CN105710530B - 脉冲宽度控制器 - Google Patents

Abstract

本文揭示一种用于热处理系统的脉冲宽度控制器。脉冲电磁辐射被引导穿过转动式波片至偏振分束器，所述偏振分束器根据所述波片的相角而反射及透射。通过所述偏振分束器透射的辐射被引导至光路，所述光路经渡越时间后使所述辐射返回所述偏振分束器。第二转动式波片定位于所述光路中。所述偏振分束器根据所述第二转动式波片的相角反射及透射返回的辐射。第二脉冲宽度控制器可嵌套于所述光路中，且所述光路可嵌套任何数量的脉冲宽度控制器。

Description

脉冲宽度控制器

本申请是申请日为2013年9月18日、申请号为201380048129.3、发明名称为“脉冲宽度控制器”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本文描述的实施例涉及激光热处理装置及方法。更特定而言，本文描述的装置及方法涉及包含在激光热处理装置内的脉冲宽度控制器。

背景技术

半导体产业中经常实施热处理。半导体基板在许多转变的情况下须经热处理。这些转变包括：栅极、源极、漏极及通道结构的退火、掺杂和活化，及硅化、结晶、氧化及类似转变。历年来，热处理技术已经从简单的炉烘烤进展到各种形式的越来越快速的热处理，这些热处理比如RTP、尖峰退火及激光退火。

传统激光退火工艺使用激光发射器，这些激光发射器可为半导体或固态激光器，且这些半导体或固态激光器具有光学器件，所述光学器件使激光聚焦、散焦或以各种方式将激光成像为所需形状。一种常见方法为将所述激光成像为线或薄矩形图像。所述激光扫描经过固定的基板，或所述基板在所述激光底下被扫描以处理整个基板表面。

随着器件几何图形持续减小，诸如热处理之类的半导体制造工艺面临增加精密度的挑战。许多实例中，脉冲激光工艺被探索以减少整体热预算并减少基板的能量暴露的深度与持续时间。然而挑战仍存在于产生具有瞬时形状的能提供所需处理效能的激光脉冲，且所述激光脉冲具有均匀处理整个基板表面所需的均匀性。因此，对调整能量脉冲的瞬时形状的装置及方法有持续需求。

发明内容

揭示用于控制能量脉冲宽度的光学系统及包含所述光学系统的装置。所述光学系统的特征在于转动式波片，所述转动式波片向偏振分束器输出定向辐射。通过所述偏振分束器透射的辐射行进通过光路(optical circuit)，所述光路具有第二转动式波片。来自所述第二转动式波片的辐射沿着由所述偏振分束器最初反射的光轴行进回到所述偏振分束器。第一转动式波片转动以控制进入所述光路的辐射部分，且所述第二转动式波片转动以控制所述光路内通过所述偏振分束器离开的辐射部分。

多个光路可被嵌套(nest)在第一光路中和/或附属(pendant)于第一光路，每个光路有各自的输入及输出光闸(optical gate)。光延迟分支(optical delay leg)也可被用于一些实施例以增加进一步的延迟部件。

以上描述的光学系统可被包含于热处理装置内，所述热处理装置的特征在于能源，所述能源产生脉冲或连续波辐射能。已经行进通过脉冲宽度控制器的能量被引导至光学系统，以调整所述能量的空间或瞬时分布。所述光学系统比如均匀器、标准具(etalon)或光纤束。所述能量可然后被引导至孔隙以修整不均匀的边缘，然后所述能量被引导至基板以热处理所述基板。

附图说明

为了能详细理解本发明的上述特征，可通过参考实施例获得以上简要概述的本发明更特定的描述，所述实施例中的一些实施例绘示于附图中。然而应注意这些附图仅绘示本发明的典型实施例，因此不应被认为是对本发明的范围的限制，因为本发明可允许其他等同有效的实施例。

图1为依据一个实施例的脉冲宽度控制器的示意图。

图2为依据另一实施例的脉冲宽度控制器的示意图。

图3为依据另一实施例的脉冲宽度控制器的示意图。

图4为依据另一实施例的热处理系统的平面图。

图5是图示作为时间的函数的脉冲强度的图，所述脉冲强度是对于利用图1至图4的装置及方法处理的能量脉冲。

图6为依据另一实施例的脉冲宽度控制器的示意图。

为促进理解，已尽可能使用相同标记数字来表示各图中共有的相同元件。应预想到一个实施例中揭示的元件可有利地用于其他实施例，而无需特定详述。

具体实施方式

图1为依据一个实施例的脉冲宽度控制器100的示意图。脉冲宽度控制器100具有第一转动式波片102，第一转动式波片102包括第一波片114和第一致动器116，第一转动式波片102光学地耦合至偏振分束器104。偏振分束器104具有光学活性表面106，光学活性表面106使入射电磁辐射的一部分沿着反射轴126反射，且光学活性表面106使入射电磁辐射的一部分沿着透射轴128透射。由第一致动器116转动的第一波片114的位置决定了入射到偏振分束器104上的辐射的偏振轴，且入射辐射的偏振轴角度与光学表面106的偏振角度相比决定了反射及透射的程度。

透射辐射行进至光路136，光路136沿着反射轴126传送返回辐射134至偏振分束器。至少第一反射器108和第二反射器110构成光路136。第一反射器108沿着偏振分束器104的透射轴128设置，第一反射器108面向第一偏转方向138，且第一反射器108使第一偏转辐射沿着第一偏转轴130传播。第二反射器110被定位以接收来自第一反射器108的辐射，第二反射器110面向第二偏转方向140，且第二反射器110使第二偏转辐射132沿着偏振分束器104的反射轴126传播。此举在一些实施例中可只用两个反射器完成，而其他实施例中可在光路中设置更多反射器。在一个实施例中，第三反射器(未图示)沿着第一偏转轴130定位，且所述第三反射器使辐射沿着第三偏转方向传播至第二反射器，其中这些反射器的角度被适当地调整以使辐射沿着反射轴126对准。

第二波片118在任何所需点处设置于光路136中。第二波片118可沿着透射轴128设置于偏振分束器104与第一反射器108之间、沿着第一偏转轴130设置、沿着反射轴126设置于偏振分束器104与第二反射器110之间，或设置于光路136中第一反射器108与第二反射器110之间的任何位置。第二波片118可为第二转动式波片112，若需要，所述第二转动式波片112包括第二波片118和第二致动器120。

第二波片118使第二偏转辐射132的偏振轴转动九十度，以使返回辐射134将穿过偏振分束器104的光学活性表面106。返回辐射134因此沿反射轴126传播，且返回辐射134因光路136的渡越时间(transit time)而稍晚于最初沿着反射轴126反射的辐射。若光路136的渡越时间少于入射脉冲的持续时间，则沿着反射轴126反射的辐射和返回辐射134将重叠而形成单一延长脉冲。可通过设定第一转动式波片102来控制加宽程度。若第一转动式波片102的偏振角度与光学活性表面106的偏振角度之间的差异接近九十度，则大部分入射辐射将沿着反射轴126反射，且产生的脉冲由因入射脉冲的环行部分(circulated portion)而加入的衰弱尾波(decay tail)而仅稍微加宽。若所述差异接近零，则产生的脉冲将实质上延迟线路渡越时间，且产生的脉冲由因初始反射的辐射而产生的上升尾波(rise tail)而稍微加宽。若所述差异实质上远离任何极端(零度或九十度)，则产生的脉冲将被加宽且将为双峰，其中所述双峰的两峰强度取决于相位差。

第二波片118的偏振角度可不与光学活性表面106的偏振角度对准。在这样的实施例中，返回辐射134在光学活性表面106处将部分透射且部分反射，所述透射及反射取决于波片118的偏振角度与光学活性表面106的偏振角度之间的相角差。然后多个脉冲将在辐射环形于光路136时出现，且每个脉冲的强度将为第一波片114的角度及第二波片118的角度的函数。第二波片118可耦接至第二致动器120以形成第二转动式波片112，以使第二波片118的角度可被调整。

通过改变两个转动式波片102及112的设定，入射于脉冲宽度控制器的电磁辐射脉冲可被分成两个或更多个脉冲，这些脉冲沿着反射轴126传播。若光路136的渡越时间实质上少于入射脉冲的持续时间，则入射脉冲的脉冲宽度可有效地被脉冲宽度控制器100控制。例如对于8纳秒能量脉冲而言，一个渡越时间实质上少于8纳秒的光路，比如总长度小于约240厘米，例如总长度介于约100厘米与约200厘米之间，能提供具有能调整的脉冲宽度的单一脉冲。控制器122可耦接至致动器116和120以控制两波片114和118的相对相角。

