CN105652357A - 滤色器基板以及显示装置 - Google Patents

Abstract

一实施方式的滤色器基板以及显示装置，具备绝缘基板、第1～第5信号线、第1～第3开关元件、第1～第3像素电极、滤色器层和绝缘层。第1像素电极在由第1、第2、第4以及第5信号线包围的第1区域中形成在第1信号线侧，第2像素电极在第1区域中形成在第2信号线侧。第3像素电极形成在由第1～第4信号线包围且与第1区域相邻的第2区域。滤色器层设置在各像素电极与绝缘基板之间。绝缘层具有第1～第3开口部。各像素电极分别经由各开口部与各开关元件电连接，第1开口部形成在第1信号线侧，第2开口部形成在第2信号线侧。

Description

滤色器基板以及显示装置

本申请基于并主张于2014年12月1日提交的在先日本专利No.2014-242798的优先权，这里引入其全部内容。

技术领域

本发明的实施方式涉及滤色器基板以及显示装置。

背景技术

广泛采用了如下构成，即：例如在像液晶显示装置那样、具有相互对置的一对基板的显示装置中，在一个基板形成开关元件和/或像素电极，在另一个基板形成滤色器。

在这样的显示装置中，若产生一个基板与另一个基板的对位偏差(日语：合わせずれ)，则有可能像素电极与滤色器的位置偏离而产生相邻的像素彼此的混色，或者本来在俯视中重叠的布线以及遮光层等不透明的要素的位置偏离而开口率降低。

此外，近年来，从通过显示装置显示的图像的画质提高的观点来看，要求显示装置更加高精细化。为了得到高精细的显示装置，需要将像素宽度减小，但是在这样的像素中，由像素电极与滤色器的位置偏离造成的影响可能增大。

发明内容

一技术方案的滤色器基板具有绝缘基板、第1～第5信号线、第1～第3开关元件、第1～第3像素电极、滤色器层和绝缘层。第1信号线以及第2信号线在第1方向上排列，被提供第1信号。第3～第5信号线在与第1方向相交的第2方向上排列，被提供作为与第1信号不同的信号的第2信号，与第1信号线以及第2信号线分别交叉。第1像素电极在由第1信号线、第2信号线、第4信号线以及第5信号线包围的第1区域中形成在第1信号线侧。第2像素电极在第1区域中形成在第2信号线侧。第3像素电极形成在由第1信号线、第2信号线、第3信号线以及第4信号线包围且与第1区域在第2方向上相邻的第2区域。滤色器层设置在第1像素电极、第2像素电极以及第3像素电极与绝缘基板之间。绝缘层具有覆盖滤色器层并且贯通绝缘层的第1开口部、第2开口部以及第3开口部。在这样的滤色器基板中，第1像素电极经由第1开口部与第1开关元件电连接，第2像素电极经由第2开口部与第2开关元件电连接，第3像素电极经由第3开口部与第3开关元件电连接，第1开口部形成在第1信号线侧，第2开口部形成在第2信号线侧。

此外，涉及一技术方案的显示装置具备具有与上述滤色器基板相同的构成的第1基板和与第1基板对置的第2基板。

根据上述构成，能够得到可高精细化的滤色器基板以及显示装置。

附图说明

图1是示意地表示涉及第1实施方式的液晶显示装置的外观的一例的图。

图2是示意地表示上述液晶显示装置的显示面板所具备的第1基板的图。

图3是表示上述显示面板的显示区域中的像素排列的一例的图。

图4是表示上述显示面板的概略的等效电路的一例的图。

图5是表示能够在上述显示区域中所排列的像素中应用的构造的一例的俯视图。

图6是示意地表示沿着图5中的6A－6B线的上述显示面板的截面的图。

图7是示意地表示沿着图5中的7A－7B线的上述显示面板的截面的图。

图8是示意地表示在图5所示的像素配置的滤色器的形状的一例的俯视图。

图9是表示图8中的滤色器以及连接孔的图。

图10是表示图7所示的遮光层与其他的要素的位置关系的俯视图。

图11是用于说明本实施方式的比较例的图。

图12是表示在图11所示的像素配置的滤色器的图。

图13是表示像素电极和滤色器设置在不同的基板上的显示面板的截面的图。

图14是假设了像素宽度比图13的例子更小的高精细的像素的图。

图15是表示像素电极和滤色器设置在相同的基板上的COA方式的显示面板的截面的图。

图16是表示能够在涉及第2实施方式的显示装置的像素中应用的构造的一例的俯视图。

图17是表示图16中的滤色器以及连接孔的图。

图18是表示能够在涉及第3实施方式的显示装置的像素中应用的构造的一例的俯视图。

图19是示意地表示在图18所示的像素配置的滤色器的形状的一例的俯视图。

图20是表示图19中的滤色器以及连接孔的图。

图21是表示遮光层与其他的要素的位置关系的俯视图。

图22是用于说明液晶层中的取向紊乱的图。

图23是表示能够在涉及第4实施方式的显示装置的像素中应用的构造的一例的俯视图。

图24是示意地表示沿着图23中的24A－24B线的显示面板的截面的图。

图25是示意地表示沿着图23中的25A－25B线的显示面板的截面的图。

图26是用于说明第3实施方式的变形例的图。

具体实施方式

参照一些实施方式来进行说明。

另外，公开的只不过是一例，对于本领域技术人员能够容易想到的、保有发明的主旨的适当变更，当然包含在本发明的范围中。此外，对于附图而言，为了使说明更加明确，有与实际的形态相比示意地表示各部的宽度、厚度、形状等的情况，但是只不过是一例，不限定本发明的解释。在各图中，有时对于连续配置的相同或类似的要素省略标号。此外，在本说明书和各图中，有时对于与关于已有的图叙述过的构成要素、发挥相同或类似的功能的构成要素，赋予相同的参照标号，省略重复的详细的说明。

在各实施方式中，作为显示装置的一例，将液晶显示装置公开。该液晶显示装置能够用于例如智能手机、平板终端、便携电话终端、个人电脑、电视接收装置、车载装置、游戏机等各种装置。另外，各实施方式所公开的主要的构成还能够应用于具有有机电致发光显示元件等的自发光型的显示装置、具有电泳元件等的电子纸型的显示装置、应用了MEMS(MicroElectroMechanicalSystems)的显示装置、或者应用了电致变色的显示装置等。

(第1实施方式)

对第1实施方式进行说明。图1是示意地表示涉及第1实施方式的液晶显示装置DSP的外观的一例的图。液晶显示装置DSP具备显示面板PNL和背光源BL。

显示面板PNL具备第1基板SU1、第2基板SU2、保持在第1基板SU1以及第2基板SU2之间的液晶层(后述的液晶层LQ)。此外，显示面板PNL具备用于显示图像的显示区域DA。在图1的例中，该显示区域DA是具有沿着第1方向D1的长边、和沿着与第1方向D1正交的第2方向D2的短边的长方形状。但是，显示区域DA的形状不限于这样的长方形状。

第1基板SU1具备排列有外部连接用的端子的连接部CN。该连接部CN连接着例如柔性布线基板，经由该柔性布线基板，液晶显示装置DSP与电子设备的控制板等外部模块被电连接。

背光源BL被配置在第1基板SU1的背面侧(与第2基板SU2的对置面的相反侧)，与显示区域DA对置。作为这样的背光源BL能够使用各种形态。作为一例，背光源BL具备与第1基板SU1对置的导光板、和沿着该导光板的端部配置的多个发光二极管(LED)等光源。

图2是示意地表示第1基板SU1的与第2基板SU2对置的面的图。第1基板SU1在与显示区域DA不重复的周边区域具备上述的连接部CN、驱动回路PC1、PC2、PC3。在图2的例中，驱动回路PC1、PC2分别沿着显示区域DA的长边配置，驱动回路PC3沿着显示区域DA的短边配置。

显示区域DA中形成有多个像素。图3是表示像素排列的一例的图。另外，像素是用于对显示区域DA中的颜色图像进行显示的最小单位。在该图中，示出了2种像素PX(PX1、PX2)。像素PX1、PX2包括与第1色对应的副像素PXG1、与第2色对应的副像素PXR1、与第3色对应的副像素PXB、与第4色对应的副像素PXG2、与第5色对应的副像素PXR2、与第6色对应的副像素PXW。本实施方式中，作为一例假设第1色以及第4色是绿色、第2色以及第5色是红色、第3色是蓝色、第6色是白色的情况。但是，像素PX1、PX2也可以包括与除了绿色、红色、蓝色、白色以外的色对应的副像素，可以通过与除了绿色、红色、蓝色这3色以外的其他色对应的副像素来构成。此外，显示区域DA中可以只排列有1种像素PX，也可以排列3种以上的像素PX。

