CN106084504A - 一种光扩散离型膜 - Google Patents

一种光扩散离型膜 Download PDF

Info

Publication number
CN106084504A
CN106084504A CN201610590981.9A CN201610590981A CN106084504A CN 106084504 A CN106084504 A CN 106084504A CN 201610590981 A CN201610590981 A CN 201610590981A CN 106084504 A CN106084504 A CN 106084504A
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
mould release
release membrance
light
light diffusion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201610590981.9A
Other languages
English (en)
Inventor
於险峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ji Xiangbao (taicang) Material Science And Technology Development Co Ltd
Original Assignee
Ji Xiangbao (taicang) Material Science And Technology Development Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ji Xiangbao (taicang) Material Science And Technology Development Co Ltd filed Critical Ji Xiangbao (taicang) Material Science And Technology Development Co Ltd
Priority to CN201610590981.9A priority Critical patent/CN106084504A/zh
Publication of CN106084504A publication Critical patent/CN106084504A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/18—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms
    • C08L23/20—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms having four to nine carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2323/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers
    • C08J2323/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Derivatives of such polymers not modified by chemical after treatment
    • C08J2323/18—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms
    • C08J2323/20—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms having four to nine carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2427/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
    • C08J2427/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08J2427/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
    • C08J2427/18—Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2469/00—Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/011—Nanostructured additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00—Properties
    • C08L2201/08—Stabilised against heat, light or radiation or oxydation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/16—Applications used for films
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
    • C08L2205/025—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group containing two or more polymers of the same hierarchy C08L, and differing only in parameters such as density, comonomer content, molecular weight, structure
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/03—Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend
    • C08L2205/035—Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend containing four or more polymers in a blend

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本发明提供一种光扩散离型膜，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：TPX、PC、PFA、PBT、纳米硫酸钡、纳米二氧化硅、聚醚酰亚胺、酚醛树脂、聚氨酯、聚酰亚胺、2‑甲基丙烯酸乙酯、有机蒙脱土、乙二醇、硅烷偶联剂、抗氧剂、光稳定剂、消泡剂以及增稠剂；所述光扩散离型膜具有极佳的光学扩散效果，且具有良好的剥离强度和拉伸强度；其次，所述的光扩散离型膜表面平整光洁，具备良好的热稳定性和热收缩率，能够耐光老化并可多次反复使用；此外，本发明提供的一种光扩散离型膜环保无毒，合成方法简单，操作简便，条件温和，适用于工业化生产。

