CN104772718A - 一种抛光机的下抛光盘 - Google Patents

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金万斌
李方俊
陈丽春
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SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd
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SUZHOU HRT ELECTRONIC EQUIPMENT TECHNOLOGY Co Ltd
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    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D13/00—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor
    • B24D13/18—Wheels having flexibly-acting working parts, e.g. buffing wheels; Mountings therefor with cooling provisions

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Abstract

本发明公开了一种抛光机的下抛光盘，包括下盘工作盘，所述下盘工作盘的下方设有下盘基盘，所述下盘基盘与所述下盘工作盘之间形成冷却腔，在下盘基盘上设有进水口和出水口，分别与所述冷却腔连通，所述下盘基盘与所述下盘工作盘之间外圈设有外圈密封圈，内圈设有内圈密封圈，所述下盘基盘的外缘设有排水孔。本发明的特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。

Description

一种抛光机的下抛光盘
技术领域
本发明涉及研磨机或抛光机的结构，具体涉及一种抛光机的下抛光盘。
背景技术
用于蓝宝石衬底材料抛光机的下抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的热，温度的变化必然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来蓝宝石衬底晶片的尺寸趋向大直径化，对蓝宝石晶片的质量要求也越来越严，对于用来进行蓝宝石晶片抛光加工的抛光设备，必须严格控制抛盘的形变。
此前生产的双面抛光机的抛盘采用整体式结构，没有进行专门温度控制的装置，抛光加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走，属于被动式冷却，抛盘温度的变化不可控。而蓝宝石衬底材料的应用行业对蓝宝石片的品质要求比较高，对上下抛光盘进行精密温度控制是必需的，因此必须采用新的下盘结构，以便对抛盘进行冷却，达到温度精确控制的目的。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种抛光机的下抛光盘。
为实现上述目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种抛光机的下抛光盘，包括下盘工作盘，所述下盘工作盘的下方设有下盘基盘，所述下盘基盘与所述下盘工作盘之间形成冷却腔，在下盘基盘上设有进水口和出水口，分别与所述冷却腔连通，所述下盘基盘与所述下盘工作盘之间外圈设有外圈密封圈，内圈设有内圈密封圈，所述下盘基盘的外缘设有排水孔。
进一步的，所述冷却腔为下凹的扇形冷却腔，且有12个，每个下凹的扇形冷却腔设有出水管，所述出水管与所述出水口连通。
进一步的，所述外圈密封圈和所述内圈密封圈外部都设有密封圈槽。
优选的，所述下盘工作盘上设有为出水管进水的让位孔。
进一步的，所述下盘基盘与下盘工作盘由设在分隔筋上的连接螺钉连接。
本发明的有益效果是：
本发明的特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本发明的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1是本发明抛光机的下抛光盘的结构示意图；
图2是本发明抛光机的下抛光盘的剖视图。
图中标号说明：
1、下盘工作盘，2、外圈密封圈，3、内圈密封圈，4、进水口，5、出水管，6、连接螺钉，7、排水孔，8、下盘基盘，9、冷却腔，10、让位孔，11、出水口，12、密封圈槽。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例，来详述本发明的结构特点及技术实施过程：
如图1和图2所示，一种抛光机的下抛光盘，包括下盘工作盘1，所述下盘工作盘1的下方设有下盘基盘8，所述下盘基盘8与所述下盘工作盘1之间形成冷却腔9，在下盘基盘8上设有进水口4和出水口11，分别与所述冷却腔9连通，所述下盘基盘8与所述下盘工作盘1之间外圈设有外圈密封圈2，内圈设有内圈密封圈3，所述下盘基盘8的外缘设有排水孔7。
优选的，排水孔7用于长时间停机或维护时排去冷却水。
进一步的，所述冷却腔9为下凹的扇形冷却腔，且有12个，每个下凹的扇形冷却腔设有出水管5，所述出水管5与所述出水口11连通，所述出水管5为了进水水位的提升，保证水充满整个下凹的扇形冷却腔9。
进一步的，所述外圈密封圈2和所述内圈密封圈3外部都设有密封圈槽12。
优选的，所述下盘工作盘1上设有为出水管5进水的让位孔10。
进一步的，所述下盘基盘8与下盘工作盘1由设在分隔筋上的连接螺钉6连接。
本发明的原理：
本发明下抛光盘均采用复合双层结构，为中空结构，上层为工作盘，下层为水冷盘，中间可通冷却水。下盘设有十二个独立的扇形区域腔，内布水冷通道，采用独特的循环通道，在出水口处装有水管保证回水口的高度高于复合盘体的结合面，冷却水必须完全充满腔体后才能从回水口流出，确保抛盘能得到充分的冷却，盘体内外侧结合面装以及螺钉连接处装有密封圈，用于防止泄露。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种抛光机的下抛光盘，其特征在于，包括下盘工作盘（1），所述下盘工作盘（1）的下方设有下盘基盘（8），所述下盘基盘（8）与所述下盘工作盘（1）之间形成冷却腔（9），在下盘基盘（8）上设有进水口（4）和出水口（11），分别与所述冷却腔（9）连通，所述下盘基盘（8）与所述下盘工作盘（1）之间外圈设有外圈密封圈（2），内圈设有内圈密封圈（3），所述下盘基盘（8）的外缘设有排水孔（7）。
2.根据权利要求1所述的抛光机的下抛光盘，其特征在于，所述冷却腔（9）为下凹的扇形冷却腔，且有12个，每个下凹的扇形冷却腔设有出水管（5），所述出水管（5）与所述出水口（11）连通。
3.根据权利要求1所述的抛光机的下抛光盘，其特征在于，所述外圈密封圈（2）和所述内圈密封圈（3）外部都设有密封圈槽（12）。
4.根据权利要求1所述的抛光机的下抛光盘，其特征在于，所述下盘工作盘（1）上设有为出水管（5）进水的让位孔（10）。
5.根据权利要求1所述的抛光机的下抛光盘，其特征在于，所述下盘基盘（8）与下盘工作盘（1）由设在分隔筋上的连接螺钉（6）连接。
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