像素PX1沿着第1方向D1连续配置。同样地，像素PX2沿着第1方向D1连续配置。在第1方向D1上排列的像素PX1的列和在第1方向D1上排列的像素PX2的列，沿着第2方向D2交替地反复。

在像素PX1、PX2中，副像素PXG1、PXR1在第1方向D1上相邻，同样地副像素PXG2、PXR2在第1方向D1上相邻。在像素PX1中，副像素PXG1、PXR1与副像素PXB相邻，副像素PXG2、PXR2与副像素PXW相邻。另一方面，在像素PX2中，副像素PXG1、PXR1与副像素PXW相邻，副像素PXG2、PXR2与副像素PXB相邻。

在图3的例中，在像素PX1、PX2的任一个中，副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2都具有第1面积，副像素PXB、PXW都具有比第1面积大的第2面积。例如，第2面积是第1面积的约2倍。

副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW的形状不被特别限定，但从视觉特性以及像素的排列密度的观点来看，优选的是四边形或与其近似的形状(换言之实质上是四边形)，更优选的是平行四边形或与其接近的形状(换言之实质上是平行四边形)。此外，副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW在第2方向D2上的宽度实质上是相同的关系(例如，相互的长度比收敛于0.8倍～1.2倍的范围)。进而，存在副像素PXB、PXW在第1方向D1上的宽度比副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2在第1方向D1上的宽度长的关系，在图3的例中为约2倍。

在人类的网膜上，与蓝色对应的锥体细胞壁比与绿色以及红色对应的锥体细胞的数量少，因此人类的视觉对于蓝色的分辨率比绿色以及红色低。图3所示的像素PX1、PX2利用了这样的人类的视觉的特征。即，通过使蓝色的副像素PXB以及一般来说泛蓝的白色的副像素PXW的尺寸比红色的副像素PXR1、PXR2以及绿色的副像素PXG1、PXG2大，并且使其数量少，能够不降低有效分辨率地提高像素PX1、PX2的面积。

图4是表示显示面板PNL的概略的等效电路的一例的图。显示面板PNL具备沿着第1方向D1排列的被提供第1信号的第1信号线、和沿着第2方向D2排列的被提供第2信号的第2信号线。第1信号以及第2信号是用于使像素显示影像的信号，一般来说一个是栅极信号(扫描信号)，另一个是源极信号(图像信号)。在图4中，具备作为第1信号线的多个栅极布线G和作为第2信号线的多个源极布线S。例如，从第1方向D1上的某一端部起计数，第奇数个栅极布线G被连接于驱动回路PC1，第偶数个栅极布线G被连接于驱动回路PC2。各源极布线S与驱动回路PC3连接。

图4中示出了像素PX1的等效电路。在该像素PX1中，副像素PXG1具备与栅极布线G1以及源极布线S2电连接的开关元件SWG1、和与该开关元件SWG1电连接的像素电极PEG1。副像素PXR1具备与栅极布线G2以及源极布线S1电连接的开关元件SWR1、和与该开关元件SWR1电连接的像素电极PER1。副像素PXG2具备与栅极布线G2以及源极布线S2电连接的开关元件SWG2、和与该开关元件SWG2电连接的像素电极PEG2。副像素PXR2具备与栅极布线G3以及源极布线S1电连接的开关元件SWR2、和与该开关元件SWR2电连接的像素电极PER2。副像素PXB具备与栅极布线G2以及源极布线S3电连接的开关元件SWB、和与该开关元件SWB电连接的像素电极PEB。副像素PXW具备与栅极布线G3以及源极布线S3电连接的开关元件SWW、和与该开关元件SWW电连接的像素电极PEW。但是，各副像素的开关元件SW(SWG1、SWG2、SWR1、SWR2、SWB、SWW)与栅极布线G以及源极布线S的连接关系不限定于图4所示的方式。另外，所谓开关元件表示，电阻等电特性进行切换的元件，代表例是以场效应晶体管为代表的晶体管(图4中是场效应晶体管)。

例如，各像素电极PE(PEG1、PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW)与共用电极CE对置。共用电极CE遍及例如多个像素PX而设置，与提供公共电压的给电部VS电连接。

驱动回路PC1、PC2将扫描信号依次提供到各栅极布线G。驱动回路PC3将图像信号选择性地提供到各源极布线S。若开关元件SW被输入扫描信号以及图像信号的双方，则在与该开关元件SW连接的像素电极PE和共用电极CE之间产生电场，通过该电场，保持在第1基板SU1以及第2基板SU2之间的液晶层LQ的液晶分子的取向发生改变。

像素PX2的等效电路除了副像素PXB和副像素PXW的位置调换这点外，与像素PX1相同。

以上那样构成的液晶显示装置DSP相当于使从背光源BL向显示面板PNL入射的光按照每个像素PX选择性地透过而将图像显示在显示区域DA上的所谓的透过型的液晶显示装置。但是，液晶显示装置DSP也可以是利用从外部向第2基板SU2入射的光而显示图像的反射型的液晶显示装置，也可以是具备透过型以及反射型的双方的功能的液晶显示装置。

图5是表示能够应用于像素PX1、PX2的构造的一例的俯视图。在该图中，示出了像素PX1所包含的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW、和与该像素PX1相邻的像素PX2所包含的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2。

在图5的例中，示出了3根栅极布线G(G1、G2、G3)和与这些栅极布线G交叉的6根源极布线S(S1、S2、S3、S4、S5、S6)。栅极布线G1、G2、G3沿着第2方向D2以直线状延伸，并沿着第1方向D1以等间隔排列。源极布线S1、S2、S3、S4、S5、S6在栅极布线G1与栅极布线G2之间相对于第1方向D1按照顺时针以锐角倾斜而相互平行且直线状地延伸，在栅极布线G2与栅极布线G3之间相对于第1方向D1按照顺时针以钝角倾斜而相互平行且直线状地延伸。这些源极布线S1、S2、S3、S4、S5、S6沿着第2方向D2排列。进而，源极布线S2和源极布线S3、源极布线S5和源极布线S6在第2方向D2上不经由副像素而相邻配置。另一方面，源极布线S1和源极布线S2、源极布线S3和源极布线S4在第2方向D2上经由副像素而相邻配置。

像素PX1所包含的副像素PXG1的像素电极PEG1以及副像素PXR1的像素电极PER1被配置在由栅极布线G1、G2以及源极布线S1、S2包围的区域A1中。像素PX1所包含的副像素PXB的像素电极PEB被配置在由栅极布线G1、G2以及源极布线S3、S4包围的区域A2中。像素PX1所包含的副像素PXG2的像素电极PEG2以及副像素PXR2的像素电极PER2被配置在由栅极布线G2、G3以及源极布线S1、S2包围的区域A3中。像素PX1所包含的副像素PXW的像素电极PEW被配置在由栅极布线G2、G3以及源极布线S3、S4包围的区域A4中。区域A1和区域A2在第2方向D2相邻，区域A1和区域A3在第1方向D1上相邻，区域A2和区域A4在第1方向D1上相邻，区域A3和区域A4在第2方向D2上相邻。此外，像素电极PEG1、PER1在第1方向D1上相邻，像素电极PEG1以及PER1与像素电极PEB在第2方向D2上相邻，像素电极PEG2、PER2在第1方向D1上相邻，像素电极PEG2以及PER2与像素电极PEW在第2方向D2上相邻。

另外，区域A1能够定义为被栅极布线G1、G2以及源极布线S1、S3包围的区域，区域A2能够定义为被栅极布线G1、G2以及源极布线S2、S4包围的区域，区域A3能够定义为被栅极布线G2、G3以及源极布线S1、S3包围的区域，区域A4能够定义为被栅极布线G2、G3以及源极布线S2、S4包围的区域。

在区域A1中，像素电极PEG1位于栅极布线G1侧(栅极布线G1的附近)，像素电极PER1位于栅极布线G2侧(栅极布线G2的附近)。在区域A3中，像素电极PEG2位于栅极布线G2侧(栅极布线G2的附近)，像素电极PER2位于栅极布线G3侧(栅极布线G3的附近)。

在像素PX2中也与像素PX1同样，像素电极PEG1、PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW配置在区域A1～A4。关于细节，由于与像素PX1实质上相同，因此省略。

在图5的例中，像素电极PEG1、PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW都具有缝隙SL1、和隔着该缝隙SL1弯曲并带状地延伸的2根梳齿电极PEa。梳齿电极Pea作为整体在相对于第1方向D1以及第2方向D2分别倾斜的方向上延伸。另外，像素电极可以是在一方向上延伸的一根电极。

