CN105988296A - 一种净化曝光装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及净化曝光装置，包括净化工作台、置于净化工作台内的曝光机、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，净化工作台包括工作腔体、进气腔、排气腔；工作腔体的前端设有隔断低压腔，隔断低压腔具有操作通道，底部与排气腔连通。本发明将曝光光源、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，置于净化工作台内部，杜绝了曝光和显影过程中挥发气体对人体的危害；借助净化工作台，工作人员可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了成本，尤其对于科研单位和教学单位具有重大意义。本发明在隔断低压区内形成负压，工作腔体内的气体和外界大气通过操作通道被吸入，有效防止工作腔体内部气体外泄。
Description
技术领域
本发明涉及一种净化曝光装置，属于微电子工艺设备技术领域。
背景技术
光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤，将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程，最终在晶圆上保留的是特征图形部分。光刻过程主要包括涂覆光刻胶、烘干、曝光、显影、刻蚀等。这些工艺都需要在无尘室中进行。曝光和显影步骤中会有挥发性物质产生，可能对操作人员造成危害。
在工业生产、科学研究中，很多地方需要用到无尘工作的环境。净化工作台可以为这些目的提供有效的工作环境，提高生产和科研效率。于是发明人设想，如果能将微电子工业中的曝光和显影部分放置于净化工作台内，那将杜绝化学曝光、显影过程中挥发气体对人体的危害，此外，借助净化工作台，曝光和显影则可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了科研、教学的硬件门槛。
但是，目前所使用的工作台存在一些缺陷，一般来说净化工作台区对大气都保持正压，这样在工作过程中存在可挥发的物质将直接排放到操作人员的身上。这严重影响操作人员的健康。同时，在操作过程中，操作人员的手等部位进入到洁净工作区，也会带入大量的灰尘颗粒，影响净化工作区的洁净度。
申请人于2009年申请了中国发明专利CN200910211063.0，“气墙密封式双正压净化工作台”，其在导流分压区中设置导流分压板，使得靠近工作人员一侧具有较强的气压，形成高压气墙，该高压气墙有效分割低正压区和大气，防止了低压区中的挥发性物质对人体伤害，同时防止外部灰尘颗粒进入工作台。这种工作台很好地解决了上述问题，并且便于对现有净化工作台进行改造。
研究发现上侧进风底部排风往往会导致气流反弹，不利于可挥发物质的迅速排放。于是申请人于2013年申请了中国发明专利CN201310120021.2，“一种双层流净化工作台”，通过后部的集流板和集风罩使吹下的风不发生反弹，使内部气流更规则，接近于水平的被排出。
然而这种净化工作台难免会有少量气体从高压区向外泄漏，当存在高危有毒气体时，该净化工作台变得不那么的安全可靠。
发明内容
本发明的目的在于：克服上述现有技术的缺陷，提出一种净化曝光装置，其内部挥发气体不会泄露，确保操作人员的安全。
为了达到上述目的，本发明提出的净化曝光装置，包括净化工作台，以及置于该净化工作台内的曝光光源、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，所述的净化工作台包括工作腔体、进气系统、排气系统，所述进气系统包括位于工作腔体顶部的进气腔，进气腔与工作腔体连接处布置有散流板；所述排气系统包括位于工作腔体下方的排气腔，排气腔的后侧设置有用于和抽气设备连接的排气口；所述工作腔体的前端部设置有隔断低压腔，所述隔断低压腔具有供操作人员伸手进入工作腔体内部的操作通道，所述隔断低压腔的底部与排气腔连通。
本发明将曝光光源、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，置于净化工作台内部，杜绝了曝光和显影过程中挥发气体对人体的危害；借助净化工作台，工作人员可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了成本，尤其对于科研单位和教学单位具有重大意义。
本发明的防泄漏是这样实现的：操作通道处设置有隔断低压区，隔断低压区内形成负压，以抽走从操作通道流出的气体；同时，由于低压区负压的作用，工作腔体内的气体和外界的大气通过操作通道被吸入，阻止了内部气体通过操作通道外泄和外界气体进入工作区；两股气流在操作通道内相汇后被迅速抽走，有效防止工作腔体内部气体外泄。
本发明进一步的改进在于：
1、所述净化工作台的工作腔体下方具有底座，所述光刻胶显影液槽、漂洗液槽嵌在该底座内。
2、所述底座上设置有用于承载硅片的曝光台，所述曝光光源位于曝光台的上方。
3、所述底座设置有用于遮挡曝光机光线的挡板，工作腔体内还设置有将曝光机与光刻胶显影液槽隔开的电动门。
本发明增设挡板，用于遮蔽曝光机光线，避免光源对光刻胶体的影响；并增加了电动门，在爆光区进片和取片时打开，平时关闭。
4、所述隔断低压腔内的气压范围为0.9-0.7个大气压。
本发明净化工作台在隔断低压腔区形成了较大的负压和较大的排气流量，使操作通道附近的有害气体能够迅速的通过隔断低压区被抽走，同时低压隔断区外侧的大气也被快速抽入，有效防止了有害气体向大气泄露。
5、所述操作通道的上部设置有挡块，挡块靠近工作腔体一侧设置有朝向工作腔体内侧的第一引流面，挡块靠近操作人员一侧设置有朝向操作人员的第二引流面，所述第一、第二引流面在挡块的最低处相接,呈现倒V型，工作腔体内的气体和外界大气分别在第一、第二引流面的引流作用下形成向下流动的趋势。
