富勒烯/pedot:pss复合透明导电膜的基板的制备方法
CN105259715A (zh) 图案化电极的制作方法、液晶显示面板及其制作方法
CN106796377A (zh) 包括经中和的导电聚合物透明电极的聚合物分散液晶元件及其生产方法
KR20110074320A (ko) 저온 속경화형 이방 전도성 필름용 조성물 및 이를 이용한 저온 속경화형 이방 전도성 필름
WO2012018123A1 (ja) 異方導電性接着フィルムおよび硬化剤
CN105988252A (zh) 液晶显示组件及其制造方法、以及液晶取向剂
KR20170101626A (ko) 배리어 막 형성용 조성물, 및 이로부터 얻어진 배리어 막
CN108735349A (zh) 一种含离子液体的银纳米线透明导电薄膜及其制备方法
CN106384566B (zh) 像素结构、像素电极及其制备方法
CN105390183B (zh) 含石墨烯的柔性透明导电薄膜及其制备方法
CN105038411B (zh) 一种导电油墨及其制备方法和使用方法
CN108474982A (zh) 液晶显示装置以及液晶显示装置的制造方法
CN106293253B (zh) 触控传感器及其制作方法和触控传感器单元
KR102101530B1 (ko) 액정 배향막의 제조 방법, 액정 배향막 및 액정 표시 소자
CN105504326A (zh) 一种石墨烯叠层复合掺杂方法
Yu et al. Thermally driven self‐healing PEDOT conductive films relying on reversible and multiple Diels–Alder interaction
TWI649399B (zh) 非等向性導電膜用組成物、非等向性導電膜及使用其的顯示裝置
CN104377303B (zh) 一种有机薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板及显示装置
JP5324517B2 (ja) 導電性コーティング組成物
CN110408064A (zh) 一种无色聚酰亚胺薄膜的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20190517

Termination date: 20200918

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee