CN105807524A

CN105807524A - 阵列基板、显示面板及显示装置

Info

Publication number: CN105807524A
Application number: CN201610371580.4A
Authority: CN
Inventors: 高玉杰
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Priority date: 2016-05-30
Filing date: 2016-05-30
Publication date: 2016-07-27
Anticipated expiration: 2036-05-30
Also published as: CN105807524B; US10423026B2; WO2017206788A1; US20180136512A1

Abstract

本发明的实施例提供一种阵列基板、显示面板、显示装置以及曲面面板的制备方法。阵列基板包括衬底基板、以及设置于衬底基板之上的栅金属层图案、有源层图案和源漏金属层图案；所述源漏金属层图案包括第一数据线，所述第一数据线的坡度角不大于60°。通过优化设置数据线的坡度角，可以降低数据线侧向电场对液晶分子的干扰，从而可以相应的减小黑矩阵在数据线宽度方向的尺寸，提高显示装置开口率。

Description

阵列基板、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

随着曲面电视技术的快速发展，曲面电视逐渐成为一种流行趋势。曲面液晶显示面板的制备方式如下：首先，将两块平面玻璃板对盒，随后通过机械方式使对盒的玻璃基板弯曲，获得曲面显示面板。平面玻璃基板的不同位置，在弯曲后的形变量不同。这就会使面板不同位置的黑矩阵相对于阵列基板的位移量不同，进而导致面板的透过率不同，影响面板显示的均一性。

发明内容

本发明提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置。本发明的显示面板可以解决曲面面板显示不均一的问题。

本发明的一个实施例提供一种阵列基板，包括衬底基板、以及设置于衬底基板之上的栅金属层图案、有源层图案和源漏金属层图案；其中，所述源漏金属层图案包括第一数据线，所述第一数据线的坡度角不大于60°。

例如，在一个示例中，所述第一数据线的所述坡度角为40-60°。

例如，在一个示例中，所述第一数据线的所述坡度角为45-55°。

例如，在一个示例中，所述第一数据线的所述坡度角为50-55°。

例如，在一个示例中，所述源漏金属层图案还包括与所述第一数据线相邻且并列排布的第二数据线，所述第二数据线的坡度角不大于60°。

例如，在一个示例中，所述第二数据线的所述坡度角为40-60°。

例如，在一个示例中，所述第二数据线的所述坡度角为45-55°。

例如，在一个示例中，所述第二数据线的所述坡度角为50-55°。

例如，在一个示例中，所述第一数据线在所述衬底基板厚度方向上的厚度t满足2000≤t≤3500

例如，在一个示例中，所述第一数据线和所述第二数据线在所述衬底基板厚度方向上的厚度t满足2000≤t≤3500

例如，在一个示例中，所述栅金属层图案远离所述衬底基板一侧设置有栅绝缘层；所述第一数据线的靠近所述衬底基板一侧与所述栅绝缘层直接接触。

例如，在一个示例中，该阵列基板还包括设置于所述源漏金属层图案之上的黑矩阵，所述第一数据线和所述第二数据线在所述衬底基板的正投影落在所述黑矩阵在所述衬底基板的正投影之内。

本发明的另一个实施例提供了一种显示面板，包括上述的阵列基板、与该阵列基板相对设置的对置基板。

例如，在一个示例中，所述对置基板与所述阵列基板相对的一侧设置有黑矩阵；在显示区域内，所述第一数据线在所述阵列基板的正投影落在所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影之内。

例如，在一个示例中，在所述第一数据线的宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线外侧的长度为2-10微米。

例如，在一个示例中，所述源漏金属层图案还包括与所述第一数据线相邻且并列排布的第二数据线，所述第二数据线的坡度角不大于60°，且在显示区域内，所述第一数据线和所述第二数据线在所述阵列基板的正投影落在所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影之内。

例如，在一个示例中，在数据线宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线和所述第二数据线外侧的长度为2-10微米。

