CN105622393A - 二氢青蒿酸合成工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种二氢青蒿酸合成工艺，步骤如下：将青蒿酸溶于有机溶剂中，然后，加入水合肼和催化量的过渡金属化合物，调节反应温度至65℃～100℃，再向反应液中滴加双氧水，使青蒿酸被原位产生的二亚胺还原为二氢青蒿酸，经萃取、干燥，得到二氢青蒿酸。本发明合成反应时间短，二氢青蒿酸的收率高。
Description
技术领域
本发明属于化工合成技术领域，具体涉及一种二氢青蒿酸合成工艺。
背景技术
2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙基酮的合成工艺至少包括调温反应、萃取、干燥等过程。在目前的二氢青蒿酸合成过程方法中，工艺流程不易于实施，生成的二氢青蒿酸成品纯度低，反应物单程转化率低，制作工序复杂，生产效率低而且成本造价高，不适合大规模生产。
发明内容
为了克服现有技术领域存在的上述技术问题，本发明的目的在于，提供一种二氢青蒿酸合成工艺，本发明不仅制作工序简单、提高工作效率，而且生成的二氢青蒿酸产品纯度大，适合工业化生产。
本发明提供的二氢青蒿酸合成工艺，包括以下步骤：
⑴青蒿酸溶于有机溶剂中；
⑵加入水合肼和催化量的过渡金属化合物，调节反应温度至65℃~100℃；
(3)向反应液中滴加双氧水，使青蒿酸被原位产生的二亚胺还原为二氢青蒿酸；
(4)经萃取、干燥，得到二氢青蒿酸。
本发明提供的二氢青蒿酸合成工艺，其有益效果在于，克服了现有技术制备二氢青蒿酸工艺过程中工序较多，工作量大的问题，提高了工作效率；提高了反应物的单程转化率和生成物的产率。
具体实施方式
下面结合一个实施例，对本发明提供的二氢青蒿酸合成工艺进行详细的说明。
实施例
本实施例的二氢青蒿酸合成工艺，包括以下步骤：
⑴青蒿酸溶于有机溶剂中；
⑵加入水合肼和催化量的过渡金属化合物，调节反应温度至65℃℃；
(3)向反应液中滴加双氧水，使青蒿酸被原位产生的二亚胺还原为二氢青蒿酸；
(4)经萃取、干燥，得到二氢青蒿酸。
二氢青蒿酸合成工艺，无需繁琐的反应后处理，工序简单可行，而且对环境友好无污染，工艺流程易于实施，实现了产品的工业化生产。
Claims (1)
1.一种二氢青蒿酸合成工艺，其特征在于：所述方法包括以下步骤：
⑴青蒿酸溶于有机溶剂中；
⑵加入水合肼和催化量的过渡金属化合物，调节反应温度至65℃~100℃；
(3)向反应液中滴加双氧水，使青蒿酸被原位产生的二亚胺还原为二氢青蒿酸；
(4)经萃取、干燥，得到二氢青蒿酸。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410620316.0A CN105622393A (zh) | 2014-11-07 | 2014-11-07 | 二氢青蒿酸合成工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410620316.0A CN105622393A (zh) | 2014-11-07 | 2014-11-07 | 二氢青蒿酸合成工艺 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105622393A true CN105622393A (zh) | 2016-06-01 |
Family
ID=56037784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN201410620316.0A Pending CN105622393A (zh) | 2014-11-07 | 2014-11-07 | 二氢青蒿酸合成工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105622393A (zh) |
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2014
- 2014-11-07 CN CN201410620316.0A patent/CN105622393A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20160601 |