CN105609510B - 一种阵列基板、显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。该阵列基板包括:显示区和非显示区,非显示区包括第一布线区、第二布线区;其中,第一布线区的布线用于与显示区的信号线和驱动集成电路相连,第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀。本发明通过第二布线区的布线设计,避免了光刻胶在显示区过度沉积,提高了光刻胶的均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。
背景技术
在制作薄膜晶体管(TFT-LCD,Thin Film Transistor)阵列工艺的过程中,具体在采用旋转涂布方式涂覆光刻胶的光刻工艺中,容易出现光刻胶厚度的不均的问题。
发明内容
(一)要解决的技术问题
鉴于上述技术问题,本发明提供了一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置,以提高在旋转涂布光刻胶工艺中光刻胶在基板上分布的均匀性,防止斜向污渍(TrackMura)的发生。
(二)技术方案
根据本发明的一个方面,提供了一种阵列基板。该阵列基板包括:显示区和非显示区,其特征在于,所述非显示区包括第一布线区和第二布线区。其中,所述第一布线区的布线用于与所述显示区的信号线和驱动集成电路相连,所述第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀。
优选地,本发明阵列基板中,在所述第一布线区内包括第一布线,连接所述驱动集成电路与所述信号线的所述第一布线包括第一V型拐角;在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线包括第二V型拐角,所述第二V型拐角凸起的方向与所述第一V型拐角凸起的方向相反。
优选地,本发明阵列基板中,所述第二布线区位于所述第一布线区远离显示区的一侧;所述第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远离的方式设置。
优选地,本发明阵列基板中,所述第二布线区位于所述第一布线区靠近显示区的一侧;所述第二V型拐角凸起的顶点与所述第一V型拐角凸起的顶点以彼此靠近的方式设置。
优选地,本发明阵列基板中,在所述第一布线区内包括第一布线,所述第一布线包括第一V型拐角;在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线呈长条状。
优选地,本发明阵列基板中,所述第二布线所在直线的方向与第一V型拐角凸起的方向垂直。
优选地,本发明阵列基板中,所述第二布线延伸的方向与显示区靠近布线区的侧边平行。
优选地,本发明阵列基板中,所述第二布线区位于:所述第一布线区靠近显示区的一侧;和/或所述第一布线区远离显示区的一侧。
优选地,本发明阵列基板中,所述第二布线包括:至少一条的连续布线;或至少两条的非连续布线,且相邻两条非连续布线的缺口相互错开。
优选地,本发明阵列基板中,在所述第二布线区内包括多条的所述第二布线,各条第二布线相互平行。
优选地,本发明阵列基板中,所述第二布线区和第一布线区在阵列基板中的同一层或不同层。
根据本发明的另一个方面,还提供了一种显示面板。该显示面板包括上述的阵列基板。
根据本发明的再一个方面,还提供了一种显示装置。该显示装置包括上述的显示面板。
(三)有益效果
从上述技术方案可以看出,本发明阵列基板及应用其的显示面板和显示装置具有以下有益效果:
(1)通过设计第二布线区,第二布线区中的第二布线对光刻胶向两侧进行引导,避免了光刻胶在第一布线区内布线的引导作用下,在显示区过度沉积;
(2)在第一组技术方案中,在第一布线区的V型拐角的内侧和/或外侧添加与其趋势相反的第二布线,该第二布线在胶的引流上,起到与V型拐角相反的作用效果,是甩胶效果更均一;
(3)在第二组技术方案中,在V型拐角的内侧和/或外侧添加对光刻胶起阻挡作用的条状第二布线,把涌向V型拐角外侧的显示区的一部分光刻胶阻挡在显示区之外;
通过上述方案,可以预防或减少因原设计而导致的甩胶不均,局部光刻胶厚度差异化过大的问题,防止或减轻斜向污渍(Track Mura)的发生。
附图说明
图1为根据本发明第一实施例中采用在V型拐角内侧增加与V型拐角处第一布线趋势相反的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;