例如，在一个示例中，在数据线宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线和所述第二数据线外侧的长度为4-8微米。

例如，在一个示例中，在数据线宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线和所述第二数据线外侧的长度为3-6微米。

本发明的再一个实施例提供了一种包括上述曲面显示面板的显示装置。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。

图1为一种平面显示面板的剖面结构示意图；

图2a为数据线的俯视示意图；

图2b为图2a中的数据线沿A-A1方向的剖视示意图；

图3a为本发明实施例的阵列基板包括并列排布数据线的俯视示意图；

图3b为图3a沿B-B1方向的剖视示意图；

图4为本发明实施例的数据线厚度示意图；

图5为本发明实施例的阵列基板中数据线的靠近衬底基板一侧去除有源层的结构示意图；

图6为本发明实施例的显示面板的剖视示意图；

图7为本发明实施例的显示面板中黑矩阵设置于对置基板一侧的剖视示意图；

图8为本发明的实施例的显示面板中黑矩阵设置于阵列基板一侧的剖视示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

曲面显示装置例如曲面电视，通常可以带来更好的视觉体验，随着曲面电视相关技术的不断完善，曲面电视也逐渐成为一种流行趋势，在市场上占据越来越重要的地位。目前，曲面面板的制备通常是将对盒的平面显示面板以机械方式弯曲获得。对于曲面液晶显示面板而言，上基板(彩膜基板)一侧例如通常在对应于阵列基板金属线的位置设置黑矩阵，以防止由金属线边缘产生的电场导致液晶分子偏转混乱，进而造成曲面面板的漏光现象。这些黑矩阵的宽度一般采取偏大设计，以抵消上下基板对盒时产生的偏移。如上所述，生产曲面液晶面板的方式为将对盒的平面液晶面板以机械方式弯曲。在该过程中，由于上基板的不同位置相对于下基板的位移量不同，导致黑矩阵对下基板金属线的有效遮挡面积不同，进而这种曲面液晶显示面板的不同位置的漏光量不同，影响显示面板的显示均一性。

图1为一种平面显示面板的剖面结构示意图。参照图1，显示面板包括阵列基板和与阵列基板相对设置的对置基板200。阵列基板包括衬底基板100、设置于衬底基板100上的栅金属层图案、有源层图案114、源漏金属层图案、以及设置于源漏金属层图案之上的像素电极140。栅金属层图案例如包括栅线和与栅线连接的栅极。栅金属层图案例如还可以包括公共电极线和如图所示的公共电极130。有源层图案114例如可以包括作为TFT(薄膜晶体管)的部分以及位于源漏金属层图案之下的部分(如图中所示)。源漏金属层图案例如可以包括数据线105、源极和漏极。对置基板与阵列基板相对的一侧例如设置红、绿、蓝三基色滤光片(图中示意出203和204两个不同颜色的滤光片)，以使光线通过三基色后显示与三基色对应的颜色。此外，对置基板在与阵列基板相对一侧例如还设置与阵列基板上金属线(例如图1中所示的并排设置的两条数据线)所在位置对应的黑矩阵201，以遮挡由于受到数据线侧向电场干扰而发生偏转的液晶分子导致的漏光。阵列基板与对置基板之间填充有液晶材料，例如包括处于正常状态的液晶分子150以及受到数据线侧向电场干扰的液晶分子151。继续参照图1，该黑矩阵201在数据线宽度方向上的两侧超出上述两条并排设置的数据线的彼此相背的外侧。

目前，各大显示面板的生产厂商都在寻求解决这一问题的办法。例如，一种解决方法是将面板弯曲方向上的黑矩阵去掉。通过去除上基板一侧设置的黑矩阵，可以确保无论上下基板的位移量多少，各个区域的开口率都是一样的，从而保证了显示面板各部分透过率的均一性。然而对于ADS(高级超维场开关)模式的显示面板，上述解决方法会提高ADS模式显示面板的工艺复杂性。