开关元件SWG1、SWG2、SWR1、SWR2、SWB、SWW都具备半导体层SC。

在像素PX1中，开关元件SWG1的半导体层SC其一端经由连接电极CAL以及连接孔CHA1与像素电极PEG1电连接并且另一端经由连接孔CHB1与源极布线S2电连接。

开关元件SWR1的半导体层SC也与上述的开关SWG1的半导体层SC是相同的。该情况下，连接孔CHA1对应于连接孔CHA2，连接孔CHB1对应于连接孔CHB2，像素电极PEG1对应于像素电极PER1，源极电极S2对应于源极电极S1。

开关元件SWB的半导体层SC也与上述的开关SWG1的半导体层SC是相同的。该情况下，连接孔CHA1对应于连接孔CHA3，连接孔CHB1对应于连接孔CHB3，像素电极PEG1对应于像素电极PEB，源极电极S2对应于源极电极S3。

开关元件SWG2的半导体层SC也与上述的开关SWG1的半导体层SC是相同的。该情况下，连接孔CHA1对应于连接孔CHA4，连接孔CHB1对应于连接孔CHB4，像素电极PEG1对应于像素电极PEG2。

开关元件SWR2的半导体层SC也与上述的开关SWG1的半导体层SC是相同的。该情况下，连接孔CHA1对应于连接孔CHA5，连接孔CHB1对应于连接孔CHB5，像素电极PEG1对应于像素电极PER2，源极电极S2对应于源极电极S1。

开关元件SWW的半导体层SC也与上述的开关SWG1的半导体层SC是相同的。该情况下，连接孔CHA1对应于连接孔CHA6，连接孔CHB1对应于连接孔CHB6，像素电极PEG1对应于像素电极PEW，源极电极S2对应于源极电极S3。

此外，在各个对应的区域内，连接孔CHA1形成在栅极布线G1侧(栅极布线G1的附近)，连接孔CHA2、CHA3以及CHA4形成在栅极布线G2侧(栅极布线G2的附近)，连接孔CHA5以及CHA6形成在栅极布线G3侧(栅极布线G3的附近)。

进而，在栅极布线G1、G2之间，连接孔CHB1形成在与源极布线S2重叠的位置，连接孔CHB2形成在与源极布线S1重叠的位置，连接孔CHB3形成在与源极布线S3重叠的位置。另一方面，在栅极布线G2、G3之间，连接孔CHB4形成在与源极布线S2重叠的位置，连接孔CHB5形成在与源极布线S1重叠的位置，连接孔CHB6形成在与源极布线S3重叠的位置。

像素PX2的构成与像素PX1大致相同，因此省略说明。

像素PX2的连接孔CHA1以及连接电极CAL在区域A1中形成在栅极布线G1侧(栅极布线G1的附近)，像素PX2的连接孔CHB1在栅极布线G1、G2之间形成在与源极布线S5重叠的位置。连接孔CHA2以及连接电极CAL在区域A1中形成在栅极布线G2侧(栅极布线G2的附近)，像素PX2的连接孔CHB2在栅极布线G1、G2之间形成在与源极布线S4重合的位置。像素PX2的连接孔CHA4以及连接电极CAL在区域A3中形成在栅极布线G2侧(栅极布线G2的附近)，像素PX2的连接孔CHB4在栅极布线G2、G3之间形成在与源极布线S5重合的位置。像素PX2的连接孔CHA5以及连接电极CAL在区域A3中形成在栅极布线G3侧(栅极布线G3的附近)，像素PX2的连接孔CHB5在栅极布线G2、G3之间形成在与源极布线S4重合的位置。

图6是示意地表示沿着图5中的6A－6B线的显示面板PNL的截面的图。第1基板SU1具备玻璃基板或树脂基板等第1绝缘基板ISU1。与第2基板SU2对置的第1绝缘基板ISU1的第1面F11被第1内涂层UC1覆盖覆盖，该第1内涂层UC1被第2内涂层UC2覆盖。第1内涂层UC1以及第2内涂层UC2由例如硅氧化物(SiO)或硅氮氧化物(SiON)等形成。在第1绝缘基板ISU1的位于第1面F11的相反侧的第2面F12配置有第1偏光板PL1。

第2内涂层UC2被第1绝缘层IL1覆盖，该第1绝缘层IL1被第2绝缘层IL2覆盖。第1绝缘层IL1以及第2绝缘层IL2由例如硅氧化物(SiO)或硅氮化物(SiNx)等形成。

在第2绝缘层IL2的液晶层LQ侧的面形成有源极布线S(S1、S2)。源极布线S被滤色器层CFL覆盖。滤色器层CFL也覆盖第2绝缘层IL2。滤色器层CFL被第3绝缘层IL3覆盖。在图6的例中示出了滤色器层CFL作为单一的层，但如使用图8后述的那样，滤色器层CFL包含有多个岛状的滤色器。

在第3绝缘层IL3的液晶层LQ侧的面形成有共用电极CE。该共用电极CE被作为例如氮化硅的第4绝缘层IL4覆盖。在第4绝缘层IL4的液晶层LQ侧的面形成有像素电极PE(PEG1)。即，在图6的例中像素电极PE以及共用电极CE隔着第4绝缘层IL4对置。像素电极PE以及第4绝缘层IL4被与液晶层LQ相接的第1取向膜AL1覆盖。

像素电极PE以及共用电极CE由例如铟锡氧化物(ITO)等透明的导电材料形成。

另一方面，第2基板SU2具备玻璃基板或树脂基板等第2绝缘基板ISU2。与第1基板SU1对置的第2绝缘基板ISU2的第1面F21被涂覆层OC覆盖。该涂覆层OC被与液晶层LQ相接的第2取向膜AL2覆盖。在第2绝缘基板ISU2的位于第1面F21的反对侧的第2面F22配置有第2偏光板PL2。

第1取向膜AL1以及第2取向膜AL2是使包含在液晶层LQ中的液晶分子取向的部件。它们例如由聚酰亚胺类的有机高分子形成，被实施了基于研磨法的取向处理。或者，第1取向膜AL1以及第2取向膜AL2还能够由具有光反应性的聚酰亚胺类的有机高分子等形成并实施基于偏光紫外光照射的取向处理。该情况下，能够防止或者缓和对第1取向膜AL1以及第2取向膜AL2表面凹凸的取向处理的影响。液晶分子的初始取向状态是例如各向同性取向。

在向像素电极PE以及共用电极CE之间施加电压时，产生包含与基板主面(与第1方向D1以及第2方向D2平行的平面)平行的成分在内的边缘场EF。通过该边缘场EF，液晶层LQ的液晶分子在与基板主面平行的面内旋转。另外，本实施方式配置了用于产生作为横电场方式的一种的边缘场EF那样的像素电极PE以及共用电极CE，但不限定于此。本发明中也能够应用纵电场方式、斜电场方式，只要像素电极PE以及共用电极CE与求取的电场对应地适当配置即可。

另外，在图6中着眼于副像素PXG1而说明了显示面板PNL的截面构造，但是关于其他的副像素PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW中的像素电极PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW等，也具有与副像素PXG1相同的构造以及作用。

图7是示意地表示沿着图5中的7A－7B线的显示面板PNL的截面的图。开关元件SW(SWR1)的半导体层SC形成在第2内涂层UC2的液晶层LQ侧的面。半导体层SC通过例如多晶硅形成。例如，可以在第1绝缘基板ISU1与第1内涂层UC1之间，或第1内涂层UC1与第2内涂层UC2之间设置与半导体层SC对置的遮光层，防止从背光源BL向半导体层SC入射光。

在图7的例中，连接孔CHB(CHB2)将第1绝缘层IL1以及第2绝缘层IL2贯通。源极布线S(S1)经由连接孔CHB而与半导体层SC接触。

连接电极CAL经由连接孔CHC而与半导体层SC接触。该连接孔CHC由分别设置在第1绝缘层IL1以及第2绝缘层IL2的贯通孔构成。连接电极CAL与源极布线S形成在同层。连接电极CAL以及源极布线S例如是将铝或铝合金用2层的钛或钛合金夹持的3层构造。

栅极布线G(G2)形成在第1绝缘层IL1的液晶层LQ侧的面，被第2绝缘层IL2覆盖。栅极布线G例如由钼钨(MoW)合金形成。

在图5以及图7等中，作为开关元件SW的一例，公开了所谓的顶栅型且双栅型的薄膜晶体管，但开关元件SW不限于该种的薄膜晶体管。例如，开关元件SW也可以是单栅型的薄膜晶体管或底栅型的薄膜晶体管。

像素电极PE(PER1)经由连接孔CHA(CHA2)与连接电极CAL接触。在图7的例中，连接孔CHA将滤色器层CFL、第3绝缘层IL3、第4绝缘层IL4以及共用电极CE贯通。

