CN105563294A - 一种抛光机 - Google Patents

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    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B29/00—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
    • B24B29/02—Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents designed for particular workpieces
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    • B24B41/00—Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

本发明涉及金属抛光领域，特指一种抛光机，包括吸附模头、抛光轮，所述吸附模头设置在旋转座上，所述旋转座设置在移动台上，所述移动台设置在Y轴平移装置上，所述Y轴平移装置设置在X轴平移装置上，所述吸附模头能相对于旋转座自转，所述旋转座能相对于移动台自转，所述移动台能在Y轴平移装置上移动，所述Y轴平移装置能在X轴平移装置上移动；所述抛光轮设置在吸附模头同一水平高度上。采用上述方案后，通过电控箱直接控制各个电机驱动移动装置移动，从而提高器皿抛光的工作效率。

Description

一种抛光机
技术领域
本发明涉及金属抛光领域，特指一种抛光机。
背景技术
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光滑、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。比如在生成高压锅的锅盖时，也需要对其进行抛光，因此，本发明人对此做进一步研究，研发出一种抛光机，本案由此产生。
发明内容
本发明的目的在于提供一种抛光机，能够对器皿进行自动抛光。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：
一种抛光机，包括吸附模头、抛光轮，所述吸附模头设置在旋转座上，所述旋转座设置在移动台上，所述移动台设置在Y轴平移装置上，所述Y轴平移装置设置在X轴平移装置上，所述吸附模头能相对于旋转座自转，所述旋转座能相对于移动台自转，所述移动台能在Y轴平移装置上移动，所述Y轴平移装置能在X轴平移装置上移动；所述抛光轮设置在吸附模头同一水平高度上。
进一步，所述Y轴平移装置包括固定台、滑动台，所述滑动台设置在固定台的导轨上，且滑动台由伺服电机通过滚珠丝杠和丝母驱动。
进一步，所述固定台上还设置有传感器，所述传感器与伺服电机联动。
进一步，所述吸附模头中间开设有吸附孔，所述吸附孔与气路连接。
进一步，所述旋转座上设置有工件自转电机和减速机，所述工件自转电机和减速机与所述吸附模头通过旋转接头联动。
采用上述方案后，本发明与现有技术相比，具有以下优点：
通过电控箱直接控制各个电机，来驱动移动、旋转装置的运动，并进行行进中的Ｘ、Ｙ移动、Ｚ旋转、工件自转、抛光电机抛光轮旋转等多重运动有机组合，从而能够实现任意复杂形态的器皿的全自动抛光，且提高器皿抛光的工作效率。
对不同的被抛光器皿工件，只需三分钟更换抛光模头就可以配套使用，故本机有广泛的适应性。
附图说明
图1是本发明的示意图；
图2是Y轴平移装置的示意图；
图3是吸附模头的示意图。
标号说明
吸附模头1，抛光轮2，旋转座3，移动台4，Y轴平移装置5，
X轴平移装置6，固定台7，滑动台8，吸附孔9，旋转接头10，
机架11，电控箱12。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的说明。
如图所示，本发明揭示的一种抛光机，包括设置在机架11上的吸附模头1、抛光轮2，所述吸附模头1设置在旋转座3上，吸附模头1中间开设有吸附孔9，吸附孔9与气路连接，用于吸附器皿。旋转座3上设置有工件自转电机和减速机，工件自转电机和减速机与吸附模头1通过旋转接头10联动，吸附模头1能相对于旋转座3自转。
旋转座3设置在移动台4上，移动台4设置在Y轴平移装置5上，所述Y轴平移装置5设置在X轴平移装置6上，Y轴平移装置5包括固定台7、滑动台8，所述滑动台8设置在固定台7的导轨上，且滑动台8由由伺服电机通过滚珠丝杠和丝母驱动，固定台7上还设置有传感器，所述传感器与伺服电机联动。X轴平移装置6的结构与Y轴平移装置5的结构一致。旋转座3能相对于移动台4自转，移动台4能在Y轴平移装置5上移动，Y轴平移装置5能在X轴平移装置6上移动；抛光轮2设置在吸附模头1同一水平高度上。
工作时，吸附模头1吸附上器皿后（图中以高压锅盖为例子），Y轴平移装置5在X轴平移装置6上平移，同时旋转座3旋转，将器皿转到抛光轮2一侧，然后移动台4在Y轴平移装置5上移动，使器皿靠近抛光轮2，吸附模头1开始自转，对器皿进行抛光。上述动作由设置在抛光轮2旁的电控箱12控制。这几个动作，视不同的抛光器皿，设置出最佳联动动作，可以轻松实现抛光效率最大化。
上述仅为本发明的具体实施例，但本发明的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动，均应属于侵犯本发明保护范围的行为。

Claims (5)

1.一种抛光机，其特征在于：包括吸附模头、抛光轮，所述吸附模头设置在旋转座上，所述旋转座设置在移动台上，所述移动台设置在Y轴平移装置上，所述Y轴平移装置设置在X轴平移装置上，所述吸附模头能相对于旋转座自转，所述旋转座能相对于移动台自转，所述移动台能在Y轴平移装置上移动，所述Y轴平移装置能在X轴平移装置上移动；所述抛光轮设置在吸附模头同一水平高度上。
2.根据权利要求1所述的一种抛光机，其特征在于：所述Y轴平移装置包括固定台、滑动台，所述滑动台设置在固定台的导轨上，且滑动台由由伺服电机通过滚珠丝杠和丝母驱动。
3.根据权利要求2所述的一种抛光机，其特征在于：所述固定台上还设置有传感器，所述传感器与伺服电机联动。
4.根据权利要求1所述的一种抛光机，其特征在于：所述吸附模头中间开设有吸附孔，所述吸附孔与气路连接。
5.根据权利要求1所述的一种抛光机，其特征在于：所述旋转座上设置有工件自转电机和减速机，所述工件自转电机和减速机与所述吸附模头通过旋转接头联动。
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