CN105493206A - 经图案化的导电层合体及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的课题在于提供一种得到导电层合体的方法，所述方法可以在不使用酸等腐蚀性高的液体的情况下在短时间内进行图案化。该方法是经图案化的导电层合体的制造方法，包括以下工序：对于依次具有基材及导电层(其含有包含碳原子的导电体)的导电层合体，在隔着电解液而存在有对电极的状态下，以导电层为阳极、以对电极为阴极地施加电压，从导电层合体中除去导电层中的导电体。

Description

经图案化的导电层合体及其制造方法

技术领域

本发明涉及经图案化的导电层合体的制造方法(至少依次形成有基材、导电层，且上述导电层中的导电体被除去)、利用该制造方法进行了图案化的导电层合体及使用了上述经图案化的导电层合体的触摸面板等各种用途。

背景技术

含有导电层的导电层合体被大量用于平板显示器、触摸面板等电子显示设备。作为导电层中所含有的导电体，至今为止主要使用了掺杂锡的氧化铟(以下称为ITO)。但是，由于铟是稀有金属，所以进行了代替ITO的新型导电体的开发。此外，使用了ITO的导电层合体具有下述缺点：由于在真空下进行制膜，所以耗费制造成本；经不起折弯。作为弥补上述缺点的新型导电体，积极地进行了碳纳米管、导电性高分子、金属纳米粒子、金属纳米线等的开发。使用了这些新材料的导电层合体即使在大气压下也能通过涂布法进行制作，因此预期可实现低成本化。此外，已知在折弯、拉伸等的机械耐久性方面也优异。

例如，提出了将使用了碳纳米管、银纳米线作为新型导电体的导电层合体适用于触摸面板的方案(例如，参见专利文献1)。此外，提出了将导电性高分子作为导电体适用于电子纸的方案(例如，参见专利文献2)。此外，还提出了将ITO粉末与粘合剂树脂一同使用的方案(例如，参见专利文献3)。

一般而言，导电层合体多数是将导电层形成为线状图案进行使用的。另一方面，虽然也存在没有图案、即在整个面上设置导电层进行使用的制品，但该制品的种类受到限制。因此，导电层的图案化方法是重要的。此外，导电层要求表面电阻的均匀性。此外，对于平板显示器、触摸面板等部件而言，还要求光线透过率的均匀性。此外，对于经图案化的导电层合体而言，最初将导电体均匀地设置于基材的整个面上，然后除去不需要的部分，从而得到具有期望的图案形状的导电层合体。

提出了利用干蚀刻对含有碳纳米管的导电层合体的导电层进行图案化的方法(例如，参见专利文献4)。此外，提出了提高现存的使用了ITO的导电层合体的蚀刻性的蚀刻剂(例如，参见专利文献5)。

此外，作为形成细长形状的碳纳米管电极的方法之一，提出了下述方法：在使用了碳纳米管的导电层合体的导电层上，设置已被图案化的抗蚀剂，然后进行蚀刻，从而将导电层图案化(例如，参见专利文献6)。

对于用于导电层合体的导电体而言，除了ITO、金属薄膜以外，还有碳纳米管、银纳米线、导电性高分子等，多样化不断发展，但为了通过湿法工序将它们图案化，需要随时探索或开发蚀刻剂。此外，现有的用于ITO、金属薄膜的蚀刻剂大多是强酸、混合酸、氧化性或腐蚀性大的药剂、或强碱性的药剂，操作困难，或操作设备需要经费。

例如，专利文献4中记载了通常的ITO的湿法工序。氯化铁是通常的蚀刻剂。但是，氯化铁的腐蚀性大，必须对蚀刻设备、设置有该设备的房间、排气管道等附带设备采取耐腐蚀对策等，导致设备成本提高。专利文献5中也使用了操作困难的氢氟酸。

此外，虽然可以采用例如如专利文献6所记载那样的干蚀刻工序将专利文献1～3中记载的导电层合体图案化，但存在与湿法工序相比成本变高的课题。

此外，对于现有的ITO用、薄膜金属用的图案化而言，存在下述课题：由于导电体被除去，所以在导电体除去部与导电体残留部之间产生折射率或反射率的差异，图案容易被目视识别。例如，对于静电电容式触摸面板而言，由于在屏幕上配置触摸面板，所以优选使图案不能被目视识别。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-167848号公报

专利文献2：日本特开2011-69993号公报

专利文献3：日本特开2005-78986号公报

专利文献4：日本特开2008-270458号公报

专利文献5：美国专利第7285198号说明书

专利文献6：日本特开2002-234000号公报

发明内容

鉴于上述现有技术中的问题，本发明想要解决的课题是，提供一种不使用腐蚀性高的药液、且操作性优异的将导电层合体图案化的方法。

此外，本发明的课题是提供一种图案难以被容易地目视识别的、经图案化的导电层合体的制造方法。

为了解决课题，本发明包含以下方法。

(1)经图案化的导电层合体的制造方法，包括以下工序：

对于依次具有基材及导电层(其含有包含碳原子的导电体)的导电层合体，在隔着电解液而存在有对电极的状态下，以导电层为阳极、以对电极为阴极地施加电压，从导电层合体中除去导电层中的导电体。

进而，作为优选方式，本发明提供以下方式。

(2)如上所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，在施加电压时，在导电层合体的导电层侧的表面的一部分上存在掩蔽材料，所述掩蔽材料阻挡导电层合体与电解液的接触，并且已被图案化。

(3)如上所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，在施加电压时，在对电极的导电层合体侧的表面的一部分上存在掩蔽材料，所述掩蔽材料阻挡对电极与电解液的接触，并且已被图案化。

(4)如上所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，对电极具有图案形状。

(5)如以上任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，上述包含碳原子的导电体为选自由碳纳米管、石墨烯及导电性高分子组成的组中的至少1种。

(6)如以上任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，导电层在施加电压前含有绝缘物，在除去了导电层中的导电体后，在除去了导电体的部位仍残留有绝缘物。

(7)如以上任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，施加电压为5V以上且15V以下。

(8)如以上任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，电压的施加时间为2秒以上且60秒以下。

此外，作为导电层合体，提供以下导电层合体：

(9)一种经图案化的导电层合体，其是利用上述任一种制造方法制得的。

本发明还提供利用了导电层合体的以下部件。

(10)一种静电电容式触摸开关(touchswitch)，其使用了上述导电层合体。

(11)一种触摸面板，其使用了上述经图案化的导电层合体。

发明的效果

本发明的经图案化的导电层合体的制造方法是不使用强酸、强碱等腐蚀性高的药液即可实现的图案化方法，因此，能够简便地以低成本制造导电层被图案化的导电层合体。

此外，通过本发明的图案化方法得到的导电层合体可成为难以目视识别出图案化后的导电层与除去了导电体的部位的区别的经图案化的导电层合体。

附图说明

图1是说明本发明中的图案化方法的一例的简图。

图2是说明本发明中的图案化方法的一例的简图。

图3是说明本发明中的图案化方法的一例的简图。

图4是用于判断本发明中的间隙有无绝缘性的图案配置的简图。

图5是用于判断本发明中的间隙有无绝缘性及细线部有无导通的图案配置的简图。

图6是用于判断本发明中的外涂层(overcoatlayer)残留的图案配置的简图。

图7是说明本发明中的碳纳米管的合成方法的简图。

图8是用于判断本发明中的间隙有无绝缘性及细线部有无导通的图案配置的简图。

具体实施方式

以下，说明用于实施发明的方式。

需要说明的是，本发明中所谓的“导电层”，是指包含导电体及根据需要设置的外涂层和内涂层的层。此外，所谓导电层中的图案化，是指在原本为导电层的一部分部位中，除去导电体，其结果是，存在导电体多的部分和导电体少的部分，这些部分形成了图案。

[导电体]

本发明中使用的导电体包含碳原子。只要是包含碳原子的导电体，则可利用本发明的方法进行图案化。作为导电体，可使用碳纳米管、石墨烯、导电性高分子等在构成原子中包含碳的导电物质。作为导电性高分子，可举出聚乙炔、聚对苯撑、聚对苯撑乙炔、聚吡咯、聚噻吩、PEDOT-PSS(聚(3，4-乙烯二氧噻吩)-聚(苯乙烯磺酸))、聚苯胺等介由π电子共轭体系导电的高分子。需要说明的是，本发明中，作为特别优异的导电体，可举出碳纳米管、石墨烯及导电性高分子。

[导电层合体]

本发明中使用的导电层合体依次包含基材和导电层，所述基材用于保持形状，所述导电层含有包含碳原子的导电体。需要说明的是，导电层不需要仅由导电体构成，例如也可以含有导电体和绝缘物这两者。

[基材]

作为本发明的基材，可举出树脂、玻璃等。作为树脂，可使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酰亚胺、聚苯硫醚、芳族聚酰胺、聚丙烯、聚乙烯、聚乳酸、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、脂环式丙烯酸树脂、环烯烃树脂、三乙酸纤维素等。作为玻璃，可使用通常的钠玻璃。此外，也可以组合多种上述基材进行使用。例如，可以为组合树脂和玻璃而得的基材、层合2种以上树脂而得的基材等复合层合基材。也可以是在树脂膜上设置硬涂层而得的基材。基材的种类并不限定于上述种类，可根据用途选择从耐久性、成本等方面考虑最为合适的基材。基材的厚度没有特别限定，用于触摸面板、液晶显示器、有机电致发光元件、电子纸等显示器相关的电极时，优选在10～1,000μm之间。

[基材的表面处理]

在基材上涂布含有碳纳米管等导电体的分散液。此时，为了将分散液均匀地涂布在基材上，优选预先使基材的表面上存在亲水性的官能团，从而提高基材的表面张力。作为亲水性的官能团，可举出羧基、羰基、羟基、磺酸基、硅烷醇基等。作为使基材的表面上存在亲水性的官能团的方法，可举出以下方法。有在基材上设置表露出上述官能团的内涂层的方法。有对基材实施电晕处理、等离子体处理、火焰处理等物理处理、或者、酸处理或碱处理等化学处理的方法。其中，优选设置内涂层的方法、进行电晕处理的方法。

[内涂层的形成方法]

对于内涂层的亲水性而言，与水的接触角优选在5～10°的范围内。内涂层优选使用无机氧化物。其中，更优选为以二氧化钛、氧化铝、二氧化硅为主要成分的无机氧化物，进一步优选为以二氧化硅为主要成分的无机氧化物。本发明中，“主要成分”是指在全部成分中的含量为50质量％以上的成分，更优选含量为60质量％以上，进一步优选含量为80质量％以上。(以下，关于其他材料的“主要成分”的说明也同样)。上述物质在表面具有作为亲水基团的羟基，可获得高亲水性，故而优选。

对于本发明的进行图案化之前的导电层合体的制造中、将内涂层设置于基材上的方法，没有特别限定。可利用已知的湿式涂布方法，例如喷射涂布、浸渍涂布、旋转涂布、刮刀涂布、凹版涂布、缝模涂布(slot-diecoating)、辊式涂布、棒式涂布(barcoating)、丝网印刷、喷墨印刷、移印(padprinting)、其他印刷等。此外，也可利用干式涂布方法。作为干式涂布方法，可利用溅射、蒸镀等物理气相沉积、化学气相沉积等。此外，内涂层的形成可以分多次进行，也可以组合2种不同的形成方法。优选的形成方法是作为湿式涂布法的凹版涂布、棒式涂布、缝模涂布。

[内涂层的厚度的调整]

内涂层厚度只要为可充分获得亲水性的厚度即可，并没有限定，优选为1～120nm的厚度。若为可有效获得基于光学干涉的防反射效果的厚度，则光线透过率提高，故而优选。因此，与后述的外涂层的厚度的总和优选在80～120nm的范围内。

[导电体/碳纳米管]

本发明中可使用的碳纳米管只要是实质上在侧面具有石墨结构的筒状即可，没有特别限定。将1片石墨卷绕成1层的单层碳纳米管、卷绕成多层的多层碳纳米管均可适用。其中，若含有以根数计为50％以上的2层碳纳米管(其为将1片石墨卷绕成2层的碳纳米管)，则导电性及碳纳米管在涂布用分散介质中的分散性变高，故而优选。进一步优选75％以上为2层碳纳米管，最优选80％以上为2层碳纳米管。此外，2层碳纳米管从下述观点考虑也是优选的：即使通过酸处理等而将表面官能团化，也不容易损害导电性等原本的功能。

碳纳米管例如可如下进行制造。使在氧化镁上担载有铁的粉末状催化剂存在于水平地设置在立式反应器中的网状金属板上。此时，催化剂均衡地存在于网状金属板上。然后，沿垂直方向向该反应器内供给甲烷，于500～1,200℃使甲烷与上述催化剂接触，制造碳纳米管。进一步对得到的碳纳米管实施氧化处理，由此可得到含有单层～5层的碳纳米管的碳纳米管。氧化处理例如可通过用硝酸进行处理的方法实施。硝酸作为针对碳纳米管的掺杂剂起作用，故而优选。所谓掺杂剂，是起到对碳纳米管赋予多余的电子、或夺取电子而形成空穴的作用的物质，通过产生可自由活动的载体，从而使碳纳米管的导电性提高。对于硝酸处理的方法而言，只要可得到本发明的碳纳米管，则没有特别限定，通常在140℃左右的油浴中进行。用硝酸进行处理的时间没有特别限定，但优选为5～50hr的范围。在基材上形成含有碳纳米管的导电层的方法将在下文中说明。

[分散剂]

可以使用用于涂布碳纳米管等导电体的分散剂。作为分散剂，可举出表面活性剂、各种高分子材料(水溶性高分子材料等)等。其中，优选为分散性高的离子性高分子材料。作为离子性高分子材料，有阴离子性高分子材料、阳离子性高分子材料、两性高分子材料。若为对碳纳米管的分散能力高、可保持分散性的分散剂，则任何种类均可以使用。从分散性及分散保持性优异的观点考虑，优选为阴离子性高分子材料。其中，羧甲基纤维素及其盐(例如，钠盐、铵盐等)、及聚苯乙烯磺酸的盐可有效地使碳纳米管分散，故而优选。在使用羧甲基纤维素盐、聚苯乙烯磺酸盐的情况下，作为构成盐的阳离子性物质，例如可使用锂、钠、钾等碱金属的阳离子；钙、镁、钡等碱土金属的阳离子；铵离子；或单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、吗啉、乙胺、丁胺、椰子油胺(coconutoilamine)、牛脂胺、乙二胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、聚乙烯亚胺等有机胺的鎓离子；或它们的聚环氧乙烷加成物。当然并不限定于这些。

[分散介质]

对于用于分散碳纳米管等导电体的分散介质而言，从可以容易地将上述分散剂溶解的方面、废液容易处理等观点考虑，优选为水。

[导电体分散液]

本发明中使用的分散液的制备方法没有特别限定，例如可通过以下步骤进行。由于可以缩短分散时的处理时间，所以优选以下方法：暂时制备在分散介质中以0.003～0.15质量％的范围含有碳纳米管等导电体的分散液，然后对其进行稀释，由此制成规定的浓度。本发明中，分散剂相对于碳纳米管等导电体的质量比优选为0.1～10。若为上述优选范围，则易于均匀地分散，导电性降低的影响少。质量比更优选为0.5～9，进一步优选为1～6，若质量比为2～3，则可获得高的透明导电性，因此特别优选。作为进行制备时的分散方法，可举出下述方法：使用在涂布制造中惯用的混合分散机(例如球磨机、珠磨机、砂磨机、辊磨机、均化器、超声波均化器、高压均化器、超声波装置、超微磨碎机(attritor)、Dezoruba搅拌机、涂料混合器(paintshaker)等)，将碳纳米管和分散剂在分散介质中混合。此外，也可以组合它们中的多种混合分散机而分阶段地进行分散。其中，下述方法由于所得的涂布用分散液中的导电体的分散性良好而优选，所述方法为：使用振动球磨机进行预分散后，使用超声波装置进行分散。

[碳纳米管分散液的特性]

对于本发明的制造方法中优选使用的碳纳米管的分散液而言，其pH优选在5.5～11的范围内。

若碳纳米管分散液的pH为5.5～11，则修饰碳纳米管表面的羧酸等酸性官能团、位于碳纳米管周围的分散剂中所含有的羧酸等酸性官能团的电离度提高。其结果是，碳纳米管或碳纳米管周围的分散剂带负电荷。由此，碳纳米管或碳纳米管周围的分散剂相互静电排斥，从而使得碳纳米管的分散性进一步增加，能够使管束直径较小。优选在使用上述混合分散机将碳纳米管与分散剂混合并进行分散的工序中进行pH调节。此外，在分散工序之后进行pH调节也可获得同样的效果。

碳纳米管分散液的pH可通过向碳纳米管分散液中添加基于阿仑尼乌斯定义的酸性物质、碱性物质来进行调节。对于酸性物质而言，例如，作为质子酸，可举出盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、氟硼酸、氢氟酸、高氯酸等无机酸、有机羧酸、酚类、有机磺酸等。作为有机羧酸，例如，可举出甲酸、乙酸、草酸、苯甲酸、邻苯二甲酸、马来酸、富马酸、丙二酸、酒石酸、柠檬酸、乳酸、琥珀酸、一氯乙酸、二氯乙酸、三氯乙酸、三氟乙酸、硝基乙酸、三苯基乙酸等。作为有机磺酸，例如，可举出烷基苯磺酸、烷基萘磺酸、烷基萘二磺酸、萘磺酸甲醛缩聚物、三聚氰胺磺酸甲醛缩聚物、萘二磺酸、萘三磺酸、二萘基甲烷二磺酸、蒽醌磺酸、蒽醌二磺酸、蒽磺酸、芘磺酸等。上述酸中，优选的是在涂布后的干燥时容易挥发的酸，例如盐酸、硝酸等。

作为碱性物质，例如，可举出氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙、氨等。其中优选的是在涂布干燥时挥发的挥发碱，例如氨。

[碳纳米管分散液的pH调节]

碳纳米管分散液的pH调节如下进行：一边测定pH，一边添加上述酸性物质或碱性物质，直至变为所期望的pH。作为pH测定方法，可举出使用石蕊试纸等pH试纸的方法、氢电极法、醌氢醌电极法、锑电极法、玻璃电极法等。其中，玻璃电极法因简便、可获得需要的精度而优选。此外，在过量地添加酸性物质或碱性物质而超过所期望的pH值的情况下，只要添加具有相反特性的物质来调节pH即可。作为适用于上述调整的酸性物质，优选硝酸；作为碱性物质，优选氨。

