CN112255833B - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法。一种显示面板其包括彩膜基板和TFT基板，所述TFT基板设置在所述显示面板的显示侧，所述彩膜基板设置在所述TFT基板背离所述显示侧的一侧，所述TFT基板包括沿远离所述显示侧依次层叠设置的基板、第一电极层、栅极层、第一绝缘层、源漏极层、第二绝缘层、第二电极层、液晶层以及封装层；还包括防反膜，所述防反膜设置在所述基板朝向所述第一电极层的一侧；所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影，以吸收穿过所述基板的光线；通过在显示面板中设置防反膜，进而利用防反膜至少将栅极层和源漏极层遮挡起来，吸收透过所述基板的光线，避免出现反光，避免影响显示效果。

Description

显示面板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
近年来，窄边框液晶显示设备变得越来越常见，也越来越流行，窄边框液晶显示设备一般是指液晶显示屏边缘与机身边框间距较窄的设备；窄边框显示设备中是TFT基板在显示屏幕的外侧，彩膜基板在显示屏幕的内侧，这就导致了栅极金属会直接被显露出来，那么屏幕外的光线照射到屏幕时，金属栅极会发生发光，从而影响显示效果，进而现有设计中会在对应栅极金属的位置上设置防反光层，降低反射率，使视觉效果更佳。
但是，在TFT基板中不仅仅有栅极金属层会发生反光，源漏极金属层也会发生反光，仍然会由于反光造成画面存在色差并影响显示效果。
发明内容
本申请实施例提供一种显示面板及其制备方法，以解决现有窄边框液晶显示设备中TFT基板朝向显示侧，其内的栅极金属层和源漏极金属层会对外界光线发生反射，会由于反光问题造成显示画面存在色差影响显示效果的问题。
为解决上述技术问题，本申请实施例提供如下技术方案：
本申请第一方面提供一种显示面板，其包括彩膜基板和TFT基板，所述TFT基板设置在所述显示面板的显示侧，所述彩膜基板设置在所述TFT基板背离所述显示侧的一侧，所述TFT基板包括沿远离所述显示侧依次层叠设置的基板、第一电极层、栅极层、第一绝缘层、源漏极层、第二绝缘层、第二电极层、液晶层以及封装层；
还包括防反膜，所述防反膜设置在所述基板朝向所述第一电极层的一侧；
所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影，以吸收穿过所述基板的光线。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的显示面板，其中所述防反膜包括第一防反膜和第二防反膜；
所述第一防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述源漏极层朝向所述基板的正投影，所述第二防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层朝向所述基板的正投影。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的显示面板，还包括第三绝缘层；
所述第三绝缘层设置在所述防反膜背离所述基板的一侧。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的显示面板，其中所述第三绝缘层设置在所述栅极层和所述第二防反膜之间。
在本申请第一方面的一些变更实施方式中，前述的显示面板，其中所述第三绝缘层设置在所述源漏极层和所述第一防反膜之间。
本申请第二方面提供一种显示面板的制备方法，其包括如下步骤：
于基板上制备防反膜和第一电极层，并于所述防反膜背离所述基板的一侧制备栅极层、第一绝缘层以及源漏极层，以使所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影；
于所述源漏极层背离所述基板的一侧依次制备第二绝缘层、第二电极层、液晶层以及封装层，以形成TFT基板；
制备彩膜基板；
对盒所述彩膜基板与所述TFT基板。
在本申请第二方面的一些变更实施方式中，前述显示面板的制备方法，其中所述于基板上制备防反膜和第一电极层，并于所述防反膜背离所述基板的一侧制备栅极层、第一绝缘层以及源漏极层，以使所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影的步骤，具体为：