图2为根据本发明第二实施例采用非连续的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;
图3为根据本发明第三实施例中采用在V型拐角外侧增加与V型拐角处第一布线趋势相反的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;
图4为根据本发明第四实施例中采用在V型拐角的外测和内侧同时增加与V型拐角处第一布线趋势相反的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;
图5为根据本发明第五实施例中采用在V型拐角的外侧添加与拐角趋势线垂直的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;
图6为根据本发明第六实施例中采用在V型拐角的外侧添加与显示区边框平行的第二布线后光刻胶运动方向的示意图;
图7为驱动集成电路、第一布线区、第二布线区和显示区的总括图。
【符号说明】
1-第一布线;
2-光刻胶趋向V型拐角中心运动的趋势;
3-光刻胶在V型拐角末端甩出的方向;
4-V型拐角对应的显示区;
5-第二布线;
51、52、53、54、55-光刻胶在第二布线引导作用下的运动方向;
6-驱动集成电路。
具体实施方式
本发明提出一种阵列基板及应用其的显示面板和显示装置。该阵列基板包括:显示区和非显示区,非显示区包括第一布线区和第二布线区;第一布线区的布线用于与显示区的信号线和驱动集成电路相连,第二布线区的布线用于在旋转涂布光刻胶工艺中使光刻胶分布均匀,从而提高了光刻胶的均匀性。
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
一、第一实施例
在本发明的第一个示例性实施例中,提供了一种阵列基板。请参照图1,本实施例中,阵列基板包括:显示区和非显示区。该非显示区包括:第一布线区和第二布线区。在第一布线区内包括:第一布线,该第一布线包括第一V型拐角。
第二布线区位于第一布线区远离显示区的一侧。在第二布线区内包括第二布线5。该第二布线5包括第二V型拐角。其中,第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远离的方式设置。
在旋转涂布光刻胶工艺中,在基板的中心位置滴下光刻胶,而后基座带动基板快速转动,光刻胶由内向外均匀甩开,平铺在基板表面。
需要说明的是,本实施例中,在第二布线区包括两条的第二布线,但本发明并不以此为限。在本发明其他实施例中,第二布线可以是1条,也可以是多条,例如是:3条、4条或5条等等。
本实施例所给出的情况如图7中(A)所示,基于原有第一布线版图,在第一布线区域的第一布线的第一V型拐角趋势线起端增加与拐角布线趋势相反的第二布线5,以便引导部分光刻胶朝向远离第一V型拐角中心方向运动,光刻胶运动的方向如其中的标号51所示。
二、第二实施例
在本发明的第二个示例性实施例中,提供了一种阵列基板。请参照图2,本实施例中,在第二布线区包括非连续的第二布线5。该第二布线5同样包括第二V型拐角。
本实施例中,两条第二布线的相应部分相互平行,并且,两条非连续的第二布线5中的缺口相互错开,即第一条第二布线上缺口位置在第二布线上对应位置不是缺口,在这种情况下,即使光刻胶从外侧的第一条的第二布线的缺口向显示区甩出,也会被内侧的第二条的第二布线拦住,而不会最终甩到显示区。此时,光刻胶的运动方向如图2中标号52所示。
三、第三实施例
在本发明的第三个示例性实施例中,提供了一种阵列基板。请参照图3,本实施例中,在第二布线区包括连续的第二布线5。每一条第二布线同样包括第二V型拐角。
与第一实施例不同的是,本实施例中,第二布线区位于第一布线区靠近显示区的一侧。第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此靠近的方式设置。
本实施例所给出的情况如图7中(B)所示,基于原有第一布线版图,在第一V型拐角的外侧增加与其趋势相反的第二布线5,以便引导光刻胶远离第一V型拐角中心运动,如图3中的标号53所示。
四、第四实施例