借助挡块的两个引流面，提高内外气流相汇处的有序性，使工作腔体内的有害气体和外界大气能够更顺利的进入隔断低压区；由于第一、第二引流面在挡块的最低处相接，因此气流不存在漩涡和死角，有助于内部有害气体的快速彻底排出，杜绝了有害气体泄漏。
由于挡块的作用，更可靠的确保了工作腔体内的气体不会从操作导通排向大气，从操作通道进入的大气也不会进入工作腔体的内部，使他们能够更顺利的从排气口被抽走。既保证了工作腔体内送风的纯净，又杜绝了有害气体的泄露。
6、所述挡块的最低点位于挡块靠近工作腔体一侧的三分之一处。
该设计可以增加外界大气的流量，巩固外界大气的对有害气体的阻隔作用；与此同时又能够适当提高有害气体进入操作通道的流速，促使有害气体快速排出，也能防止外界大气进入工作腔体。
7、隔断低压腔两侧分别为外隔板和内隔板，所述外隔板和内隔板上开设有操作孔，操作孔之间形成所述的操作通道。
8、所述内隔板下部开设有位于操作通道下方的排气孔，用于将工作腔体下部的气体通过排气孔排入隔断低压腔，减少气体的反弹。
9、所述排气孔直径为5-10mm，孔间距为10-20mm。
使用排气孔能够即时的排出工作腔体底部靠近操作通道的气体，起到防止气流反弹的作用，从而进一步提高操作通道内部的气流有序性，防止气流紊乱，有利于有害气体的快速排尽。
综上，本发明巧妙地在工作腔体前端部的操作通道下方设置隔离低压区，并借助带有引流面的挡块和设置于隔板下部的排气孔，使净化曝光装置真正的实现了不泄露。并且本发明结构简单，改造费用较低，但效果很好，适合于业内推广。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
图1是本发明实施例一净化曝光装置的结构示意图。
图2是本发明实施例二净化曝光装置的结构示意图。
图3是外隔板示意图。
图4是内隔板示意图。
图中标号示意如下：1-隔断低压腔，2-工作腔体，3-散流板，4-进气腔，5-排气腔，6-排气口，7-挡块，8-抽气泵，9-操作通道，10-曝光机，11-光刻胶显影液槽，12-漂洗液槽，13-曝光台，14-底座，15-挡板，16-电动门,17-外隔板，18-内隔板,19操作孔，20-排气孔。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步说明。
实施例一
如图1所述，本实施例净化曝光装置，
包括净化工作台，以及置于该净化工作台内的曝光光源10（汞灯）、光刻胶显影液槽11、漂洗液槽12、曝光台13，净化工作台包括工作腔体2、进气系统和排气系统，进气系统包括位于工作腔体2顶部的进气腔4，进气腔4与工作腔体2连接处布置有散流板3；排气系统包括位于工作腔体2下方的排气腔5，排气腔5的后侧通过排气口6与抽气泵8相连；工作腔体2下方具有底座14，光刻胶显影液槽11、漂洗液槽12嵌在该底座14内，底座14上设置有用于承载硅片的曝光台13，曝光光源10位于曝光台13的上方，底座14设置有用于遮挡曝光机10光线的挡板15，工作腔体2内还设置有将曝光机10与光刻胶显影液槽11隔开的电动门16。工作腔体2的前端部设置有隔断低压腔1，隔断低压腔1的具有供操作人员伸手进入工作腔体2内部的操作通道9，隔断低压腔两侧分别为外隔板17和内隔板18，外隔板17和内隔板18上开设有操作孔19，两个操作孔19之间形成所述的操作通道。隔断低压腔1的底部与排气腔5连通。隔断低压腔1的气压范围为0.9-0.7个大气压。
净化气体从进气腔4进入工作腔体2，为操作提供洁净的环境。而工作腔体内的气体（含有操作时挥发的有害气体）通过操作通道依次进入隔断低压腔、排气腔，最后被抽走。图1中箭头表示气流的流向。
实施例二
如图2所示，本实施例是在实施例一基础之上的一种改进，两者主要结构相同。本实施例的具体改进之处在于：
操作通道9的上部设置有挡块7，挡块靠近7工作腔体2一侧设置有朝向工作腔体内侧的第一引流面（内凹曲面），挡块2靠近操作人员一侧（远离工作腔体一侧）设置有朝向操作人员（背向工作腔体）的第二引流面（内凹曲面），第一、第二引流面在挡块2的最低处相接,呈现倒V型，工作腔体2内的气体和外界大气分别在第一、第二引流面的引流作用下形成向下流动的趋势。其中，挡块7的最低点位于挡块7靠近工作腔体2一侧的三分之一处。内隔板18下部开设有位于操作通道（操作孔）下方的气体排出孔20（见图4），用于将工作腔体下部的气体通过气体排出孔排入隔断低压腔，减少气体的反弹，所述气体排出孔直径为5-10mm，孔间距为10-20mm。图2中其他部件及标号与实施例一相同。图2中箭头表示气流的流向。
本实施例作为改进方案，增加了挡块7和开设于内隔板18底部的排气孔20。挡块7可引导两侧的气流更平稳顺畅的进入隔断低压腔；而排气孔20则有效防止操作通道附近的反弹气流，提高了气流的有序性，进一步确保工作腔体内气体的顺利排出。
除上述实施例外，本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围。
Claims (9)
1. 一种净化曝光装置，包括净化工作台，以及置于该净化工作台内的曝光机、光刻胶显影液槽、漂洗液槽，所述的净化工作台包括工作腔体、进气系统、排气系统，所述进气系统包括位于工作腔体顶部的进气腔，进气腔与工作腔体连接处布置有散流板；所述排气系统包括位于工作腔体下方的排气腔，排气腔的后侧设置有用于和抽气设备连接的排气口；所述工作腔体的前端部设置有隔断低压腔，所述隔断低压腔具有供操作人员伸手进入工作腔体内部的操作通道，所述隔断低压腔的底部与排气腔连通。
2. 根据权利要求1所述的净化曝光装置，其特征在于：所述净化工作台的工作腔体下方具有底座，所述光刻胶显影液槽、漂洗液槽嵌在该底座内。
3. 根据权利要求2所述的净化曝光装置，其特征在于：所述底座上设置有用于承载硅片的曝光台，所述曝光机位于曝光台的上方。
4. 根据权利要求1所述的净化曝光装置，其特征在于：所述底座设置有用于遮挡曝光机光线的挡板，工作腔体内还设置有将曝光机与光刻胶显影液槽隔开的电动门。