在ADS模式像素结构中，数据线的侧向电场与摩擦取向方向一致，即与液晶分子的排列方向一致。因此，在理想状态下，数据线产生的侧向电场对液晶分子状态改变很小，即数据线的侧向电场基本不会导致漏光的发生。但在阵列基板制备时，形成的数据线的两侧会存在坡度角，因此，数据线产生的侧向电场会改变对应区域正常取向液晶分子的状态，导致漏光的发生。数据线的坡度角是指数据线在宽度方向上的剖面图中，两个斜边与底边的夹角。图2a为数据线的俯视示意图；图2b为图2a中的数据线沿A-A1方向的剖视示意图。例如，图2b中的a即为本发明实施例的坡度角。

本发明的一个方面提供一种阵列基板，包括衬底基板、以及设置于衬底基板之上的栅金属层图案、有源层图案和源漏金属层图案；其中，所述源漏金属层图案包括第一数据线，所述第一数据线的坡度角不大于60°。

在本发明的实施例的阵列基板中，通过优化设置数据线的坡度角，可以降低数据线侧向电场对液晶分子的干扰，从而可以相应的减小在显示装置中与数据线对应的黑矩阵在数据线宽度方向的尺寸，提高显示装置开口率。该黑矩阵例如设置在与阵列基板相对的对置基板之中，或设置在阵列基板之中。

需要说明的是，数据线根据目前的蚀刻工艺，在宽度方向的剖面图基本为梯形结构。也就是说，在阵列基板中，数据线的远离衬底基板一侧宽度通常小于靠近衬底基板一侧的宽度，例如，数据线在宽度方向上的剖面图可以基本上为一个等腰梯形。如上所述，第一数据线的坡度角是指在数据线宽度方向的剖面结构中，两个斜边与底边的夹角。但两个斜边与底边的夹角不一定完全相等，本领域技术人员不得对此作限制解释。

例如，所述第一数据线的所述坡度角为40-60°。例如，所述第一数据线的所述坡度角为45-55°。例如，所述第一数据线的所述坡度角为50-55°。一般来说，数据线的坡度角越小，数据线产生的侧向电场对液晶分子的干扰越小。在数据线的蚀刻过程中，该坡度角的值往往会受到实际工艺的限制。通过进一步限定数据线坡度角的范围，可以更大程度的降低数据线产生的侧向电场对液晶分子的干扰。

在一个实施例中，所述源漏金属层图案还包括与所述第一数据线相邻且并列排布的第二数据线，所述第二数据线的坡度角不大于60°。通过限定第二数据线的坡度角所带来的技术效果，参见以上针对第一数据线技术效果的描述。

图3a为本发明实施例的阵列基板包括并列排布数据线的俯视示意图。图3b为本发明实施例的阵列基板沿B-B1方向的剖视示意图。参照图3a和3b，阵列基板包括衬底基板100，以及设置于衬底基板100上的栅金属层图案，栅绝缘层，有源层114，源漏金属层图案，公共电极130以及像素电极140。例如，栅金属层图案可以包括栅线，与栅线连接的栅极，公共电极线以及设置于像素区域的公共电极130。有源层114例如包括作为TFT沟道区的部分以及设置于源漏金属层之下的部分。源漏金属层图案例如包括数据线、TFT的源极和漏极。参照图3a和3b，例如，数据线包括并排设置的第一数据线106和第二数据线107。以及设置于源漏金属层图案之上的像素电极140，例如像素电极140为梳状电极。例如，如上所述，第一数据线106和第二数据线的坡度角都不大于60°。

例如，所述第二数据线的所述坡度角为40-60°。例如，所述第二数据线的所述坡度角为45-55°。例如，所述第二数据线的所述坡度角为50-55°。通过进一步限定数据线坡度角的范围，可以更大程度的降低数据线产生的侧向电场对液晶分子的干扰。