在连接孔CHA(图7中为CHA2)的截面中，在第4绝缘层IL4设置的孔部的周缘位于连接孔CHA的最中心侧，第3绝缘层IL3的孔部的周缘位于其外侧，进而，共用电极CE的孔部的周缘和滤色器层CFL中的间隙的缘部位于其外侧。在连接孔CHA中，第4绝缘层IL4被像素电极PE覆盖。在将连接孔CHA的截面这样构成时，滤色器层CFL在连接孔CHA中被像素电极PE、第4绝缘层IL4、以及第3绝缘层IL3覆盖，因此即使是滤色器层CFL中含有杂质的情况，也能够有效地防止该杂质向液晶层LQ的移动。

作为一例，滤色器层CFL的间隙的宽度在第2绝缘层IL2侧的底部处是约8μm且在液晶层LQ侧的顶部处约10μm，第3绝缘层IL3的孔部的直径在第2绝缘层IL2侧的底部处是约4μm且在液晶层LQ侧的顶部处是约6μm，第4绝缘层IL4的孔部的直径是约3μm。

在第2绝缘基板ISU2的第1面F21形成有与连接孔CHA以及栅极布线G对置的遮光层BM。该遮光层BM被涂覆层OC覆盖。

另外，在图7中着眼于副像素PXR1而说明了显示面板PNL的截面构造，但是关于其他的副像素PXG1、PXG2、PXR2、PXB、PXW中的像素电极PEG1、PEG2、PER2、PEB、PEW、开关元件SWG1、SWG2、SWR2、SWB、SWW、连接孔CHA1、CHA3～CHA6以及连接孔CHB1、CHB3～CHB6等，也具有与副像素PXR1相同的构造以及作用。

连接孔CHA1、CHA2、CHA3、CHA4、CHA5以及CHA6分别是作为形成在第3绝缘层IL3的贯通孔的第1开口部、第2开口部、第3开口部、第4开口部、第5开口部以及第6开口部的一例。

如图6以及图7所示，在本实施方式中，滤色器层CFL设置在第1基板SU1。即，液晶显示装置DSP是COA(ColorfilterOnArray)方式，第1基板SU1是具备开关元件SW以及滤色器层CFL的双方的滤色器基板。

滤色器层CF包含有与不同色对应的多个滤色器。图8是示意地表示在图5所示的像素PX1、PX2配置的滤色器CF(CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW)的形状的一例的俯视图。

另外，该图所示的滤色器CFG1与像素电极PEG1对置，滤色器CFG2与像素电极PEG2对置，滤色器CFR1与像素电极PER1对置，滤色器CFR2与像素电极PER2对置，滤色器CFB与像素电极PEB对置，滤色器CFW与像素电极PEW对置。

滤色器CFG1、CFG2由例如被绿色的颜料着色的有机树脂材料形成。滤色器CFR1、CFR2由例如被红色的颜料着色的有机树脂材料形成。滤色器CFB由例如被蓝色的颜料着色的有机树脂材料形成。滤色器CFW由例如没有被着色的实质上无色的有机树脂材料形成。例如，滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW的厚度都相等。另外，也能够采用在副像素PXW中没有设置滤色器CFW的构成。但是，在该情况下，由于第3绝缘层IL3而滤色器层CFL不会充分地平坦化，有副像素PXW中的液晶层LQ的厚度增大、副像素PXW的显示色泛黄的情况。即，通过设置滤色器CFW，能够得到将副像素PXW的液晶层LQ的厚度确保与其他的副像素相同、防止显示色的着色的效果。

滤色器CFG1、CFR1被配置在区域A1。在像素PX1中，滤色器CFG1的第1方向D1上的一个端部除了连接孔CHA1的附近以外与栅极布线G1重叠，另一个端部位于区域A1的第1方向D1上的中心附近。此外，该滤色器CFG1的第2方向D2上的一个端部与源极布线S1重叠，另一个端部与源极布线S3重叠。在像素PX1中，滤色器CFR1的第1方向D1上的一个端部除了连接孔CHA2的附近以外与栅极布线G2重叠，另一个端部位于区域A1的第1方向D1上的中心附近。此外，滤色器CFR1的第2方向D2上的一个端部与源极布线S1重叠，另一个端部与源极布线S3重叠。

滤色器CFB被配置在区域A2。在像素PX1中，滤色器CFB的第1方向D1上的一个端部与栅极布线G1重叠，另一个端部除了连接孔CHA3的附近以外与栅极布线G2重叠。此外，该滤色器CFB的第2方向D2上的一个端部与源极布线S2重叠，另一个端部与源极布线S4重叠。

滤色器CFG2、CFR2被配置在区域A3。在像素PX1中，滤色器CFG2的第1方向D1上的一个端部除了连接孔CHA4的附近以外与栅极布线G2重叠，另一个端部位于区域A3的第1方向D1上的中心附近。此外，该滤色器CFG2的第2方向D2上的一个端部与源极布线S1重叠，另一个端部与源极布线S3重叠。在像素PX1中，滤色器CFR2的第1方向D1上的一个端部除了连接孔CHA5的附近以外与栅极布线G3重叠，另一个端部位于区域A3的第1方向D1上的中心附近。此外，该滤色器CFR2的第2方向D2上的一个端部与源极布线S1重叠，另一个端部与源极布线S3重叠。

滤色器CFW被配置在区域A4。在像素PX1中，滤色器CFW的第1方向D1上的一个端部与栅极布线G2重叠，另一个端部除了连接孔CHA6的附近以外与栅极布线G3重叠。此外，该滤色器CFW的第2方向D2上的一个端部与源极布线S2重叠，另一个端部与源极布线S4重叠。

在图8的例中，滤色器CFG1、CFR1在区域A1的第1方向D1上的中心附近(副像素PXG1、PXR1的边界附近)重叠，滤色器CFG2、CFR2在区域A3的第1方向D1上的中心附近(副像素PXG2、PXR2的边界附近)重叠。此外，滤色器CFG1、CFR1和滤色器CFB在源极布线S2、S3的附近重叠，滤色器CFG2、CFR2和滤色器CFW在源极布线S2、S3的附近重叠。

此外，优选的是，使连接孔CHA的中心与经由连接孔CHA相邻的滤色器CF的端部之间的距离尽可能相等。优选的是，使图8中例如连接孔CHA2的中心与滤色器CFR1的端部之间的距离、和连接孔CHA2的中心与滤色器CFG2的端部之间的距离尽可能相等。

关于像素PX2的滤色器，由于与像素PX1的滤色器实质上相同，因此省略说明。

在图8的例中，像素PX1的滤色器CFB与像素PX2的滤色器CFG1、CFR1在源极布线S4的附近重叠，像素PX1的滤色器CFW与像素PX2的滤色器CFG2、CFR2在源极布线S4的附近重叠。

图9是表示图8所示的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW以及连接孔CHA1～CHA6的图。滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW都形成为岛状，同一色者不相接。

在图9的例中，滤色器CFB、CFW的面积比滤色器CFG1的面积、滤色器CFG2的面积、滤色器CFR1的面积以及滤色器CFR2的面积的任一个都大。

滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW都具有与对应的各个区域A1～A4相类似的形状。在图8中，这些滤色器是与被圆角后的平行四边形相类似的形状。进而，这些滤色器具有在俯视中外形凹陷的凹陷部。

具体来说，滤色器CFG1具有凹陷部HG1，滤色器CFG2具有凹陷部HG2，滤色器CFR1具有凹陷部HR1，滤色器CFR2具有凹陷部HR2，滤色器CFB具有凹陷部HB，滤色器CFW具有凹陷部HW。

此外，连接孔CHA1形成在凹陷部HG1，连接孔CHA2形成在凹陷部HR1，连接孔CHA3形成在凹陷部HB，连接孔CHA4形成在凹陷部HG2，连接孔CHA5形成在凹陷部HR2，连接孔CHA6形成在凹陷部HW。

如此，连接孔CHA1～CHA6设置在与滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW的任一个都在俯视中不重复的位置。

图10是表示图7所示的遮光层BM、与栅极布线G(G1～G3)、源极布线S(S1～S6)、连接孔CHA1～CHA6以及连接电极CAL等的位置关系的俯视图。

遮光层BM相对于栅极布线G的各个而设置，与栅极布线G一起在第2方向D2上延伸。这些遮光层BM在俯视中与栅极布线G、连接孔CHA1～CHA6以及连接电极CAL重叠。

