CN105474096A - 辐射敏感树脂组合物、树脂膜及电子部件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种辐射敏感树脂组合物,其含有:粘合剂树脂(A)、醌二叠氮系的光产酸剂(B)、(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及光聚合引发剂(D)。根据本发明,可提供能够获得对基材显示高密合性、且透明性、感光性及耐药品性优异的树脂膜的辐射敏感树脂组合物。
Description
技术领域
本发明涉及辐射敏感树脂组合物、使用该辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜及电子部件,更具体而言,涉及能够获得对基材显示高密合性、且透明性、感光性及耐药品性优异的树脂膜的辐射敏感树脂组合物、及使用该辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜及电子部件。
背景技术
在触摸屏、柔性有机EL显示器等具有触控面板结构的显示装置、集成电路元件、固体摄像元件、滤色器、黑矩阵等电子部件中,作为用于防止其劣化及损伤的保护膜、用于使元件表面、布线实现平坦化的平坦化膜、用于保持电绝缘性的电绝缘膜等,设置有各种树脂膜。
以往,作为用于形成这样的树脂膜的树脂材料,常用的是环氧树脂等热固性树脂材料。但随着近年来布线、器件的高密度化,对于这些树脂材料,也要求开发出低介电性等电气特性优异的新型的树脂材料。
为了满足这些要求,例如,专利文献1中公开了含有具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物、含不饱和基团的化合物、硅烷改性有机无机杂化化合物及自由基发生型光聚合引发剂的辐射敏感树脂组合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2012-211988号公报
发明内容
发明要解决的问题
根据专利文献1中记载的辐射敏感树脂组合物,虽然能够获得透明性等优异的树脂膜,但与钠玻璃基板等透明基板的密合性并不一定充分,因此,其并不适合用于要求与钠玻璃基板等透明基板的密合性优异的树脂材料的用途,例如具有触控面板结构的显示装置的保护膜、电绝缘膜用途。
为此,本发明的目的在于提供一种能够获得对基材显示高密合性、且透明性、感光性及耐药品性优异的树脂膜的辐射敏感树脂组合物。另外,本发明的目的还在于提供使用这样的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜、以及具备该树脂膜的电子部件。
解决问题的方法
本发明人等为达成上述目的而进行了深入研究,结果发现,利用含有粘合剂树脂、醌二叠氮系的光产酸剂、(甲基)丙烯酸酯化合物及光聚合引发剂的辐射敏感树脂组合物,可以达成上述目的,进而完成了本发明。
即,根据本发明,可提供:
[1]一种辐射敏感树脂组合物,其含有粘合剂树脂(A)、醌二叠氮系的光产酸剂(B)、(甲基)丙烯酸酯化合物(C)、及光聚合引发剂(D);
[2]上述[1]所述的辐射敏感树脂组合物,其中,相对于上述粘合剂树脂(A)100重量份,上述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的含有比例为0.3~22重量份;
[3]上述[1]或[2]所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述粘合剂树脂(A)为具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)、丙烯酸树脂(A2)、卡多(Cardo)树脂(A3)、聚硅氧烷(A4)或聚酰亚胺(A5);
[4]上述[1]~[3]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述光聚合引发剂(D)为自由基发生型光聚合引发剂,相对于上述粘合剂树脂(A)100重量份,上述光聚合引发剂(D)的含量为0.3~8重量份;
[5]上述[1]~[4]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)至少含有四官能以上的(甲基)丙烯酸酯;
[6]上述[5]所述的辐射敏感树脂组合物,其中,上述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)为四官能以上的(甲基)丙烯酸酯和单官能的(甲基)丙烯酸酯的组合;
[7]上述[1]~[6]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其还含有交联剂(E);
[8]一种树脂膜,其是使用上述[1]~[7]中任一项所述的辐射敏感树脂组合物而得到的;
[9]一种电子部件,其具备上述[8]所述的树脂膜;以及,
[10]一种具有触控面板结构的显示装置,其具备由上述[8]所述的树脂膜形成的绝缘膜和/或保护膜。
发明的效果
根据本发明,可提供能够获得对基材显示高密合性、且透明性、感光性及耐药品性优异的树脂膜的辐射敏感树脂组合物、使用这样的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜、以及具备这样的树脂膜的电子部件。
具体实施方式
本发明的辐射敏感树脂组合物含有:粘合剂树脂(A)、醌二叠氮系的光产酸剂(B)、(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及光聚合引发剂(D)。
(粘合剂树脂(A))
作为本发明中使用的粘合剂树脂(A),没有特殊限定,但优选为具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)、丙烯酸树脂(A2)、卡多树脂(A3)、聚硅氧烷(A4)或聚酰亚胺(A5),这些中,从能够进一步提高相对于基材的密合性的观点出发,特别优选为具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)。这些粘合剂树脂(A)可以分别单独使用,或将2种以上组合使用。
作为具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)(以下简称为“环状烯烃聚合物(A1)”),可列举:1种或2种以上环状烯烃单体的聚合物、或者1种或2种以上环状烯烃单体和能够与其共聚的单体的共聚物,在本发明中,作为用于形成环状烯烃聚合物(A1)的单体,优选至少使用具有质子性极性基团的环状烯烃单体(a)。
这里,所述质子性极性基团,指的是含有在属于元素周期表第15族或第16族的原子上直接键合氢原子而成的原子团的基团。在属于元素周期表第15族或第16族的原子中,优选属于元素周期表第15族或第16族的第1或第2周期的原子,更优选为氧原子、氮原子或硫原子,特别优选为氧原子。
作为这样的质子性极性基团的具体例,可列举:羟基、羧基(羟基羰基)、磺酸基、磷酸基等具有氧原子的极性基团;伯氨基、仲氨基、伯酰胺基、仲酰胺基(酰亚胺基)等具有氮原子的极性基团;硫羟基等具有硫原子的极性基团;等等。这些中,优选具有氧原子的极性基团,更优选为羧基。在本发明中,对于具有质子性极性基团的环状烯烃树脂上键合的质子性极性基团的个数没有特殊限定,另外,也可以包含不同种类的质子性极性基团。
作为具有质子性极性基团的环状烯烃单体(a)(以下,适当称为“单体(a)”)的具体例,可列举:2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羧基甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-甲氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-乙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-丙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-丁氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-戊氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-己氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-环己氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-苯氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-萘氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-联苯氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-苄氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-2-羟基乙氧基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2,3-二羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-甲氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-丙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-丁氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-戊氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-环己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-苯氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-萘氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-联苯氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-苄氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-羟基乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基-3-羟基羰基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、3-甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、3-羟基甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-3,8-二烯、4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4,5-二羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-羧基甲基-4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、N-(羟基羰基甲基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基戊基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(二羟基羰基乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(二羟基羰基丙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基苯乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-(4-羟基苯基)-1-(羟基羰基)乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基羰基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺等含羧基的环状烯烃;2-(4-羟基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-(4-羟基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯、4-(4-羟基苯基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-(4-羟基苯基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、2-羟基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-羟基乙基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-羟基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2,3-二羟基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(羟基乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-(羟基乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(1-羟基-1-三氟甲基-2,2,2-三氟乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(2-羟基-2-三氟甲基-3,3,3-三氟丙基)双环[2.2.1]庚-5-烯、3-羟基三环[5.2.1.02,6]癸-4,8-二烯、3-羟基甲基三环[5.2.1.02,6]癸-4,8-二烯、4-羟基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-羟基甲基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4,5-二羟基甲基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-(羟基乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-(羟基乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、N-(羟基乙基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(羟基苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺等含羟基的环状烯烃等。这些中,从所得树脂膜的密合性提高的观点出发,优选含羧基的环状烯烃,特别优选4-羟基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯。这些单体(a)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