5. 根据权利要求1所述的净化曝光装置，其特征在于：所述隔断低压腔内的气压范围为0.9-0.7个大气压。
6. 根据权利要求1所述的净化曝光装置，其特征在于：所述操作通道的上部设置有挡块，挡块靠近工作腔体一侧设置有朝向工作腔体内侧的第一引流面，挡块靠近操作人员一侧设置有朝向操作人员的第二引流面，所述第一、第二引流面在挡块的最低处相接,呈现倒V型，工作腔体内的气体和外界大气分别在第一、第二引流面的引流作用下形成向下流动的趋势。
7. 根据权利要求1所述的净化曝光装置，其特征在于：隔断低压腔两侧分别为外隔板和内隔板，所述外隔板和内隔板上开设有操作孔，操作孔之间形成所述的操作通道。
8. 根据权利要求7所述的净化曝光装置，其特征在于：所述内隔板下部开设有位于操作通道下方的排气孔，用于将工作腔体下部的气体通过排气孔排入隔断低压腔，减少气体的反弹。
9. 根据权利要求8所述的净化曝光装置，其特征在于：所述排气孔直径为5-10mm，孔间距为10-20mm。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108906787A (zh) * | 2018-06-29 | 2018-11-30 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种工艺处理装置 |
| WO2024183203A1 (zh) * | 2023-03-03 | 2024-09-12 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 一种优化摆动型马兰格尼干燥流场的干燥槽体结构 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09266148A (ja) * | 1996-03-27 | 1997-10-07 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2001182977A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | クリーンブース |
| JP2002321174A (ja) * | 2002-01-11 | 2002-11-05 | Hitachi Ltd | 清浄作業台 |
| CN1570761A (zh) * | 2003-03-11 | 2005-01-26 | Asml荷兰有限公司 | 光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法 |
| JP2005218925A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Airtech Japan Ltd | バイオハザード対策用キャビネット及びキャビネットフィルター交換時期検知方法 |
| CN1704848A (zh) * | 2004-06-01 | 2005-12-07 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置 |
| KR20060027648A (ko) * | 2004-09-23 | 2006-03-28 | 삼성전자주식회사 | 정전기를 이용한 파티클 제거 장치 및 이를 구비한 반도체제조용 노광 장치 |
| CN201311547Y (zh) * | 2008-11-04 | 2009-09-16 | 邱碧青 | 无尘设备结构 |
| CN202122962U (zh) * | 2011-05-24 | 2012-01-25 | 青岛柏镁仪器有限公司 | 组合式生物安全操作间 |
| CN102781670A (zh) * | 2010-03-31 | 2012-11-14 | 株式会社杰士汤浅国际 | 紫外线照射装置及喷墨打印装置 |
-
2015
- 2015-01-28 CN CN201510045211.1A patent/CN105988296B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09266148A (ja) * | 1996-03-27 | 1997-10-07 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2001182977A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Hitachi Ltd | クリーンブース |
| JP2002321174A (ja) * | 2002-01-11 | 2002-11-05 | Hitachi Ltd | 清浄作業台 |
| CN1570761A (zh) * | 2003-03-11 | 2005-01-26 | Asml荷兰有限公司 | 光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法 |
| JP2005218925A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-08-18 | Airtech Japan Ltd | バイオハザード対策用キャビネット及びキャビネットフィルター交換時期検知方法 |
| CN1704848A (zh) * | 2004-06-01 | 2005-12-07 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置 |
| KR20060027648A (ko) * | 2004-09-23 | 2006-03-28 | 삼성전자주식회사 | 정전기를 이용한 파티클 제거 장치 및 이를 구비한 반도체제조용 노광 장치 |