[含有包含碳原子的导电体的导电层的形成]

将含有导电体的分散液涂布于基材上(或内涂层上)，进一步进行干燥，从而得到导电层。含有导电体的导电层经由下述工序形成：涂布工序，将含有导电体的分散液涂布于基材上；和干燥工序，在涂布工序之后除去分散介质。将分散液涂布于基材上的方法没有特别限定。可利用已知的涂布方法，例如喷射涂布、浸渍涂布、旋转涂布、刮刀涂布、凹版涂布、缝模涂布、棒式涂布、辊式涂布、丝网印刷、喷墨印刷、移印、其他种类的印刷等。此外，涂布可以分多次进行，也可以组合2种不同的涂布方法。最优选的涂布方法是凹版涂布、棒式涂布、缝模涂布。作为在涂布工序之后、从所涂布的含有分散剂的碳纳米管分散液中除去分散介质的干燥工序，可举出对基材吹热风的对流热风干燥；通过来自于红外线干燥装置的辐射而使基材吸收红外线，从而转变为热而进行加热使其干燥的辐射电热干燥；通过来自于被热介质加热的壁面的热传导而进行加热使其干燥的传导电热干燥等。其中，对流热风干燥因干燥速度大而优选。

[含有导电体的导电层的厚度的调整]

将含有碳管(carbontube)等包含碳原子的导电体的分散液涂布于基材上时的涂布厚度也依赖于分散液的浓度，因此，只要进行适宜调整以得到期望的表面电阻值即可。为了达成需要导电性的各种用途，本发明中的导电体的涂布量可以容易地进行调整。若要求透明性，则优选的厚度为0.1～10mg/m²。

[外涂层]

导电层合体中可以具有外涂层。通过具有外涂层，可以进一步提高透明导电性、耐热性稳定性、耐湿热稳定性，故而优选。

作为外涂层的材料，有机材料、无机材料均可以使用。其中，从电阻值的稳定性的观点考虑，优选无机材料。作为无机材料，可举出二氧化硅、氧化锡、氧化铝、氧化锆、二氧化钛等金属氧化物。其中，从电阻值的稳定性的观点考虑，优选二氧化硅。

[外涂层的形成方法]

对于进行图案化之前的导电层合体的制造中设置外涂层的方法没有特别限定。可利用已知的湿式涂布方法，例如喷射涂布、浸渍涂布、旋转涂布、刮刀涂布、吻合涂布、辊式涂布、凹版涂布、缝模涂布、棒式涂布、丝网印刷、喷墨印刷、移印等方法。此外，也可利用干式涂布方法。作为干式涂布方法，可利用溅射、蒸镀等物理气相沉积、化学气相沉积等。此外，在导电体上设置外涂层的操作可以分多次进行，也可以组合2种以上的不同的方法。优选的方法是作为湿式涂布法的凹版涂布、棒式涂布、缝模涂布。

作为利用湿式涂布法形成由二氧化硅形成的外涂层的方法，优选使用有机硅烷化合物的方法。例如，可举出下述方法：可以将四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷等四烷氧基硅烷等有机硅烷化合物水解从而制作二氧化硅溶胶，将该二氧化硅溶胶溶解在溶剂中而得到的物质作为涂布液；然后，使用上述涂布液进行上述湿式涂布，在溶剂干燥时，使硅烷醇基彼此缩合或使硅烷醇基与烷氧基缩合，形成二氧化硅薄膜。

外涂层的厚度可通过调整涂布液的浓度及涂布时的涂布液的厚度来控制。在要求透明性的用途的情况下，若为可有效获得基于光学干涉的防反射效果的厚度，则光线透过率提高，故而优选。因此，作为外涂层的厚度，如上文所述，优选使其与内涂层的厚度之和在80～120nm的范围内。此外，通过使外涂层的厚度较厚，可以抑制硝酸等掺杂剂(其提高了导电体的导电性)的飞散，使耐热性提高。对防止该掺杂剂的飞散而言有效的外涂层的厚度为40nm以上，若考虑到上述用于获得防反射效果的内涂层与外涂层的总厚度的范围，则更优选使外涂层的厚度为40～110nm。

[从导电层合体的图案形成方法]

说明对使用通过上述步骤制得的将碳纳米管作为导电体的导电层合体、及使用石墨烯、导电性高分子等作为导电体的导电层合体进行图案化的方法。

本发明中，通过在电解液与导电体接触的状态下施加电压，从而减少导电体，使所期望部位的导电性丧失。本发明中，在介由除去了导电体的部位而隔开的导电层间的电阻大于10MΩ的情况下，判断为丧失了导电性。该情况下，用于测定电阻的2个端子间的距离为10mm以内。本发明中的导电层必须为含有导电体的导电层，但由于导电体有时也含浸于上述内涂层、外涂层中，所以内涂层、外涂层也包含在导电层的概念中。其原因在于，碳纳米管等包含碳的导电体具有较大的形状，因此容易侵入至其他层。进而，由于碳纳米管为纤维状，所以向其他层中侵入的容易性更明显。

丧失了导电性后，在导电层中残留有未被电化学反应除去的成分即内涂层的成分、导电体、外涂层的成分也没问题。即使没有将全部的导电体除去，若上述电阻大于10MΩ，则也可判断为丧失了导电性。

虽然导电体被除去的机理并不明确，但推断是通过下述式的电化学反应而除去的。

推测在导电层侧发生了以下反应。

C+2H₂O→CO₂+4H⁺4e^-···式(1)

该情况下，推测在对电极发生了以下的还原反应。

2H⁺+2e^-→H₂···式(2)

综合上述2个反应，则成为下述反应式。

C+2H₂O→CO₂+2H₂···式(3)