环状烯烃聚合物(A1)中,相对于全部单体单元,单体(a)的单元的含有比例优选为10~90摩尔%。通过使单体(a)的单元的含有比例在上述范围,能够使本发明的辐射敏感树脂组合物的辐射敏感性、显影时溶解残渣的产生、在极性溶剂中的溶解性更为良好地得到改善。
另外,本发明中使用的环状烯烃聚合物(A1)也可以是具有质子性极性基团的环状烯烃单体(a)和能够与其共聚的单体(b)共聚而得到的共聚物。作为这样的能够共聚的单体,可列举:具有质子性极性基团以外的极性基团的环状烯烃单体(b1)、不具有极性基团的环状烯烃单体(b2)、及环状烯烃以外的单体(b3)(以下,适当称为“单体(b1)”、“单体(b2)”、“单体(b3)”)。
作为具有质子性极性基团以外的极性基团的环状烯烃单体(b1),可列举例如:具有N-取代酰亚胺基、酯基、氰基、酸酐基或卤原子的环状烯烃。
作为具有N-取代酰亚胺基的环状烯烃,可列举例如:下述式(1)所示的单体、或下述式(2)所示的单体。
[化学式1]
(上述式(1)中,R1表示氢原子或碳原子数1~16的烷基或芳基。n表示整数1或2。)
[化学式2]
(上述式(2)中,R2表示碳原子数1~3的2价亚烷基,R3表示碳原子数1~10的1价烷基、或碳原子数1~10的1价卤代烷基。)
上述式(1)中,R1为碳原子数1~16的烷基或芳基时,作为烷基的具体例,可列举:甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基等直链烷基;环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基、环癸基、环十一烷基、环十二烷基、降冰片基、冰片基、异冰片基、十氢萘基、三环癸基、金刚烷基等环状烷基;2-丙基、2-丁基、2-甲基-1-丙基、2-甲基-2-丙基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、1-甲基戊基、1-乙基丁基、2-甲基己基、2-乙基己基、4-甲基庚基、1-甲基壬基、1-甲基十三烷基、1-甲基十四烷基等分支状烷基;等等。另外,作为芳基的具体例,可列举苄基等。这些中,从耐热性以及在极性溶剂中的溶解性更为优异的观点出发,优选碳原子数6~14的烷基及芳基,更优选碳原子数6~10的烷基及芳基。碳原子数为4以下时,在极性溶剂中的溶解性不良,碳原子数为17以上时,耐热性不良,在进一步对树脂膜进行图案化的情况下,存在因热而发生熔融、图案消失的问题。
作为上述式(1)所示的单体的具体例,可列举:双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-苯基-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-甲基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-乙基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-丙基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-丁基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-环己基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-金刚烷基双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基丁基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-丁基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-丁基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-甲基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-乙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-丙基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-丙基戊基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-甲基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-乙基庚基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-丙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-丙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-丙基己基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(5-甲基壬基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(2-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(3-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(4-乙基辛基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基癸基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十二烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十一烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十二烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十三烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十四烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-(1-甲基十五烷基)-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺、N-苯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯-4,5-二羧酰亚胺、N-(2,4-二甲氧基苯基)-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯-4,5-二羧酰亚胺等。需要说明的是,这些单体可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
另一方面,在上述式(2)中,R2为碳原子数1~3的2价亚烷基,作为碳原子数1~3的2价亚烷基,可列举:亚甲基、亚乙基、亚丙基及亚异丙基。这些中,由于聚合活性良好,因此优选亚甲基及亚乙基。
另外,在上述式(2)中,R3为碳原子数1~10的1价烷基、或碳原子数1~10的1价卤代烷基。作为碳原子数1~10的1价烷基,可列举例如:甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、仲丁基、叔丁基、己基及环己基等。作为碳原子数1~10的1价卤代烷基,可列举例如:氟甲基、氯甲基、溴甲基、二氟甲基、二氯甲基、二氟甲基、三氟甲基、三氯甲基、2,2,2-三氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、全氟丁基及全氟戊基等。这些中,由于在极性溶剂中的溶解性优异,因此,作为R3,优选甲基或乙基。
需要说明的是,上述式(1)、(2)所示的单体可以通过例如使对应的胺和5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐进行酰亚胺化反应而得到。另外,对于所得单体,可以通过利用公知的方法对酰亚胺化反应的反应液进行分离、纯化而进行有效地分离。
作为具有酯基的环状烯烃,可列举例如:2-乙酰氧基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-乙酰氧基甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-丙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-丁氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-环己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-甲氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-乙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-丙氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-丁氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-环己氧基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲氧基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-8-烯、2-乙氧基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-8-烯、2-丙氧基羰基三环[5.2.1.02,6]癸-8-烯、4-乙酰氧基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-乙氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-丙氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-丁氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-甲氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-乙氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-丙氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-丁氧基羰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-(2,2,2-三氟乙氧基羰基)四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯等。
作为具有氰基的环状烯烃,可列举例如:4-氰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-氰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4,5-二氰基四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、2-氰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-甲基-2-氰基双环[2.2.1]庚-5-烯、2,3-二氰基双环[2.2.1]庚-5-烯等。
作为具有酸酐基的环状烯烃,可列举例如:四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯-4,5-二羧酸酐、双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酸酐、2-羧基甲基-2-羟基羰基双环[2.2.1]庚-5-烯酐等。
作为具有卤原子的环状烯烃,可列举例如:2-氯双环[2.2.1]庚-5-烯、2-氯甲基双环[2.2.1]庚-5-烯、2-(氯苯基)双环[2.2.1]庚-5-烯、4-氯四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯、4-甲基-4-氯四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-9-烯等。
这些单体(b1)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
作为不具有极性基团的环状烯烃单体(b2),可列举:双环[2.2.1]庚-2-烯(也称为“降冰片烯”)、5-乙基-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-丁基-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙叉-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-甲叉-双环[2.2.1]庚-2-烯、5-乙烯基-双环[2.2.1]庚-2-烯、三环[5.2.1.02,6]癸-3,8-二烯(惯用名:双环戊二烯)、四环[10.2.1.02,11.04,9]十五碳-4,6,8,13-四烯、四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯(也称为“四环十二碳烯”)、9-甲基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-乙基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-甲叉-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-乙叉-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-乙烯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、9-丙烯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、五环[9.2.1.13,9.02,10.04,8]十五碳-5,12-二烯、环丁烯、环戊烯、环戊二烯、环己烯、环庚烯、环辛烯、环辛二烯、茚、3a,5,6,7a-四氢-4,7-桥亚甲基-1H-茚、9-苯基-四环[6.2.1.13,6.02,7]十二碳-4-烯、四环[9.2.1.02,10.03,8]十四碳-3,5,7,12-四烯、五环[9.2.1.13,9.02,10.04,8]十五碳-12-烯等。这些单体(b2)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
作为环状烯烃以外的单体(b3)的具体例,可列举:乙烯;丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、3-乙基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-己烯、4,4-二甲基-1-己烯、4,4-二甲基-1-戊烯、4-乙基-1-己烯、3-乙基-1-己烯、1-辛烯、1-癸烯、1-十二碳烯、1-十四碳烯、1-十六碳烯、1-十八碳烯、1-二十碳烯等碳原子数2~20的α-烯烃;1,4-己二烯、1,5-己二烯、4-甲基-1,4-己二烯、5-甲基-1,4-己二烯、1,7-辛二烯等非共轭二烯、及它们的衍生物;等等。这些中,优选α-烯烃。这些单体(b3)可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。
这些单体(b1)~(b3)中,从使本发明的效果更显著的观点出发,优选具有质子性极性基团以外的极性基团的环状烯烃单体(b1),特别优选具有N-取代酰亚胺基的环状烯烃。
环状烯烃聚合物(A1)中的能够共聚的单体(b)的单元的含有比例相对于全部单体单元优选为10~90摩尔%。如果能够共聚的单体(b)的单元的含有比例过少,则可能导致环状烯烃聚合物(A1)在极性溶剂中的溶解性变得不充分,如果过多,则存在下述隐患:本发明的辐射敏感树脂组合物的辐射敏感性变得不充分、或在显影时产生溶解残渣。
需要说明的是,在本发明中,也可以通过利用公知的改性剂在不具有质子性极性基团的环状烯烃类聚合物中导入质子性极性基团,来得到环状烯烃聚合物(A1)。不具有质子性极性基团的聚合物可以通过任意地组合上述的单体(b1)及(b2)中的至少一种和根据需要的单体(b3)并使它们聚合而得到。
需要说明的是,本发明中使用的环状烯烃聚合物(A1)可以是使上述单体进行开环聚合而得到的开环聚合物,或者,也可以是使上述单体进行加聚而得到的加聚物,但从本发明的效果更为显著的方面考虑,优选为开环聚合物。
开环聚合物可以通过使具有质子性极性基团的环状烯烃单体(a)及根据需要而使用的能够共聚的单体(b)在易位反应催化剂的存在下进行开环易位聚合来制造。作为制造方法,可采用例如在国际公开第2010/110323号的[0039]~[0079]记载的方法等。另一方面,加聚物可以通过使用公知的加聚催化剂、例如由钛、锆或钒化合物和有机铝化合物构成的催化剂使具有质子性极性基团的环状烯烃单体(a)及根据需要而使用的能够共聚的单体(b)进行聚合而得到。
另外,在本发明中使用的环状烯烃聚合物(A1)为开环聚合物的情况下,优选进一步进行加氢反应,得到主链中所含的碳-碳双键经过了加氢的加氢物。环状烯烃聚合物(A1)为加氢物的情况下,发生了氢化的碳-碳双键的比例(加氢率)通常为50%以上,从耐热性的观点出发,优选为70%以上、更优选为90%以上、进一步优选为95%以上。
另外,本发明中使用的丙烯酸树脂(A2)没有特殊限定,优选为以选自下组中的至少1种为必要成分的均聚物或共聚物:具有丙烯酰基的羧酸、具有丙烯酰基的羧酸酐、或含环氧基的丙烯酸酯化合物及含氧杂环丁基的丙烯酸酯化合物。
作为具有丙烯酰基的羧酸的具体例,可列举:(甲基)丙烯酸[表示丙烯酸和/或甲基丙烯酸。以下,(甲基)丙烯酸甲酯等也同样。]、巴豆酸、马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、戊烯二酸、邻苯二甲酸单(2-((甲基)丙烯酰氧基)乙基)酯、N-(羧基苯基)马来酰亚胺、N-(羧基苯基)(甲基)丙烯酰胺等。作为具有丙烯酰基的羧酸酐的具体例,可列举:马来酸酐、柠康酸酐等。
作为含环氧基的丙烯酸酯化合物的具体例,可列举:丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-3,4-环氧基丁酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧基丁酯、丙烯酸-6,7-环氧基庚酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧基庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-环氧基庚酯、丙烯酸-3,4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧环己基甲酯等。
作为含氧杂环丁基的丙烯酸酯化合物的具体例,可列举:(甲基)丙烯酸(3-甲基氧杂环丁烷-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-甲基氧杂环丁烷-3-基)乙酯、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)乙酯、(甲基)丙烯酸(3-氯甲基氧杂环丁烷-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(氧杂环丁烷-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(2-甲基氧杂环丁烷-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(2-乙基氧杂环丁烷-2-基)甲酯、(1-甲基-1-氧杂环丁基-2-苯基)-3-(甲基)丙烯酸酯、(1-甲基-1-氧杂环丁基)-2-三氟甲基-3-(甲基)丙烯酸酯、及(1-甲基-1-氧杂环丁基)-4-三氟甲基-2-(甲基)丙烯酸酯等。这些中,优选(甲基)丙烯酸、马来酸酐、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧基庚酯等。
丙烯酸树脂(A2)可以是选自不饱和羧酸、不饱和羧酸酐及含环氧基的不饱和化合物中的至少一种与其它丙烯酸酯类单体或丙烯酸酯以外的能够共聚的单体形成的共聚物。
作为其它丙烯酸酯类单体,可列举:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸异硬脂酯等(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯等(甲基)丙烯酸羟基烷基酯;(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯等(甲基)丙烯酸苯氧基烷基酯;(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-丙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基丁酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯;聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯;(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-甲基环己酯、(甲基)丙烯酸4-丁基环己酯、1-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基-2-金刚烷基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.02,6]-3-癸烯-8-基酯、(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.02,6]-3-癸烯-9-基酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等(甲基)丙烯酸环烷基酯;(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸联苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸5-四氢糠基氧基羰基戊酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-乙烯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-[三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基氧基]乙酯、(甲基)丙烯酸2-[三环[5.2.1.02,6]-3-癸烯-8-基氧基]乙酯、(甲基)丙烯酸2-[三环[5.2.1.02,6]-3-癸烯-9-基氧基]乙酯、γ-丁内酯(甲基)丙烯酸酯、马来酰亚胺、N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-(2,6-二乙基苯基)马来酰亚胺、N-(4-乙酰基苯基)马来酰亚胺、N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺、N-(4-乙酰氧基苯基)马来酰亚胺、N-(4-二甲基氨基-3,5-二硝基苯基)马来酰亚胺、N-(1-苯胺基萘基-4)马来酰亚胺、N-[4-(2-苯并唑基)苯基]马来酰亚胺、N-(9-吖啶基)马来酰亚胺等。这些中,优选(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-甲基环己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸三环[5.2.1.02,6]癸烷-8-基酯、N-苯基马来酰亚胺及N-环己基马来酰亚胺等。
作为丙烯酸酯以外的能够共聚的单体,只要是能够与上述具有丙烯酰基的羧酸、具有丙烯酰基的羧酸酐或含环氧基的丙烯酸酯化合物共聚的化合物则没有特殊限定,可列举例如:乙烯基苄基甲基醚、乙烯基缩水甘油基醚、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、茚、乙烯基萘、乙烯基联苯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、氯甲基苯乙烯、对叔丁氧基苯乙烯、对羟基苯乙烯、对羟基-α-甲基苯乙烯、对乙酰氧基苯乙烯、对羧基苯乙烯、4-羟基苯基乙烯基酮、丙烯腈、甲基丙烯腈、(甲基)丙烯酰胺、1,2-环氧-4-乙烯基环己烷、异丁烯、降冰片烯、丁二烯、异戊二烯等自由基聚合性化合物。这些化合物可以分别单独使用,也可以将2种以上组合使用。上述单体的聚合方法按照常规方法即可,可采用例如悬浮聚合法、乳液聚合法、溶液聚合法等。
本发明中使用的卡多树脂(A3)是具有卡多结构、即在构成环状结构的季碳原子上键合有两个环状结构而成的骨架结构的树脂。卡多结构通常是在芴环上键合有苯环的结构。
作为在构成环状结构的季碳原子上键合有两个环状结构而成的骨架结构的具体例,可列举:芴骨架、双酚芴骨架、双氨基苯基芴骨架、具有环氧基的芴骨架、具有丙烯酰基的芴骨架等。
本发明中使用的卡多树脂(A3)是由该具有卡多结构的骨架通过键合于其上的官能团间的反应等进行聚合而形成的。卡多树脂(A3)具有主链与大体积侧链通过一个元素连接而成的结构(卡多结构),且在相对于主链大致垂直的方向上具有环状结构。
作为卡多结构的一例,下述式(3)示出了具有环氧缩水甘油基醚结构的卡多结构的例子。
[化学式3]
(上述式(3)中,n为0~10的整数。)
具有卡多结构的单体可列举例如:双(缩水甘油基氧基苯基)芴型环氧树脂;双酚芴型环氧树脂与丙烯酸的缩合物;9,9-双(4-羟基苯基)芴、9,9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴等含卡多结构的双酚类;9,9-双(氰基甲基)芴等9,9-双(氰基烷基)芴类;9,9-双(3-氨基丙基)芴等9,9-双(氨基烷基)芴类;等等。
卡多树脂(A3)是将具有卡多结构的单体聚合而得到的聚合物,但也可以是与其它能够共聚的单体的共聚物。
上述单体的聚合方法采用常规方法即可,可采用例如开环聚合法、加聚法等。
作为本发明中使用的聚硅氧烷(A4),没有特殊限定,优选列举通过将下述式(4)所示的有机硅烷的1种或2种以上混合并使其反应而得到的聚合物。
(R4)m-Si-(OR5)4-m(4)
上述式(4)中,R4为氢原子、碳原子数1~10的烷基、碳原子数2~10的烯基、或碳原子数6~15的芳基,多个R4各自可以相同也可以不同。需要说明的是,这些烷基、烯基、芳基均任选具有取代基,另外,也可以是不具有取代基的无取代物,可以根据组合物的特性而选择。作为烷基的具体例,可列举:甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、正己基、正癸基、三氟甲基、2,2,2-三氟乙基、3,3,3-三氟丙基、3-环氧丙氧基丙基、2-(3,4-环氧环己基)乙基、3-氨基丙基、3-巯基丙基、3-异氰酸酯基丙基。作为烯基的具体例,可列举:乙烯基、3-丙烯酰氧基丙基、3-甲基丙烯酰氧基丙基。作为芳基的具体例,可列举:苯基、甲苯基、对羟基苯基、1-(对羟基苯基)乙基、2-(对羟基苯基)乙基、4-羟基-5-(对羟基苯基羰氧基)戊基、萘基。
另外,上述式(4)中,R5为氢原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的酰基、或碳原子数6~15的芳基,多个R5各自可以相同也可以不同。需要说明的是,这些烷基、酰基均任选具有取代基,另外,也可以是不具有取代基的无取代物,可以根据组合物的特性而选择。作为烷基的具体例,可列举:甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基。作为酰基的具体例,可列举乙酰基。作为芳基的具体例,可列举苯基。
此外,上述式(4)中,m为0~3的整数,m=0的情况下,为四官能性硅烷,m=1的情况下,为三官能性硅烷,m=2的情况下,为二官能性硅烷,m=3的情况下,为单官能性硅烷。
作为上述式(4)所示的有机硅烷的具体例,可列举:四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四乙酰氧基硅烷、四苯氧基硅烷等四官能性硅烷;甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三异丙氧基硅烷、甲基三正丁氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三异丙氧基硅烷、乙基三正丁氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、正丁基三甲氧基硅烷、正丁基三乙氧基硅烷、正己基三甲氧基硅烷、正己基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、对羟基苯基三甲氧基硅烷、1-(对羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷、2-(对羟基苯基)乙基三甲氧基硅烷、4-羟基-5-(对羟基苯基羰氧基)戊基三甲氧基硅烷、三氟甲基三甲氧基硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、3,3,3-三氟丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷等三官能性硅烷;二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基二乙酰氧基硅烷、二正丁基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷等二官能性硅烷;三甲基甲氧基硅烷、三正丁基乙氧基硅烷等单官能性硅烷。