| CN201311547Y (zh) * | 2008-11-04 | 2009-09-16 | 邱碧青 | 无尘设备结构 |
| CN102781670A (zh) * | 2010-03-31 | 2012-11-14 | 株式会社杰士汤浅国际 | 紫外线照射装置及喷墨打印装置 |
| CN202122962U (zh) * | 2011-05-24 | 2012-01-25 | 青岛柏镁仪器有限公司 | 组合式生物安全操作间 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108906787A (zh) * | 2018-06-29 | 2018-11-30 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种工艺处理装置 |
| WO2024183203A1 (zh) * | 2023-03-03 | 2024-09-12 | 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 | 一种优化摆动型马兰格尼干燥流场的干燥槽体结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN105988296B (zh) | 2017-12-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Wang Qiang Inventor after: Wu Tingxi Inventor after: Deng Jie Inventor after: Zhu Haifeng Inventor before: Wang Qiang Inventor before: Deng Jie Inventor before: Zhu Haifeng |
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| CB03 | Change of inventor or designer information | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20190708 Address after: No. 9, Nantong City, Jiangsu, Jiangsu Patentee after: Center for technology transfer, Nantong University Address before: 226019 College of Electronic Information, Nantong University, No. 9 Siyuan Road, Chongchuan District, Nantong City, Jiangsu Province Patentee before: Nantong University |
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| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20191121 Address after: No.1, floor 3, No.319, zhanggongshan Road, Yuhui District, Bengbu City, Anhui Province Patentee after: Bengbu guijiu Intellectual Property Service Co.,Ltd. Address before: 226019 Jiangsu city of Nantong province sik Road No. 9 Patentee before: Center for technology transfer, Nantong University |
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| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20221114 Address after: 252000 Room 302, Complex Building, Intelligent Optoelectronic Information Industrial Park, No. 16, Heilongjiang Road, Jiangguantun Street, Liaocheng Economic and Technological Development Zone, Shandong Province Patentee after: Liaocheng Laitong International Trade Co.,Ltd. Address before: 233000 No.1, third floor, No.319, zhanggongshan Road, Yuhui District, Bengbu City, Anhui Province Patentee before: Bengbu guijiu Intellectual Property Service Co.,Ltd. |
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| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20171229 |
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| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |