CN105983456A - 一种净化化学工作站 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及净化化学工作站，具有净化工作台和置于该净化工作台内部的水浴加热池和清洗水池，净化工作台包括：进气系统、排气系统、工作腔体，工作腔体外端具有开设操作孔的透明端板，工作腔体靠近端板的一侧为透明隔板，透明端板与透明隔板之间形成隔层，排气系统包括设置在所述隔层下方的排气口，以及通过排气管路与所述排气口相连的抽气装置。本发明将水浴加热池和清洗水池置于净化工作台内部，为化学刻蚀提供了洁净的环境，同时防止挥发气体泄露到大气中，杜绝化学刻蚀过程中挥发气体对人体的危害；借助净化工作台，人员可在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了成本，尤其对于科研及教学单位具有重大意义。
Description
技术领域
本发明涉及一种净化化学工作站，属于微电子工艺设备技术领域。
背景技术
化学刻蚀是太阳能电池制备过程的常用工艺步骤，将经过曝光后的硅片放入刻蚀溶液进行刻蚀，然后再使用去离子水进行清洗。由于微电子行业需要无尘环境，因此化学刻蚀和清洗都是在无尘室中进行。但是对于同处于该无尘室内的操作人员来说，刻蚀过程中挥发的有害物质，对身体健康造成不利影响。
在工业生产、科学研究中，很多地方需要用到无尘工作的环境。净化工作台可以为这些目的提供有效的工作环境，提高生产和科研效率。发明人设想，如果能将微电子工业中的化学部分放置于净化工作台内，那将杜绝化学刻蚀过程中挥发气体对人体的危害，此外，借助净化工作台，化学刻蚀也可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了科研、教学的硬件门槛。
但是，目前所使用的工作台存在一些缺陷，一般来说净化工作台区对大气都保持正压，这样在工作过程中存在可挥发的物质将直接排放到操作人员的身上。这严重影响操作人员的健康。同时，在操作过程中，操作人员的手等部位进入到洁净工作区，也会带入大量的灰尘颗粒，影响净化工作区的洁净度。
申请人于2009年申请了中国发明专利CN200910211063.0，“气墙密封式双正压净化工作台”，其在导流分压区中设置导流分压板，使得靠近工作人员一侧具有较强的气压，形成高压气墙，该高压气墙有效分割低正压区和大气，防止了低压区中的挥发性物质对人体伤害，同时防止外部灰尘颗粒进入工作台。这种工作台很好地解决了上述问题，并且便于对现有净化工作台进行改造。
研究发现上侧进风底部排风往往会导致气流反弹，不利于可挥发物质的迅速排放。于是申请人于2013年申请了中国发明专利CN201310120021.2，“一种双层流净化工作台”，通过后部的集流板和集风罩使吹下的风不发生反弹，使内部气流更规则，接近于水平的被排出。
然而这种净化工作台难免会有少量气体从高压区向外泄漏，当存在高危有毒气体时，该净化工作台变得不那么的安全可靠。
发明内容
本发明的目的在于：克服上述现有技术的缺陷，提出一种净化化学工作站，其内部挥发气体不会泄露，确保操作人员的安全。
为了达到上述目的，本发明提出的一种净化化学工作站，包括净化工作台和置于该净化工作台内部的水浴加热池和清洗水池，所述净化工作台组成包括：进气系统、排气系统，进气系统下方设有散流板，散流板下方为工作腔体，水浴加热池和清洗水池位于工作腔体的下方，靠近工作人员的工作腔体外端具有开设操作孔的透明端板，所述工作腔体靠近端板的一侧为透明隔板，所述透明隔板具有留有容工作人员双手伸入工作腔体内部进行操作的操作孔，所述透明端板与透明隔板之间形成隔层，所述排气系统包括设置在所述隔层下方的排气口，以及通过排气管路与所述排气口相连的抽气装置。
本发明进一步的改进在于：
1、所述净化工作台的工作腔体下方具有底座，所述水浴加热池和清洗水池嵌在该底座内。
2、所述隔层上部通入有净化气体，使隔层上部形成辅助进气道，所述辅助进气道内形成高压区，所述隔层底部形成低压区。
3、进气系统与隔层相连处开设大孔，使净化气体进入隔层内，所述大孔的孔径范围为7-10mm，工作腔体上方的散流板开设有小孔，小孔的孔径范围为2-4mm。
4、所述低压区内的气压范围为0.9-0.7个大气压，高压区内的范围为1.05-1.1个大气压。
5、所述隔层的厚度为50-100mm。
6、所述隔板下部开设有位于操作孔下方的排气孔，排气孔直径为5-10mm，孔间距为10-20mm。
本发明将水浴加热池（用于化学刻蚀）和清洗水池置于净化工作台内部，杜绝了化学刻蚀过程中挥发气体对人体的危害；借助净化工作台，工作人员可以在普通环境中进行操作，而不需要专门的无尘室，这大大降低了成本，尤其对于科研单位和教学单位具有重大意义。
本发明净化化学工作站的防泄漏是这样实现的：1、抽气口设置于端板的操作孔下部（隔层的底部辅助进气道下方），在该处形成负压，以抽走工作腔体内的气体；2、同时，由于负压的作用，外界的大气通过端板的操作孔被吸入，与工作腔体排出的气体汇流后被抽走，由于低压区的存在使得外界的气体不能越过低压区进入工作区，同时工作区的气体不能外泄；3、从辅助进气道吹出的气体迫使工作腔体内的气流和从操作孔流入的大气迅速的转向并合成一股而被排气口排出。由于辅助气道的作用，更可靠的确保了工作腔体内的气体不会从操作孔排出，从操作孔进入的大气也不会进入工作腔的内部，使他们能够更顺利的从排气口被抽走。既保证了工作腔体内送风的纯净，又杜绝了有害气体的泄露；4、隔板下端开设排气孔，使用排气孔能够即时的排出工作腔体底部靠近操作孔的气体，起到防止气流反弹的作用，从而进一步提高隔层内部的气流有序性，防止气流紊乱，有利于有害气体的快速排尽。
可见，本发明巧妙地在工作腔体外端设置有隔板，将抽气口设置于隔层下方，使操作孔下方形成低压区，从而切断了内部气体通过端板操作孔外泄的通道，使垂直层流净化工作台真正的实现了不泄露。此外，本发明还增设了辅助进气道，进一步提高了防泄漏的可靠性。本发明结构简单，改造费用极低，但效果很好，适合于业内推广。
附图说明
图1是本发明实施例一净化化学工作站的结构示意图。
图2是本发明实施例一净化化学工作站的一种变形结构示意图。
图3是本发明实施例二净化化学工作站的结构示意图。
图4是端板结构示意图。
图5是隔板结构示意图。
图中标号示意如下：1-散流板，2-工作腔体，3-端板，4-隔板，5-辅助进气道，6-排气口，7-排气管路，8-抽气装置，9-操作孔，10-水浴加热池，11-清洗水池，12-底座，13-排气孔。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步说明。
实施例一
如图1所示，本实施例净化化学工作站，净化工作台和置于该净化工作台内部的水浴加热池10和清洗水池11。其中，净化工作台包括进气系统、排气系统，进气系统下方设有散流板1，散流板1下方为工作腔体2，工作腔体2下方具有底座12，水浴加热池10和清洗水池11嵌在该底座内。靠近工作人员的工作腔体2外端具有开设操作孔9的透明端板2（见图4），工作腔体2靠近端板3的一侧为透明隔板4，透明隔板4具有留有容工作人员双手伸入工作腔体内部进行操作的操作孔（隔板4结构可与端板相同），透明端板3与透明隔板4之间形成隔层，排气系统包括设置在隔层下方的排气口6，以及通过排气管路7与排气口6相连的抽气装置8。本实施例中，隔层上部通入有净化气体，使隔层上部形成辅助进气道，辅助进气道内形成高压区，隔层底部形成低压区。具体通过这样的结构实现：进气系统与隔层相连处开设大孔，使净化气体进入隔层内，大孔的孔径范围为7-10mm，工作腔体上方的散流板开设有小孔，小孔的孔径范围为2-4mm。低压区内的气压范围为0.9-0.7个大气压，高压区内的范围为1.05-1.1个大气压。图1中箭头方向表示气流流向。
进气系统吹出的净化气体，经过散流板散流之后垂直的进入工作腔体内，并且通过隔板的操作孔流出，操作孔下方为排气口，故而在该区域形成低压区，外界大气从端板的操作孔被吸入，有效方式工作腔体内部的气体泄露到外界。
本例中，将操作孔上方的隔层改造为辅助进气道，并且加大辅助进气道内的气流量。从辅助进气道吹出的气体迫使工作腔体内的气流和从操作孔流入的大气迅速的转向并合成一股而被排气口排出。因此本实施例具有更好的防泄漏效果。
最为优选方案，如图5所示，本例中的隔板4下部开设有位于操作孔9下方的排气孔13，排气孔13直径为5-10mm，孔间距为10-20mm。
如图2所示，为本实施例1结构的一种简单变形，具体来说，隔板上部开孔，使进气系统的一部分出气通过该处的开孔进入隔层内部。图2标号示意参见图1。图2中的箭头表示气流流向。
实施例二
如图3所述，本实施例净化化学工作站，是实施例一净化化学工作站的一种简化方案，具体区别在于净化工作台的隔层上方不通入有净化空气。具体的，本实施例净化化学工作站，包括净化工作台和置于该净化工作台内部的水浴加热池10和清洗水池11。净化工作台包括进气系统、排气系统，进气系统下方设有散流板1，散流板1下方为工作腔体2，工作腔体下方为底座12。靠近工作人员的工作腔体2外端具有开设操作孔9的透明端板2，工作腔体2靠近端板3的一侧为透明隔板4，透明隔板4具有留有容工作人员双手伸入工作腔体内部进行操作的操作孔，透明端板3与透明隔板4之间形成隔层，排气系统包括设置在隔层下方的排气口6，以及通过排气管路7与排气口6相连的抽气装置8。
进气系统吹出的净化气体，经过散流板散流之后垂直的进入工作腔体内，并且通过隔板的操作孔流出，操作孔下方为抽气口，故而在该区域形成低压区，外界大气从端板的操作孔被吸入，有效方式工作腔体内部的挥发气体泄露到外界。气流流向见图3中箭头所示。
除上述实施例外，本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围。
Claims (7)
1. 一种净化化学工作站，包括净化工作台和置于该净化工作台内部的水浴加热池和清洗水池，所述净化工作台组成包括：进气系统、排气系统，进气系统下方设有散流板，散流板下方为工作腔体，水浴加热池和清洗水池位于工作腔体的下方，靠近工作人员的工作腔体外端具有开设操作孔的透明端板，所述工作腔体靠近端板的一侧为透明隔板，所述透明隔板具有留有容工作人员双手伸入工作腔体内部进行操作的操作孔，所述透明端板与透明隔板之间形成隔层，所述排气系统包括设置在所述隔层下方的排气口，以及通过排气管路与所述排气口相连的抽气装置。
