CN201824260U - 抛光机的上抛光盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机上抛光盘的结构。一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘(7)，其主要特点在于还包括有在上盘工作盘(7)的上方设有上盘水冷盘(5)，上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间形成空腔(2)，在上盘水冷盘(5)上设有进水口(3)和出水口(6)，分别与空腔(2)连通。本实用新型的优点是：特殊的水冷盘结构由几个独立的扇形区域腔构成，每个扇形区域腔有各自的进出水口，水路设计为迷宫式，避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。

Description

抛光机的上抛光盘

技术领域：

本实用新型涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机上抛光盘的结构。

背景技术：

用于薄脆材料尤其是硅片抛光机的上抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的热，温度的变化必然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来IC加工硅片的尺寸趋向大直径化，对硅片形貌的质量要求也越来越严格，对于用来进行硅片双面抛光加工的抛光设备，必须严格控制抛光盘的形变。上抛光盘水冷结构主要用于抛光盘的温度控制。

此前双面抛光机的抛光盘采用整体式结构，没有进行专门温度控制的装置，抛光加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走，属于被动式冷却，抛光盘温度的变化不可控制。传统的设备也大多应用在非IC行业，对上抛光盘的温度控制要求不高。硅片加工，必需对上下抛光盘进行精密温度控制，因此必须采用新的上盘结构，以便对抛光盘进行冷却，达到温度精确控制的目的。

发明内容：

本实用新型的目的在于避免现有技术的不足，提供一种抛光机的上抛光盘。以实现抛光盘主动冷却，做到抛光盘温度的精确控制。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘(7)，其主要特点在于还包括有在上盘工作盘(7)的上方设有上盘水冷盘(5)，上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间形成空腔(2)，在上盘水冷盘(5)上设有进水口(3)和出水口(6)，分别与空腔(2)连通。

所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘(5)与所述的上盘工作盘(7)形成空腔(2)，所述的空腔(2)是在上盘水冷盘(5)上设有数个下凹的扇形区域，以形成数个扇形冷却空腔。每个下凹的扇形区域由凸出的分隔筋(2-1)分为两个互为连通的下凹的进水区(2-2)、出水区(2-3)，在进水区(2-2)设有进水口(3)，在出水区(2-3)设有出水口(6)。

所述的抛光机的上抛光盘，在所述的进水区(2-2)上还设有进水区凸出筋(2-4)，在所述的出水区(2-3)设有出水区凸出筋(2-5)；进水区凸出筋(2-4)、出水区凸出筋(2-5)与分隔筋(2-1)相向设置，形成迷宫式水道。

所述的抛光机的上抛光盘，所述的上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间外圈设有外圈密封圈(1)，内圈设有内圈密封圈(4)。使循环冷却液不向外泄漏。

所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘(5)上还设有温度传感器衬套孔(16)。

所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘(5)上还设有抛光液流液孔(14)，其上设有密封圈(8)。在通抛光液的衬套处均设有的密封圈(8)，防止冷却水泄露污染抛光液。

所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘(5)与上盘工作盘(7)由连接螺钉(13)连接，在螺钉连接处设有密封圈(12)，防止冷却水泄露污染抛光液。

本实用新型的有益效果：特殊的水冷盘结构由几个独立的扇形区域腔构成，每个扇形区域腔有各自的进出水口，水路设计为迷宫式，避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。

附图说明：

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是图1的A-A剖视图；

图3是图2的B-B剖视图。

图中：1.外圈密封圈；2、腔体；3、进水口；4、内圈密封圈；5、上盘水冷盘；6、出水口；7、上盘工作盘；8、第一密封圈；9、抛光液衬套；10、第二密封圈；11、工作盘；12、第三密封圈；13、连接螺钉；14、流液孔；15、第二密封圈槽；16、温度传感器衬套孔；17、连接螺钉孔；19、第一密封圈槽；2-1、分隔筋；2-2、进水区；2-3、出水区；2-4、进水区凸出筋；2-5、出水区凸出筋。