这些有机硅烷中,从得到的树脂膜的耐裂性、硬度方面考虑,优选使用三官能性硅烷。这些有机硅烷可以单独使用,也可以组合使用2种以上。
本发明中使用的聚硅氧烷(A4)可通过使上述的有机硅烷进行水解及部分缩合而得到。水解及部分缩合可以使用常规的方法。例如,在混合物中添加溶剂、水及根据需要的催化剂并进行加热搅拌。搅拌中,可以根据需要通过蒸馏将水解副产物(甲醇等醇)、缩合副产物(水)蒸馏除去。
本发明中使用的聚酰亚胺(A5)可以通过对使四羧酸酐和二胺反应得到的聚酰亚胺前体进行热处理而得到。作为用于得到聚酰亚胺的前体,可列举:聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚异酰亚胺、聚酰胺酸磺酰胺等。
本发明中使用的聚酰亚胺(A5)可利用公知的方法来合成。即,可通过选择性地组合四羧酸二酐和二胺,并使它们在N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、二甲亚砜、六甲基磷酰三胺、γ-丁内酯、环戊酮等极性溶剂中反应等公知的方法来合成。
过量地使用二胺进行聚合时,可以使羧酸酐与生成的聚酰亚胺(A5)的末端氨基反应,从而保护末端氨基。另外,过量地使用四羧酸酐进行聚合时,可以使胺化合物与生成的聚酰亚胺(A5)的末端酸酐基反应,从而保护末端酸酐基。
作为这样的羧酸酐的例子,可列举:邻苯二甲酸酐、偏苯三酸酐、马来酸酐、萘二甲酸酐、氢化邻苯二甲酸酐、甲基-5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐、衣康酸酐、四氢邻苯二甲酸酐等;作为胺化合物的例子,可列举:苯胺、2-羟基苯胺、3-羟基苯胺、4-羟基苯胺、2-乙炔基苯胺、3-乙炔基苯胺、4-乙炔基苯胺等。
本发明中使用的粘合剂树脂(A)的重均分子量(Mw)通常为1,000~1,000,000、优选为1,500~100,000、更优选为2,000~10,000的范围。
另外,粘合剂树脂(A)的分子量分布以重均分子量/数均分子量(Mw/Mn)比计,通常为4以下、优选为3以下、更优选为2.5以下。
粘合剂树脂(A)的重均分子量(Mw)、分子量分布(Mw/Mn)是利用以四氢呋喃等溶剂为洗脱液的凝胶渗透色谱法(GPC)、作为聚苯乙烯换算值而求出的值。
(醌二叠氮系的光产酸剂(B))
本发明中使用的醌二叠氮系的光产酸剂(B)是通过照射紫外线、电子束等放射线而产生酸的醌二叠氮化合物。本发明的辐射敏感树脂组合物由于含有醌二叠氮系的光产酸剂(B)作为光产酸剂,因此,其通常作为正型的辐射敏感树脂组合物而发挥作用。
作为本发明中使用的醌二叠氮系的光产酸剂(B),可使用例如醌二叠氮磺酰卤与具有酚性羟基的化合物形成的酯化合物。作为醌二叠氮磺酰卤的具体例,可列举:1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯、1,2-萘醌二叠氮-4-磺酰氯、1,2-苯醌二叠氮-5-磺酰氯等。作为具有酚性羟基的化合物的代表例,可列举:1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]乙叉]双酚等。作为除这些以外的具有酚性羟基的化合物,可列举:2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮、2-双(4-羟基苯基)丙烷、三(4-羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(4-羟基-3-甲基苯基)乙烷、1,1,2,2-四(4-羟基苯基)乙烷、酚醛清漆树脂的低聚物、使具有1个以上酚性羟基的化合物与双环戊二烯共聚而得到的低聚物等。这些中,优选1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯与具有酚性羟基的化合物的缩合物,更优选1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯与1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷的缩合物。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的醌二叠氮系的光产酸剂(B)的含量相对于粘合剂树脂(A)100重量份优选为10~100重量份、更优选为15~70重量份、进一步优选为20~50重量份。通过使醌二叠氮系的光产酸剂(B)的含量在该范围,可以使使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜更为平衡良好地获得曝光灵敏度、烧制后的形状保持性、及透明性。
((甲基)丙烯酸酯化合物(C))
作为本发明中使用的(甲基)丙烯酸酯化合物(C),为(甲基)丙烯酸[表示丙烯酸和/或甲基丙烯酸。下同。]的酯化合物即可,没有特殊限定,可列举例如:单官能丙烯酸酯、二官能丙烯酸酯、三官能以上的多官能丙烯酸酯、单官能甲基丙烯酸酯、二官能甲基丙烯酸酯、三官能以上的多官能甲基丙烯酸酯。在本发明中,通过将(甲基)丙烯酸酯化合物(C)与后述的光聚合引发剂(D)组合使用,可以使使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜相对于基材的密合性优异。
作为单官能丙烯酸酯的具体例,可列举:丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸2-异氰基乙酯(2-isocyanatoethylacrylate)、2-丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、2-丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、4-丙烯酰氧基丁基三甲氧基硅烷、4-丙烯酰氧基丁基三乙氧基硅烷、丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁基)甲酯、丙烯酸双环戊烯基酯(例如,制品名“FA-511AS”、日立化成公司制)、丙烯酸双环戊烯氧基乙酯(例如,制品名“FA-512AS”、日立化成公司制)、丙烯酸二环戊基酯(例如,制品名“FA-513AS”、日立化成公司制)、丙烯酸苄酯(例如,制品名“FA-BZA”、日立化成公司制)、壬基苯氧基聚乙二醇丙烯酸酯(例如,日立化成公司制)、β-羧乙基丙烯酸酯(例如,制品名“β-CEA”、DaicelCytec公司制)、丙烯酸异冰片酯(例如,制品名“IBOA”、DaicelCytec公司制,或者,制品名“LIGHTACRYLATEIB-XA”、共荣化学公司制)、丙烯酸辛基/癸基酯(例如,制品名“ODA-N”、DaicelCytec公司制)、乙氧基化苯基丙烯酸酯(例如,DaicelCytec公司制)、丙烯酸异戊酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEIAA”、共荣化学公司制)、丙烯酸月桂酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEL-A”、共荣化学公司制)、丙烯酸硬脂酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATES-A”、共荣化学公司制)、乙氧基-二乙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEEC-A”、共荣化学公司制)、甲氧基-三乙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEMTG-A”、共荣化学公司制)、2-乙基己基-二甘醇丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEEHDG-AT”、共荣化学公司制)、甲氧基-聚乙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATE130A”、共荣化学公司制)、甲氧基二丙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEDPM-A”、共荣化学公司制)、丙烯酸苯氧基乙酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEPO-A”、共荣化学公司制)、苯氧基二乙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEP2H-A”、共荣化学公司制)、苯氧基-聚乙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEP-200A”、共荣化学公司制)、壬基酚EO加成物丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATENP-4EA”、共荣化学公司制)、丙烯酸四氢糠酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATETHF-A”、共荣化学公司制)、丙烯酸2-羟基乙酯(例如,制品名“LightEsterHOA(N)”、共荣化学公司制)、丙烯酸2-羟基丙酯(例如,制品名“LightEsterHOP-A(N)”、共荣化学公司制)、丙烯酸2-羟基丁酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEHOB-A”、共荣化学公司制)、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯(例如,制品名“EpoxyEsterM-600A”、共荣化学公司制)、2-丙烯酰氧基乙基-琥珀酸(例如,制品名“HOA-MS(N)”、共荣化学公司制)、2-丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸(例如,制品名“LIGHTACRYLATEHOA-HH(N)”、共荣化学公司制)、2-丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸(例如,制品名“HOA-MPL(N)”、共荣化学公司制)、2-丙烯酰氧基乙基-2-羟基乙基-邻苯二甲酸(例如,制品名“HOA-MPE(N)”、共荣化学公司制)、新戊二醇-丙烯酸-苯甲酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEBA-104”、共荣化学公司制)、2-丙烯酰氧基乙基酸式磷酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEP-1A(N)”、共荣化学公司制)、乙氧基化邻苯基苯酚丙烯酸酯(例如,制品名“A-LEN-10”、新中村化学工业公司制)、甲氧基聚乙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“AM-90G”、新中村化学工业公司制)、苯氧基聚乙二醇丙烯酸酯(例如,制品名“AMP-20GY”、新中村化学工业公司制)、琥珀酸2-丙烯酰氧基乙酯(例如,制品名“A-SA”、新中村化学工业公司制)、丙烯酸异硬脂酯(例如,制品名“S-1800A”、新中村化学工业公司制)、酚EO改性丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-101A”、东亚合成公司制)、邻苯基酚EO改性丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-106”、东亚合成公司制)、对枯基酚EO改性丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-110”、东亚合成公司制)、壬基酚EO改性丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-111”、东亚合成公司制)、2-乙基己基EO改性丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-120”、东亚合成公司制)、N-丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酰亚胺(例如,制品名“AronixM-140”、东亚合成公司制)、ω-羧基-聚己内酯单丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-5300”、东亚合成公司制)、邻苯二甲酸单羟基乙基丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-5400”、东亚合成公司制)、丙烯酸2-羟基-3-苯氧基丙酯(例如,制品名“AronixM-5700”、东亚合成公司制)等。