致动器可被配置以调整光路136的长度。在图1的实施例中，第一致动器144耦接至第一反射器108，且第二致动器142耦接至第二反射器110。第一致动器144和第二致动器142中的每个制动器均耦接至控制器122，且控制器122被编程以调整第一反射器108和第二反射器110的位置，以改变光路136的长度同时维持第一反射器108和第二反射器110的对准。在图1的实施例中，第一致动器144和第二致动器142中的每个制动器可为线性及转动式致动器，或第一致动器144或第二致动器142中之一可为线性及转动式致动器，而另一制动器仅为转动式致动器。如上所述，在其中三个反射器被包括在矩形光路中的替代实施例中，所述光路的两相邻反射器可耦接至支座，所述支座被线性致动器移动以调整所述光路的长度。

调整光路长度可对结合脉冲的瞬时分布及宽度提供精细的控制。控制器122可被编程以：控制能源以产生具有所需持续时间及周期性的脉冲124；控制波片102及112的转动以控制脉冲的复制及分化；及利用致动器144及142控制光路136的长度以产生各种形状的能量脉冲。在一些实施例中，脉冲宽度控制器100可例如通过使脉冲列中的脉冲的频率加倍而改变所述频率。在这些实施例中，若光路136的渡越时间少于这些脉冲的周期，则脉冲幅值通常因与脉冲宽度控制器100的相互作用而降低。然而，若光路136的渡越时间大于这些脉冲的周期，则可将脉冲宽度控制器100调整成通过延迟脉冲以使得第一脉冲行经光路136并以与第二入射脉冲共同传播的关系出现来用作为脉冲放大器，其中所述第二入射脉冲被偏振分束器106部分反射。

图2为依据另一实施例的脉冲宽度控制器200的示意图。脉冲宽度控制器200以许多与脉冲宽度控制器100相同的部件为特征。然而在图2的实施例中，脉冲宽度控制器200具有第一光路202及嵌套于第一光路202内的第二光路208。如同图1的脉冲宽度控制器100，转动式波片102及偏振分束器104控制进入第一光路202的辐射，但第二偏振分束器206定位于第一光路202的第一反射器108与第二反射器110之间。第二偏振分束器206沿着第二反射轴216反射入射电磁波的一部分，且第二偏振分束器206使其余辐射沿着第二透射轴218透射，反射和透射部分取决于第二偏振分束器206和第三转动式波片204的相对偏振角度，第三转动式波片204在替代实施例中可能是非转动式的。

透射辐射通过第三反射器214和第四反射器212并穿过第四波片210而环行于第二光路208中，第四波片210可为转动式波片，如上所述。当然，在第二光路208中可能有多于两个反射器。

第二光路208依据相似效应而进一步加宽传播于第一光路202中的辐射。若第二光路208的渡越时间少于入射于第二偏振分束器206的能量脉冲的持续时间，则沿着第二反射轴216传播的辐射将以加宽的脉冲传播，该加宽的脉冲将进一步加宽最终沿着第一反射轴传播的辐射。四个波片102、112、204及210可被独立控制以沿着第一反射轴126产生辐射脉冲，该辐射脉冲具有比使用单一光路能得到的瞬时形状及持续时间范围广泛得多的瞬时形状及持续时间范围。脉冲宽度控制线路可以任何所需深度被嵌套，如第二光路208嵌套于第一光路202内。替代地或附加地，诸如第二光路208之类的脉冲宽度控制线路可串联激增于第一光路202周围。任何串联及嵌套的脉冲宽度控制线路的组合可被使用以达成所需的脉冲宽度控制，且所有致动波片可被控制器控制以提供对脉冲形状及持续时间的精确控制。

脉冲宽度控制器200具有耦接至支座220的致动器222，致动器222用于移动第一光路202的一部分及第二光路208的全部来控制光路202的整体渡越时间。由于根据直线配置布置光路202，致动器222可通过移动光路202的同轴部件来调整光路202的长度，所述移动沿垂直于同轴部件的共同光轴的方向。第二光路208耦接至支座220以维持与第一光路202致动部件的对准。在图2的实施例中，第一反射器108、第三反射器212、第四反射器214、第三波片204、第四波片210及第二偏振分束器206皆耦接至支座220，且致动器222调整第一偏振分束器104与第一反射器108之间的距离及第二偏振分束器206与第二反射器110之间的距离以调整光路202的长度。自然地，为了调整光路202的长度，替代实施例可耦接第二反射器110和第二光路208的所有部件至支座以调整第三波片204与第二偏振分束器206之间的距离及第二反射器110与第二波片112之间的距离。控制器230耦接至波片102、112、204及210且控制器230耦接至致动器222以控制脉冲宽度控制器200的效能。