Description

一种光扩散离型膜
技术领域
本发明涉及一种离型膜，具体涉及一种光扩散离型膜。
背景技术
离型膜，又称剥离膜、隔离膜、分离膜、阻胶膜、离形膜、薄膜、塑料薄膜、掩孔膜、硅油膜、硅油纸、防粘膜、打滑膜、天那纸、离型纸、silliconfilm、release film、release。通常情况下为了增加塑料薄膜的离型力，会将塑料薄膜做等离子处理，或涂氟处理，或涂硅（silicone）离型剂于薄膜材质的表层上，如PET、PE、OPP等等；让它对于各种不同的有机压感胶（如热融胶、亚克力胶和橡胶系的压感胶）可以表现出极轻且稳定的离型力。
由于离型膜具有隔离、填充、保护、易于剥离等优点，因此被广泛的应用于各种电子、通信、机械等领域中。
具备光学扩散效果的离型膜应用范围很广，主要用途包括：LED显示器、医疗、化妆品容器、理化实验器具、微波用食器、电气/电子零件、工业零件、薄膜、信息器材零件、树脂改质剂、电气绝缘材等，此外先进的光内存、光通讯器材、水处理装置、空气分离膜等应用亦在开发中。
但是现有的离型膜光学扩散效果不佳、热封性能差，热收缩率比较低，不易于回收，机械性能也不能满足工业的需求。
发明内容
为解决上述存在的问题，本发明的目的在于提供一种光扩散离型膜，所述光扩散离型膜具有极佳的光学扩散效果，且具有良好的剥离强度和拉伸强度；其次，所述的光扩散离型膜表面平整光洁，具备良好的热稳定性和热收缩率，能够耐光老化并可多次反复使用；此外，本发明提供的一种光扩散离型膜环保无毒，合成方法简单，操作简便，条件温和，适用于工业化生产。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：
一种光扩散离型膜，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：60～80份，PC：8～12份，PFA：10～15份，PBT：5～10份，纳米硫酸钡：2～3份，纳米二氧化硅：1～2份，聚醚酰亚胺：3～5份，酚醛树脂：3～6份，聚氨酯：2～3份，聚酰亚胺：1～3份，2-甲基丙烯酸乙酯：5～10份，有机蒙脱土：2～3份，乙二醇：15～25份，硅烷偶联剂：1～2份，抗氧剂：0.1～1份，光稳定剂：0.1～1份，消泡剂：0.1～0.5份，增稠剂：0.1～0.5份。
优选地，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：65～75份，PC：8.5～11份，PFA：10.4～14.2份，PBT：6～9份，纳米硫酸钡：2.2～2.8份，纳米二氧化硅：1.15～1.87份，聚醚酰亚胺：3.4～4.6份，酚醛树脂：3.8～5.4份，聚氨酯：2.1～2.9份，聚酰亚胺：1.3～2.8份，2-甲基丙烯酸乙酯：5.5～9.5份，有机蒙脱土：2.2～2.7份，乙二醇：16～23份，硅烷偶联剂：1.2～1.8份，抗氧剂：0.3～0.8份，光稳定剂：0.2～0.85份，消泡剂：0.16～0.42份，增稠剂：0.14～0.45份。
优选地，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：70份，PC：9.8份，PFA：12份，PBT：7.5份，纳米硫酸钡：2.4份，纳米二氧化硅：1.5份，聚醚酰亚胺：4份，酚醛树脂：4.7份，聚氨酯：2.6份，聚酰亚胺：2.2份，2-甲基丙烯酸乙酯：7.8份，有机蒙脱土：2.54份，乙二醇：20份，硅烷偶联剂：1.67份，抗氧剂：0.52份，光稳定剂：0.54份，消泡剂：0.23份，增稠剂：0.28份。
进一步，所述有机蒙脱土为十六烷基三甲基氯化铵。
进一步，所述硅烷偶联剂为乙烯基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、β-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷中的一种。
另，所述抗氧剂为抗氧剂1076、抗氧剂164中的一种。
另有，所述光稳定剂为光稳定剂770。
再，所述消泡剂为聚醚类或有机硅类消泡剂。
再有，所述增稠剂为甲基羟丙基纤维素。
本发明的有益效果在于：
（1）所述光扩散离型膜，改善了离型层与薄膜层之间的亲和力，使其具备良好的剥离强度，能够实现大面积剥离，与此同时，又提高了离型层整体的拉伸强度。
（2）所述光扩散离型膜，表面平整光洁，具备良好的热稳定性和热收缩率，同时，还具有散热储能作用，在用于隔离、填充过程中，如果所隔离、填充的设备过热，可以将多余热量吸收储备起来，达到了快速散热效果，功能更为多样化。
（3）所述光扩散离型膜，具备很好的耐光老化性能，能够被多次反复使用，性价比更高，是一种综合性能更加均衡、优越的离型膜。
（4）所述光扩散离型膜综合性能更加均衡，具有极佳的耐水性、耐溶剂性、耐药品性、耐腐蚀性、耐温性、耐候性、粘合性以及光学扩散效果。
（5）所述光扩散离型膜，环保无毒，合成方法简单，操作简便，条件温和，适用于工业化生产。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一
一种光扩散离型膜，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：70份，PC：9.8份，PFA：12份，PBT：7.5份，纳米硫酸钡：2.4份，纳米二氧化硅：1.5份，聚醚酰亚胺：4份，酚醛树脂：4.7份，聚氨酯：2.6份，聚酰亚胺：2.2份，2-甲基丙烯酸乙酯：7.8份，有机蒙脱土：2.54份，乙二醇：20份，硅烷偶联剂：1.67份，抗氧剂：0.52份，光稳定剂：0.54份，消泡剂：0.23份，增稠剂：0.28份。
实施例二
一种光扩散离型膜，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：65份，PC：12份，PFA：10.4份，PBT：10份，纳米硫酸钡：3份，纳米二氧化硅：2份，聚醚酰亚胺：4.6份，酚醛树脂：3份，聚氨酯：2份，聚酰亚胺：2.8份，2-甲基丙烯酸乙酯：5份，有机蒙脱土：2份，乙二醇：25份，硅烷偶联剂：1.2份，抗氧剂：1份，光稳定剂：0.1份，消泡剂：0.42份，增稠剂：0.14份。
实施例三
一种光扩散离型膜，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：75份，PC：11份，PFA：10份，PBT：9份，纳米硫酸钡：2份，纳米二氧化硅：1.87份，聚醚酰亚胺：5份，酚醛树脂：3.8份，聚氨酯：2.9份，聚酰亚胺：3份，2-甲基丙烯酸乙酯：5.5份，有机蒙脱土：2.7份，乙二醇：23份，硅烷偶联剂：2份，抗氧剂：0.3份，光稳定剂：1份，消泡剂：0.1份，增稠剂：0.5份。
实施例四
一种光扩散离型膜，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：80份，PC：8份，PFA：15份，PBT：5份，纳米硫酸钡：2.8份，纳米二氧化硅：1份，聚醚酰亚胺：3.4份，酚醛树脂：5.4份，聚氨酯：3份，聚酰亚胺：1.3份，2-甲基丙烯酸乙酯：10份，有机蒙脱土：2.2份，乙二醇：16份，硅烷偶联剂：1份，抗氧剂：0.8份，光稳定剂：0.85份，消泡剂：0.5份，增稠剂：0.1份。
实施例五
一种光扩散离型膜，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：60份，PC：8.5份，PFA：14.2份，PBT：6份，纳米硫酸钡：2.2份，纳米二氧化硅：1.15份，聚醚酰亚胺：3份，酚醛树脂：6份，聚氨酯：2.1份，聚酰亚胺：1份，2-甲基丙烯酸乙酯：9.5份，有机蒙脱土：3份，乙二醇：15份，硅烷偶联剂：1.8份，抗氧剂：0.1份，光稳定剂：0.2份，消泡剂：0.16份，增稠剂：0.45份。
本发明提供的一种光扩散离型膜，所述光扩散离型膜，改善了离型层与薄膜层之间的亲和力，使其具备良好的剥离强度，能够实现大面积剥离，与此同时，又提高了离型层整体的拉伸强度。其次，所述光扩散离型膜，表面平整光洁，具备良好的热稳定性和热收缩率，同时，还具有散热储能作用，在用于隔离、填充过程中，如果所隔离、填充的设备过热，可以将多余热量吸收储备起来，达到了快速散热效果，功能更为多样化。再者，所述光扩散离型膜，具备很好的耐光老化性能，能够被多次反复使用，性价比更高，是一种综合性能更加均衡、优越的离型膜。本发明提供的一种光扩散离型膜综合性能更加均衡，具有极佳的耐水性、耐溶剂性、耐药品性、耐腐蚀性、耐温性、耐候性、粘合性以及光学扩散效果。此外，所述光扩散离型膜，环保无毒，合成方法简单，操作简便，条件温和，适用于工业化生产。
需要说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制。尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。