另外,作为二官能丙烯酸酯的具体例,可列举:壬二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“FA-129AS”、日立化成公司制)、聚丙二醇丙烯酸酯”(例如,日立化成公司制)、EO改性双酚A二丙烯酸酯(例如,制品名“FA-324A”、日立化成公司制)、二丙二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“DPGDA”、DaicelCytec公司制)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“HDDA”、DaicelCytec公司制)、三丙二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“TPGDA”、DaicelCytec公司制)、PO改性新戊二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“EBECRYL145”、DaicelCytec公司制)、改性双酚A二丙烯酸酯(例如,制品名“EBECRYL150”、DaicelCytec公司制)、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(例如,制品名“IRR214-K”、DaicelCytec公司制)、PEG400二丙烯酸酯(例如,制品名“PEG400DA”、DaicelCytec公司制)、新戊二醇-羟基三甲基乙酸酯二丙烯酸酯(例如,制品名“HPNDA”、DaicelCytec公司制)、三乙二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATE3EG-A”、共荣化学公司制)、PEG二丙烯酸酯聚四亚甲基二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEPTMGA-250”、共荣化学公司制)、新戊二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATENP-A”、共荣化学公司制)、3-甲基-1,5-戊二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEMPD-A”、共荣化学公司制)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATE1,6HX-A”、共荣化学公司制)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATE1,9ND-A”、共荣化学公司制)、2-甲基-1,8-辛二醇二丙烯酸酯与1,9-壬二醇二丙烯酸酯的混合物(例如,制品名“LIGHTACRYLATEMOD-A”、共荣化学公司制)、二羟甲基-三环癸烷二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEDCP-A”、共荣化学公司制)、双酚A的EO加成物二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEBP-4EAL”、共荣化学公司制)、双酚A的PO加成物二丙烯酸酯(例如,制品名“LIGHTACRYLATEBP-4PA”、共荣化学公司制)、羟基三甲基乙酸新戊二醇丙烯酸加成物(例如,制品名“LIGHTACRYLATEHPP-A”、共荣化学公司制)、甲基丙烯酸2-羟基-3-丙烯酰氧基丙酯(例如,制品名“701A”、新中村化学工业公司制)、聚乙二醇二丙烯酸酯(例如,新中村化学工业公司制)、丙氧基化乙氧基化双酚A二丙烯酸酯(例如,制品名“A-B1206PE”、新中村化学工业公司制)、乙氧基化双酚A二丙烯酸酯9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴(例如,制品名“A-BPEF”、新中村化学工业公司制)、丙氧基化双酚A二丙烯酸酯(例如,制品名“A-BPP-3”、新中村化学工业公司制)、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(例如,制品名“A-DCP”、新中村化学工业公司制)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“A-HD-N”、新中村化学工业公司制)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“A-NOD-N”、新中村化学工业公司制)、二丙二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“APG-100”、新中村化学工业公司制)、三丙二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“APG-200”、新中村化学工业公司制)、聚丙二醇二丙烯酸酯聚四亚甲基二醇二丙烯酸酯(例如,新中村化学工业公司制)、双酚FEO改性二丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-208”、东亚合成公司制)、双酚AEO改性二丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-211B”、东亚合成公司制)、异氰脲酸EO改性二丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-215”、东亚合成公司制)、聚丙二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-220”、东亚合成公司制)、聚乙二醇二丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-240”、东亚合成公司制)等。
另外,作为三官能以上的多官能丙烯酸酯的具体例,可列举:三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(例如,制品名“FA-731A”、日立化成公司制)、季戊四醇三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“PETIA”、DaicelCytec公司制)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“TMPTA”、DaicelCytec公司制)、三羟甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“TMPEOTA”、DaicelCytec公司制)、甘油丙氧基三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“OTA480”、DaicelCytec公司制)、二季戊四醇六丙烯酸酯(六官能)(例如,制品名“DPHA”、DaicelCytec公司制,或者,制品名“LIGHTACRYLATEDPE-6A”、共荣化学公司制,制品名“A-DPH”、新中村化学工业公司制)、季戊四醇乙氧基四丙烯酸酯(四官能)(例如,制品名“EBECRYL40”、DaicelCytec公司制)、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“LIGHTACRYLATETMP-A”、共荣化学公司制)、季戊四醇三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“LIGHTACRYLATEPE-3A”、共荣化学公司制)、乙氧基化异氰脲酸三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“A-9300”、新中村化学工业公司制)、ε-己内酯改性三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(三官能)(例如,制品名“A-9300-1CL”、新中村化学工业公司制)、乙氧基化甘油三丙烯酸酯(三官能)(例如,新中村化学工业公司制)、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯(四官能)(例如,制品名“AD-TMP”、新中村化学工业公司制)、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(四官能)(例如,制品名“ATM-35E”、新中村化学工业公司制)、季戊四醇四丙烯酸酯(四官能)(例如,制品名“A-TMMT”、新中村化学工业公司制)、二季戊四醇聚丙烯酸酯(例如,制品名“A-9550”、新中村化学工业公司制)、三羟甲基丙烷PO改性三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“AronixM-310”、东亚合成公司制)、三羟甲基丙烷EO改性三丙烯酸酯(三官能)(例如,制品名“AronixM-350”、东亚合成公司制)、异氰脲酸EO改性二/三丙烯酸酯(为二官能和三官能的混合物,也属于上述的二官能丙烯酸酯)(例如,制品名“AronixM-313二30-40%”、东亚合成公司制)、季戊四醇三/四丙烯酸酯(三官能和四官能的混合物)(例如,制品名“AronixM-305三55-63%”,或者,制品名“AronixM-306三65-70%”、东亚合成公司制)、二季戊四醇五/六丙烯酸酯(五官能和六官能的混合物)(例如,制品名“AronixM-402五30-40%”、东亚合成公司制)、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯(四官能)(例如,制品名“AronixM-408”、东亚合成公司制)、二甘油EO改性丙烯酸酯(例如,制品名“AronixM-460”、东亚合成公司制)、多元酸改性丙烯酸低聚物(例如,制品名“AronixM-510”、东亚合成公司制)等。
此外,作为单官能甲基丙烯酸酯的具体例,可列举:甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-异氰基乙酯(2-isocyanatoethylmethacrylate)、甲基丙烯酸异冰片酯、2-甲基丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、2-甲基丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基甲基二乙氧基硅烷、4-甲基丙烯酰氧基丁基三甲氧基硅烷、4-甲基丙烯酰氧基丁基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酸双环戊烯氧基乙酯(例如,制品名“FA-512M”、日立化成公司制)、甲基丙烯酸二环戊基酯(例如,制品名“FA-513M”、日立化成公司制)、甲基丙烯酸五甲基哌啶醇酯(例如,制品名“FA-711MM”、日立化成公司制)、甲基丙烯酸四甲基哌啶醇酯(例如,制品名“FA-712HM”、日立化成公司制)、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯(例如,日立化成公司制)、甲基丙烯酸苄酯(例如,制品名“FA-BZM”、日立化成公司制)、甲基丙烯酸2-羟基-3-丙烯酰氧基丙酯(例如,制品名“LightEsterG-201P”、共荣化学公司制)、2-甲基丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸(例如,制品名“CB-1”、新中村化学工业公司制)、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、苯氧基乙二醇甲基丙烯酸酯(例如,制品名“PHE-1G”、新中村化学工业公司制)、甲基丙烯酸硬脂酯(例如,制品名“S”、新中村化学工业公司制)、琥珀酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯(例如,制品名“SA”、新中村化学工业公司制)、甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯(例如,制品名“CYCLOMERM100”、Dicel公司制)等。
另外,作为二官能甲基丙烯酸酯的具体例,可列举:1,4-丁二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“FA-124M”、日立化成公司制)、新戊二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“FA-125M”、日立化成公司制)、聚乙二醇#200二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“FA-220M”、日立化成公司制)、EO改性双酚A二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“FA-321M”、日立化成公司制)、EO改性聚丙二醇#700二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“FA-023M”、日立化成公司制)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“1G”、新中村化学工业公司制)、二乙二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“2G”、新中村化学工业公司制)、三乙二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“3G”、新中村化学工业公司制)、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯(例如,新中村化学工业公司制)、2,2-双[4-(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]丙烷(例如,制品名“BPE-80N”、新中村化学工业公司制)、乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯(例如,新中村化学工业公司制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“DCP”、新中村化学工业公司制)、1,10-癸二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“DOD-N”、新中村化学工业公司制)、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“HD-N”、新中村化学工业公司制)、1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“NOD-N”、新中村化学工业公司制)、新戊二醇二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“NPG”、新中村化学工业公司制)、乙氧基化聚丙二醇二甲基丙烯酸酯(例如,新中村化学工业公司制)、甘油二甲基丙烯酸酯(例如,制品名“701”、新中村化学工业公司制)、聚丙二醇二甲基丙烯酸酯(例如,新中村化学工业公司制)等。
另外,作为三官能以上的多官能甲基丙烯酸酯的具体例,可列举:三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(例如,制品名“TMPT”、新中村化学工业公司制)等。
上述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)可以单独使用1种,或将2种以上组合使用,但从进一步提高配合(甲基)丙烯酸酯化合物(C)所带来的效果、即相对于基材的密合性的改善效果的角度出发,优选将2种以上的(甲基)丙烯酸酯化合物(C)组合使用。另外,在上述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)中,从进一步提高其添加效果、即相对于基材的密合性的改善效果的角度出发,优选使用四官能以上的(甲基)丙烯酸酯,特别优选将四官能以上的(甲基)丙烯酸酯与单官能的(甲基)丙烯酸酯组合使用。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的含量相对于粘合剂树脂(A)100重量份优选为0.3~22重量份、更优选为0.5~19重量份、进一步优选为1~10重量份、特别优选为2~5重量份。通过使(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的含量在该范围,可使相对于基材的密合性变得更好。
(光聚合引发剂(D))
作为本发明中使用的光聚合引发剂(D),是通过光而引起化学反应的化合物即可,没有特殊限定,优选为通过光而产生自由基、并由此而引起化学反应的自由基发生型光聚合引发剂,特别是,在自由基发生型光聚合引发剂中,优选对400nm以下波长的光具有灵敏度,在照射400nm以下波长的光、具体是指照射紫外线、电子束等放射线的情况下会产生自由基从而引起化学反应的化合物。
