CN206185640U - 一种用于光学平面抛光机冷却系统的机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于光学平面抛光机冷却系统的机构，主要用于光学平面抛光机精磨和抛光的冷却。主要技术方案是：由中盘和下盘密封连接，下盘底部粘接隔热圈，下盘和隔热圈外安装一个挡水圈；在中盘上均布8—14个扇形循环槽，扇形循环槽两边分别有一个进水槽和出水槽。本实用新型试用证明：从根本上消除了原机构冷却液流动行程长、中盘温度不均匀的现象，使被加工件的精度质量得以保障，有效的提高了生产效率，满足现行生产的要求。

Description

一种用于光学平面抛光机冷却系统的机构

技术领域

本实用新型属于一种光学制造设备的部件，主要用于光学平面抛光机精磨或抛光的冷却机构。

背景技术

在光电行业中，大量的晶体基片和光学面板需要进行双面平面的精磨和抛光加工，随着现代科技的发展，对晶体基片和光学面板的面积要求越来越大，厚度越来越薄，平面度和表面粗糙度越来越高，目前晶体基片的直径要求已达到200mm，厚度要求达到0.2mm，平面度要求达到0.004mm，这就对其加工的机床提出新的更高的要求。

现有的晶体基片和光学面板平面抛光机，它的冷却系统机构比较陈旧，尤其是中盘的结构（见图1），采用迷宫式的冷却循环方式。其工作过程：冷却液从进水口A进入，顺着五个环型槽的位置和方向(见小箭头方向)向中盘的四周逆时针流动，在遇到Z型槽时，冷却液自然从Z型槽的位置向出水口B流出，从而实现对机床的冷却。由于冷却液做圆周流动，冷却液流动的行程较长，而且各个环型槽的行程也不等，在流动过程中，受冷却液流动速度及机床转动速度的影响，出现中盘和上盘盘面不同直径区域的温度不均匀，进水口和出水口的冷却液温差较大，上盘和中盘盘面之间变形，接触不平，使抛光垫脱胶，从而造成加工后的晶体基片或光学面板的尺寸精度、平面度精度不能保障，时常出现超差，生产效率偏低，不能满足现行生产的要求。

实用新型内容

本实用新型的主要任务和目的是，根据现有的光学平面抛光机冷却系统结构存在的缺陷，通过改进，设计一种新的冷却系统机构，从根本上消除系统的冷却液流动的行程较长、中盘和上盘盘面温度不均匀以及进水口出水口的冷却液温差较大的现象，达到保障被加工件的精度质量，提高生产效率，满足现行生产的要求。

本实用新型的主要技术方案：本实用新型包含中盘、下盘、螺栓、螺钉、销、小密封圈、隔热圈、挡水圈、大密封圈，具体结构，由中盘和下盘通过螺栓、螺钉、小密封圈、大密封圈密封连接，下盘底部粘接隔热圈，在下盘和隔热圈外通过螺钉安装一个挡水圈；所述的中盘的结构，在中盘上均布8—14个扇形循环槽，扇形循环槽一边有一个进水槽，另一边有一个出水槽。

本实用新型通过实际应用证明：完全达到设计目的，在工作时，中盘的进水口和出水口之间的循环行程比以前迷宫式冷却循环方式的行程大大缩短，使中盘和上盘盘面的温度均匀一致；在工作中，由于温度不均匀造成的上盘和中盘盘面之间变形接触不平的现象得到了有效的控制；在工件的尺寸精度、平面度以及表面粗糙度方面，合格率由原来的88%提高到97%以上；生产效率提高一倍以上，实践中能够满足现行生产的要求。

附图说明

下面结合附图，对本实用新型作进一步详细地描述。

图1，是现有的平面抛光机冷却系统的中盘结构示意图。

图2，是本实用新型的结构示意图。

图3，是本实用新型的中盘1的立体图。

图4，是本实用新型的中盘1的剖视俯视图，主要表示扇形冷却循环槽结构的示意图。

图5，是本实用新型装入光学平面抛光机应用的示意图。

图6，是图5标记D的放大图。

具体实施方式

参照图2、3、4，对本实用新型的主要技术方案进行说明：本实用新型包含中盘1、下盘2、螺栓3、螺钉4、销5、小密封圈6、隔热圈7、挡水圈8、大密封圈9，具体结构：由中盘1和下盘2通过螺栓3、螺钉4、小密封圈6、大密封圈9密封连接，下盘2底部粘接隔热圈7，在下盘2和隔热圈7外通过螺钉4安装一个挡水圈8；所述的中盘1的结构，在中盘上均布8—14个扇形循环槽11，扇形循环槽一边有一个进水槽10，另一边有一个出水槽12。所述的中盘1的结构，在中盘上可均布12个扇形循环槽11。所述的中盘1的结构，在中盘上可均布8个扇形循环槽11。所述的中盘1的结构，在中盘上可均布14个扇形循环槽11。

由于加工工件直径在50mm～150mm之间的较多，中盘组件的直径在1330～1390mm之间，因此目前中盘1的扇形循环槽11生产的多为12个。扇形循环槽11的数量是根据中盘组件的直径大小而定。

参照图2、5、6，本实用新型的工作过程：首先将本实用新型与抛光机床的主轴盘13通过螺栓3、螺钉4同轴固定连接（见图5），并与机床的进水管组14和出水管组15接通（见图6），上面与抛光机床的上盘16配合连接（见图5）；工作时，冷却液通过进水管组14从进水槽10进入扇形循环槽11内（见图4），而后顺着箭头方向沿着出水槽12通过出水管组15流出，如此反复循环，从而实现对机床的中、上盘的冷却。

本实用新型已用于数控大四轴晶体抛光机和普通数控单轴晶体抛光机等多种平面精磨和抛光设备，效果较好。

Claims (4)

1.一种用于光学平面抛光机冷却系统的机构，其特征在于：包含中盘（1）、下盘（2）、螺栓（3）、螺钉（4）、销（5）、小密封圈（6）、隔热圈（7）、挡水圈（8）、大密封圈（9），具体结构，由中盘（1）和下盘（2）通过螺栓（3）、螺钉（4）、小密封圈（6）、大密封圈（9）密封连接，下盘（2）底部粘接隔热圈（7），在下盘（2）和隔热圈（7）外通过螺钉（4）安装一个挡水圈（8）；所述的中盘（1）的结构，在中盘上均布8—14个扇形循环槽（11），扇形循环槽一边有一个进水槽（10），另一边有一个出水槽（12）。

2.根据权利要求1所述的用于光学平面抛光机冷却系统的机构，其特征在于：中盘（1）上均布12个扇形循环槽（11）。

3.根据权利要求1所述的用于光学平面抛光机冷却系统的机构，其特征在于：中盘（1）上均布8个扇形循环槽（11）。

4.根据权利要求1所述的用于光学平面抛光机冷却系统的机构，其特征在于：中盘（1）上均布14个扇形循环槽（11）。