图3为依据另一实施例的脉冲宽度控制器300的示意图。图3的脉冲宽度控制器300的特征在于相同的进入调节特征、转动式波片102及偏振分束器104，以及不同的光路302。光路302的特征在于沿着光路302插入的延迟分支304，延迟分支304用以增加光路302的细分度(subdivision)及渡越时间，若有需求。每个延迟分支304的特征在于部分反射器306和完全反射器308，且一个延迟分支304可光学耦合至另一延迟分支304以增加光路302的脉冲加宽效应。脉冲宽度控制器300有四个延迟分支304A、304B、304C及304D。入射于部分反射器306A的辐射一部分朝向部分反射器306D反射且一部分朝向部分反射器306B透射。入射于部分反射器306B的辐射一部分朝向部分反射器306C反射且一部分朝向两个完全反射器310和312透射。完全反射器310和312将辐射引导至部分反射器306C。从完全反射器312入射至部分反射器306C的辐射一部分朝向完全反射器304C反射且一部分朝向部分反射器306D透射。朝向完全反射器304C反射的辐射朝向部分反射器306C往回反射，此举进一步细分辐射。光路302内环行及反向环行的辐射被减弱成模糊(smeared-out)的脉冲，所述脉冲受波片314的偏振角度的影响，在偏振分束器104处产生相同的透射/再环行效应。波片314可为类似于转动式波片102的转动式波片。

延迟分支304向光路302导入渡越时间及反向环行，但以一些能量损失为代价，所导入的反向环行不存在于光路136、202及208中。各种反射及折射表面散射小量的入射辐射，因此许多延迟分支的结合效应可造成比预期的功率损失更多的功率损失。应注意到诸如延迟分支304之类的延迟分支可与辅助光路结合使用，所述辅助光路比如以上结合图2描述的辅助光路。例如，若有需要，则转动式波片及偏振分束器可沿着光轴定位于完全反射器310与完全反射器312之间以固定(anchor)诸如光路208之类的光路。光路及延迟分支的结合可提供修整脉冲宽度及能量分布的延伸的选择。

图4为依据另一实施例的热处理装置400的平面图。辐射能源402产生定向辐射能量场，所述定向辐射能量场沿着第一光轴414传播。所述定向辐射能量场进入脉冲宽度控制器，比如脉冲宽度控制器100，所述定向辐射能量场然后沿着第二光轴416出现并具有调制的瞬时分布，如上所述。也可使用脉冲宽度控制器200及300及于本文描述的其他实施例的脉冲宽度控制器。

从脉冲宽度控制器100出现的辐射能进入光学系统404，光学系统404进一步根据应用的需要使辐射能量场成形。光学系统404的特征可在于透镜、滤光片、棱镜、诸如镜及回射器(retroreflector)之类的部分及完全反射器、标准具、光纤及相似部件，以用某些方式改变辐射能量场。光学系统404的特征可在于一或更多个透镜阵列，所述透镜阵列使部分辐射能量场重叠以形成具有减小的空间变化的混合或均质的图像。光学系统404的特征也可在于诸如光纤束及标准具之类的差动延迟光学装置以减少辐射能量场的相干性。所述差动延迟光学装置也可有效减少从脉冲宽度控制器100出现的能量场的瞬时分布变化。

辐射能从光学系统404沿着第三光轴418出现以遇到孔隙406。孔隙406将辐射能量场修整成所需形状并去除辐射能量场的边缘不均匀性。所产生的能量沿着第四光轴420出现，且所述能量由任何适合的转向光学装置408引向基板支座410。转向光学装置408比如镜或用于将辐射能导向基板支座410的任何反射及折射光学装置系统。辐射能通常沿着第五光轴422接近基板支撑件410，第五光轴422可通常与基板支座410的基板支撑表面424的平面垂直，或第五光轴422可以所需角度倾斜。第五光轴422相对于基板支撑表面424的入射角一般介于约85度与约90度之间，通常为约90度。

基板支座410上放置的基板经受辐射能以进行热处理或光处理。若辐射能量场未覆盖整个基板，则基板支座410可在平面中移动。所述平面由基板支座410的基板支撑表面424界定。精密x-y平台可用于此目的。第一处理区域可定位于第五光轴422的路径中，且处理后所述基板可在与基板支撑表面424平行的平面中移动，以使第二处理区域定位于第五光轴422的路径中以进行处理。此工艺可重复直至所有基板所需区域已被处理。应注意，虽然图4描绘基板置于基板支座上且所述基板面向上方朝向第五光轴422，但所述基板可被垂直定向，或大体上垂直定向，且所述基板可定位于第五光轴422上方。基板支座410可以任何所需角度定向。