具体实施方式：

以下对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。

实施例1：见图1、图2、图3，一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘7，在上盘工作盘7的上方设有上盘水冷盘5，上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间形成空腔2，在上盘水冷盘5上设有进水口3和出水口6，所述的进水口3和出水口6分别与空腔2连通。

在所述的上盘水冷盘5与所述的上盘工作盘7形成空腔2，所述的空腔2是在上盘水冷盘5上设有数个下凹的扇形区域，以形成数个扇形冷却空腔。每个下凹的扇形区域由凸出的分隔筋2-1分为两个互为连通的下凹的进水区2-2、出水区2-3，在进水区2-2设有进水口3，在出水区2-3设有出水口6。

所述的空腔2，即下凹的扇形区域为10个。

在所述的进水区2-2上还设有进水区凸出筋2-4，在所述的出水区2-3设有出水区凸出筋2-5；进水区凸出筋2-4、出水区凸出筋2-5与分隔筋2-1相向设置，形成迷宫式水道。

所述的上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间的外圈设有第一密封圈槽，在第一密封圈槽19内设有外圈密封圈1，所述的上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间的内圈设有设有第二密封圈槽15，在第二密封圈槽15内设有内圈密封圈4。使循环冷却液不向外泄漏。

在所述的上盘水冷盘5上还设有温度传感器衬套孔16。

在所述的上盘水冷盘5上还设有抛光液流液孔14，其上设有第一密封圈8；抛光液流液孔14内设有抛光液的衬套9，在通抛光液的衬套9处设有的第二密封圈10。防止冷却水泄露污染抛光液。

在所述的上盘水冷盘5与上盘工作盘7由连接螺钉13连接，在螺钉连接处设有第三密封圈12，防止冷却水泄露污染抛光液。

上抛光盘采用复合结构，分为工作盘和水冷盘两层，上层为水冷盘，下层为工作盘，两盘间采用螺钉连接，两盘结合面内外侧均装有密封圈，用于防止泄露。同时由于上盘有流液孔，为了防止冷却水泄露污染抛光液，在螺钉连接处和通抛光液的衬套处均装有密封圈。其中水冷盘设有十个独立的水冷通道，采用独特的循环通道，在上盘基盘上设有迷宫结构，冷却水的入口和出口分别位于迷宫的两端，确保冷却水流过的通路够长而不走捷径，冷却水必须完全充满腔体后才能从回水口流出，确保抛盘能得到充分的冷却。

上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘(7)，其特征在于，还包括有在上盘工作盘(7)的上方设有上盘水冷盘(5)，上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间形成空腔(2)，在上盘水冷盘(5)上设有进水口(3)和出水口(6)，所述的进水口(3)和出水口(6)分别与空腔(2)连通。

2.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)与所述的上盘工作盘(7)形成空腔(2)，所述的空腔(2)是在上盘水冷盘(5)上设有数个下凹的扇形区域，；每个下凹的扇形区域由凸出的分隔筋(2-1)分为两个互为连通的下凹的进水区(2-2)、出水区(2-3)，在进水区(2-2)设有进水口(3)，在出水区(2-3)设有出水口(6)。

3.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的进水区(2-2)上还设有进水区凸出筋(2-4)，在所述的出水区(2-3)设有出水区凸出筋(2-5)；进水区凸出筋(2-4)、出水区凸出筋(2-5)与分隔筋(2-1)相向设置，形成水道。

4.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，所述的上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间的外圈设有第一密封圈槽(19)，第一密封圈槽(19)内设有外圈密封圈(1)，所述的上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间的内圈设有第二密封圈槽(15)，第二密封圈槽(15)内设有内圈密封圈(4)。

5.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)上还设有温度传感器衬套孔(16)。

6.如权利要求1所述的抛光机的上抛盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)上还设有抛光液流液孔(14)，其上设有第一密封圈(8)；抛光液流液孔(14)内设有抛光液的衬套(9)，在通抛光液的衬套(9)处设有的第二密封圈(10)。

7.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)与上盘工作盘(7)由连接螺钉(13)连接，在螺钉连接处设有第三密封圈(12)。

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