于所述基板上依次层叠成膜防反膜材料、栅极层材料以及光刻胶；
由所述光刻胶向所述基板方向进行曝光；
图案化所述光刻胶、所述栅极层材料以及所述防反膜材料，以使所述栅极层材料形成所述栅极层，所述防反膜材料形成至少对应所述栅极层的第一防反膜和至少对应所述源漏极层的第二防反膜。
在本申请第二方面的一些变更实施方式中，前述显示面板的制备方法，其中由所述光刻胶向所述基板方向进行曝光的步骤，其中：
曝光用掩膜板包括全透光区域、半透光区域以及不透光区域；
其中，所述不透光区域与所述栅极层相对应；所述半透光区域与所述源漏极层相对应；所述全透光区域与剩余位置相对应。
在本申请第二方面的一些变更实施方式中，前述显示面板的制备方法，其中图案化所述光刻胶、所述栅极层材料以及所述防反膜材料，以使所述栅极层材料形成所述栅极层，所述防反膜材料形成至少对应所述栅极层的第一防反膜和至少对应所述源漏极层的第二防反膜的步骤，具体为：
刻蚀掉所述全透光区域对应剩余位置上的所述防反膜材料、所述栅极层材料以及所述光刻胶；
灰化所述半透光区域和所述不透光区域对应位置上的所述光刻胶；
刻蚀掉所述半透光区域对应位置上的所述栅极层材料；
剥离所述不透光区域对应位置上的所述光刻胶。
在本申请第二方面的一些变更实施方式中，前述显示面板的制备方法，其中于所述基板上依次层叠成膜防反膜材料、栅极层材料以及光刻胶的步骤中，还包括：
于所述防反膜材料和所述栅极层材料之间设置第三绝缘层材料。
在本申请第二方面的一些变更实施方式中，前述显示面板的制备方法，其中刻蚀掉所述半透光区域对应位置上的所述栅极层材料的步骤，之后还包括
刻蚀掉所述半透光区域对应位置上的所述第三绝缘层材料。
相较于现有技术，本申请第一方面提供的显示面板，通过在显示面板中设置防反膜，所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影，进而利用防反膜至少将栅极层和源漏极层遮挡起来，吸收透过所述基板的光线，实现防反膜吸收照射在栅极层和源漏极层上的光线，避免出现反光；从而有效解决现有窄边框液晶显示设备中TFT基板朝向显示侧，其内的栅极金属层和源漏极金属层会对外界光线发生反射，会由于反光问题造成显示画面存在色差影响显示效果的问题。
附图说明
通过参考附图阅读下文的详细描述，本申请示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本申请的若干实施方式，相同或对应的标号表示相同或对应的部分，其中：
图1示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板中TFT基板的部分结构制备过程示意图；
图3示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；
图4示意性地示出了本申请实施例提供的一种显示面板的制备方法的详细流程示意图；
附图标号说明：彩膜基板1、TFT基板2、基板21、第一电极层22、栅极层23、栅极层材料231、第一绝缘层24、源漏极层25、第二绝缘层26、第二电极层27、液晶层28、封装层29、防反膜3、第一防反膜31、第二防反膜32、防反膜材料33、第三绝缘层4、第三绝缘层材料41、光刻胶5、掩膜板6、全透光区域61、半透光区域62、不透光区域63。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域技术人员所理解的通常意义。
本申请实施例的技术方案为解决上述技术问题，总体思路如下：
实施例1
参考附图1和附图2，本申请实施例提供的显示面板，其包括彩膜基板1和TFT基板2，所述TFT基板2设置在所述显示面板的显示侧，所述彩膜基板1设置在所述TFT基板2背离所述显示侧的一侧，所述TFT基板2包括沿远离所述显示侧依次层叠设置的基板21、第一电极层22、栅极层23、第一绝缘层24、源漏极层25、第二绝缘层26、第二电极层27、液晶层28以及封装层29；
还包括防反膜3，所述防反膜3设置在所述基板21朝向所述第一电极层22的一侧；
所述防反膜3朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述栅极层23和所述源漏极层25朝向所述基板21的正投影，以吸收穿过所述基板21的光线。