Claims (9)

1.一种光扩散离型膜，其特征在于，包括薄膜层，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：60～80份，PC：8～12份，PFA：10～15份，PBT：5～10份，纳米硫酸钡：2～3份，纳米二氧化硅：1～2份，聚醚酰亚胺：3～5份，酚醛树脂：3～6份，聚氨酯：2～3份，聚酰亚胺：1～3份，2-甲基丙烯酸乙酯：5～10份，有机蒙脱土：2～3份，乙二醇：15～25份，硅烷偶联剂：1～2份，抗氧剂：0.1～1份，光稳定剂：0.1～1份，消泡剂：0.1～0.5份，增稠剂：0.1～0.5份。
2.根据权利要求1所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：65～75份，PC：8.5～11份，PFA：10.4～14.2份，PBT：6～9份，纳米硫酸钡：2.2～2.8份，纳米二氧化硅：1.15～1.87份，聚醚酰亚胺：3.4～4.6份，酚醛树脂：3.8～5.4份，聚氨酯：2.1～2.9份，聚酰亚胺：1.3～2.8份，2-甲基丙烯酸乙酯：5.5～9.5份，有机蒙脱土：2.2～2.7份，乙二醇：16～23份，硅烷偶联剂：1.2～1.8份，抗氧剂：0.3～0.8份，光稳定剂：0.2～0.85份，消泡剂：0.16～0.42份，增稠剂：0.14～0.45份。
3.根据权利要求1所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述薄膜层包括以下重量配比原料：
TPX：70份，PC：9.8份，PFA：12份，PBT：7.5份，纳米硫酸钡：2.4份，纳米二氧化硅：1.5份，聚醚酰亚胺：4份，酚醛树脂：4.7份，聚氨酯：2.6份，聚酰亚胺：2.2份，2-甲基丙烯酸乙酯：7.8份，有机蒙脱土：2.54份，乙二醇：20份，硅烷偶联剂：1.67份，抗氧剂：0.52份，光稳定剂：0.54份，消泡剂：0.23份，增稠剂：0.28份。
4.根据权利要求1或2或3所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述有机蒙脱土为十六烷基三甲基氯化铵。
5.根据权利要求1或2或3所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述硅烷偶联剂为乙烯基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、β-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷中的一种。
6.根据权利要求1或2或3所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述抗氧剂为抗氧剂1076、抗氧剂164中的一种。
7.根据权利要求1或2或3所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述光稳定剂为光稳定剂770。
8.根据权利要求1或2或3所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述消泡剂为聚醚类或有机硅类消泡剂。
9.根据权利要求1或2或3所述的一种光扩散离型膜，其特征在于，所述增稠剂为甲基羟丙基纤维素。
CN201610590981.9A 2016-07-26 2016-07-26 一种光扩散离型膜 Pending CN106084504A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610590981.9A CN106084504A (zh) 2016-07-26 2016-07-26 一种光扩散离型膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610590981.9A CN106084504A (zh) 2016-07-26 2016-07-26 一种光扩散离型膜