作为这样的自由基发生型光聚合引发剂的具体例,可列举:二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4,4-双(二甲基胺)二苯甲酮、4,4-双(二乙基胺)二苯甲酮、α-氨基-苯乙酮、4,4-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰基-4-甲基二苯基酮、二苄基酮、芴酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、安息香双甲醚、苄基甲氧基乙缩醛、苯偶姻甲基醚、苯偶姻丁基醚、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-戊基蒽醌、β-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并环庚酮、甲叉蒽酮、4-叠氮基苄基苯乙酮、2,6-双(对叠氮亚苄基)环己烷、2,6-双(对叠氮亚苄基)-4-甲基环己酮、2-苯基-1,2-丁二酮-2-(邻甲氧基羰基)肟、1-苯基-丙二酮-2-(邻乙氧基羰基)肟、1,3-二苯基-丙三酮-2-(邻乙氧基羰基)肟、1-苯基-3-乙氧基-丙三酮-2-(邻苯甲酰基)肟、米蚩酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮、萘磺酰氯、喹啉磺酰氯、N-苯硫基吖啶酮、4,4-偶氮二异丁腈、二苯二硫、二硫代苯并噻唑、三苯基膦、樟脑醌、N,N-八亚甲基双吖啶、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(制品名“Irgacure379EG”、BASF公司制)、1-羟基环己基苯基酮(制品名“IRGACURE184”、BASF公司制)、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(制品名“IRGACURE127”、BASF公司制)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮(制品名“IRGACURE907”、BASF公司制)、1,7-双(9-吖啶基)庚烷(ADEKA公司制、N1717)、1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛烷二酮2-(O-苯甲酰肟)(BASF公司制、OXE-01)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-乙酮-1-(O-乙酰肟)(BASF公司制、OXE-02)、四氯化碳、三溴苯基砜、过氧化苯偶姻、曙红、亚甲蓝等光还原性色素与抗坏血酸、三乙醇胺这样的还原剂的组合等。这些光聚合引发剂可以单独使用1种,或将2种以上组合使用。
本发明的辐射敏感树脂组合物中的光聚合引发剂(D)的含量相对于粘合剂树脂(A)100重量份优选为0.3~8重量份、更优选为0.5~6重量份、进一步优选为0.7~4重量份。通过使光聚合引发剂(D)的含量在该范围,可使相对于基材的密合性变得更好。
(交联剂(E))
本发明的辐射敏感树脂组合物中除了上述的粘合剂树脂(A)、醌二叠氮系的光产酸剂(B)、(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及光聚合引发剂(D)以外,还优选进一步含有交联剂(E)。作为交联剂(E),是通过加热而在交联剂分子间形成交联结构的物质、或与粘合剂树脂(A)反应而在树脂分子间形成交联结构的物质,具体而言,可列举具有2个以上反应性基团的化合物。作为这样的反应性基团,可列举例如:氨基、羧基、羟基、环氧基、异氰酸酯基,更优选氨基、环氧基或异氰酸酯基,特别优选氨基或环氧基。
交联剂(E)的分子量没有特殊限定,但通常为100~100,000、优选为300~50,000、更优选为500~10,000。交联剂(E)可以单独使用1种,或将2种以上组合使用。
作为交联剂(E)的具体例,可以列举:六亚甲基二胺等脂肪族多胺类;4,4’-二氨基二苯基醚、二氨基二苯基砜等芳香族多胺类;2,6-双(4’-叠氮苯亚甲基)环己酮、4,4’-二叠氮二苯基砜等叠氮类;尼龙、聚六亚甲基二胺对苯二甲酰胺、聚六亚甲基间苯二甲酰胺等聚酰胺类;N,N,N’,N’,N”,N”-(六烷氧基烷基)三聚氰胺等任选具有羟甲基、亚氨基等的三聚氰胺类(制品名“CYMEL303、CYMEL325、CYMEL370、CYMEL232、CYMEL235、CYMEL272、CYMEL212、MYCOAT506”{以上由CytecIndustries公司制}等CYMEL系列、MYCOAT系列);N,N’,N”,N”’-(四烷氧基烷基)甘脲等任选具有羟甲基、亚氨基等的甘脲类(制品名“CYMEL1170”{以上由CytecIndustries公司制}等CYMEL系列);乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯化合物;六亚甲基二异氰酸酯类多异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯类多异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯类多异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯等异氰酸酯类化合物;1,4-二(羟基甲基)环己烷、1,4-二(羟基甲基)降冰片烷;1,3,4-三羟基环己烷;双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、多酚型环氧树脂、环状脂肪族环氧树脂、脂肪族缩水甘油基醚、环氧丙烯酸酯聚合物等环氧化合物。
另外,作为环氧化合物的具体例,可列举:以双环戊二烯为骨架的三官能性的环氧化合物(制品名“XD-1000”、日本化药公司制)、2,2-双(羟基甲基)1-丁醇的1,2-环氧-4-(2-环氧乙烷基)环己烷加成物(具有环己烷骨架及末端环氧基的15官能性的脂环式环氧树脂、制品名“EHPE3150”、大赛璐化学工业公司制)、环氧化3-环己烯-1,2-二羧酸双(3-环己烯基甲基)酯修饰ε-己内酯(脂肪族环状三官能性的环氧树脂、制品名“EPOLEADGT301”、大赛璐化学工业公司制)、环氧化丁烷四羧酸四(3-环己烯基甲基)酯修饰ε-己内酯(脂肪族环状四官能性的环氧树脂、制品名“EPOLEADGT401”、大赛璐化学工业公司制)等具有脂环结构的环氧化合物;
芳香族胺型多官能环氧化合物(制品名“H-434”、东都化成工业公司制)、甲酚酚醛清漆型多官能环氧化合物(制品名“EOCN-1020”、日本化药公司制)、苯酚酚醛清漆型多官能环氧化合物(EPIKOTE152、154、日本环氧树脂公司制)、具有萘骨架的多官能环氧化合物(制品名EXA-4700、DIC株式会社制)、链状烷基多官能环氧化合物(制品名“SR-TMP”、阪本药品工业株式会社制)、多官能环氧基聚丁二烯(制品名“EPOLEADPB3600”、大赛璐化学工业公司制)、甘油的缩水甘油基聚醚化合物(制品名“SR-GLG”、阪本药品工业株式会社制)、二甘油聚缩水甘油基醚化合物(制品名“SR-DGE”、阪本药品工业株式会社制、聚甘油聚缩水甘油基醚化合物(制品名“SR-4GL”、阪本药品工业株式会社制)等不具有脂环结构的环氧化合物。
本发明的辐射敏感性树脂组合物中的交联剂(E)的含量没有特殊限定,可以在考虑使用本发明的辐射敏感性树脂组合物而得到的树脂膜所要求的耐热性程度的情况下任意地设定,但优选相对于粘合剂树脂(A)100重量份为3~70重量份、更优选为4~45重量份、进一步优选为5~25重量份。无论交联剂(E)过多还是过少,均存在导致耐热性降低的倾向。
(其它配合剂)
本发明的辐射敏感性树脂组合物中也可以进一步含有溶剂。作为溶剂,没有特别限定,可列举作为树脂组合物的溶剂而公知的溶剂,可列举例如:丙酮、甲乙酮、环戊酮、2-己酮、3-己酮、2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、2-辛酮、3-辛酮、4-辛酮等直链的酮类;正丙醇、异丙醇、正丁醇、环己醇等醇类;乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二氧杂环己烷等醚类;乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚等醇醚类;甲酸丙酯、甲酸丁酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、丁酸甲酯、丁酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等酯类;溶纤剂乙酸酯、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丙基溶纤剂乙酸酯、丁基溶纤剂乙酸酯等溶纤剂酯类;丙二醇、丙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单丁基醚等丙二醇类;二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲基乙基醚等二乙二醇类;γ-丁内酯、γ-戊内酯、γ-己内酯、γ-辛内酯等饱和γ-内酯类;三氯乙烯等卤代烃类;甲苯、二甲苯等芳香族烃类;二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺等极性溶剂等。这些溶剂可以单独使用,也可以组合使用2种以上。溶剂的含量相对于粘合剂树脂(A)100重量份,优选为10~10000重量份、更优选为50~5000重量份、进一步优选为100~1000重量份的范围。需要说明的是,在使树脂组合物中含有溶剂的情况下,溶剂通常在树脂膜形成后被除去。
另外,只要在不妨碍本发明的效果的范围内,本发明的辐射敏感树脂组合物中还可以根据需要而含有表面活性剂、酸性化合物、偶联剂或其衍生物、增敏剂、潜在的产酸剂、抗氧化剂、光稳定剂、消泡剂、颜料、染料、填料等其它配合剂;等等。
表面活性剂是出于防止条纹(涂布条痕)、提高显影性等目的而使用的。作为表面活性剂的具体例,可列举例如:聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚等聚氧乙烯烷基醚类;聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚等聚氧乙烯芳基醚类;聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等聚氧乙烯二烷基酯类等非离子型表面活性剂;氟系表面活性剂;有机硅系表面活性剂;甲基丙烯酸共聚物系表面活性剂;丙烯酸共聚物系表面活性剂;等等。
偶联剂或其衍生物具有进一步提高由辐射敏感树脂组合物形成的树脂膜和包含构成半导体元件基板的半导体层的各层之间的密合性的效果。作为偶联剂或其衍生物,可使用具有选自硅原子、钛原子、铝原子、锆原子中的1种原子、且具有与该原子键合的烃氧基或羟基的化合物等。
作为偶联剂或其衍生物,可列举例如:四烷氧基硅烷类、三烷氧基硅烷类、二烷氧基硅烷类、含硅原子化合物、含钛原子化合物、含铝原子化合物、含锆原子化合物等,这些中,优选三烷氧基硅烷类,作为三烷氧基硅烷类的具体例,可列举:N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷等。
作为增敏剂的具体例,可列举:2H-吡啶并-(3,2-b)-1,4-嗪-3(4H)-酮类、10H-吡啶并-(3,2-b)-1,4-苯并噻嗪类、尿唑类、乙内酰脲类、巴比土酸类、甘氨酸酐类、1-羟基苯并三唑类、四氧嘧啶类、马来酰亚胺类等。
作为抗氧化剂,可使用能够用于通常的聚合物的酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、硫系抗氧化剂、内酯系抗氧化剂等。例如,作为酚类,可列举2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、对甲氧基苯酚、苯乙烯化苯酚、3-(3’,5’-二叔丁基-4’-羟基苯基)丙酸正十八碳醇酯、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-叔丁基-6-(3’-叔丁基-5’-甲基-2’-羟基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯、4,4’-丁叉-双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、烷基化双酚等。作为磷系抗氧化剂,可列举亚磷酸三苯酯、亚磷酸三(壬基苯基)酯;作为硫系,可列举硫代二丙酸二月桂酯等。
作为光稳定剂,可以是二苯甲酮系、水杨酸酯系、苯并三唑系、氰基丙烯酸酯系、金属络盐系等的紫外线吸收剂、受阻胺系(HALS)等捕获因光而产生的自由基的光稳定剂等中的任意光稳定剂。这些中,HALS是具有哌啶结构的化合物,对辐射敏感树脂组合物的着色少、稳定性好,故优选。作为具体的化合物,可列举:双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、1,2,3,4-丁烷四羧酸(1,2,2,6,6-五甲基-4-哌啶基/十三烷基)酯、双(1-辛氧基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯等。
本发明的辐射敏感树脂组合物的制备方法没有特殊限定,利用公知的方法将构成辐射敏感树脂组合物的各成分混合即可。
混合的方法没有特殊限定,但优选将构成辐射敏感树脂组合物的各成分溶解或分散于溶剂而得到的溶液或分散液进行混合。由此,可以以溶液或分散液的形态获得辐射敏感树脂组合物。
将构成辐射敏感树脂组合物的各成分溶解或分散于溶剂的方法按照常规方法即可。具体而言,可采用:使用搅拌子和磁力搅拌器进行搅拌的方法;使用高速均质机、分散器、行星搅拌机、双螺杆搅拌机、球磨机、三辊研磨机等进行的方法。另外,在将各成分溶解或分散于溶剂之后,例如,可使用孔径为0.5μm左右的过滤器等进行过滤。
本发明的辐射敏感树脂组合物的固体成分浓度通常为1~70重量%、优选为5~60重量%、更优选为10~50重量%。如果固体成分浓度在该范围,则溶解稳定性、涂布性、及形成的树脂膜的膜厚均一性、平坦性等可取得高度平衡。
另外,本发明的辐射敏感树脂组合物中的Na、Mg、Al、K、Ca、Cr、Mn、Fe及Ni的含有比例以相对于辐射敏感树脂组合物总体的重量比率计,优选低于500ppb、更优选低于200ppb、特别优选低于100ppb。
(树脂膜)
本发明的树脂膜可使用上述本发明的辐射敏感树脂组合物而得到。作为本发明的树脂膜,优选通过使上述本发明的辐射敏感树脂组合物形成于基材上而得到。
作为基材,可使用例如:印刷布线基板、硅晶片基板、钠玻璃等玻璃基板、聚萘二甲酸乙二醇酯等塑料基板等。其中,优选使用在具有触控面板结构的显示装置中使用的钠玻璃基板、聚萘二甲酸乙二醇酯基板。
作为形成树脂膜的方法,没有特殊限定,可采用例如涂布法、膜叠层法等方法。
涂布法是在例如涂布辐射敏感树脂组合物之后进行加热干燥而除去溶剂的方法。作为涂布辐射敏感树脂组合物的方法,可采用例如:喷雾法、旋涂法、辊涂法、模涂法、刮涂法、旋转涂布法、棒涂法、丝网印刷法等各种方法。加热干燥条件根据各成分的种类、配合比例而不同,但通常在30~150℃、优选60~120℃下进行通常0.5~90分钟、优选1~60分钟、更优选1~30分钟即可。