通过这些遮光层BM，能够防止来自第2基板SU2侧的光被栅极布线G以及连接电极CAL等反射，能够使显示图像的画质提高。另外，在图10的例中，源极布线S从遮光层BM露出。但是，如图8所示，通过在源极布线S的附近使滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB重叠，能够将由源极布线S引起的光的反射缓和。另外，也可以针对源极布线S谋求用于防止反射的手段。例如，通过将由具有导电性且反射率低的TiN(钛氮化物)等材料构成的防反射膜形成在源极布线S的第2基板SU2侧的表面，能够防止由源极布线S引起的光的反射。作为一例，这样的TiN的膜的厚度是40nm左右。

在图10的例中，在与栅极布线G2重叠的位置设有间隔件SOA。该间隔件SOA位于液晶层LQ，具有维持液晶层LQ的层厚的功能。间隔件SOA设置在第1基板SU1或第2基板SU2。作为一例，间隔件SOA的高度是约4μm，直径是约6μm。这样的间隔件SOA在显示面板PNL的各位置、在与栅极布线G重叠的位置设有多个。

在间隔件SOA的周围，遮光层BM具有以间隔件SOA为中心而与规定半径的范围重叠地进行了扩展的扩展部ET。通过该扩展部ET，能够防止由间隔件SOA的周边处的液晶分子的取向紊乱引起的漏光。进而，在间隔件SOA的周围，有时第1基板SU1和第2基板SU2位置偏离且相互磨损而产生取向紊乱，但由这样的取向紊乱引起的漏光也能通过扩展部ET防止。

接着，说明从本实施方式得到的效果的一例。

图11是用于说明与本实施方式的比较例的图，示出在第1方向D1上排列着的像素PXa。该像素PXa包含有与红色对应的副像素PXRa、与绿色对应的副像素PXGa以及与蓝色对应的副像素PXBa，这些副像素PXRa、PXGa、PXBa沿着第2方向D2排列。

图12是表示在图11所示的像素PXa配置的滤色器的图。与沿着第1方向D1排列的副像素PXRa对应地配置连续的滤色器CFRa，与沿着第1方向D1排列的副像素PXGa对应地配置连续的滤色器CFGa，与沿着第1方向D1排列的副像素PXBa对应地配置连续的滤色器CFBa。

这里，假想副像素PXRa、PXGa、PXBa以及涉及本实施方式的液晶显示装置DSP的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW以相同的精细度形成的情况。该情况下，图11所示的像素PXa在第2方向D2上包含3个副像素，与此相对地，图3等所示的像素PX1、PX2在第2方向D2上仅包含2个副像素，因此像素PXa在第2方向D2上的宽度为像素PX1、PX2在第2方向D2上的宽度的约1.5倍的长度。

即，根据本实施方式，即使是对像素进行了高精细化的情况，也能够确保比较大的像素宽度。由此，例如如以下说明的那样能够实现相邻的像素彼此的混色防止。

混色是在显示处于像素中的色时该显示色的色相的极角(polarangle)依赖性成为左右非对称的现象。在混色的程度差的情况下，例如，在从显示面的法线方向观察显示红色的像素时能够看到红色，但是从高极角的区域观察时有可能能够看到绿色。这样的混色通过例如相对于显示面板的主面的法线方向倾斜地入射到显示面板的光在相互不匹配的滤色器和像素区域穿过而产生。

图13是表示像素电极与滤色器设置在不同的基板上的显示面板的截面的图。第1基板SU1a上设有像素电极PERa、PEGa、PEBa，在隔着液晶层LQa与该第1基板SU1a对置的第2基板SU2a上设有与像素电极PERa对应的滤色器CFRa、与像素电极PEGa对应的滤色器CFGa、与像素电极PEBa对置的滤色器CFBa。此外，在第1基板SU1a上设有位于副像素的边界的遮光层BMa，在第2基板SU2a上也设有位于副像素的边界的遮光层BMb。在图13的例中示出了滤色器CFGa与像素电极PEGa从本来的位置稍微偏离而被贴合的状态。

这里，假想使与像素电极PEGa以及滤色器CFGa对应的绿色的副像素点亮的情况。从背光源向第1基板SU1a倾斜入射的光的一部分(实线箭头)穿过遮光层BMa之间以及滤色器CFGa而显示绿色。相对于此，从背光源向第1基板SU1a倾斜入射的光的一部分(虚线箭头)在遮光层BMa之间穿过后，穿过相邻的像素的滤色器CFBa而显示蓝色。由此发生混色。即，在形成有像素电极的基板和形成有滤色器的基板不同的情况下，存在容易产生因贴合的位置偏离引起的混色的倾向。因此，优选的是，像素电极和滤色器形成在同一基板上。由此，能够抑制因在第1基板SU1和第2基板SU2之间产生的贴合误差引起的显示特性降低的程度。

图14是假想了像素宽度比图13的例更小的高精细的像素的图。该情况下，穿过遮光层BMa之间的光中的穿过滤色器CFB的光的比例相对变大，因此混色的程度恶化。

图15是表示与本实施方式相同地将像素电极和滤色器设置在相同的基板上的COA方式的显示面板的截面的图。即，第1基板SU1a设有像素电极PERa、PEGa、PEBa和滤色器CFRa、CFGa、CFBa。

一般来说，不同的基板的对位精度为例如2.5μm左右较大，与此相对，形成在同一基板上的2个层的对位精度为例如1.0μm左右极小。从而，在图15的例中，即使是第1基板SU1a和第2基板SU2a偏离而被贴合的情况，也几乎不发生像素电极PERa、PEGa、PEBa与滤色器CFRa、CFGa、CFBa的位置偏离。此外，在图13以及图14的例中，在像素电极PERa、PEGa、PEBa与滤色器CFRa、CFGa、CFBa之间夹着液晶层LQa，但是在图15的例中没有夹着液晶层LQa，因此即使在这些像素电极和滤色器发生了位置偏离，也难以发生图13以及图14中以虚线箭头表示那样的光的不匹配。这些效果在本实施方式的构成中都能得到。

此外，采用了COA方式的本实施方式中的显示面板PNL即使在开口率的方面也是有利的。即，通过采用COA方式，如上述那样混色难以产生，因此能够将在第2基板SU2配置的遮光层BM的面积抑制得小。此外，通过如上述那样在源极布线S的表面形成防反射膜、或使着色后的滤色器的端部彼此重合，从而变得不需要设置与源极布线S重叠的遮光层。通过开口率的提高，能够使液晶显示装置DSP的亮度也提高。此外，能够减少在明亮的环境下使用了液晶显示装置DSP时的反差(contrast)比降低。

进而，如上述那样，在图3等所示的像素构成中，能够不使分辨率掉落地提高开口率。

这样，根据本实施方式，能够得到防止混色且使开口率提高的高精细的液晶显示装置DSP以及在该液晶显示装置DSP中使用的滤色器基板。

一般来说，滤色器由于其层厚为例如1.5μm左右较厚且具有光吸收性，因此加工性差。从而，在滤色器层CFL所包含的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW设置与连接孔CHA1～CHA6对应的孔的情况下，难以以较小的直径形成它们。进而，在滤色器由负性抗蚀剂构成的情况下，曝光部将在光刻工序中成为与连接孔对应的孔部的部分包围，若光从某一方向蔓延(日语：回り込む)到成为孔部的部分，则在该部分中也可能产生重叠反应。该情况下，在蚀刻后所形成的连接孔中产生残渣，有可能妨害通过该连接孔的电连接。

与此相对地，本实施方式中，在滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW不设置与连接孔CHA1～CHA6对应的孔，因此由这些滤色器的加工性造成的影响较少。

第3绝缘层IL3是透明的有机膜，由于该第3绝缘层IL3的成为源的正性抗蚀剂包含有溶剂，因此在刚刚涂敷后具有某种程度的流动性。因此，对于第3绝缘层IL3而言，在滤色器存在于正下方的位置处变厚，在滤色器不存在于正下方的位置处变薄。但是，有时不能充分地发挥这样的平坦化作用，在正下方没有滤色器的部分处产生凹部。在这样的凹部的附近，有可能连接电极CAL与形成在第3绝缘层IL3的液晶层LQ侧的面上的共用电极CE之间的距离减少而寄生电容增大。这一点，在本实施方式中如图9所示那样在滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW设置凹陷部HG1、HG2、HR1、HR2、HB、HW，在这些凹陷部的位置形成有连接孔CHA1～CHA6。从而，上述凹部的面积变小，能够防止寄生电容的增大。

此外，连接孔CHA1形成在栅极布线G1侧并且连接孔CHA2形成在栅极布线G2侧，因此能够在区域A1中较大地确保像素电极PEG1、PER1的配置空间。同样地，连接孔CHA4形成在栅极布线G2侧并且连接孔CHA5形成在栅极布线G3侧，因此能够在区域A3中较大地确保像素电极PEG2、PER2的配置空间。由此，能够使遮光层BM的宽度变窄，提高开口率。