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN106084504A true CN106084504A (zh) 2016-11-09

Family

ID=57449634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610590981.9A Pending CN106084504A (zh) 2016-07-26 2016-07-26 一种光扩散离型膜

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106084504A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115521617A (zh) * 2022-09-29 2022-12-27 升信新材（北京）科技有限公司 一种聚醚酰亚胺薄膜及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1992327A (zh) * 2001-02-21 2007-07-04 株式会社半导体能源研究所 发光器件、电子设备、和其制造方法
CN104903091A (zh) * 2013-01-29 2015-09-09 东丽株式会社 基板及使用其的触摸面板构件
CN104945875A (zh) * 2015-05-29 2015-09-30 吉翔宝（太仓）离型材料科技发展有限公司 一种聚碳酸酯离型膜
CN104962043A (zh) * 2015-05-29 2015-10-07 吉翔宝（太仓）离型材料科技发展有限公司 一种pet光扩散离型膜

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1992327A (zh) * 2001-02-21 2007-07-04 株式会社半导体能源研究所 发光器件、电子设备、和其制造方法
CN104903091A (zh) * 2013-01-29 2015-09-09 东丽株式会社 基板及使用其的触摸面板构件
CN104945875A (zh) * 2015-05-29 2015-09-30 吉翔宝（太仓）离型材料科技发展有限公司 一种聚碳酸酯离型膜
CN104962043A (zh) * 2015-05-29 2015-10-07 吉翔宝（太仓）离型材料科技发展有限公司 一种pet光扩散离型膜

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115521617A (zh) * 2022-09-29 2022-12-27 升信新材（北京）科技有限公司 一种聚醚酰亚胺薄膜及其制备方法
CN115521617B (zh) * 2022-09-29 2023-07-28 升信新材（北京）科技有限公司 一种聚醚酰亚胺薄膜及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105914248B (zh) 一种具有高cti值的太阳能电池组件用背板
US10500816B2 (en) Substrate structure, method for attaching flexible substrate and method for peeling off flexible substrate
CN106633639B (zh) 一种热浸塑钢质线缆保护管道及其制备方法
CN105440641A (zh) 一种聚碳酸酯绝缘离型膜
CN106701011B (zh) 可剥离压敏胶组合物及压敏胶制品
CN106084504A (zh) 一种光扩散离型膜
CN106188899A (zh) 一种tpx离型膜
CN106188898A (zh) 一种耐高温阻胶离型膜
CN106188954A (zh) 一种pvc离型膜
CN106188900A (zh) 一种防水离型膜
CN106147148A (zh) 一种绝缘离型膜
CN107805465A (zh) 一种可重工无纺布阻燃胶带
CN105044994B (zh) 封框胶、显示面板及显示装置
CN106189108A (zh) 一种复合离型膜
CN107841257B (zh) 一种多功能绝缘防水胶带
CN106634657B (zh) 一种具有抗电磁辐射及高导热性能的复合材料及其制备方法
CN106147149A (zh) 一种pet离型膜
CN210560211U (zh) 一种泡棉胶带
CN106832375A (zh) 一种pvc离型膜
CN105365312B (zh) 一种3d立体成像薄膜及其应用
CN105542300A (zh) 一种绝缘离型膜
CN105440500A (zh) 一种可变色的pvc绝缘离型膜
CN112852319A (zh) 基于环氧树脂的高抗静电保护膜及其制备方法
CN106240137A (zh) 一种复合离型膜检知机构
CN104479360A (zh) 一种高性能的有机硅胶

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20161109