也就是说，含有碳原子的导电体被氧化成为二氧化碳，由此使得导电体减少，从而丧失导电性。

关于对电极的材质，为了满足上述目的，只要是电化学上稳定的导电体即可，没有限制。可使用金、银、铜、铁、铂、钌等金属、玻璃碳(glassycarbon)等碳类。

施加的电压只要是式(1)的反应以充分快的速度发生的电压即可，没有特别限制，但优选为5～15V的范围。施加的电压更优选为5～10V，进一步优选为5～7.5V。

此外，作为本发明中使用的电解液，可举出纯水、及含有钠化合物、钾化合物等电解质的水溶液。

从如式(1)的反应那样消耗水作为反应物的观点考虑，水是必需的。为了在导电层与对电极之间迅速地输送H+，电解液优选具有离子导电性。也可以使用纯水，但根据需要，为了提高离子导电性，也可以添加氯化钙、氯化钠等电解质。

此外，从除去速度快、以及得到的图案的分辨率的观点考虑，希望导电层与对电极之间的距离在导电层和对电极不接触的程度上尽可能地小。实用的距离为10～1,000μm。该距离可通过在导电层与对电极之间设置特定厚度的间隔物(spacer)来控制。因此，间隔物的厚度优选为10～1,000μm。

对本发明的利用导电体除去(其基于电化学反应)来进行图案化的方法进行说明。

第1方法是在导电层的表面的一部分上设置掩蔽材料、阻挡导电层的一部分与电解液接触的方法。作为设置掩蔽材料的方法，有在图案化前的导电层合体的导电层上设置经图案化的掩蔽材料的方法。例如，为下述方法：在导电层合体上涂布光致抗蚀剂，进行图案曝光、显影从而得到图案，使用具有所得的图案的光致抗蚀剂作为掩蔽材料。作为光致抗蚀剂，可使用溶液型、干膜抗蚀剂型的光致抗蚀剂中的任一种。此外，可使用负性动作、正性动作中的任一种的光致抗蚀剂。此外，也可以在图案化前的导电层合体的导电层上，利用印刷法将作为掩蔽材料的抗蚀剂形成图案。作为印刷方法，为丝网印刷、凹版印刷、凸版印刷、平版印刷中的任一种均可。由此，可在导电层合体的导电层上对经图案化的掩蔽材料进行图案加工。图1为使用已被图案化的抗蚀剂、从导电层合体中除去导电体的装置的简图。将包含基材102、导电层103及进行了图案形成的抗蚀剂104的试样设置在电解液101中。将对电极105也设置在电解液101中。用导线106连接导电层103和对电极105，以导电层103为阳极、以对电极105为阴极地施加电压。这样的话，在不存在抗蚀剂104的部分的导电层103中的导电体不断减少。

第2图案化方法是使用经图案化的对电极的方法。利用图2来说明采用本方法除去导电体的一例。

具有由基材201和导电层202形成的导电层合体203。设置于下部基材205上且已被图案化的对电极207隔着电解液206而与导电层202以小间隔相对。若以导电层202为阳极、以对电极207为阴极地施加电压，则导电层202的导电体的一部分与对电极207的图案形状相对应地不断减少。

在该情况下，优选使导电层202与对电极207之间在两者不接触的范围内尽可能地接近。利用间隔物204调整导电层202与对电极207的距离。

作为其他方法，为下述方法：在对电极上设置具有图案形状的掩蔽材料，其结果是，使得对电极与电解液相对应地具有图案形状。图3中，经图案化的间隔物304相对于导电层302作为掩蔽材料而发挥作用，可以说间隔物304形成了对电极307的图案。具有由基材301和导电层302形成的导电层合体303。下部电极层合体308包含下部基材305和设置于其上的对电极307。对电极307隔着电解液306而与导电层302相对。在导电面与对电极之间具有用于保持电解液306的间隔物304。以导电层302为阳极、以对电极307为阴极地施加电压。

与前述的使用光致抗蚀剂的方法相比，使用进行了图案化的对电极的方法及使用进行了图案化的间隔物的方法在不需要光刻工序的方面是优异的。

作为本发明的电化学性的图案化方法的特征，可举出以下3点。

(1)现有的用于ITO、金属薄膜的蚀刻剂大多是强酸、混合酸、氧化性或腐蚀性大的药剂、强碱，操作困难，或操作设备需要成本。由于本发明的方法是在浸渍于水中的状态下施加电压进行蚀刻，所以操作、设备的设计容易进行。

(2)根据目的，可以通过调整电压来控制导电体的除去速度及图案化精度。降低电压时，导电体的除去速度变慢，可获得高的图案化精度。此外，升高电压时，虽然图案化精度下降，但是可提高导电体的除去速度，从而可提高生产率。

(3)由于选择性地仅除去导电体，因此在导电层含有导电体和不进行电化学反应的绝缘物的情况下，绝缘物在除去了导电体的部位也有残留。因此，导电体和除去了导电体的部位的视觉性差异小，图案化痕迹不容易被目视识别。作为此处所谓的绝缘物，例如，可举出构成上述使用碳纳米管作为导电体时的导电层合体中的内涂层、外涂层的无机材料、有机材料。

利用本发明的发明而得到的导电层合体，适用于静电电容式触摸开关、静电电容式或电阻膜式触摸面板用途。作为静电电容式触摸开关、静电电容式触摸面板使用时，对导电层合体实施图案化，形成图案化电极。通过手指等与上述图案化电极接触，微小电流经由导电体流动，检测此时变化的静电电容，检测出作为开关的动作或位置。使用本发明，能够提供图案可见性小的静电电容式触摸开关、触摸面板。电阻膜式触摸面板中，将2片至少含有一片本发明的导电层合体的透明电极，以导电面彼此相对的形态设置。用手指等按压透明电极，检测电极彼此接触的位置。该情况下，需要将导电层合体的端部图案化。本发明的图案化方法也可用于电阻膜式触摸面板用导电层合体的图案化。

实施例

以下，通过实施例更详细地说明本发明，但本发明并不受这些实施例限定。本实施例中所采用的测定法如下所示。只要没有特别说明，则在从测定值计算数值时，将测定的次数设定为2次，采用其平均值作为数值。

<测定法>

(1)表面电阻值

使探头与制成为5cm×10cm大小的导电层合体的导电层侧的中央部密合，利用4端子法于室温下测定表面电阻值。使用的装置为DaiaINSTRUMENTS(株)制的电阻率计MCP-T360型，使用的探头为DaiaINSTRUMENTS(株)制的四探针探头MCP-TPO3P。