具体的，为了解决现有窄边框液晶显示设备中TFT基板朝向显示侧，其内的栅极金属层和源漏极金属层会对外界光线发生反射，会由于反光问题造成显示画面存在色差影响显示效果的问题，本实施例提供的显示面板通过在栅极层23和源漏极层25朝向所述基板21的方向上设置所述防反膜3，使得防反膜3朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述栅极层23和所述源漏极层25朝向所述基板21的正投影，进而当显示面板外的光线透过所述基板照射在对应所述栅极层23和所述源漏极层25的所述防反膜3上，所述防反膜3能够将光谱吸收，防止光线照射在所述栅极层23和所述源漏极层25上产生反射，影响显示效果。
其中，所述显示面板可以为LCD显示面板，所述彩膜基板1和所述TFT基板2对盒而成，且所述TFT基板2设置在所述显示面板的显示侧，所述彩膜基板1设置在所述TFT基板2背离所述显示侧的一侧，也就是说，用户在观看画面是，所述TFT基板2相对所述彩膜基板1更加的靠近人眼；上述内容本领域技术人员可以轻易理解的，因而在此不做过多赘述。
其中，所述TFT基板2包括沿远离所述显示侧依次层叠设置的基板21、第一电极层22、栅极层23、第一绝缘层24、源漏极层25、第二绝缘层26、第二电极层27、液晶层28以及封装层29是本领域技术人员可以轻易理解接的，其中，所述基板21为透明玻璃基板，在实际安装中所述基板21朝向所述显示面板的最外侧，最靠近人眼的位置；所述第一电极层22和所述第二电极层27分别为阳极层和阴极层，所述第一电极层22和所述第二电极层27均为透明半导体电极层，例如：ITO材质(氧化铟锡半导体)；所述源漏极层25和所述第二电极层27电连接，以接受与所述第二电极层27相同的电压；所述第一绝缘层24用于隔绝所述栅极层23和所述源漏极层25，所述第二绝缘层26用于隔绝所述源漏极层25和所述第二电极层27，也用于保护包括所述栅极层23和所述源漏极层25的薄膜晶体光开关。
其中，所述防反膜3为不透光的黑金属，其能够吸收透过所述基板21的光线光谱，例如：氧化钼；所述防反膜3设置在所述基板21背离所述显示面板显示侧的一侧，进而使得在显示面板不工作时，所述栅极层23和所述源漏极层25的位置上行与其他位置相同均为黑色背景，不会对用户造成其他视觉影响；所述防反膜3朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述栅极层23和所述源漏极层25朝向所述基板21的正投影，也就是说，所述防反膜3在垂直所述基板21方向上至少要对应所述栅极层23和所述源漏极层25，才能够防止透过所述基板21的光照射到所述栅极层23和所述源漏极层25上，可以理解的是，为了使所述防反膜3的防反射效果更好，则可以将其适当做大，向所述栅极层23和所述源漏极层25的外周延出一部分，进而防止所述栅极层23和所述源漏极层25的边缘发生反光。
根据上述所列，本申请第一方面提供的显示面板，通过在显示面板中设置防反膜3，所述防反膜3设置在所述基板21背离所述显示侧的一侧，所述防反膜3朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述栅极层23和所述源漏极层25朝向所述基板21的正投影，进而利用防反膜3至少将栅极层23和源漏极层25遮挡起来，吸收透过所述基板21的光线，实现防反膜3吸收照射在栅极层23和源漏极层25上的光线，避免出现反光；从而有效解决现有窄边框液晶显示设备中TFT基板朝向显示侧，其内的栅极金属层和源漏极金属层会对外界光线发生反射，会由于反光问题造成显示画面存在色差影响显示效果的问题。
本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，具体地理解为：可以同时包含有A与B，可以单独存在A，也可以单独存在B，能够具备上述三种任一种情况。
进一步地，参考附图1和附图2，本申请实施例提供的一种显示面板，在具体实施中，所述防反膜3包括第一防反膜31和第二防反膜32，所述第一防反膜31和所述第二防反膜32同层设置；
所述第一防反膜31朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述源漏极层25朝向所述基板21的正投影，所述第二防反膜32朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述栅极层23朝向所述基板21的正投影。