数据线的厚度一方面会影响该数据线产生的电场，进而影响到对液晶分子的干扰程度。通常来说，数据线的厚度越大，两侧产生的电场对液晶分子偏转的干扰越大。另一方面，数据线厚度的增大，也会导致液晶面板的厚度增加。从这个角度来说，数据线的厚度越小越好。但数据线的厚度受到实际加工工艺的限制。图4为本发明实施例的数据线厚度示意图。参照图4，例如，所述第一数据线106在所述衬底基板厚度方向上的厚度h满足2000≤h≤3500例如，所述第一数据线106和所述第二数据线107在所述衬底基板厚度方向上的厚度h满足2000≤h≤3500通过控制数据线的厚度，可以有效降低数据线产生的电场对液晶分子的干扰，更好的避免漏光。

在一个实施例中，所述栅金属层图案远离所述衬底基板一侧设置有栅绝缘层；所述第一数据线的靠近所述衬底基板一侧与所述栅绝缘层直接接触。图5为本发明实施例的阵列基板中数据线的靠近衬底基板一侧去除有源层的结构示意图。参照图5，衬底基板100上设置栅金属层图案、栅绝缘层图案、有源层图案、源漏金属层图案、公共电极130和像素电极140。第一数据线106的靠近衬底基板100一侧与栅绝缘层直接接触。也就是说，数据线106与栅绝缘层之间不存在有源层。例如，可以采用5Mask工艺制备(即制备工艺中采用5片曝光掩模(Mask))阵列基板。例如，首先形成有源层图案。之后，再形成源漏金属层图案。需要指出的是，采用上述5Mask工艺制备阵列基板时，数据线靠近衬底基板一侧的有源层例如在蚀刻有源层图案时已经去除。图5中还示意出了第二数据线107靠近衬底基板100一侧与栅绝缘层直接接触。此外，图5中所示的公共电极130与栅金属层图案同层设置，例如，也可以设置于源漏金属层图案之上。通过去除数据线下方的有源层，可以降低数据线侧向电场对液晶分子的干扰，提高显示装置的开口率。

在一个实施例中，例如，阵列基板一侧还包括设置于所述源漏金属层图案之上的黑矩阵，所述第一数据线和所述第二数据线在所述衬底基板的正投影落在所述黑矩阵在所述衬底基板的正投影之内。黑矩阵例如也可以设置于阵列基板一侧，从而可以减小阵列基板与对置基板的对盒偏差。这样，相比于未采用本发明实施例中坡度角减小的数据线，本发明的实施例可以将黑矩阵在数据线宽度方向上的尺寸可以设计的更小，提高显示装置的开口率。另外，由于本发明的实施例对数据线的坡度角进行了控制，因此，数据线在通电时产生的可干扰液晶分子运动的电场减小。相对于现有技术的黑矩阵，本发明的黑矩阵在数据线宽度方向的尺寸可以进一步减小，从而进一步提高显示装置的开口率。

在制备阵列基板时，为了数据线的减小坡度角可以采用以下几种方式：(1)可以调整构图工艺中进行刻蚀时的刻蚀液的浓度，因此通过刻蚀速率的变化，可以优化通过刻蚀后由金属材料制备的数据线的坡度角的大小；(2)可以调整用于光刻的光刻胶固化及显影工艺，在曝光及显影光刻胶后，对光刻胶的后处理工艺条件调整可以优化刻蚀后由金属材料制备的数据线的坡度角的大小；(3)调整金属层的厚度，一般金属层越厚，坡度角越大，反之坡度角越小。通过选择上述任一工艺，例如可以将数据线的坡度角优化到40-60°。

本发明的另一个方面提供了一种显示面板，包括上述的阵列基板、与该阵列基板相对设置的对置基板。采用本发明实施的阵列基板的显示面板，例如可以减小黑矩阵在数据线宽度方向上的尺寸，提高显示面板的开口率，避免漏光。