在本发明的第四个示例性实施例中,提供了一种阵列基板。请参照图4,本实施例综合了第一、第二实施例的方案,设置两个第二布线区。其中,一个第二布线区位于第一布线区远离显示区的一侧,在该第二布线区内两条第二布线5的第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远离的方式设置。另一个第二布线区位于第一布线区靠近显示区的一侧,在该第二布线区内两条第二布线5的第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此靠近的方式设置。
本实施例中,两个的第二布线区内第二布线在胶的引流上,更好地起到与第一V型拐角相反的效果,光刻胶在两个布线区内第二布线引导作用下的运动方向分别如图4中标号51和53所示。相比于第一和第二实施例,显示区4内第一V型拐角对应区域的光刻胶均一性会得到进一步提高。
可见,在上述四个实施例中,均增加了与第一布线区的第一V型拐角布线趋势相反的第二布线,以便在胶的引流上,起到与第一V型拐角相反的作用效果,从而或减轻原有设计带来的甩胶缺陷效果,减少甩胶时光刻胶厚度局部差异化过大问题,显示区4内V型拐角对应区域的光刻胶均一性大大提高,预防或减轻了斜向污渍(Track Mura)的发生。
五、第五实施例
在本发明的第四个示例性实施例中,提供了一种阵列基板。请参照图5,本实施例中,第二布线区位于第一布线区靠近显示区的一侧。
其中,在第二布线区包括长条状的第二布线5,该第二布线5所在直线的方向与第一V型拐角凸起的方向垂直。
本实施例中,基于原有第一布线版图,在第一V型拐角末端添加与其趋势线垂直的第二布线,甩胶时第二布线会起一定的阻挡作用。此时,光刻胶的在第二布线引导作用下的运动方向如图5中标号54所示。
六、第六实施例
在本发明的第六个示例性实施例中,提供了一种阵列基板。请参照图6,本实施例中,第二布线区包括非连续的长条状的第二布线5。该第二布线5延伸的方向与显示区靠近第一布线区的侧边平行。在这种情况下,光刻胶在第二布线5的引导作用下的运动方向如图6中标号55所示。
在上述两个实施例中,第二布线被设计为长条状,而并非V型拐角状,这样设计的第二布线可以在甩胶时可削弱此方向光刻胶进入显示区的量,同样达到减轻甩胶时光刻胶厚度局部差异化过大问题,弱化原有设计带来的甩胶缺陷效果,显示区4内第一V型拐角对应区域的光刻胶均一性大大提高,预防或减轻了斜向污渍(Track Mura)的发生。
以下结合图7,对本发明的一个具体应用场景进行说明。
请参照图7的右侧示意图,数据信号引线从驱动集成电路平行引出,各引线进入显示区前,会在扇出区域同一直线方向、进行同一角度的拐角,从而形成上述多个实施例中所述的第一V形拐角,之后再延伸至AA区边缘通过跳孔实现与对应数据信号线(Date)的连接。
依据本发明,就可以在第一V型拐角起端,即靠近驱动集成电路的一端,增加与第一V型拐角布线趋势相反的第二布线,如图中标号51所示。此外,还可以在第一V型拐角末端,即靠近显示区的一端,增加与第一V型拐角布线趋势相反的第二布线,如图中标号52所示。
需要说明的是,第二布线可与数据信号引线置于同层,也可置于不同层,只要在制作关键层:透明导电薄膜层之前形成即可,设计方案可依据具体尺寸的布线空间而定。其中,光刻胶分布不均匀对各个功能层均会有影响,对作为公共电极或显示电极的透明导电薄膜层尤为重要。如果透明导电薄膜层受到影响的话,显示屏就会产生显示不良的情况,因此,透明导电薄膜层沉积之前采用本发明的技术方案使光刻胶分布更加均匀非常必要,同样可以理解第二布线与数据信号引线可以位于阵列基板的不同层。
此外,还需要说明的是,在上述六个实施例中,只是示例性地说明本发明。在本发明其他实施例中,可以采用具有实际功能的布线来作为第二布线。并且,在后续工艺中,第二布线可以被保留或去除。除了第一布线之外,其他具有特定功能的布线如果在旋转涂布光刻胶工艺中出现类似的问题,同样也可以用本发明的技术方案解决。
七、第七实施例
在本发明的第七个示例性实施例中,还提供了一种显示面板。该显示面板可以包括上述六个实施例中任一个所给出的阵列基板。
八、第八实施例
在本发明的第八个示例性实施例中,还提供了一种显示装置。该显示装置包括第七实施例所述的显示面板。
本领域技术人员应当清楚,关于第二布线的位置,可以根据需要进行调整,而不局限与上述实施例中给出的具体位置;关于第二布线的宽度、条数等,也可以根据需要进行调整。此外,本文可提供包含特定值的参数的示范,但这些参数无需确切等于相应的值,而是可在可接受的误差容限或设计约束内近似于相应值。实施例中提到的方向用语,例如“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等,仅是参考附图的方向,并非用来限制本发明的保护范围。并且,上述实施例可基于设计及可靠度的考虑,彼此混合搭配使用或与其他实施例混合搭配使用,即不同实施例中的技术特征可以自由组合形成更多的实施例。
