CN106064350A

CN106064350A - 一种抛光机的水冷下抛光盘结构

Info

Publication number: CN106064350A
Application number: CN201610601957.0A
Authority: CN
Inventors: 乔卫民; 翟新; 李方俊; 马艳
Original assignee: SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd
Current assignee: SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date: 2016-07-28
Filing date: 2016-07-28
Publication date: 2016-11-02

Abstract

本发明公开了一种抛光机的水冷下抛光盘结构，包括下盘工作盘，所述下盘工作盘的下方设有水冷盘，所述水冷盘与所述下盘工作盘之间设有冷却腔，所述水冷盘上设有进水口和出水口，所述水冷盘上设有扇形冷却腔，所述扇形冷却腔内设有分流筋。本发明采用特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠；结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。

Description

一种抛光机的水冷下抛光盘结构

技术领域

本发明涉及抛光机的结构，具体涉及一种抛光机的水冷下抛光盘结构。

背景技术

用于抛光机的下抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的热，温度的变化必然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来IC芯片硅片的尺寸趋向大直径化，对硅片的质量要求也越来越严，对于用来进行硅片及其它高精度薄脆材料单面抛光加工的抛光设备，必须严格控制抛盘的形变。

此前生产的单面抛光机的下抛盘也配有水冷盘，冷却效果不好，抛盘温度的变化不可控。传统的设备也大多应用在非IC行业，对下盘的温度控制要求不高，而IC行业对硅片的要求比较高，对上下抛光盘进行精密温度控制是必需的，因此必须采用新的下盘结构，以便对抛盘进行冷却，达到温度精确控制的目的。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的问题，提供一种涉及蓝宝石、硅片、锗片、计算机磁盘基片以及光学材料等金属，非金属硬脆材料的单面抛光机水冷下抛光盘结构，在抛盘内部强制通冷却介质，对下抛光盘进行强制冷却，实现抛盘温度的精密控制，达到控制抛盘变形的目的。

为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：

一种抛光机的水冷下抛光盘结构，包括下盘工作盘，所述下盘工作盘的下方设有水冷盘，所述水冷盘与所述下盘工作盘之间设有冷却腔，所述水冷盘上设有进水口和出水口，所述水冷盘上设有扇形冷却腔，所述扇形冷却腔内设有分流筋。

进一步的，所述水冷盘与所述下盘工作盘之间的外圈设有外圈密封圈，内圈设有内圈密封圈。

优选的，所述水冷盘的内部中间位置设有分水盘，所述分水盘的两端分别设有进水槽和回水槽，所述回水槽上设有回水管，所述分水盘与所述下盘工作盘之间通过设在所述分流筋上的链接螺钉连接。

进一步的，所述进水口和所述出水口分别与所述冷却腔连通。

进一步的，所述扇形冷却腔有12个，且是下凹的，所述分流筋是树叶型的。

进一步的，所述进水口与进水槽相通，所述出水口与回水槽相通。

本发明的有益效果:

本发明本发明采用特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠；结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。

附图说明

图1是本发明抛光机的水冷下抛光盘结构的结构示意图;

图2是本发明抛光机的水冷下抛光盘结构的机构的剖视图A-A。

图中：1、水冷盘，2、外圈密封圈，3、下盘工作盘，4、冷却腔，5、内圈密封圈，6、进水口，7、扇形冷却腔，8、出水口，9、分流筋，10、分水盘，11、连接螺钉，12、回水管。

具体实施方式

下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本发明。

参照图1和图2所示，一种抛光机的水冷下抛光盘结构，包括下盘工作盘3，所述下盘工作盘3的下方设有水冷盘1，所述水冷盘1与所述下盘工作盘3之间设有冷却腔4，所述水冷盘1上设有进水口6和出水口8，所述水冷盘1上设有扇形冷却腔7，所述扇形冷却腔7内设有分流筋9。

进一步的，所述水冷盘1与所述下盘工作盘3之间的外圈设有外圈密封圈2，内圈设有内圈密封圈5。

优选的，所述水冷盘1的内部中间位置设有分水盘10，所述分水盘10的两端分别设有进水槽1001和回水槽1002，所述回水槽1002上设有回水管12，所述分水盘10与所述下盘工作盘3之间通过设在所述分流筋9上的链接螺钉11连接。

进一步的，所述进水口6和所述出水口8分别与所述冷却腔4连通。

进一步的，所述扇形冷却腔7有12个，且是下凹的，所述分流筋9是树叶型的。

进一步的，所述进水口6与进水槽1001相通，所述出水口8与回水槽1002相通。

本发明的原理：

本发明下抛光盘均采用复合双层结构，为中空结构，上层为下盘工作盘3，下层为水冷盘1，中间可通冷却水。水冷盘1设有十二个独立的扇形冷却腔7，内布水冷通道，采用独特的循环通道，将冷却水引入进水口6，进入冷却腔4，对下盘工作盘3进行冷却，且在进水口6处装有水管将冷却水由盘体内侧导向盘体外侧，保证了冷却水经过的回路较长而不走捷径，且出水口8出的回水管12的高度高于复合盘体的结合面，冷却水必须完全充满冷却腔4后才能从出水口8经由回水管12流出，确保抛盘能得到充分的冷却，盘体内外侧结合面装以及螺钉连接处装有密封圈，用于防止泄露。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种抛光机的水冷下抛光盘结构，其特征在于，包括下盘工作盘（3），所述下盘工作盘（3）的下方设有水冷盘（1），所述水冷盘（1）与所述下盘工作盘（3）之间设有冷却腔（4），所述水冷盘（1）上设有进水口（6）和出水口（8），所述水冷盘（1）上设有扇形冷却腔（7），所述扇形冷却腔（7）内设有分流筋（9）。

2.根据权利要求1所述的抛光机的水冷下抛光盘结构，其特征在于，所述水冷盘（1）与所述下盘工作盘（3）之间的外圈设有外圈密封圈（2），内圈设有内圈密封圈（5）。

3.根据权利要求1所述的抛光机的水冷下抛光盘结构，其特征在于，所述水冷盘（1）的内部中间位置设有分水盘（10），所述分水盘（10）的两端分别设有进水槽（1001）和回水槽（1002），所述回水槽（1002）上设有回水管（12），所述分水盘（10）与所述下盘工作盘（3）之间通过设在所述分流筋（9）上的链接螺钉（11）连接。

4.根据权利要求1所述的抛光机的水冷下抛光盘结构，其特征在于，所述进水口（6）和所述出水口（8）分别与所述冷却腔（4）连通。

5.根据权利要求1所述的抛光机的水冷下抛光盘结构，其特征在于，所述扇形冷却腔（7）有12个，且是下凹的，所述分流筋（9）是树叶型的。

6.根据权利要求1所述的抛光机的水冷下抛光盘结构，其特征在于，所述进水口（6）与进水槽（1001）相通，所述出水口（8）与回水槽（1002）相通。