图6为本发明实施例的显示面板的剖视示意图。参照图6，该显示面板包括上述阵列基板以及与阵列基板对盒的对置基板，且在阵列基板与对置基板之间填充有液晶分子。例如，如图所示，阵列基板中包括两个彼此相邻且并排设置的第一数据线106和第二数据线107。例如，数据线与栅绝缘层直接接触。对置基板一侧的与数据线对应的位置例如设置黑矩阵201，以遮挡由数据线通电后产生的侧向电场对液晶分子的干扰而导致的漏光。如上所述，由于采用了本发明实施例的阵列基板，即数据线具有优化的坡度角，数据线在通电时产生的干扰电场减弱。参见图6，即液晶分子151受到电场干扰而产生的偏转量减小。因此，用于覆盖数据线的黑矩阵在数据线的宽度方向上的尺寸相对较小，进而提高了显示面板的开口率。

图7为本发明实施例的显示面板中黑矩阵设置于对置基板一侧时与数据线设置关系的剖视示意图。参照图7，阵列基板侧的源漏金属层图案包括彼此相邻且并列排布的第一数据线106和第二数据线107；所述对置基板与所述阵列基板相对的一侧设置有黑矩阵201；在显示区域内，第一数据线106和第二数据线107在衬底基板100的正投影落在黑矩阵201在该衬底基板100的正投影之内；且在数据线宽度方向上，黑矩阵201的两侧超出第一数据线106和第二数据线107彼此相背的外侧的长度e满足2μm≤e≤10μm。需要说明的是，在显示面板的显示区域内，黑矩阵在衬底基板厚度方向例如覆盖数据线，即数据线在衬底基板的正投影落在黑矩阵在衬底基板的正投影之内。从而保证显示面板不发生漏光。由于本发明的实施例对数据线的坡度角进行了优化，因此黑矩阵在数据线宽度方向上的尺寸可以设计的更小，提高了显示装置的开口率。

通过减小黑矩阵在数据线宽度方向的尺寸，可以提高显示面板的开口率。但考虑到对盒偏差以及数据线通电时产生的侧向电场对液晶分子的干扰，黑矩阵在数据线宽度方向的尺寸例如略大于并排的两个数据线外侧之间的距离。也就是说，黑矩阵在数据线宽度方向上的两侧超出并排的两个数据线彼此相背的外侧。一方面，可以抵消对盒过程中由于对盒偏差导致的显示面板漏光问题；另一方面，也可以有效遮挡本发明实施例的阵列基板由数据线通电产生的较小的干扰电场导致的漏光。继续参照图7，例如，在数据线宽度方向上，黑矩阵201的两侧超出第一数据线106和第二数据线107外侧的长度e满足4μm≤e≤8μm。例如，在数据线宽度方向上，黑矩阵201的两侧超出第一数据线106和第二数据线107外侧的长度e满足3μm≤e≤6μm。通过进一步调整黑矩阵的尺寸，可以在有效避免显示面板漏光的前提下，提高显示装置的开口率。

在一个实施例中，黑矩阵也可以设置在阵列基板一侧。图8为本发明的实施例的显示面板中黑矩阵设置于阵列基板一侧的剖视示意图。参照图8，阵列基板侧的源漏金属层图案包括彼此相邻且并列排布的第一数据线106和第二数据线107；阵列基板一侧设置有黑矩阵201；在显示区域内，第一数据线106和第二数据线107在衬底基板100的正投影落在黑矩阵201在该衬底基板100的正投影之内；且在数据线宽度方向上，黑矩阵201的两侧超出第一数据线106和第二数据线107彼此相背的外侧的长度e满足1μm≤e≤10μm。