在一个方面中，能源402可为脉冲能源或连续波能源。能源402可发出辐射能，所述辐射能具有任何所需相干性及任何所需频率。本文描述的脉冲宽度控制方法及装置对于具有宽光谱范围、光谱分布范围及相干范围的辐射没有实质差异。连续波及脉冲激光器可单独或结合使用以产生所需的脉冲能量瞬时分布。所述脉冲能量瞬时分布具有任何光谱特性或任何光谱特性的结合。

本文描述的装置也是新方法的实施例。入射辐射能脉冲的瞬时分布可被有效地控制，所述控制是通过以下步骤实现的：利用差动偏光性(differential polarity)将脉冲分为第一子脉冲和第二子脉冲，使第二子脉冲行进通过光路以相对于第一子脉冲延迟第二子脉冲的传播，延迟后释放第二子脉冲，使第二子脉冲沿着与第一子脉冲相同的轴传播。若光路延迟实质上少于入射脉冲的持续时间，则两个子脉冲以重叠的瞬时关系出现，有效地产生加宽脉冲。利用反射器建构光路，所述反射器使第二子脉冲围绕多边路径行进，以使第二子脉冲回到与第一子脉冲分开的位置。

可使用波片提供差动偏光性，所述波片转动以控制入射脉冲的偏振角度。所述入射脉冲被引导至偏振分束器，所述偏振分束器根据入射脉冲与偏振分束器的偏光性对准差来反射一部分入射脉冲以形成第一子脉冲。未反射部分作为第二子脉冲透射进入光路。

第二子脉冲可进一步细分以进一步加宽所产生的重组脉冲。当第二子脉冲接近第一子脉冲与第二子脉冲最初分开的重组点时，可再次利用差动偏光性来将第二子脉冲分为进一步的子脉冲，这些子脉冲中之一再次通过光路。以此方式，长衰弱的能量脉冲可形成为一系列的时间重叠、幅值减小的子脉冲。

可通过调整差动偏光性施加器(applicator)相对于偏振分束器的偏光性的相对相位来调整产生的脉冲的瞬时形状。也可调整光路长度连同调整偏振器以对产生的脉冲形状提供进一步的控制。

通过使脉冲行进通过如本文描述的差动偏光性延迟线路而改变产生的脉冲的周期性和幅值，进而可用复杂的方式转变一列具有简单周期性的规则能量脉冲。在每个分束器处反射及透射的部分及延迟线路的长度可相对于入射脉冲列的持续时间及周期性而被控制，以产生周期性、幅值及瞬时分布的各种复杂图案。

一列具有复杂周期性及幅值图案的能量脉冲可例如利用多个能源在电子定时器的控制下产生，所述能源比如切换式激光器。根据用于细分及重组脉冲的光路的架构及调整，所述能量脉冲可被叠(fold)成从非常规则至极不规则的具有多种特征的脉冲列。根据入射脉冲列的周期性和幅值图案与光路的时间常数的相互作用及差动偏光性分束器的设定，可通过调整光路以产生实质上以规则方式重叠的子脉冲来有效地规则化非常不规则的脉冲列。

图5是图示作为时间的函数的脉冲强度的图，所述脉冲强度是对于利用图1至图4的装置及方法处理的能量脉冲。入射能量脉冲的瞬时分布示于502，且通过依据本文描述的实施例的脉冲宽度控制器后所产生的能量脉冲的瞬时分布示于504。两个分布的幅值并未以相同标尺呈现，使得每个分布的大体形状可彼此区分开。然而，每个分布的时间演变绘制于相同标尺，以证明入射脉冲通过依据本文描述的实施例的脉冲宽度控制器后在时间上变长。

图6为依据另一实施例的脉冲宽度控制器600的示意图。脉冲宽度控制器600与图1的脉冲宽度控制器100在许多方面中相似，如图6中重复的标记数字所表明的。然而，在脉冲宽度控制器600中，脉冲124在选择式反射器606的透射表面608遇到选择式反射器606。脉冲124穿过选择式反射器606并进入光路136。第二偏转辐射132在穿过第二转动式波片112之后遇到光学活性表面106，光学活性表面106反射离开脉冲602并使环行脉冲604透射，环行脉冲604再环行于光路136中。脉冲宽度控制器600的替代进入配置也可同样地被使用于脉冲宽度控制器200及300中。