(2)全光线透过率

基于JISK7361(1997)，使用日本电色工业(株)制的浊度计NDH4000进行测定。

(3)间隙的绝缘性判断(其一。实施例1～8、比较例1)

图4为判断后述的实施例1～8、比较例1中制作的导电层合体的图案的间隙部有无绝缘的方法中所使用的装置的概念图。所谓间隙，是指导电体被除去、应当变得不导通的部分。将用于测定直流电阻的电阻计401的+端子402、-端子403分别连接于经由间隙405而隔开的导电体残留部404和406。作为电阻计401，使用A&DCompany，Limited数字万用表AD-5536。+端子、-端子间的距离为10mm。测定端子间电阻值，将超过10MΩ的情况判断为实现了绝缘，将其他情况判断为没有绝缘。

(4)间隙的绝缘性判断(其二)、细线部导通性判断

利用图5来说明判断后述的实施例9～10中制作的经图案化的导电层合体的导电体除去部绝缘性的方法及判断细线部导通性的方法。与上述(3)间隙的绝缘判断同样地，将用于测定直流电阻的电阻计(未图示)的+端子、-端子分别连接于经由间隙502而隔开的导电体残留部503和导通确认用电极连接部位504A。导电体残留部503中，只要是比线段a更靠504A侧的位置，则可将端子连接于任何位置。用于测定电阻的2个端子间的距离为10mm。与(3)同样地，电阻计使用A&DCompany，Limited数字万用表AD-5536。测定端子间电阻值，将超过10MΩ的情况判断为绝缘。

关于实施例9～10，还调查了细线部501有无导通。在2个导通确认用电极连接部位504上连接未图示的电阻计的+端子和-端子，将100kΩ以下的情况判断为导通，将其他情况判断为没有导通。

(5)外涂层的残留性判断

使用KEYENCE(株)制激光显微镜VK-9710，观察已图案化的部位，进行高度的测定，确认在除去了导电体的部位是否残留有外涂层。利用图6进行说明。601是导电层，602是除去了导电体的间隙。如以下的[经图案化的导电层合体的制造方法]中所示，除去了导电体的部位的宽度X为约1mm。以横穿除去了导电体的部位的方式测定线段A处的高度。测定部位的宽度Y为5mm。如下文所述，外涂层的厚度为约60nm，因此，当线段A上的高度分布的最大值与最小值之差为10nm以下时，判断为残留有外涂层。

<制作>

[内涂层形成例]

通过以下操作，形成作为聚硅酸酯粘合剂与亲水性二氧化硅微粒的复合体的亲水性二氧化硅内涂层。

将含有亲水性二氧化硅微粒和聚硅酸酯的(株)菱和制“MegaAqua”(注册商标)亲水DM涂料DM30-26G-4用作内涂层用的涂布液。将上述DM30-26G-4用异丙醇调整至固态成分为1质量％，制成用于形成内涂层的涂布液。作为基材，使用厚度为188μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜东丽株式会社制“Lumirror”(注册商标)U46。使用UR200线的凹版辊，将凹版辊的转速相对于线速度的比设定为1.5倍，在基材上涂布上述内涂层用的涂布液。涂布后，在80℃的干燥机内干燥1分钟。利用该方法制作的内涂层的厚度为约40nm。

[催化剂制备例：金属盐催化剂在氧化镁上的担载]

将2.46g柠檬酸铁铵溶解在500mL甲醇中。向该溶液中加入100.0g氧化镁(岩谷化学工业(株)制MJ-30)，使用搅拌机剧烈搅拌60分钟，在减压下于40℃将得到的悬浮液浓缩干固。将得到的固体制成粉末，于120℃对上述粉末进行加热干燥，除去甲醇，得到在氧化镁粉末上担载有金属盐的催化体。对于得到的固态成分，一边用研钵进行细粒化，一边筛分而利用粒径在20～32目(0.5～0.85mm)的范围内的细粒。得到的催化体中含有的铁原子的含量为0.38质量％。此外，体积密度(bulkdensity)为0.61g/mL。重复进行上述操作，供给于以下实验。

[碳纳米管的制造例]

使用图7所示的反应器，进行碳纳米管的合成。反应器703是内径为75mm、长度为1,100mm的圆筒形石英管。在石英管的中央部具备石英烧结板702，在石英管的下方部具有作为非活性气体及原料气体供给线的混合气体导入管708，在上部具有排气管706。而且，作为包围石英管的加热器，具有3台电炉701，从而能够将反应器保持在任意温度。此外，为了检测反应管内的温度，具有热电偶705。

称取在上文中说明过的催化剂制备例中制备的固体催化体132g，导入至设置于垂直方向上的反应器的中央部的石英烧结板702上，由此形成催化剂层704。一边加热催化剂层直至反应管内温度变为约860℃，一边使用质量流量控制器707以16.5L/分钟从反应器底部向反应器上部方向供给氮气，使氮气以通过催化剂层的方式流通。然后，一边供给氮气，一边使用质量流量控制器707进一步以0.78L/分钟导入甲烷气体60分钟，使气体通过催化体层，从而使发生化学反应。此时的固体催化体的质量除以甲烷的流量而得到的接触时间(W/F)为169分钟·g/L，含有甲烷的气体的线速为6.55cm/秒。停止导入甲烷气体，一边以16.5L/分钟使氮气流通，一边将石英反应管冷却至室温。

停止加热，放置至室温，达到室温后从反应器中取出含有催化体和碳纳米管的含碳纳米管组合物。

[碳纳米管的精制及氧化处理]

将130g在碳纳米管的制造例中得到的含碳纳米管组合物，在2,000mL的4.8N的盐酸水溶液中搅拌1hr，由此将作为催化剂金属的铁和作为其载体的氧化镁溶解。对得到的液体即黑色悬浮液进行过滤后，将滤得物再次投入400mL的4.8N的盐酸水溶液中，除去氧化镁并进行过滤。重复该操作3次。然后，用离子交换水进行水洗直至滤得物的悬浮液成为大致中性，然后直接以含有水的湿润状态保存含碳纳米管组合物。此时，含有水的湿润状态的含碳纳米管组合物整体的质量为102.7g(含碳纳米管组合物浓度：3.12质量％)。