2. 根据权利要求1所述的净化化学工作站，其特征在于：所述净化工作台的工作腔体下方具有底座，所述水浴加热池和清洗水池嵌在该底座内。
3. 根据权利要求1所述的净化化学工作站，其特征在于：所述隔层上部通入有净化气体，使隔层上部形成辅助进气道，所述辅助进气道内形成高压区，所述隔层底部形成低压区。
4. 根据权利要求1所述的净化化学工作站，其特征在于：进气系统与隔层相连处开设大孔，使净化气体进入隔层内，所述大孔的孔径范围为7-10mm，工作腔体上方的散流板开设有小孔，小孔的孔径范围为2-4mm。
5. 根据权利要求1所述的净化化学工作站，其特征在于：所述低压区内的气压范围为0.9-0.7个大气压，高压区内的范围为1.05-1.1个大气压。
6. 根据权利要求1所述的净化化学工作站，其特征在于：所述隔层的厚度为50-100mm。
7. 根据权利要求1所述的净化化学工作站，其特征在于：所述隔板下部开设有位于操作孔下方的排气孔，排气孔直径为5-10mm，孔间距为10-20mm。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108746137A (zh) * | 2018-06-04 | 2018-11-06 | 无锡子索生化科技有限公司 | 一种百级净气型排毒柜 |
| DE102020102138A1 (de) | 2020-01-29 | 2021-07-29 | Michael Keil | Energieeffiziente Werkbank, insbesondere Reinstwerkbank und Verfahren zum Betrieb einer solchen Werkbank |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6569696B2 (en) * | 2000-10-04 | 2003-05-27 | Tokyo Electron Limited | Device and method for manufacturing semiconductor |
| CN101569867A (zh) * | 2008-04-30 | 2009-11-04 | 黄荣芳 | 推挽式生物安全柜 |
| CN202136987U (zh) * | 2010-12-24 | 2012-02-08 | 黄荣芳 | 气帘式生物柜 |
| CN202363428U (zh) * | 2011-10-10 | 2012-08-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 超洁净微环境装置 |
| CN103894244A (zh) * | 2012-12-30 | 2014-07-02 | 青岛联合创新技术服务平台有限公司 | 一种新型超净台 |
-
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6569696B2 (en) * | 2000-10-04 | 2003-05-27 | Tokyo Electron Limited | Device and method for manufacturing semiconductor |
| CN101569867A (zh) * | 2008-04-30 | 2009-11-04 | 黄荣芳 | 推挽式生物安全柜 |
| CN202136987U (zh) * | 2010-12-24 | 2012-02-08 | 黄荣芳 | 气帘式生物柜 |
| CN202363428U (zh) * | 2011-10-10 | 2012-08-01 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 超洁净微环境装置 |
| CN103894244A (zh) * | 2012-12-30 | 2014-07-02 | 青岛联合创新技术服务平台有限公司 | 一种新型超净台 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108746137A (zh) * | 2018-06-04 | 2018-11-06 | 无锡子索生化科技有限公司 | 一种百级净气型排毒柜 |
| DE102020102138A1 (de) | 2020-01-29 | 2021-07-29 | Michael Keil | Energieeffiziente Werkbank, insbesondere Reinstwerkbank und Verfahren zum Betrieb einer solchen Werkbank |
| WO2021151762A1 (de) | 2020-01-29 | 2021-08-05 | Michael Keil | Energieeffiziente werkbank, insbesondere reinstwerkbank und verfahren zum betrieb einer solchen werkbank |
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