具体的，为了实现所述防反膜3朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述栅极层23和所述源漏极层25朝向所述基板21的正投影，且不影响其他位置画面的显示，本实施例中将所述防反膜3设置为所述第一防反膜31和所述第二防反膜32；对应的，所述第一防反膜31至少设置在所述基板21上对应所述源漏极层25的位置上，所述第二防反膜32至少设置在所述基板21上对应所述栅极层23的位置上，进而利用其黑金属的材料特性，既能够吸收透过所述基板21的光线光谱，又能够使所述显示面板在不工作时保持正面的黑色背景，避免给用户形成不同的背景效果；当然可以理解的是：所述第一防反膜31可以向所述源漏极层25的边缘外延伸一些，以保证所述源漏极层25的边缘不会发生反射；所述第二防反膜32可以向所述栅极层23的边缘外延伸一些，以保证所述栅极层23的边缘不会发生反射。
进一步地，参考附图1和附图2，本申请实施例提供的一种显示面板，在具体实施中，还包括第三绝缘层4；所述第三绝缘层4设置在所述防反膜3背离所述基板21的一侧。
具体的，由于本实施例中所述防反膜3是金属材质，所述栅极层23和所述源漏极层25也是金属材质，所以当所述防反膜3对应所述栅极层23和所述源漏极层25设置时，需要在两层金属材质之间设置绝缘层以隔绝两层金属层，保证各层金属层能够发挥自身应有的作用；进而本实施例中将所述第三绝缘层4设置在所述防反膜3背离所述基板21的一侧，具体的，有以下两种方式：
第一种：所述第三绝缘层4设置在所述栅极层23和所述第二防反膜32之间；具体的，因为所述第二防反膜32设置在所述基板21和所述栅极层23之间，所以所述栅极层23和所述第二防反膜32之间必然需要设置所述第三绝缘层4，以隔绝所述栅极层23和所述第二防反膜32；该设置方式下，由于所述栅极层23和所述源漏极层25之间具有所述第一绝缘层24，所以所述源漏极层25和所述第一防反膜31之间无需额外设置所述第三绝缘层4。
第二种：在所述第三绝缘层4设置在所述栅极层23和所述第二防反膜32之间的前提下，所述源漏极层25和所述第一防反膜31之间也设置有所述第三绝缘层4，因为所述第三绝缘层4在成膜过程中是在所述防反膜3背离所述基板21的一侧整面设置的，因而为了减少一道刻蚀掉工序，则将所述源漏极层25和所述第一防反膜31之间的第三绝缘层4保留，同所述第一绝缘层24共同隔绝所述第一防反膜31和所述源漏极层25。
实施例2
进一步地，参考附图2、图3和图4，本申请实施例基于实施例的显示面板提供一种显示面板的制备方法，其包括如下步骤：
101、于基板21上制备防反膜3和第一电极层22，并于所述防反膜3背离所述基板21的一侧制备栅极层23、第一绝缘层24以及源漏极层25，以使所述防反膜3朝向所述基板21的正投影至少覆盖所述栅极层23和所述源漏极层25朝向所述基板21的正投影；
具体的，为了避免与其他结构的制备形成冲突，本实施例中，最先在所述基板21上制备所述第一电极层22，所述第一电极层22(ITO)通过成膜、曝光以及刻蚀进行制备，上述制备方式为本领域技术人员熟知的，在此不做过多赘述；
接着于所述第一电极层22背离所述基板21的一侧层叠设置所述防反膜3、所述栅极层23、所述第一绝缘层24以及所述源漏极层25，通过对所述防反膜3进行曝光以及刻蚀等工艺，使其被分成第一防反膜31和第二防反膜32，分别对所述源漏极层25和所述栅极层23进行遮挡。
102、于所述源漏极层25背离所述基板21的一侧依次制备第二绝缘层26、第二电极层27、液晶层28以及封装层29，以形成TFT基板2；
具体的，于所述源漏极层25背离所述基板21的一侧依次制备第二绝缘层26、第二电极层27、液晶层28以及封装层29则参考现有技术中的制作工艺及流程，是本领域技术人员能够轻易理解并实现的，在此不做过多赘述。
103、制备彩膜基板1；
具体的，制备与上述TFT基板1相适配的彩膜基板1，参考现有技术中的制作工艺及流程，是本领域技术人员能够轻易理解并实现的，在此不做过多赘述。
104、对盒所述彩膜基板1与所述TFT基板2；
具体的，将所述彩膜基板1和所述TFT基板2进行对盒粘接，形成完成的所述显示面板，参考现有技术中对盒的制作工艺及流程，是本领域技术人员能够轻易理解并实现的，在此不做过多赘述。
其中，参考附图4，步骤101具体包括如下步骤；
201、于所述基板21上依次层叠成膜防反膜材料33、栅极层材料231以及光刻胶5；