相对于得到的湿润状态的含碳纳米管组合物的干燥质量份，添加约300倍质量的浓硝酸(和光纯药工业(株)制，1级，Assay60～61质量％)。然后，在约140℃的油浴中一边搅拌25hr一边加热回流。在加热回流后，用离子交换水将含有含碳纳米管组合物的硝酸溶液稀释至3倍，进行抽滤。用离子交换水进行水洗直至滤得物的悬浮液成为中性后，得到含有水的湿润状态的碳纳米管聚集体。此时，含有水的湿润状态的碳纳米管组合物整体的质量为3.351g(含碳纳米管组合物浓度：5.29质量％)。

[碳纳米管分散液的制备]

在容器中加入得到的湿润状态的碳纳米管(换算成干燥质量为25mg)、1.04g的6质量％羧甲基纤维素钠(第一工业制药(株)制，CELLOGEN7A(重均分子量：20万))水溶液、0.8g离子交换水、13.3g氧化锆珠(东丽株式会社制，“TORAYCERAM”(注册商标)、珠尺寸：0.8mm)，使用28质量％氨水溶液将pH调节为10(分散剂/碳纳米管(质量比)＝2.5)。使用振动球磨机((株)入江商会社制，VS-1，振动频率：1,800cpm(60Hz))将该容器振荡2hr，制备碳纳米管糊料。

然后，用离子交换水对该碳纳米管糊料进行稀释，以使得碳纳米管的浓度成为0.15质量％，对于10g该稀释液，再次用28质量％氨水溶液将pH调节为10。将超声波均化器(家田贸易(株)制，VCX-130)的输出功率设为20W，将该水溶液一边进行冰冷一边于10℃以下的温度下分散处理1.5分钟(2kW·分钟/g)。使用高速离心分离机(TomySeikoCo.，Ltd.、MX-300)以10,000G对得到的液体进行离心处理15分钟，得到9g碳纳米管分散液。然后，添加水进行制备，使得以终浓度计碳纳米管聚集体的浓度为0.04质量％，得到涂布用原液。

[碳纳米管层的形成]

向上述涂布用原液中添加离子交换水，调整为0.04质量％后，利用凹版涂布法将其涂布在位于基材之上的内涂层上，在80℃的干燥机内干燥1分钟，将碳纳米管组合物固定化。

[外涂层的形成]

向100mL的塑料容器中加入20g乙醇，添加40g硅酸正丁酯，搅拌30分钟。然后，添加10g的0.1N盐酸水溶液后，进行2hr搅拌，于4℃静置12hr。将该溶液利用甲苯、异丙醇和甲基乙基酮的混合液进行稀释，使得固态成分浓度成为1.5质量％。

在凹版辊为UR150线、凹版辊的转速相对于线速度的比为1.5倍的条件下，将该涂布液涂布于碳纳米管层上后，在115℃的干燥机内干燥1分钟。利用该方法制作的外涂层的厚度为约60nm。

[经图案化的导电层合体的制造方法1]

图3为表示用于制造经图案化的导电层合体的构成的截面概念图。将在基材301上层合导电层302而得的导电层合体303用作图案化的对象。作为下部电极层合体308，使用镀铜膜(TorayAdvancedFilmCo.，Ltd.制“METAROYAL”(注册商标)PI-38N-CCS-08E0)，使导电层302与由铜形成的对电极307隔着间隔物304(NipponPolytechCorp.制阻焊剂NPR-3300(厚度为30μm))而相对。此时，在间隔物中设置1mm宽的狭缝，加入纯水作为电解液306。将导电层302与电极取出口(未图示)电连接，将对电极307也同样地与电极取出口(未图示)连接。将各电流取出口与菊水电子工业(株)制的直流稳定化电源PMC-70-1A的电极端子连接，在导电层302与对电极307之间施加直流电压。以下，对导电层302施加+的电压时，用正电压值表示。反之，将对对电极307施加+的电压的情况用负电压值表示。

[经图案化的导电层合体的制造方法2]

利用图1及图8，说明制造经图案化的导电层合体的方法。使用辊温度设定为100℃的辊层压机(TaiseiLaminatorCo.，Ltd.制VA-700)，将干膜负性抗蚀剂(AsahiKaseiE-materialsCorporation制“SUNFORT”(注册商标)AQ209A)层压在导电层合体的导电层面上，隔着图8所示的光掩模(具有包含相当于细线部的部分801的宽度为300μm、相当于间隙的部分802的宽度为50μm的部分的图案)，使用掩模对准机(MIKASACO.，LTD.制MA-60F)在积算光量为100mJ/cm²的条件下进行曝光。相当于导通确认用电极连接部位的部分804A及804B各自的中心的距离为3cm。接着，用喷雾器吹喷1质量％碳酸钠水溶液进行显影，得到形成有已被图案化的抗蚀剂的导电层合体。

接着，构成图1所示的电路，并施加直流电压。此时，电解液101使用纯水，对电极105使用厚度为1mm的铜板。然后，将上述形成有已被图案化的抗蚀剂的导电层合体，在50℃的3质量％氢氧化钠水溶液中浸渍30秒，除去干膜抗蚀剂，得到经图案化的导电层合体。以下，对导电层103施加+的电压时，用正电压值表示。反之，将对对电极105施加+的电压的情况用负电压值表示。

以下，说明各实施例的步骤及结果。

(实施例1)

按照上文中说明过的[内涂层形成例]，形成内涂层。在凹版辊为UR120线、凹版辊的周速相对于线速度的比为1.2倍的条件下，在内涂层上涂布碳纳米管分散液，形成碳纳米管层。需要说明的是，根据凹版辊线数和凹版辊的周速相对于线速度的比可预测分散液的厚度，因此碳纳米管的设计膜厚也可算出。

利用[外涂层形成例]的方法在周速比碳纳米管层上设置外涂层，制作导电层合体。表面电阻值为600Ω/□，全光线透过率为90％。按照上述[经图案化的导电层合体的制造方法1]，对该导电层合体施加10V的直流电压2秒，结果，确认到图案线是绝缘的。

(实施例2～6、比较例1)

到内涂层的制作为止各实施例、比较例是相同的。使各实施例、比较例中的碳纳米管分散液的涂布条件(凹版辊线数、凹版辊的周速相对于线速度的比)、碳纳米管的计划每平方米重量及有无外涂层为表1及表2所示的组合，除此之外，与实施例1同样地操作，制作导电层合体。对于所制作的导电层合体，以表2所示的施加电压、电压施加时间，与实施例2同样地进行图案化。

(实施例7)

将PET膜作为基材，使用由作为导电体的石墨烯形成了导电层的ItrixCorporation制石墨烯膜(尺寸50mm×50mm)，以表2所示的施加电压、电压施加时间，与实施例1同样地进行图案化。

(实施例8)

将膜作为基材，使用由作为导电体的导电性高分子形成了导电层的长濑产业(株)制NCF-100，以表2所示的施加电压、电压施加时间，与实施例1同样地进行图案化。

(实施例9)

与实施例1同样地操作，制作导电层合体。按照上文中说明过的[经图案化的导电层合体的制造方法2]，对导电层合体施加5V的直流电压20秒。确认到该经图案化的导电层合体的细线部501是导通的，间隙502实现了绝缘。

(实施例10)

将施加的直流电压条件变更为5V、60秒，除此之外，利用与实施例9同样的方法得到经图案化的导电层合体。确认到该经图案化的导电层合体的细线部501也是导通的，间隙502也实现了绝缘。

综上，将实施例1～6、9、10及比较例1的碳纳米管层形成时的凹版辊线数、碳纳米管的计划每平方米重量示于表1中，将实施例1～10及比较例1有无外涂层、外涂层膜厚、导电层合体的表面电阻值、全光线透过率、施加电压、电压施加时间、间隙有无绝缘、细线部有无导通、及图案化后有无外涂层残留示于表2中。

从表2、实施例1～3可知，对于表面电阻值为600Ω/□、全光线透过率为90％的样品而言，若分别以施加电压为10V且电压施加时间为2秒的条件、以施加电压为7.5V且电压施加时间为5秒的条件、以施加电压为5V且电压施加时间为15秒以上的条件来施加电压，则可将碳纳米管充分除去，可实现绝缘。对实施例3和比较例1进行比较可知，对于本图案化方法而言，电压的极性是重要的，即使施加相反的电压，碳纳米管也不会被除去。从实施例1、4、5可知，若选择适当的施加电压值、电压施加时间，则本方法至少在全光线透过率成为88％～92％的碳纳米管存在量的范围内有效，无论有无外涂层，均可适用。需要说明的是，对于设置了外涂层进行实验的实施例1～4、9、10而言，即使在图案化后，外涂层仍有残留，图案线与间隙的边界不容易被目视识别。

此外，从实施例7及8可知，本方法不仅对以碳纳米管为导电体的导电层合体有效，对于在导电层中含有石墨烯或导电性高分子等包含碳原子的导电体的导电层合体也是有效的。

此外，从实施例9及10可知，即使通过在导电层合体上形成已图案化的抗蚀剂的方法，也能够将导电层合体图案化。

(实施例11)

使光掩模的图案为静电电容式触摸开关动作的形状，除此之外，与实施例1同样地制造经图案化的导电层合体。将其作为静电电容式触摸开关来安装驱动电路，结果，确认到了其作为静电电容式触摸开关工作。

(实施例12)

使光掩模的图案为静电电容式触摸面板动作的形状，除此之外，与实施例10同样地制造经图案化的导电层合体。将其作为静电电容式触摸面板来安装驱动电路，结果，确认到了其作为静电电容式触摸面板工作。

表1

[表1]

产业上的可利用性

通过本发明的制造方法得到的经图案化的导电层合体可广泛用于静电电容式触摸开关、静电电容式触摸面板、电阻膜式触摸面板、太阳能电池用电极等。

附图标记说明

101：电解液

102：基材

103：导电层

104：抗蚀剂

105：对电极

106：导线

201：基材

202：导电层

203：导电层合体

204：间隔物

205：下部基材

206：电解液

207：对电极

301：基材

302：导电层

303：导电层合体

304：间隔物

305：下部基材

306：电解液

307：对电极

308：下部电极层合体

401：电阻计

402：+端子

403：-端子

404：导电体残留部

405：间隙

406：导电体残留部

501：细线部

502：间隙

503：导电体残留部

504A、504B：导通确认用电极连接部位

601：导电层

602：间隙

701：电炉

702：石英烧结板

703：反应器

704：催化剂层

705：热电偶

706：排气管

707：质量流量控制器

708：混合气体导入管

709：烃气储气瓶

710：非活性气体储气瓶

801：相当于细线部的部分

802：相当于间隙的部分

803：相当于导电体残留部的部分

804A、804B：相当于导通确认用电极连接部位的部分

Claims (11)

1.经图案化的导电层合体的制造方法，包括以下工序：

对于导电层合体，在隔着电解液而存在有对电极的状态下，以导电层为阳极、以对电极为阴极地施加电压，从导电层合体中除去导电层中的导电体，

所述导电层合体依次具有基材及导电层，所述导电层含有包含碳原子的导电体。

2.如权利要求1所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，在施加电压时，在导电层合体的导电层侧的表面的一部分上存在掩蔽材料，所述掩蔽材料阻挡导电层合体与电解液的接触，并且已被图案化。

3.如权利要求1所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，在施加电压时，在对电极的导电层合体侧的表面的一部分上存在掩蔽材料，所述掩蔽材料阻挡对电极与电解液的接触，并且已被图案化。

4.如权利要求1所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，对电极具有图案形状。

5.如权利要求1～4中任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，所述包含碳原子的导电体为选自由碳纳米管、石墨烯及导电性高分子组成的组中的至少1种。

6.如权利要求1～5中任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，导电层在施加电压前含有绝缘物，在除去了导电层中的导电体后，在除去了导电体的部位仍残留有绝缘物。

7.如权利要求1～6中任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，施加电压为5V以上且15V以下。

8.如权利要求1～7中任一项所述的经图案化的导电层合体的制造方法，其中，电压的施加时间为2秒以上且60秒以下。

9.一种经图案化的导电层合体，其是利用权利要求1～8中任一项所述的制造方法制得的。

10.一种静电电容式触摸开关，其使用了权利要求9所述的经图案化的导电层合体。

11.一种触摸面板，其使用了权利要求9所述的经图案化的导电层合体。