(第2实施方式)

说明第2实施方式。对与第1实施方式相同的构成以及作用省略说明。

图16是表示能够在涉及本实施方式的液晶显示装置DSP的像素PX1，PX2中应用的构造的一例的俯视图。在该图中，与图8同样地表示出与像素PX1的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW以及像素PX2的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2对应的构成。

在本实施方式中，滤色器CFG1与栅极布线G1不重叠，滤色器CFR1与栅极布线G2不重叠，滤色器CFG2与栅极布线G2不重叠，滤色器CFR2与栅极布线G3不重叠，滤色器CFB与栅极布线G2不重叠，滤色器CFW与栅极布线G3不重叠。

图17是表示图16中的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW以及连接孔CHA1～CHA6的图。滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW不具有图9所示的凹陷部HG1、HG2、HR1、HR2、HB、HW，是与单纯的平行四边形近似的形状。此外，连接孔CHA1～CHA6的位置与第1实施方式相同。

这种形状的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW与具有凹陷部HG1、HG2、HR1、HR2、HB、HW的情况相比，能够容易地形成。

(第3实施方式)

说明第3实施方式。关于与第1以及第2实施方式相同的构成以及作用，省略说明。

图18是表示能够在涉及本实施方式的液晶显示装置DSP的像素PX1、PX2中应用的构造的一例的俯视图。在该图中，与图5同样地表示出与像素PX1的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW以及像素PX2的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2对应的构成。以下，主要说明与图5所示的构造的不同点。

在图18的例中，在像素PX1、PX2的任一个中，连接孔CHA1都夹着栅极布线G1形成在区域A1的相反侧且形成在源极布线S2侧(源极布线S2的附近)，连接孔CHA4都夹着栅极布线G2形成在区域A3的相反侧(即区域A1)且形成在源极布线S2侧(源极布线S2的附近)。此外，与连接孔CHA1、CHA4对应的连接电极CAL也形成在与连接孔CHA1、CHA4相同的位置。

进而，在图18的例中，在像素PX1、PX2的任一个中，连接孔CHB1都不形成在栅极布线G1、G2之间而夹着栅极布线G1形成在与栅极布线G1、G2之间相反侧的位置，连接孔CHB4不形成在栅极布线G2、G3之间而夹着栅极布线G2形成在与栅极布线G2、G3之间相反侧的位置(即栅极布线G1、G2之间)。开关元件SWG1的半导体层SC在连接孔CHA1与连接孔CHB1之间延伸，与栅极布线G1交叉2次。开关元件SWG2的半导体层SC在连接孔CHA4与连接孔CHB4之间延伸，与栅极布线G2交叉2次。

像素电极PEG1具有与栅极布线G1交叉而朝向连接孔CHA1延伸的突出部PJ1。像素电极PER1具有避开连接孔CHA4配置并且朝向连接孔CHA2延伸的突出部PJ2。像素电极PEG2具有与栅极布线G2交叉而朝向连接孔CHA4延伸的突出部PJ3。像素电极PER2具有避开连接孔CHA5配置并且朝向连接孔CHA5延伸的突出部PJ4。

在这样改变了连接孔CHA1、CHA4的位置的本实施方式中，像素PX1的连接孔CHA2、CHA3、CHA4以及像素PX2的连接孔CHA2、CHA4沿着第2方向D2以直线状排列。像素PX1、PX2以外的像素也是相同的构成。从而，在相邻的2根栅极布线G之间，各副像素的连接孔CHA在一个栅极布线G的附近沿着第2方向D2实质上以直线状排列。

另外，像素PX1的连接孔CHA2、CHA3、CHA4以及像素PX2的连接孔CHA2、CHA4等可以不必以完全的直线状排列，只要实质上以直线状排列即可。这里，作为“实质上以直线状排列”的一例，包括如下形态，即：连接孔彼此的重心在连接孔的排列方向(用图18来说为第2方向D2)上偏离，但连接孔彼此重叠。即，包括像素PX1的连接孔CHA2、CHA3、CHA4以及像素PX2的连接孔CHA2、CHA4等在第1方向D1上的位置稍微偏离的情况等。连接孔的部分是不对图像起作用的部分，因此优选的是，用遮光层BM、滤色器的重叠部等覆盖，但根据本实施方式的连接孔的配置，能够将应覆盖的区域变窄。

在图18的例中，在区域A1、A3中连接电极CAL在第2方向D2上排列。因此，对源极布线S1～S6的形状下工夫，以便能够排列2个连接电极CAL。

即，关于源极布线S1、S4，使在与栅极布线G2相交的位置附近沿第1方向D1以直线状延伸的第1部分的长度比在与栅极布线G1、G3相交的位置附近沿第1方向D1以直线状延伸的第2部分的长度更长。相反，关于以2根并走的源极布线S2、S3以及源极布线S5、S6，使在与栅极布线G2相交的位置附近沿第1方向D1以直线状延伸的第1部分的长度比在与栅极布线G1、G3相交的位置附近沿第1方向D1以直线状延伸的第2部分的长度更短。

根据这样的源极布线S1～S6的形状，在第2方向D2上排列的隔着2个连接电极CAL而相邻的源极布线S的间隔在栅极布线G1～G3的附近处变大。从而，能够确保将连接电极CAL在第2方向D2上排列2个而配置的空间。这里，为了表示源极布线S的间隔的具体例，着眼于栅极布线G2和源极布线S3～S5。在俯视中，从栅极布线G2与源极布线S3的交点起到栅极布线G2与源极布线S4的交点为止的距离是第1距离。在俯视中，从栅极布线G2与源极布线S4的交点起到栅极布线G2与源极布线S5的交点为止的距离是第2距离。在图18中，第2距离比第1距离大。

这样的源极布线S1～S6的情况下，如区域A2、A4的像素电极PEB、PEW那样，可以使从一个源极布线的端部附近起向另一个源极布线的端部附近延伸的多个伸出部(若是梳齿电极则为相当于梳(日语：櫛)的部分)的长度不同。由此，能够形成与源极布线的形状相符的良好的像素电极。

图19是示意地表示在图18所示的像素PX1、PX2配置的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW的形状的一例的俯视图。在该图的例中，像素PX1的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW以及像素PX2的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2在第2方向D2上的端部具有沿着源极布线S1～S6的形状。

图20是表示图19中的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW以及连接孔CHA1～CHA6的图。该图所示的滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW都与图17所示者相同，是不具有凹陷部HG1、HG2、HR1、HR2、HB、HW的单纯的形状，因此加工容易。

该情况下，可以在区域A1中使连接孔集中的栅极布线G2侧的滤色器CF(图19中为滤色器CFR1)比栅极布线G1侧的滤色器CF(图19中为滤色器CFG1)小。也可以在区域A3中将栅极布线G3侧的滤色器减小。此时，考虑色的亮度以及人类的网膜灵敏度，增大的滤色器优选绿色，减小的滤色器优选红色。

在像素PX1的滤色器层CFL中，在滤色器CFR1、CFB与滤色器CFG2、CFW之间形成沿第2方向D2以直线状延伸的空间SP1，在该空间SP1排列着连接孔CHA2、CHA3、CHA4。空间SP1与像素PX2进而配置在更前的像素PX相连。

另外，在滤色器CFG1侧，在像素PX1、PX2与在第1方向D1上相邻的像素之间形成空间SP2，该空间中配置有像素PX1、PX2的连接孔CHA1。在空间SP2中还配置有该相邻的像素的连接孔(例如连接孔CHA5、CHA6)。

此外，在滤色器CFR2侧，在像素PX1、PX2与在第1方向D1上相邻的像素之间形成空间SP3，在该空间配置有像素PX1、PX2的连接孔CHA5、CHA6。空间SP2中还配置有该相邻的像素的连接孔(例如连接孔CHA1)。

图21是表示遮光层BM与栅极布线G(G1～G3)、源极布线S(S1～S6)、连接孔CHA1～CHA6以及连接电极CAL等的位置关系的俯视图。如该图所示，通过将连接孔CHA1～CHA6以及连接电极CAL以直线状配置，能够将与各栅极布线G1～G3重叠的遮光层BM在第1方向D1上的宽度变窄。从而，能够提高开口率。此时，在俯视中，若在连接孔的排列方向(用图21来说为第2方向D2)上间隔件SOA与相邻的连接孔彼此重叠，则能够更小地形成遮光层BM。

特别是有间隔件SOA的情况下，必须使遮光层BM形成得大，导致各像素的面积降低，但是若是本实施方式的连接孔的配置则能够防止遮光膜BM过度地变大。

此外，通过将连接孔CHA1～CHA6以直线状配置，滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW成为单纯的形状，且能够将这些滤色器配置直到连接孔CHA1～CHA6的近处。由此，能够使连接孔CHA1～CHA6附近的第3绝缘层IL3的厚度增大，能够将共用电极CE与连接电极CAL之间的寄生电容减小。