膜叠层法是在树脂膜、金属膜等B阶膜形成用基材上涂布辐射敏感树脂组合物之后通过加热干燥除去溶剂而得到B阶膜,接着叠层该B阶膜的方法。加热干燥条件可以根据各成分的种类、配合比例而适当选择,加热温度通常为30~150℃,加热时间通常为0.5~90分钟。膜叠层可以使用加压层压机、压机、真空层压机、真空压机、辊层压机等压合机进行。
作为树脂膜的厚度,没有特别限定,根据用途适当设定即可,但在树脂膜为例如具有触控面板结构的显示装置的触控面板结构部的保护膜或绝缘膜的情况下,树脂膜的厚度优选为0.1~100μm、更优选为0.5~50μm、进一步优选为0.5~30μm。
另外,在本发明的辐射敏感树脂组合物包含交联剂(E)的情况下,对于通过上述的涂布法或膜叠层法而形成的树脂膜,可进行交联反应。这样的交联根据交联剂(E)的种类而选择适当方法即可,但通常通过加热来进行。就加热方法而言,例如,可使用热板、烘箱等进行。加热温度通常为180~250℃,加热时间根据树脂膜的面积、厚度、使用设备等而适当选择,例如在使用热板的情况下,通常为5~60分钟,在使用烘箱的情况下,通常为30~90分钟的范围。加热可以根据需要在不活泼气体氛围中进行。作为不活泼气体,只要是不含有氧、且不会使树脂膜氧化的气体即可,可列举例如氮、氩、氦、氖、氙、氪等。这些中,优选氮和氩,特别优选氮。特别是,适宜采用氧含量为0.1体积%以下、优选0.01体积%以下的不活泼气体,特别适宜采用氮。这些不活泼气体可以分别单独使用、或将2种以上组合使用。
进而,对于上述的使用辐射敏感树脂组合物而形成的树脂膜,还可以根据需要而进行图案化。作为对树脂膜进行图案化的方法,可列举例如下述方法等:形成图案化前的树脂膜,对图案化前的树脂膜照射活性放射线而形成潜像图案,然后使显影液与具有潜像图案的树脂膜接触,由此使图案显现化。
作为活性放射线,只要是能够使辐射敏感树脂组合物中含有的醌二叠氮系的光产酸剂(B)活化、使包含醌二叠氮系的光产酸剂(B)的辐射敏感树脂组合物的碱可溶性发生变化的活性放射线即可,没有特别限定。具体而言,可以使用紫外线、g射线、i射线等单一波长的紫外线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等光线;电子束这样的粒子束等。作为将这些活性放射线选择性地以图案状进行照射从而形成潜像图案的方法,按照常规方法即可,可以使用例如:利用缩小投影曝光装置等隔着所希望的掩模图案照射紫外线、g射线、i射线、KrF准分子激光、ArF准分子激光等光线的方法,或利用电子束等粒子束进行描绘的方法等。使用光线作为活性放射线的情况下,可以为单一波长光,也可以为混合波长光。照射条件可根据使用的活性放射线适当选择,例如,使用波长200~450nm的光线的情况下,照射量通常为10~1,000mJ/cm2、优选为50~500mJ/cm2的范围,根据照射时间和照度而确定。在这样地照射活性放射线之后,根据需要对树脂膜在60~130℃左右的温度下加热处理1~2分钟左右。
接着,对图案化前的树脂膜所形成的潜像图案进行显影而使其显现化。作为显影液,通常使用碱性化合物的水性溶液。作为碱性化合物,可以使用例如:碱金属盐、胺、铵盐。碱性化合物可以为无机化合物,也可以为有机化合物。作为这些化合物的具体例,可列举:氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠等碱金属盐;氨水;乙基胺、正丙基胺等伯胺;二乙基胺、二正丙基胺等仲胺;三乙胺、甲基二乙基胺等叔胺;四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、胆碱等季铵盐;二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺;吡咯、哌啶、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯、1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯、N-甲基吡咯烷酮等环状胺类;等等。这些碱性化合物可以分别单独使用、或将2种以上组合使用。
作为碱性化合物的水性溶液中使用的水性介质,可使用:水;甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂。碱水性溶液可以为添加了适当量的表面活性剂等的溶液。
作为使显影液与具有潜像图案的树脂膜接触的方法,可使用例如:搅炼法、喷雾法、浸渍法等方法。显影在通常0~100℃、优选5~55℃、更优选10~30℃的范围、在通常30~180秒钟的范围内适当选择。
对于这样地形成了目标图案的树脂膜,根据需要,为了除去显影残渣,可以用冲洗液进行冲洗。冲洗处理之后,利用压缩空气、压缩氮气将残存的冲洗液除去。
本发明中,树脂膜也可以在经过了图案化之后进行交联反应。交联按照上述的方法进行即可。
(电子部件)
本发明的电子部件具备上述的本发明的树脂膜。作为本发明的电子部件,没有特殊限定,可列举各种电子部件,具体可列举触摸屏、柔性有机EL显示器等具有触控面板结构的显示装置等。
就作为本发明的电子部件的一例的具有触控面板结构的显示装置而言,没有特殊限定,可列举在钠玻璃基板、聚萘二甲酸乙二醇酯膜上夹着绝缘膜而配置有一对由ITO电极等构成的电极层的显示装置等,该情况下,上述本发明的树脂膜可作为夹在电极层间的绝缘膜、或用以保护触控面板结构的保护膜。
本发明的辐射敏感树脂组合物含有粘合剂树脂(A)、醌二叠氮系的光产酸剂(B)、(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及光聚合引发剂(D),因此,使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜对基材显示高密合性,且透明性、感光性及耐药品性优异,特别是,使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜,对于钠玻璃基板、聚萘二甲酸乙二醇酯膜等用于具有触控面板结构的显示装置的基板显示出优异的密合性。因此,这样的使用本发明的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜,可适宜用作具有触控面板结构的显示装置的绝缘膜、保护膜。
实施例
以下,结合实施例及比较例对本发明更具体地进行说明。只要没有特殊说明,各例中的“份”为重量基准。
需要说明的是,各特性的定义及评价方法如下所述。
<密合性>
利用旋涂法在钠玻璃基板上涂布辐射敏感性树脂组合物,并使用热板于110℃进行了2分钟预烘烤。接着,在使用2.38重量%四甲基氢氧化铵水溶液于23℃进行30秒钟显影处理之后,利用超纯水冲洗30秒钟。接着,在空气中照射365nm下的光强度为50mJ/cm2的紫外线300秒钟。接着,使用烘箱在氮气氛围中、于230℃进行加热30分钟的后烘烤,得到了由树脂膜和钠玻璃基板构成的带树脂膜的基板。需要说明的是,在形成树脂膜时,控制旋涂时的转速、使得后烘烤之后的膜厚达到约2.0μm。将所得带树脂膜的基板在温度80℃、湿度85%的环境中保管24小时之后,利用表面-界面切削法(SAICAS法)实施了密合性(剥离强度)的试验。
具体而言,针对上述得到的带树脂膜的基板,利用切刀将树脂膜部分切入1mm宽的切口,针对切入了切口的带树脂膜的基板,使用DaiplaWintes公司的SAICASDN-20型作为测定装置,利用刀刃(1.0mm宽、前角20°后角10°的单晶金刚石制)以水平速度0.2μm/秒、垂直速度0.02μm/秒进行试样的切削,在刀刃切削到树脂膜与钠玻璃表面的界面时,将垂直速度设为0μm/秒使刀刃与基板平行地移动,测定了平行力FH[N]。进而,由刀刃的宽度w[m]、基于计算式“P[N/m]=FH[N]/w[m]”求出剥离强度P,将剥离强度P作为树脂膜与钠玻璃基板的密合性的值。在本实施例中,将50N/m以上视为良好。
<透明性>
针对利用与上述密合性的评价同样的方法、使用无碱玻璃基板制作的带树脂膜的基板,使用分光光度计(日本分光株式会社制、“紫外可见分光光度计V-560(制品名)”以1nm间隔在波长400nm~700nm的范围内进行了透过率的测定。观测所得400nm~700nm范围的总透过率的平均作为透明性。需要说明的是,对于透明性,按照以下基准进行了评价。
○:总透过率为95%以上
×:总透过率低于95%
<耐药品性>
将用于上述密合性的评价的带树脂膜的基板在作为溶剂的单乙醇胺与N-甲基吡咯烷酮的重量比7:3的混合液中于65℃浸渍5分钟,测定浸渍前后的树脂膜的厚度的变化率,由此进行了耐药品性的评价。需要说明的是,按照“浸渍前后的树脂膜的厚度的变化率(%)=(|浸渍后的树脂膜的厚度-浸渍前的树脂膜的厚度|/浸渍前的树脂膜的厚度)×100”计算出了浸渍前后的树脂膜的厚度的变化率。另外,对于耐药品性,按照以下基准进行了评价。
○:浸渍前后的树脂膜的厚度的变化率低于3.0%
△:浸渍前后的树脂膜的厚度的变化率为3.0%以上且低于5.0%
×:浸渍前后的树脂膜的厚度的变化率为5.0%以上
<曝光灵敏度>
利用旋涂法在钠玻璃基板上涂布辐射敏感性树脂组合物,并使用热板于110℃进行2分钟预烘烤,形成了膜厚2.6μm的树脂膜。接着,在使用2.38重量%四甲基氢氧化铵水溶液于23℃进行30秒钟显影处理之后,利用超纯水冲洗30秒钟。接着,为了对树脂膜进行图案化,使用可形成5μm的接触孔图案的掩模,从100mJ/cm2至250mJ/cm2以50mJ/cm2幅度改变曝光量,由此在空气中进行了曝光工序,接着,使用烘箱在氮气氛围中、于230℃进行加热30分钟的后烘烤,由此得到了由具有曝光量不同的接触孔图案的树脂膜和钠玻璃基板构成的叠层体。
然后,使用光学显微镜观察所得叠层体的接触孔形成部分,分别测定了以各曝光量曝光后的部分的树脂膜的接触孔图案的最长部的长度。然后,根据各曝光量、和在对应曝光量下形成的树脂膜的接触孔图案的最长部的长度的关系制作了近似曲线,并计算出接触孔图案为5μm时的曝光量,将算出的该曝光量作为曝光灵敏度。接触孔图案为5μm时的曝光量越低,越能够以低能量或短时间形成接触孔,因此越优选。
○:接触孔图案为5μm时的曝光量低于200mJ/cm2
△:接触孔图案为5μm时的曝光量为200mJ/cm2以上且低于250mJ/cm2
×:接触孔图案为5μm时的曝光量为250mJ/cm2以上
《合成例1》
<环状烯烃聚合物(A-1)的制备>
在经过了氮气置换的玻璃制耐压反应器中进料由N-苯基-双环[2.2.1]庚-5-烯-2,3-二羧酰亚胺(NBPI)40摩尔%及4-羟基羰基四环[6.2.1.13 , 6.02 , 7]十二碳-9-烯(TCDC)60摩尔%构成的单体混合物100份、1,5-己二烯2.0份、苯亚甲基(1,3-二基咪唑啉-2-亚基)(三环己基膦)二氯合钌(利用在Org.Lett.,第1卷,953页,1999年中记载的方法合成得到)0.02份、及二乙二醇乙基甲基醚200份,进行搅拌的同时于80℃进行4小时反应,得到了聚合反应液。
然后,将得到的聚合反应液放入高压釜中,在150℃、氢压4MPa下搅拌5小时以进行氢化反应,得到了包含环状烯烃聚合物(A-1)的聚合物溶液。所得环状烯烃聚合物(A-1)的聚合转化率为99.7%、聚苯乙烯换算重均分子量为7,150、数均分子量为4,690、分子量分布为1.52、加氢率为99.7%。另外,所得环状烯烃聚合物(A-1)的聚合物溶液的固体成分浓度为34.4重量%。
《合成例2》
<丙烯酸树脂(A-2)的制备>
在将苯乙烯20份、甲基丙烯酸丁酯25份、丙烯酸2-乙基己酯25份、甲基丙烯酸30份、2,2-偶氮二异丁腈0.5份及丙二醇单甲基醚乙酸酯300份在氮气流中进行搅拌的同时,于80℃进行了5小时加热。利用旋转蒸发仪浓缩所得树脂溶液,得到了固体成分浓度35重量%的丙烯酸树脂(A-2)的聚合物溶液。
《实施例1》
将作为粘合剂树脂(A)的合成例1中得到的环状烯烃聚合物(A-1)的聚合物溶液291份(以环状烯烃聚合物(A-1)计100份)、作为醌二叠氮系的光产酸剂(B)的1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷(1摩尔)与1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2.0摩尔)的缩合物(制品名“TS200”、东洋合成工业公司制)32份、作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的二季戊四醇五/六丙烯酸酯(制品名“AronixM-402五30-40重量%”、东亚合成公司制)3份、作为光聚合引发剂(D)的2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(制品名“Irgacure127”、BASF公司制)1份、作为交联剂(E)的环氧化丁烷四羧酸四(3-环己烯基甲基)酯修饰ε-己内酯(脂肪族环状四官能性的环氧树脂、制品名“EPOLEADGT401”、大赛璐化学工业公司制)10份、有机硅系表面活性剂(制品名“KP-341”、信越化学工业公司制)0.03份、以及作为溶剂的乙二醇乙基甲基醚270份混合并使它们溶解之后,利用孔径0.45μm的聚四氟乙烯制过滤器进行过滤,制备了固体成分浓度24.1重量%的辐射敏感树脂组合物。
然后,使用上述得到的辐射敏感树脂组合物、按照上述方法进行了密合性、透明性、耐药品性及曝光灵敏度的各评价。结果如表1所示。
《实施例2~5》
除了将作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的二季戊四醇五/六丙烯酸酯的配合量由3份分别变更为0.3份(实施例2)、1份(实施例3)、7份(实施例4)及15份(实施例5)以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度23.7重量%、23.8重量%、24.6重量%及25.5重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例6》
作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C),代替二季戊四醇五/六丙烯酸酯3份而使用了季戊四醇三/四丙烯酸酯(制品名“AronixM-305三55-63重量%”、东亚合成公司制)3份,除此以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度24.1重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例7》
作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C),代替二季戊四醇五/六丙烯酸酯3份而使用了三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(制品名“AronixM-309”、东亚合成公司制)3份,除此以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度24.1重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例8》