如上所述，本发明的实施例对数据线的坡度角进行了优化，因此黑矩阵在数据线宽度方向上的尺寸可以设计的更小，从而提高了显示装置的开口率。在该实施例中，黑矩阵设置于阵列基板一侧，消除了阵列基板与对置基板的对盒误差，因此，可以将黑矩阵在数据线宽度方向的尺寸设计的更小，从而进一步提高显示装置的开口率。本发明的再一个方面提供了一种通过使上述显示面板弯曲制备曲面显示面板的方法。如前文所述，曲面显示面板的制备方式通常是通过机械方式使平面显示面板根据所需曲率发生弯曲，并在达到预定曲率后定型而获得。由于上述显示面板的黑矩阵在数据线宽度方向的尺寸减小，因此，黑矩阵在数据线宽度方向上的尺寸减小，从而在平面显示面板制备曲面显示面板时，在对置基板不同位置的黑矩阵相对于阵列基板的位移差减小，提高了曲面显示面板的显示均一性。

本发明的又一个方面提供了一种采用上述方法制备的曲面显示面板。该曲面显示面板的黑矩阵的尺寸较小，因此，提高了显示均一性，并且具有极大的开口率。

本发明的再一个方面提供了一种包括上述曲面显示面板的显示装置。该显示装置具有较好的显示均一性以及较大的开口率。

在本文中，诸如“第一”、“第二”等术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何关系或者顺序。术语“包括”、“包含”这些表述为开放式的，并不排除所包括的过程、方法、物品，还存在其他要素。还需要说明的是，“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims

1.一种阵列基板，包括衬底基板、以及设置于所述衬底基板之上的栅金属层图案、有源层图案和源漏金属层图案；其中，所述源漏金属层图案包括第一数据线，所述第一数据线的坡度角不大于60°。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一数据线的所述坡度角为40-60°。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述第一数据线的所述坡度角为45-55°。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其中，所述第一数据线的所述坡度角为50-55°。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的阵列基板，其中，所述源漏金属层图案还包括与所述第一数据线相邻且并列排布的第二数据线，所述第二数据线的坡度角不大于60°。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述第二数据线的所述坡度角为40-60°。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其中，所述第二数据线的所述坡度角为45-55°。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其中，所述第二数据线的所述坡度角为50-55°。

9.根据权利要求1-4任意一项所述的阵列基板，其中，所述第一数据线在所述衬底基板厚度方向上的厚度t满足

10.根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述第一数据线和所述第二数据线在所述衬底基板厚度方向上的厚度t满足

11.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述栅金属层图案远离所述衬底基板一侧设置有栅绝缘层；所述第一数据线的靠近所述衬底基板一侧与所述栅绝缘层直接接触。

12.根据权利要求5所述的阵列基板，还包括设置于所述源漏金属层图案之上的黑矩阵，其中，所述第一数据线和所述第二数据线在所述衬底基板的正投影落在所述黑矩阵在所述衬底基板的正投影之内。

13.一种显示面板，包括如权利要求1所述的阵列基板、与该阵列基板相对设置的对置基板。

14.根据权利要求13所述的显示面板，其中，所述对置基板与所述阵列基板相对的一侧设置有黑矩阵；在显示区域内，所述第一数据线在所述阵列基板的正投影落在所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影之内。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其中，在所述第一数据线的宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线外侧的长度为2-10微米。

16.根据权利要求14所述的显示面板，其中，所述源漏金属层图案还包括与所述第一数据线相邻且并列排布的第二数据线，所述第二数据线的坡度角不大于60°，且在显示区域内，所述第一数据线和所述第二数据线在所述阵列基板的正投影落在所述黑矩阵在所述阵列基板的正投影之内。

17.根据权利要求16所述的显示面板，其中，在数据线宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线和所述第二数据线外侧的长度为2-10微米。

18.根据权利要求16所述的显示面板，其中，在数据线宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线和所述第二数据线外侧的长度为4-8微米。

19.根据权利要求14所述的显示面板，其中，在数据线宽度方向上，所述黑矩阵的两侧超出所述第一数据线和所述第二数据线外侧的长度为3-6微米。

20.一种包括如权利要求13所述的曲面显示面板的显示装置。