(第4实施方式)

说明第4实施方式。对于与第1～第3实施方式相同的构成以及作用省略说明。

在第1～第3实施方式中，公开了如图6以及图7所示像素电极PE位于比共用电极CE靠液晶层LQ侧的构造。该情况下，连接孔CHA1～CHA6需要以贯通第4绝缘层IL4以及共用电极CE的方式设置。因此，连接孔CHA1～CHA6的构造变复杂，且连接孔CHA1～CHA6成为大面积。

此外，在像素电极PEG1、PEG2、PER1、PER2如在第3实施方式中公开的那样具有突出部PJ1～PJ4的情况下，有时在液晶层LQ产生取向紊乱。图22是用于说明该取向紊乱的图，示出了具有突出部PJ2的像素电极PER1和具有突出部PJ3的PEG2。通过突出部PJ2、PJ3，像素电极PER1、PEG2之间成为交织后(日语：入り组んだ)的形状。在像素电极PER1、PEG2的电位相互不同的情况下，在它们之间产生电场。在图22中，将该电场中的电力线的方向用实线箭头表示，并且将液晶层LQ所包含的液晶分子LM示意地表示。该液晶分子LM例如在长度方向上被初始取向。

像素电极PER1、PEG2之间的电力线中存在与液晶分子LM的初始取向方向不平行者，因此在像素电极PER1、PEG2的边界附近可能发生取向紊乱。特别是，在像素电极PER1、PEG2的电位差较大的情况下，取向紊乱也变大。像素电极PER1、PEG2的边界附近是被遮光层BM覆盖的区域，但是若取向紊乱的程度大则有时影响会波及到与遮光层BM非对置的区域。此时，图像的显示紊乱并且成为存续期间短的残像而能被观察到。

本实施方式中公开用于解决上述的构造。图23是表示能够在涉及本实施方式的液晶显示装置DSP的像素PX1、PX2中应用的构造的一例的俯视图。在该图中，与图18同样地示出了与像素PX1的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW以及像素PX2的副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2对应的构成。以下，主要说明与图18所示的构造的不同点。

图23是共用电极CE与像素电极PEG相比更接近液晶层的所谓的共顶(commontop)的实施方式。本实施方式中，与图18不同，像素电极PEG1、PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW不具有缝隙SL1。另一方面，共用电极CE在区域A1～A4分别具有2根缝隙SL2。但是，共用电极CE也可以在区域A1～A4分别只具有一根缝隙SL2，也可以具有3根以上。缝隙SL2作为整体在相对于第1方向D1以及第2方向D2分别倾斜的方向上延伸。

共用电极CE与栅极布线G1～G3、源极布线S1～S6、各半导体层SC、各连接电极CAL、连接孔CHA1～CHA6、连接孔CHB1～CHB6以及突出部PJ1～PJ4等重叠。

区域A1的缝隙SL2与像素电极PEG1、PER1重叠，区域A2的缝隙SL2与像素电极PEB重叠，区域A3的缝隙SL2与像素电极PEG2、PER2重叠，区域A4的缝隙SL2与像素电极PEW重叠。

图24是示意地表示沿着图23中的24A－24B线的显示面板PNL的截面的图。在本实施方式中，在第3绝缘层IL3的液晶层LQ侧的面形成有像素电极PE(PEG1)，像素电极PE以及第3绝缘层IL3的一部分被第4绝缘层IL4覆盖，在第4绝缘层IL4的液晶层LQ侧的面形成有共用电极CE，共用电极CE以及第4绝缘层IL4的一部分被第1取向膜AL1覆盖。即使是这样的构造，若在像素电极PE以及共用电极CE之间施加电压，则产生包含与基板主面平行的成分在内的边缘场EF。通过该边缘场EF，液晶层LQ的液晶分子在与基板主面平行的面内旋转。

图24中着眼于副像素PXG1而示出了显示面板PNL的截面构造，但关于其他的副像素PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW中的像素电极PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW等，也具有与副像素PXG1相同的构造以及作用。

图25是示意地表示沿着图23中的25A－25B线的显示面板PNL的截面的图。在本实施方式中像素电极PE(PER1)位于比第4绝缘层IL4以及共用电极CE靠连接电极CAL侧，因此连接孔CHA2不贯通第4绝缘层IL4以及共用电极CE。

图25中着眼于副像素PXR1而示出了显示面板PNL的截面构造，但关于其他的副像素PXG1、PXG2、PXR2、PXB、PXW中的像素电极PEG1、PEG2、PER2、PEB、PEW、开关元件SWG1、SWG2、SWR2、SWB、SWW、连接孔CHA1、CHA3～CHA6以及连接孔CHB1、CHA3～CHB6等，也具有与副像素PXR1相同的构造。

在本实施方式中能够减少夹在像素电极PEG1、PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW与各副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW的连接电极CAL之间的层数，因此连接孔CHA1～CHA6的构造变得简单，并且能够将连接孔CHA1～CHA6的尺寸减小而提高像素PX的开口率。

此外，如像素电极PER1、PEG2那样夹着栅极布线G而沿第1方向D1排列的像素电极之间的空间与共用电极CE重叠，因此在该空间中产生在像素电极间的电场被共用电极CE遮蔽。从而，能够将使用图22说明的取向紊乱减小。

(变形例)

各实施方式所公开的构成能够以各种形态变形。

例如，在各实施方式中，说明了连接孔CHA1～CHA6分别包含在第3绝缘层IL3形成的个别的贯通孔的情况。但是，也可以由连接孔CHA1～CHA6的至少2个来共用在第3绝缘层IL3形成的1个贯通孔。

图26是用于说明将该变形例应用到第3实施方式的构造的情况的图，俯视地示出了滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW。滤色器CFG1、CFG2、CFR1、CFR2、CFB、CFW以与图20的情况相同的位置关系配置。

在图26的例中，第3绝缘层IL3在与空间SP1重叠的位置具有槽部GR1，在与空间SP2重叠的位置具有槽部GR2，在与空间SP3重叠的位置具有槽部GR3。槽部GR1～GR3都是沿着第2方向D2以直线状延伸的贯通孔。

在图26中，以虚线圆表示副像素PXG1的像素电极PEG1与连接电极CAL相接触的位置PS1、副像素PXR1的像素电极PER1与连接电极CAL相接触的位置PS2、副像素PXB的像素电极PEB与连接电极CAL相接触的位置PS3、副像素PXG2的像素电极PEG2与连接电极CAL相接触的位置PS4、副像素PXR2的像素电极PER2与连接电极CAL相接触的位置PS5、副像素PXW的像素电极PEW与连接电极CAL相接触的位置PS6。

位置PS1位于槽部GR2，位置PS2、PS3、PS4位于槽部GR1，位置PS5、PS6位于槽部GR3。这些位置PS1～PS6对应于为了例如像素电极PEG1、PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW与各副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW的连接电极CAL的连接而设置在第4绝缘层IL4的贯通孔的位置。

这样，像素电极PEG1、PEG2、PER1、PER2、PEB、PEW经由贯通孔GR1～GR3而与各副像素PXG1、PXG2、PXR1、PXR2、PXB、PXW的连接电极CAL分别电连接。即，在图26的例中，槽部GR2作为连接孔CHA1的一部分而发挥作为在第3绝缘层IL3形成的第1开口部的作用，槽部GR1作为连接孔CHA2、CHA3、CHA4的一部分而发挥作为在第3绝缘层IL3形成的第2开口部、第3开口部、第4开口部的作用，槽部GR3作为连接孔CHA5、CHA6的一部分而发挥作为在第3绝缘层IL3形成的第5开口部、第6开口部的作用。

从其他的观点来说，在图26的例中，沿着第2方向D2排列的各像素PX1、PX2的第1开口部相互连通，这些像素PX1、PX2的第2开口部、第3开口部以及第4开口部相互连通，这些像素PX1、PX2的第5开口部以及第6开口部相互连通。

若是这样的构造，则与在第3绝缘层IL3分别设置与各连接孔CHA1～CHA6对应的开口部的情况相比，第3绝缘层IL3的加工变容易。此外，槽部GR1～GR3那样的直线状的开口能够稳定地形成。

另外，第3绝缘层IL3的槽部如例如连接孔CHA2、CHA4那样，可以是将与近距离的多个连接孔CHA对应的第3绝缘层IL3的开口部连通的大小。

说明了本发明的一些实施方式，但这些实施方式是作为例来提示的，并不意图限定发明的范围。这些新的实施方式能够以其他各种形态来实施，在不脱离发明的主旨的范围，能够进行各种省略、置换、变更。这些实施方式及其变形包含在发明的范围和主旨中，并且包含在权利要求书所记载的发明和其等价的范围中。