综上所述,本发明在原有第一布线基础上添加第二布线来对光刻胶向两侧进行引导,避免了光刻胶在V型拐角外侧的显示区过度沉积,提高了光刻胶的均匀性,可以预防或减少因原设计而导致的甩胶不均,局部光刻胶厚度差异化过大的问题,防止或减轻斜向污渍(Track Mura)的发生。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (15)
1.一种阵列基板,包括:显示区和非显示区,其特征在于,所述非显示区包括第一布线区和第二布线区;
其中,所述第一布线区的布线用于与所述显示区的信号线和驱动集成电路相连并包括第一V型拐角,所述第二布线区的布线仅布置在第一V型拐角附近并用于在旋转涂布光刻胶工艺中引导部分光刻胶朝向远离所述第一V型拐角凸起的方向运动,使光刻胶分布均匀。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:
在所述第一布线区内包括第一布线,连接所述驱动集成电路与所述信号线的所述第一布线包括所述第一V型拐角;
在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线包括第二V型拐角,所述第二V型拐角凸起的方向与所述第一V型拐角凸起的方向相反。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于:
所述第二布线区位于所述第一布线区远离显示区的一侧;
所述第二V型拐角凸起的顶点与第一V型拐角凸起的顶点以彼此远离的方式设置。
4.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于:
所述第二布线区位于所述第一布线区靠近显示区的一侧;
所述第二V型拐角凸起的顶点与所述第一V型拐角凸起的顶点以彼此靠近的方式设置。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:
在所述第一布线区内包括第一布线,所述第一布线包括所述第一V型拐角;
在所述第二布线区内包括第二布线,所述第二布线呈长条状。
6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第二布线所在直线的方向与第一V型拐角凸起的方向垂直。
7.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述第二布线延伸的方向与显示区靠近第一布线区的侧边平行。
8.根据权利要求6或7所述的阵列基板,其特征在于,所述第二布线区位于:
所述第一布线区靠近显示区的一侧;和/或
所述第一布线区远离显示区的一侧。
9.根据权利要求2至7中任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述第二布线包括:
至少一条的连续布线;或
至少两条的非连续布线,且相邻两条非连续布线的缺口相互错开。
10.根据权利要求9所述的阵列基板,其特征在于,在所述第二布线区内包括多条的所述第二布线,各条第二布线相互平行。
11.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,所述第二布线包括:
至少一条的连续布线;或
至少两条的非连续布线,且相邻两条非连续布线的缺口相互错开。
12.根据权利要求11所述的阵列基板,其特征在于,在所述第二布线区内包括多条的所述第二布线,各条第二布线相互平行。
13.根据权利要求1至7中任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述第二布线区和第一布线区在阵列基板中的同一层或不同层。
14.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1至13中任一项所述的阵列基板。
15.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求14所述的显示面板。
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