具体的，于所述第一电极层22背离所述基板21的一侧依次设置将所述防反膜材料33、所述栅极层材料231以及光刻胶5成膜，所述防反膜材料33通过物理磁控溅射的方式成膜，所述栅极层材料231通过沉积的方式成膜，所述光刻胶(PR)5通过涂覆的方式成膜，上述三者均为对应所述基板21整面设置。
202、由所述光刻胶(PR)5向所述基板21方向进行曝光；
具体的，参考附图2，曝光用掩膜板6包括全透光区域61、半透光区域62以及不透光区域63；
其中，所述不透光区域63与所述栅极层23相对应；所述半透光区域62与所述源漏极层25相对应，所述全透光区域61与剩余位置相对应；所述掩膜板6上的所述全透光区域61、所述半透光区域62以及所述不透光区域63均是预先设置的，可以根据实际设计需要进行调整，在此不做过多赘述；进而在进行曝光过程中，将全透光区域61对应位置的所述光刻胶(PR)5去除，将所述半透光区域62对应位置的所述光刻胶(PR)5减薄；
其中，所述掩膜板6为本实施例中较为重要的结构，其同时具有所述全透光区域61、所述半透光区域62以及所述不透光区域63，进而能够同时制备与所述栅极层23和所述源漏极层25对应的防反膜3，避免利用两张掩膜板分别制备对应所述栅极层23和所述源漏极层25对应的防反膜3，同时也能够简化制备工艺流程。
203、图案化所述光刻胶(PR)5、所述栅极层材料231以及所述防反膜材料33，以使所述栅极层材料231被分割以形成所述栅极层23，所述防反膜材料33也被分割形成至少对应所述栅极层23的第一防反膜31和至少对应所述源漏极层25的第二防反膜32；
具体的，参考附图2，刻蚀掉所述全透光区域61对应剩余位置上的所述防反膜材料33、所述栅极层材料231以及所述光刻胶(PR)5，分别为对所述全透光区域61对应位置上的栅极层材料231和所述防反膜材料33进行湿刻以去除该位置上的所述栅极层材料231和所述防反膜材料33，进而将整面设置的所述栅极层材料231和所述防反膜材料33都进行分割，所述防反膜材料33被分割成与所述半透光区域62(即所述源漏极层25)对应的第一防反膜31和与所述不透光区域63(即所述栅极层23)对应的所述第二防反膜32；
灰化所述半透光区域62和所述不透光区域63对应位置上的所述光刻胶(PR)5，进而使得所述半透光区域62上(即对应所述源漏极层25的位置上)剩余的厚度较小的所述光刻胶(PR)5被去除，所述不透光区域63上(即对应所述栅极层23的位置上)剩余的所述光刻胶(PR)5厚度被减薄；
通过湿刻法刻蚀掉所述半透光区域62对应位置上的所述栅极层材料231，进而在所述半透光区域62即所述源漏极层25对应位置上的栅极层材料231被去除，保留该位置上的所述防反膜材料33即所述第一防反膜31；
剥离所述不透光区域63对应位置上的所述光刻胶(PR)5，以为后续所述第一绝缘层24的制备做准备。
进一步地，参考附图2和附图4，步骤201中还包括于所述防反膜材料31和所述栅极层材料231之间制备第三绝缘层材料41。
具体的，由于所述栅极层23和所述第二防反膜32、所述源漏极层25和所述第一防反膜31均是金属材料，进而为了保证两金属层之间具备绝缘层，保证实现各自的功能，本实施例中在磁控溅射所述防反膜材料31后，在所述防反膜材料31背离所述基板21的一侧制备所述第三绝缘层材料41，而后在所述第三绝缘层材料41背离所述基板21的一侧依次制备所述栅极层材料23以及光刻胶(PR)5，后续曝光之后在所述全透光区域61对应的位置上需要对所述第三绝缘层材料41进行干刻，将其刻蚀掉，从而将整面的所述第三绝缘层材料41进行分割，以形成第三绝缘层4，以保证其不会影响其他显示区域。
进一步地，参考附图1，由于所述第一防反膜31和所述源漏极层25之间具有所述第一绝缘层24，因此所述第一防反膜31背离所述基板21一侧的所述第三绝缘层4可以被去除，当去除所述第一防反膜31背离所述基板21一侧的所述第三绝缘层4时，则需要在步骤203中通过湿刻法刻蚀掉所述半透光区域62对应位置上的所述栅极层材料231之后增加一步骤：
通过干刻工艺将所述半透光区域62对应位置即所述源漏极层25对应位置的所述第三绝缘层材料41刻蚀掉；
相应地，为了简化制备工艺，即不对所述第一防反膜31背离所述基板21一侧的所述第三绝缘层4做处理，得到如图1所示的结构，使所述第一防反膜31背离所述基板21一侧的所述第三绝缘层4与所述第一绝缘层24共同起到绝缘的作用。