虽然前述内容针对本发明的实施例，但在不背离本发明的基本范围的情况下可设计出本发明的其他及进一步的实施例，且本发明的范围由下面的权利要求书确定。

Claims (13)

1.一种光学装置，包括：

第一转动式波片，所述第一转动式波片具有光轴；

偏振分束器，所述偏振分束器具有光学活性表面；

选择式反射器，所述选择式反射器沿着所述光轴定位以使第一电磁辐射沿着所述光轴传播；

第一反射器，所述第一反射器沿着所述光轴定位以使第一偏转电磁辐射沿着第一偏转轴传播；

第二反射器，所述第二反射器被定位以接收来自所述第一反射器的电磁辐射，且所述第二反射器使第二偏转电磁辐射传播至所述偏振分束器的所述光学活性表面且传播至所述选择式反射器；及

第二转动式波片，所述第二转动式波片设置于光路内，所述光路被定向以接收来自所述偏振分束器的电磁辐射，以及使电磁辐射传播至所述偏振分束器。

2.如权利要求1所述的光学装置，其中所述第二转动式波片定位在所述第二反射器与所述偏振分束器之间。

3.如权利要求1所述的光学装置，进一步包括第一致动器，所述第一致动器耦接至所述第一转动式波片。

4.如权利要求2所述的光学装置，进一步包括第一致动器和第二致动器以及控制器，所述第一致动器耦接至所述第一转动式波片，所述第二致动器耦接至所述第二转动式波片，所述控制器耦接至所述第一致动器和所述第二致动器。

5.如权利要求2所述的光学装置，进一步包括第一致动器和第二致动器，所述第一致动器耦接至所述第一反射器，所述第二致动器耦接至所述第二反射器。

6.如权利要求5所述的光学装置，进一步包括第三致动器和第四致动器，所述第三致动器耦接至所述第一转动式波片，所述第四致动器耦接至所述第二转动式波片。

7.如权利要求1所述的光学装置，进一步包括控制器，所述控制器耦接至所述第一转动式波片和所述第二转动式波片。

8.一种用于处理基板的系统，所述系统包括：

电磁能源；

光学系统，所述光学系统用于聚焦所述电磁能；及

脉冲宽度控制器，所述脉冲宽度控制器光学耦合至所述电磁能源和所述光学系统，所述脉冲宽度控制器包括第一反射器、偏振分束器、选择式反射器和两个或更多个转动式波片，

其中所述两个或更多个转动式波片包括第一转动式波片和第二转动式波片，所述第二转动式波片设置于光路内，所述光路被定向以接收来自所述偏振分束器的电磁辐射，以及使电磁辐射传播至所述偏振分束器，所述偏振分束器被定位以将入射于所述偏振分束器上的光的第一部分引导出所述光路并将入射于所述偏振分束器的所述光的第二部分引导至所述选择式反射器，所述第一反射器沿着所述第一转动式波片的光轴定位，所述选择式反射器被定位在所述第一转动式波片与所述第一反射器之间。

9.如权利要求8所述的系统，其中所述偏振分束器被定位在所述第二转动式波片的光轴上。

10.如权利要求8所述的系统，其中所述电磁能源包括两个或更多个激光器。

11.如权利要求10所述的系统，其中所述脉冲宽度控制器进一步包括第一致动器和第二致动器，所述第一致动器耦接至所述第一转动式波片，所述第二致动器耦接至所述第二转动式波片，且所述系统进一步包括控制器，所述控制器耦接至所述第一致动器和所述第二致动器。

12.一种用于处理基板的系统，所述系统包括：

第一转动式波片；及

光路，所述光路包括多个反射器、第二转动式波片、偏振分束器及选择式反射器，其中所述选择式反射器被定位以使来自所述第一转动式波片的电磁辐射透射，所述第二转动式波片被定位以使电磁辐射透射至所述偏振分束器，且所述偏振分束器被定位以将入射于所述偏振分束器上的光的第一部分引导出所述光路并将入射于所述偏振分束器的所述光的第二部分引导至所述光路中的所述选择式反射器，所述多个反射器的第一反射器被定位以接收通过所述选择式反射器透射的电磁辐射和通过所述选择式反射器反射的电磁辐射，并且所述多个反射器的第二反射器被定位以接收通过所述第一反射器反射的电磁辐射并将电磁辐射反射到所述第二转动式波片。

13.如权利要求12所述的系统，进一步包括控制器，所述控制器耦接至所述第一转动式波片和所述第二转动式波片。