CN104772694A - 一种抛光机的上抛光盘 - Google Patents

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金万斌
李方俊
陈丽春
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    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/11Lapping tools
    • B24B37/12Lapping plates for working plane surfaces
    • B24B37/16Lapping plates for working plane surfaces characterised by the shape of the lapping plate surface, e.g. grooved

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种抛光机的上抛光盘,包括上盘工作盘,所述上盘工作盘的上方设有上盘冷水盘,在所述上盘工作盘的和所述上盘冷水盘之间设有分水盘,所述分水盘将所述上盘工作盘和所述上盘冷水盘分割形成上下两层连通的整体式圆面空腔,在所述上盘冷水盘上设有进水口和出水口,分别与所述整体式圆面空腔连通。本发明的结构特殊而又简单,使得冷却水与工作盘接触面积最大化,保证了冷却水充分的充满腔体后从出水口流出,确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却,及时带走因加工而产生的热量,对抛盘起到了强制冷却的作用,较传统的被动式冷却更可靠;结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统,实现了抛盘温度的精密控制;加工工艺性较好,制造成本低。

Description

一种抛光机的上抛光盘
技术领域
本发明涉及研磨机或抛光机的结构,具体涉及一种抛光机的上抛光盘。
背景技术
用于蓝宝石衬底材料抛光机的下抛光盘,由于在抛光过程中会产生大量的热,温度的变化必然会导致抛光盘发生形变,进而影响加工质量,因此必须严格控制抛光盘的温度。近年来蓝宝石衬底晶片的尺寸趋向大直径化,对蓝宝石晶片的质量要求也越来越严,对于用来进行蓝宝石晶片抛光加工的抛光设备,必须严格控制抛盘的形变。
此前生产的单面抛光机的抛盘采用整体式结构,没有进行专门温度控制的装置,抛光加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走,属于被动式冷却,抛盘温度的变化不可控。而蓝宝石衬底材料的应用行业对蓝宝石片的品质要求比较高,对上下抛光盘进行精密温度控制是必需的,因此必须采用新的下盘结构,以便对抛盘进行冷却,达到温度精确控制的目的。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的以上问题,提供一种抛光机的上抛光盘。
为实现上述目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:
一种抛光机的上抛光盘,包括上盘工作盘,所述上盘工作盘的上方设有上盘冷水盘,在所述上盘工作盘的和所述上盘冷水盘之间设有分水盘,所述分水盘将所述上盘工作盘和所述上盘冷水盘分割形成上下两层连通的整体式圆面空腔,在所述上盘冷水盘上设有进水口和出水口,分别与所述整体式圆面空腔连通。
进一步的,所述整体式圆面空腔的下层为进水区,上层为出水区,所述进水口和所述出水口均为螺纹孔,所述整体式圆面空腔的中间位置为密封圈槽。
进一步的,所述分水盘上设有通水孔,与所述进水口相通用于向下层空腔进水。
进一步的,所述上盘工作盘与上盘冷水盘之间外圈设有外圈密封圈,内圈设有内圈密封圈。
优选的,所述上盘冷水盘与上盘工作盘上均设有破真空的进气口。
进一步的,所述上盘冷水盘与分水盘由第一连接螺钉连接。
进一步的,所述上盘冷水盘与上盘工作盘由第二连接螺钉连接。
本发明的有益效果是:
本发明通过特殊的而又简单的分水盘结构将上盘工作盘和冷水盘分割成两层联通的冷却空腔,且空腔为整体式的圆面使得冷却水与工作盘接触面积最大化,水路设计由低位向上升涨,进而保证了冷却水充分的充满腔体后从出水口流出,确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却,及时带走因加工而产生的热量,对抛盘起到了强制冷却的作用,较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统,实现了抛盘温度的精密控制。同时分水盘此结构加工工艺性较好,制造成本低。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本发明的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1是本发明抛光机的上抛光盘的结构示意图;
图2是本发明抛光机的上抛光盘A-A剖视图;
图3是本发明抛光机的上抛光盘的B-B剖视图。
图中标号说明:
1、上盘冷水盘,2、上盘冷水盘,3、分水盘,4、密封圈,5、进水口,6、内圈密封圈,7、出水口,8、进气口,9、第一连接螺钉,10、整体式圆面空腔,11、第二连接螺钉,12、密封圈槽,13、通水孔。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例,来详述本发明的结构特点及技术实施过程:
如图1-3所示,一种抛光机的上抛光盘,包括上盘冷水盘2,所述上盘工作盘2的上方设有上盘冷水盘1,在所述上盘工作盘2的和所述上盘冷水盘1之间设有分水盘3,所述分水盘3将所述上盘工作盘2和所述上盘冷水盘1分割形成上下两层连通的整体式圆面空腔10,在所述上盘冷水盘1上设有进水口5和出水口7,分别与所述整体式圆面空腔10连通。
进一步的,所述整体式圆面空腔10的下层为进水区,上层为出水区,所述进水口5和所述出水口7均为螺纹孔,所述整体式圆面空腔10的中间位置为密封圈槽12。
进一步的,所述分水盘3上设有通水孔13,与所述进水口5相通用于向下层空腔进水。
进一步的,所述上盘工作盘2与上盘冷水盘1之间外圈设有外圈密封圈4,内圈设有内圈密封圈6。
优选的,所述上盘冷水盘1与上盘工作盘2上均设有破真空的进气口8。
进一步的,所述上盘冷水盘1与分水盘3由第一连接螺钉9连接。
进一步的,所述上盘冷水盘1与上盘工作盘2由第二连接螺钉11连接。
本发明的原理:
上抛光盘采用复合结构,用分水盘3将分割为与工作盘2和冷水盘1形成的两层腔体,上层为冷水盘1,下层为工作盘2,两盘间采用螺钉连接,两盘结合面内外侧均装有密封圈,用于防止泄露。同时由于工作盘2和冷水盘1有破真空用的通气孔,其中形成的上下两层空腔为整体式的圆面使得冷却水与工作盘2接触面积最大化,冷却水的入口和出口分别位于空腔体10的中心附近,由于分水盘3是圆饼状的特性确保冷却水从分水盘3圆周边缘向中心流过,使得通路较长,水路设计是由低位向上升涨进而水路不走捷径,冷却水必须完全充满腔体后才能从回水口流出,确保抛盘能得到充分的冷却。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种抛光机的上抛光盘,其特征在于,包括上盘工作盘(2),所述上盘工作盘(2)的上方设有上盘冷水盘(1),在所述上盘工作盘(2)的和所述上盘冷水盘(1)之间设有分水盘(3),所述分水盘(3)将所述上盘工作盘(2)和所述上盘冷水盘(1)分割形成上下两层连通的整体式圆面空腔(10),在所述上盘冷水盘(1)上设有进水口(5)和出水口(7),分别与所述整体式圆面空腔(10)连通。
2.根据权利要求1所述的抛光机的上抛光盘,其特征在于,所述整体式圆面空腔(10)的下层为进水区,上层为出水区,所述进水口(5)和所述出水口(7)均为螺纹孔,所述整体式圆面空腔(10)的中间位置为密封圈槽(12)。
3.根据权利要求1所述的抛光机的上抛光盘,其特征在于,所述分水盘(3)上设有通水孔(13),与所述进水口(5)相通用于向下层空腔进水。
4.根据权利要求1所述的抛光机的上抛光盘,其特征在于,所述上盘工作盘(2)与上盘冷水盘(1)之间外圈设有外圈密封圈(4),内圈设有内圈密封圈(6)。
5.根据权利要求1所述的抛光机的上抛光盘,其特征在于,所述上盘冷水盘(1)与上盘工作盘(2)上均设有破真空的进气口(8)。
6.根据权利要求1所述的抛光机的上抛光盘,其特征在于,所述上盘冷水盘(1)与分水盘(3)由第一连接螺钉(9)连接。
7.根据权利要求1所述的抛光机的上抛光盘,其特征在于,所述上盘冷水盘(1)与上盘工作盘(2)由第二连接螺钉(11)连接。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106064350A (zh) * 2016-07-28 2016-11-02 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种抛光机的水冷下抛光盘结构
CN106078521A (zh) * 2016-07-19 2016-11-09 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种抛光机的水冷下抛光盘结构
WO2018166539A1 (zh) * 2017-03-17 2018-09-20 桂林创源金刚石有限公司 一种金刚石异形砂轮及立式加工冷却系统
CN110883696A (zh) * 2019-12-10 2020-03-17 西安奕斯伟硅片技术有限公司 一种上抛光盘水冷却系统

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106078521A (zh) * 2016-07-19 2016-11-09 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种抛光机的水冷下抛光盘结构
CN106064350A (zh) * 2016-07-28 2016-11-02 苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司 一种抛光机的水冷下抛光盘结构
WO2018166539A1 (zh) * 2017-03-17 2018-09-20 桂林创源金刚石有限公司 一种金刚石异形砂轮及立式加工冷却系统
US11745304B2 (en) 2017-03-17 2023-09-05 Guilin Champion Union Diamond Co., Ltd. Diamond special-shaped grinding wheel and vertical machining cooling system
CN110883696A (zh) * 2019-12-10 2020-03-17 西安奕斯伟硅片技术有限公司 一种上抛光盘水冷却系统
CN110883696B (zh) * 2019-12-10 2021-10-01 西安奕斯伟硅片技术有限公司 一种上抛光盘水冷却系统

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