CN106041742A - 一种抛光机的水冷上抛光盘结构 - Google Patents

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乔卫民
李方俊
翟新
马艳
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    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B55/00—Safety devices for grinding or polishing machines; Accessories fitted to grinding or polishing machines for keeping tools or parts of the machine in good working condition
    • B24B55/02—Equipment for cooling the grinding surfaces, e.g. devices for feeding coolant
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B41/00—Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
    • B24B41/04—Headstocks; Working-spindles; Features relating thereto
    • B24B41/047—Grinding heads for working on plane surfaces

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明是一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘，在所述上盘工作盘的一端侧设有上盘水冷盘，所述上盘水冷盘与上盘工作盘之间形成有空腔，在上盘水冷盘上分别设有与空腔连通的进水口和出水口。本发明的水冷盘结构由几个相互独立的空腔构成，每个空腔分别有各自独立的进出水口，其水路为往复迷宫式，有效的避免了冷却水走捷径，确保仅在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，有助于冷却水对上盘工作盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，从而对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。

Description

一种抛光机的水冷上抛光盘结构
技术领域
本发明涉及抛光机技术领域，具体涉及一种抛光机的水冷上抛光盘结构。
背景技术
用于硅片等薄脆材料的抛光机的上抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的热，温度的变化必然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来IC加工硅片的尺寸趋向大直径化，对硅片形貌的质量要求也越来越严格，对于用来进行硅片双面抛光加工的抛光设备，必须严格控制抛光盘的形变。上抛光盘水冷结构主要用于抛光盘的温度控制。
此前双面抛光机的抛光盘采用整体式结构，没有进行专门温度控制的装置，抛光加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走，属于被动式冷却，抛光盘温度的变化不可控制。传统的设备也大多应用在非IC行业，对上抛光盘的温度控制要求不高。硅片加工，必需对上下抛光盘进行精密温度控制，因此必须采用新的上盘结构，以便对抛光盘进行冷却，达到温度精确控制的目的。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的问题，提供一种抛光机的水冷上抛光盘结构，以实现抛光盘主动冷却，做到抛光盘温度的精确控制。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘，在所述上盘工作盘的一端侧设有上盘水冷盘，所述上盘水冷盘与上盘工作盘之间形成有空腔，在上盘水冷盘上分别设有与空腔连通的进水口和出水口。
进一步的，所述空腔由上盘水冷盘上设置的多个内凹的扇形区域组成，每个扇形区域内由一凸出的分隔筋分隔为两个互为连通的内凹进水区和出水区，在所述进水区设有进水口，在所述出水区设有出水口。
进一步的，在所述进水区设有三根相向设置的进水区凸出筋，在所述出水区设有三根相向设置出水区凸出筋，由分隔筋与进水区凸出筋、出水区凸出筋共同在扇形区域内形成迷宫式水道。
进一步的，所述上盘工作盘与上盘水冷盘之间的外圈设有外圈密封圈，上盘工作盘与上盘水冷盘之间的内圈设有内圈密封圈。
进一步的，所述上盘水冷盘上还设有抛光液流液孔及相应的抛光液衬套，在所述流液孔和抛光液衬套上均设有密封圈，用于防止冷却水泄露污染抛光液。
进一步的，所述上盘水冷盘与上盘工作盘之间由连接螺钉连接，并且在螺钉连接处设有螺钉密封圈。
本发明的有益效果是:
本发明的水冷盘由多个独立的扇形区域腔构成，每个扇形区域腔有各自独立的进出水口，水路为迷宫式，避免冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠，并可以结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现抛盘温度的精密控制。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为图1的A-A剖视图；
图3为图1的B-B剖视图。
图中标号说明：1、外圈密封圈；2、空腔；3、进水口；4、内圈密封圈；5、上盘水冷盘；6、出水口；7、上盘工作盘；8、密封圈；9、抛光液衬套；10、水道；11连接螺钉；12、螺钉密封圈；13、流液孔；14、扇形区域；141、分隔筋；142、进水区；143、出水区；144、进水区凸出筋；145、出水区凸出筋。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本发明。
参照图1至图3所示，一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘7，在本实施例中，在所述上盘工作盘7的上端侧设有上盘水冷盘5，所述上盘水冷盘5与上盘工作盘7之间形成有空腔2，在上盘水冷盘5上分别设有与空腔2连通的进水口3和出水口6。
所述空腔2由上盘水冷盘5上设置的多个内凹的扇形区域14组成，每个扇形区域14内由一凸出的分隔筋141分隔为两个互为连通的内凹进水区142和出水区143，在所述进水区142设有进水口3，在所述出水区143设有出水口6。
在所述进水区142设有三根相向设置的进水区凸出筋144，在所述出水区143设有三根相向设置出水区凸出筋145，由分隔筋141与进水区凸出筋144、出水区凸出筋145共同在扇形区域14内形成迷宫式水道10。
所述上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间的外圈设有外圈密封圈1，上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间的内圈设有内圈密封圈4。
所述上盘水冷盘5上还设有抛光液流液孔13及相应的抛光液衬套9，在所述流液孔13和抛光液衬套9上均设有密封圈8，用于防止冷却水泄露污染抛光液。
所述上盘水冷盘5与上盘工作盘7之间由连接螺钉11连接，并且在螺钉连接处设有螺钉密封圈12。
此外，需要说明的是，除非特别说明或者指出，否则说明书中的术语“第一”、“第二”、“第三”等描述仅仅用于区分说明书中的各个组件、元素、步骤等，而不是用于表示各个组件、元素、步骤之间的逻辑关系或者顺序关系等。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种抛光机的水冷上抛光盘结构，包括上盘工作盘（7），其特征在于，在所述上盘工作盘（7）的一端侧设有上盘水冷盘（5），所述上盘水冷盘（5）与上盘工作盘（7）之间形成有空腔（2），在上盘水冷盘（5）上分别设有与空腔（2）连通的进水口（3）和出水口（6）。
2.根据权利要求1所述的抛光机的水冷上抛光盘结构，其特征在于，所述空腔（2）由上盘水冷盘（5）上设置的多个内凹的扇形区域（14）组成，每个扇形区域（14）内由一凸出的分隔筋（141）分隔为两个互为连通的内凹进水区（142）和出水区（143），在所述进水区（142）设有进水口（3），在所述出水区（143）设有出水口（6）。
3.根据权利要求2所述的抛光机的水冷上抛光盘结构，其特征在于，在所述进水区（142）设有三根相向设置的进水区凸出筋（144），在所述出水区（143）设有三根相向设置出水区凸出筋（145），由分隔筋（141）与进水区凸出筋（144）、出水区凸出筋（145）共同在扇形区域（14）内形成迷宫式水道（10）。
4.根据权利要求1所述的抛光机的水冷上抛光盘结构，其特征在于，所述上盘工作盘（7）与上盘水冷盘（5）之间的外圈设有外圈密封圈（1），上盘工作盘（7）与上盘水冷盘（5）之间的内圈设有内圈密封圈（4）。
5.根据权利要求1所述的抛光机的水冷上抛光盘结构，其特征在于，所述上盘水冷盘（5）上还设有抛光液流液孔（13）及相应的抛光液衬套（9），在所述流液孔（13）和抛光液衬套（9）上均设有密封圈（8），用于防止冷却水泄露污染抛光液。
6.根据权利要求1所述的抛光机的水冷上抛光盘结构，其特征在于，所述上盘水冷盘（5）与上盘工作盘（7）之间由连接螺钉（11）连接，并且在螺钉连接处设有螺钉密封圈（12）。
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