作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C),代替二季戊四醇五/六丙烯酸酯3份而使用了丙烯酸苄酯(制品名“FANCRYLFA-BZA”、日立化成公司制)3份,除此以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度24.1重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例9》
作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C),除了二季戊四醇五/六丙烯酸酯3份以外还使用了3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(制品名“KBM-503”、信越化学工业公司制)2份,除此以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度24.3重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例10》
作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C),除了二季戊四醇五/六丙烯酸酯3份以外还使用了甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯(制品名“CYCLOMERM100”、Dicel公司制)2份,除此以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度24.6重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例11》
作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C),除了二季戊四醇五/六丙烯酸酯3份以外还使用了3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷2份及甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯2份,除此以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度24.6重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例12、13》
除了将作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的二季戊四醇五/六丙烯酸酯的配合量由3份分别变更为11份(实施例12)及18份(实施例3)以外,与实施例11同样地制备了固体成分浓度25.5重量%及26.4重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《实施例14》
作为粘合剂树脂(A),代替环状烯烃聚合物(A-1)的聚合物溶液291份而使用了在合成例2中得到的丙烯酸树脂(A-2)的聚合物溶液285份(以丙烯酸树脂(A-2)计100份),除此以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度24.3重量%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《比较例1》
除了未配合作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的二季戊四醇五/六丙烯酸酯以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度23.7%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《比较例2》
除了未配合作为(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的二季戊四醇五/六丙烯酸酯、及作为光聚合引发剂(D)的2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度23.6%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
《比较例3》
除了未配合作为光聚合引发剂(D)的2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮以外,与实施例1同样地制备了固体成分浓度23.9%的辐射敏感树脂组合物,并进行了同样的评价。结果如表1所示。
如表1所示,使用含有粘合剂树脂(A)、醌二叠氮系的光产酸剂(B)、(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及光聚合引发剂(D)的辐射敏感树脂组合物而得到的树脂膜,相对于基材的密合性高,且透明性、感光性及耐药品性优异(实施例1~14)。
另一方面,在未配合(甲基)丙烯酸酯化合物(C)或光聚合引发剂(D)中的任一者或两者的情况下,所得树脂膜相对于基材的密合性低,例如,不适用于触摸屏、柔性有机EL显示器等具有触控面板结构的显示装置的保护膜、绝缘膜用途等要求相对于基材的密合性的用途(比较例1~3)。
Claims (10)
1.一种辐射敏感树脂组合物,其含有:
粘合剂树脂(A)、
醌二叠氮系的光产酸剂(B)、
(甲基)丙烯酸酯化合物(C)、以及
光聚合引发剂(D)。
2.根据权利要求1所述的辐射敏感树脂组合物,其中,相对于所述粘合剂树脂(A)100重量份,所述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的含有比例为0.3~22重量份。
3.根据权利要求1或2所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述粘合剂树脂(A)为具有质子性极性基团的环状烯烃聚合物(A1)、丙烯酸树脂(A2)、卡多树脂(A3)、聚硅氧烷(A4)或聚酰亚胺(A5)。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,
所述光聚合引发剂(D)为自由基发生型光聚合引发剂,
相对于所述粘合剂树脂(A)100重量份,所述光聚合引发剂(D)的含量为0.3~8重量份。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)至少含有四官能以上的(甲基)丙烯酸酯。
6.根据权利要求5所述的辐射敏感树脂组合物,其中,所述(甲基)丙烯酸酯化合物(C)为四官能以上的(甲基)丙烯酸酯和单官能的(甲基)丙烯酸酯的组合。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的辐射敏感树脂组合物,其还含有交联剂(E)。
8.一种树脂膜,其是使用权利要求1~7中任一项所述的辐射敏感树脂组合物而得到的。
9.一种电子部件,其具备权利要求8所述的树脂膜。
10.一种具有触控面板结构的显示装置,其具备由权利要求8所述的树脂膜形成的绝缘膜和/或保护膜。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110628351A (zh) * | 2018-06-25 | 2019-12-31 | 上海海优威新材料股份有限公司 | 用于处于加工状态的工件的防护的保护膜及其应用 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015072336A (ja) * | 2013-10-02 | 2015-04-16 | Jnc株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた表示素子 |
CN107429400B (zh) * | 2015-03-31 | 2019-06-21 | 富士胶片株式会社 | 被镀覆层形成用组合物、带被镀覆层前体层膜、带图案状被镀覆层膜、导电性膜、触控面板 |
US9882111B2 (en) * | 2015-06-12 | 2018-01-30 | Xilico, LLC | Thermoelectric devices |
JP2017044860A (ja) * | 2015-08-26 | 2017-03-02 | 住友ベークライト株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜および電子装置 |
CN107922741A (zh) * | 2015-08-31 | 2018-04-17 | 日本瑞翁株式会社 | 树脂组合物 |
CN110366704B (zh) * | 2017-03-30 | 2023-01-13 | 日本瑞翁株式会社 | 放射线敏感性树脂组合物和电子部件 |
JP6913890B2 (ja) * | 2018-02-13 | 2021-08-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 紫外線硬化性樹脂組成物、有機el発光装置の製造方法及び有機el発光装置 |
CN111902044A (zh) | 2018-03-29 | 2020-11-06 | 富士胶片株式会社 | 抗菌性组合物、抗菌膜、带抗菌膜的基材 |
KR20200052090A (ko) * | 2018-11-06 | 2020-05-14 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막 |
KR102340714B1 (ko) | 2019-09-04 | 2021-12-20 | 주식회사 충전공영개발 | 경사도에 따른 시공이 용이한 데크로드용 모듈 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4492393B2 (ja) * | 2005-03-08 | 2010-06-30 | チッソ株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた表示素子 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002148789A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成方法 |
JP2002184043A (ja) | 2000-12-13 | 2002-06-28 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録担体用ポジ型フォトレジスト、情報記録担体の製造方法および情報記録担体 |
KR100784672B1 (ko) * | 2001-08-20 | 2007-12-12 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
ATE414118T1 (de) * | 2004-07-07 | 2008-11-15 | Promerus Llc | Lichtempfindliche dielektrische harzzusammensetzungen und ihre verwendungen |
JP5240459B2 (ja) * | 2008-02-19 | 2013-07-17 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズならびにそれらの形成方法 |
JP5210201B2 (ja) * | 2009-02-24 | 2013-06-12 | 東京応化工業株式会社 | 感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びパターン形成方法 |
JP5617275B2 (ja) * | 2009-02-26 | 2014-11-05 | 日本ゼオン株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、樹脂膜、積層体及び電子部品 |
JP2011018636A (ja) * | 2009-06-09 | 2011-01-27 | Fujifilm Corp | 導電性組成物、並びに透明導電膜、表示素子及び集積型太陽電池 |
JP5413124B2 (ja) * | 2009-10-22 | 2014-02-12 | Jsr株式会社 | ポジ型感放射線性組成物、層間絶縁膜及びその形成方法 |
US20120237873A1 (en) * | 2009-12-20 | 2012-09-20 | Toray Industries Inc. | Positive photosensitive resin composition, cured film formed from the same, and device having cured film |
WO2011142391A1 (ja) * | 2010-05-13 | 2011-11-17 | 日産化学工業株式会社 | 感光性樹脂組成物およびディスプレイ装置 |
JP5896917B2 (ja) * | 2010-11-22 | 2016-03-30 | 昭和電工株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
JP5640864B2 (ja) | 2011-03-31 | 2014-12-17 | 日本ゼオン株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物および電子部品 |
JP6065750B2 (ja) * | 2013-05-29 | 2017-01-25 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物および電子装置 |
US9574090B2 (en) * | 2013-08-27 | 2017-02-21 | Zeon Corporation | Resin composition, resin film, and electronic device |
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4492393B2 (ja) * | 2005-03-08 | 2010-06-30 | チッソ株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた表示素子 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110628351A (zh) * | 2018-06-25 | 2019-12-31 | 上海海优威新材料股份有限公司 | 用于处于加工状态的工件的防护的保护膜及其应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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