以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：
于基板上制备防反膜和第一电极层，并于所述防反膜背离所述基板的一侧制备栅极层、第一绝缘层以及源漏极层，以使所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影；
于所述源漏极层背离所述基板的一侧依次制备第二绝缘层、第二电极层、液晶层以及封装层，以形成TFT基板；
制备彩膜基板；
对盒所述彩膜基板与所述TFT基板；
其中，所述于基板上制备防反膜和第一电极层，并于所述防反膜背离所述基板的一侧制备栅极层、第一绝缘层以及源漏极层，以使所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影的步骤，具体为：
于所述基板上依次层叠成膜防反膜材料、栅极层材料以及光刻胶；
由所述光刻胶向所述基板方向进行曝光；
图案化所述光刻胶、所述栅极层材料以及所述防反膜材料，以使所述栅极层材料形成所述栅极层，所述防反膜材料形成至少对应所述栅极层的第一防反膜和至少对应所述源漏极层的第二防反膜；
其中，由所述光刻胶向所述基板方向进行曝光的步骤：
曝光用掩膜板包括全透光区域、半透光区域以及不透光区域；
其中，所述不透光区域与所述栅极层相对应；所述半透光区域与所述源漏极层相对应；所述全透光区域与剩余位置相对应。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，图案化所述光刻胶、所述栅极层材料以及所述防反膜材料，以使所述栅极层材料形成所述栅极层，所述防反膜材料形成至少对应所述栅极层的第一防反膜和至少对应所述源漏极层的第二防反膜的步骤，具体为：
刻蚀掉所述全透光区域对应剩余位置上的所述防反膜材料、所述栅极层材料以及所述光刻胶；
灰化所述半透光区域和所述不透光区域对应位置上的所述光刻胶；
刻蚀掉所述半透光区域对应位置上的所述栅极层材料；
剥离所述不透光区域对应位置上的所述光刻胶。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，于所述基板上依次层叠成膜防反膜材料、栅极层材料以及光刻胶的步骤中，还包括：
于所述防反膜材料和所述栅极层材料之间设置第三绝缘层材料。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，刻蚀掉所述半透光区域对应位置上的所述栅极层材料的步骤，之后还包括
刻蚀掉所述半透光区域对应位置上的所述第三绝缘层材料。
5.一种基于权利要求1-4任一显示面板制备方法得到的显示面板，其包括彩膜基板和TFT基板，所述TFT基板设置在所述显示面板的显示侧，所述彩膜基板设置在所述TFT基板背离所述显示侧的一侧，所述TFT基板包括沿远离所述显示侧依次层叠设置的基板、第一电极层、栅极层、第一绝缘层、源漏极层、第二绝缘层、第二电极层、液晶层以及封装层；其特征在于：
还包括防反膜，所述防反膜设置在所述基板朝向所述第一电极层的一侧；
所述防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层和所述源漏极层朝向所述基板的正投影，以吸收穿过所述基板的光线；
其中，所述防反膜的至少部分朝向所述基板的正投影覆盖所述封装层朝向所述基板的正投影；
所述防反膜包括第一防反膜和第二防反膜，所述第一防反膜和所述第二防反膜同层设置；
所述第一防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述源漏极层朝向所述基板的正投影，所述第二防反膜朝向所述基板的正投影至少覆盖所述栅极层朝向所述基板的正投影。
6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于：
还包括第三绝缘层；
所述第三绝缘层设置在所述防反膜背离所述基板的一侧。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于：
所述第三绝缘层设置在所述栅极层和所述第二防反膜之间。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于：
所述第三绝缘层设置在所述源漏极层和所述第一防反膜之间。
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