Claims (20)

1.一种滤色器基板，其特征在于，具备：

绝缘基板；

第1信号线以及第2信号线，在第1方向上排列，被提供第1信号；

第3信号线、第4信号线以及第5信号线，在与上述第1方向相交的第2方向上排列，被提供第2信号，分别与上述第1信号线以及上述第2信号线交叉，上述第2信号是与上述第1信号不同的信号；

第1开关元件、第2开关元件以及第3开关元件；

第1像素电极，在由上述第1信号线、上述第2信号线、上述第4信号线以及上述第5信号线包围的第1区域中形成在上述第1信号线侧；

第2像素电极，在上述第1区域中形成在上述第2信号线侧；

第3像素电极，形成在由上述第1信号线、上述第2信号线、上述第3信号线以及上述第4信号线包围的、与上述第1区域在上述第2方向上相邻的第2区域；

滤色器层，包含设置在上述绝缘基板与上述第1像素电极、上述第2像素电极及上述第3像素电极之间的滤色器；以及

绝缘层，覆盖上述滤色器层，

上述绝缘层具有将上述绝缘层贯通的第1开口部、第2开口部以及第3开口部，

上述第1像素电极经由上述第1开口部而与上述第1开关元件电连接，上述第2像素电极经由上述第2开口部而与上述第2开关元件电连接，上述第3像素电极经由上述第3开口部而与上述第3开关元件电连接，

上述第1开口部形成在上述第1信号线侧，上述第2开口部形成在上述第2信号线侧。

2.如权利要求1所述的滤色器基板，其特征在于，

上述滤色器层中包含的滤色器在俯视中与上述第1开口部、上述第2开口部以及上述第3开口部不重叠。

3.如权利要求1所述的滤色器基板，其特征在于，

上述滤色器层包含：与上述第1像素电极对置的第1色的第1滤色器、与上述第2像素电极对置的第2色的第2滤色器、和与上述第3像素电极对置的第3色的第3滤色器，

上述第1滤色器、上述第2滤色器以及上述第3滤色器在俯视中具有外形凹陷的凹陷部，

上述第1开口部配置在上述第1滤色器的上述凹陷部，上述第2开口部配置在上述第2滤色器的上述凹陷部，上述第3开口部配置在上述第3滤色器的上述凹陷部。

4.如权利要求1所述的滤色器基板，其特征在于，

还具备：

第6信号线，与上述第1信号线以及上述第2信号线一起在上述第1方向排列，并且与上述第3信号线、上述第4信号线以及上述第5信号线交叉；

第4像素电极，在由上述第2信号线、上述第4信号线、上述第5信号线以及上述第6信号线包围并且与上述第1区域在上述第1方向上相邻的第3区域中，形成在上述第2信号线侧；

第5像素电极，在上述第3区域中形成在上述第6信号线侧；以及

第4开关元件以及第5开关元件，

上述绝缘层还具有将上述绝缘层贯通的第4开口部以及第5开口部，

上述第4像素电极经由上述第4开口部而与上述第4开关元件电连接，上述第5像素电极经由上述第5开口部而与上述第5开关元件电连接，

上述第4开口部形成在上述第2信号线侧。

5.如权利要求4所述的滤色器基板，其特征在于，

上述第2开口部以及上述第4开口部形成在上述第1区域。

6.如权利要求4所述的滤色器基板，其特征在于，

上述第2开口部、上述第3开口部以及上述第4开口部实质上以直线状排列。

7.如权利要求6所述的滤色器基板，其特征在于，

上述第3开口部形成在上述第2区域，

在俯视中，从上述第2信号线与上述第3信号线的交点起到上述第2信号线与上述第4信号线的交点为止的距离为第1距离，从上述第2信号线与上述第4信号线的交点起到上述第2信号线与上述第5信号线的交点为止的距离为第2距离，

上述第2距离比上述第1距离大。

8.如权利要求6所述的滤色器基板，其特征在于，

上述第2开口部、上述第3开口部以及上述第4开口部相互连通。

9.如权利要求6所述的滤色器基板，其特征在于，

上述第3开口部形成在上述第2信号线侧。

10.如权利要求1所述的滤色器基板，其特征在于，

上述第3像素电极与上述第1像素电极以及上述第2像素电极在上述第2方向上相邻。

11.如权利要求8所述的滤色器基板，其特征在于，

上述滤色器层包含：与上述第1像素电极对置的第1色的第1滤色器、与上述第2像素电极对置的第2色的第2滤色器、与上述第3像素电极对置的第3色的第3滤色器、与上述第4像素电极对置的第4色的第4滤色器、以及与上述第5像素电极对置的第5色的第5滤色器，

上述第1色以及上述第4色是绿色，上述第2色以及上述第5色是红色，上述第3色是蓝色，

上述第1滤色器和上述第4滤色器的面积比上述第2滤色器和上述第5滤色器的面积大。

12.如权利要求1所述的滤色器基板，其特征在于，

还具备：

第2绝缘层，将上述第1像素电极、上述第2像素电极以及上述第3像素电极覆盖；以及

共用电极，夹着上述第2绝缘层而与上述第1像素电极、上述第2像素电极以及上述第3像素电极对置。

13.一种显示装置，具备第1基板和与上述第1基板对置的第2基板，其特征在于，

上述第1基板具备：

绝缘基板；

第1信号线以及第2信号线，在第1方向上排列，被提供第1信号；

第3信号线、第4信号线以及第5信号线，在与上述第1方向相交的第2方向上排列，被提供与上述第1信号不同的第2信号，分别与上述第1信号线以及上述第2信号线交叉；

第1开关元件、第2开关元件以及第3开关元件；

第1像素电极，在由上述第1信号线、上述第2信号线、上述第4信号线以及上述第5信号线包围的第1区域中形成在上述第1信号线侧；

第2像素电极，在上述第1区域中形成在上述第2信号线侧；

第3像素电极，形成在由上述第1信号线、上述第2信号线、上述第3信号线以及上述第4信号线包围的、与上述第1区域在上述第2方向上相邻的第2区域；

滤色器层，包含设置在上述绝缘基板与上述第1像素电极、上述第2像素电极及上述第3像素电极之间的滤色器；以及

绝缘层，覆盖上述滤色器层，

上述绝缘层具有将上述绝缘层贯通的第1开口部、第2开口部以及第3开口部，

上述第1像素电极经由上述第1开口部而与上述第1开关元件电连接，上述第2像素电极经由上述第2开口部而与上述第2开关元件电连接，上述第3像素电极经由上述第3开口部而与上述第3开关元件电连接，

上述第1开口部形成在上述第1信号线侧，上述第2开口部形成在上述第2信号线侧。

14.如权利要求13所述的显示装置，其特征在于，

上述滤色器层中包含的滤色器在俯视中与上述第1开口部、上述第2开口部以及上述第3开口部不重叠。

15.如权利要求13所述的显示装置，其特征在于，

还具备：

第6信号线，与上述第1信号线以及上述第2信号线一起在上述第1方向上排列，与上述第3信号线、上述第4信号线以及上述第5信号线交叉；以及

第4像素电极，在由上述第2信号线、上述第4信号线、上述第5信号线以及上述第6信号线包围并且与上述第1区域在上述第1方向上相邻的第3区域中，形成在上述第2信号线侧；

第5像素电极，在上述第3区域中形成在上述第6信号线侧；以及

第4开关元件以及第5开关元件，

上述绝缘层具有将上述绝缘层贯通的第4开口部以及第5开口部，

上述第4像素电极经由上述第4开口部而与上述第4开关元件电连接，上述第5像素电极经由上述第5开口部而与上述第5开关元件电连接，

上述第4开口部形成在上述第2信号线侧。

16.如权利要求15所述的显示装置，其特征在于，

还具备：

间隔件，设置在上述第1基板以及上述第2基板之间与上述第2信号线重叠的位置；以及

遮光层，与上述间隔件、上述第2开口部、上述第3开口部以及上述第4开口部重叠。

17.如权利要求15所述的显示装置，其特征在于，

上述第2开口部以及上述第4开口部形成在上述第1区域。

18.如权利要求15所述的显示装置，其特征在于，

上述第2开口部、上述第3开口部以及上述第4开口部实质上以直线状排列。

19.如权利要求18所述的显示装置，其特征在于，

上述第2开口部、上述第3开口部以及上述第4开口部相互连通。

20.如权利要求18所述的显示装置，其特征在于，

上述第3开口部形成在上述第2信号线侧。