CN105377997A - 色素多聚体的制造方法以及着色组合物的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供耐热性优异的色素多聚体的制造方法、包含由该制造方法而所得的色素多聚体的着色组合物。一种色素多聚体的制造方法，其包含使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤。

Description

色素多聚体的制造方法以及着色组合物的制造方法

技术领域

本发明涉及一种适于制造液晶显示元件或固体摄影元件等中所使用的彩色滤光片的色素多聚体的制造方法以及着色组合物的制造方法。

背景技术

制造液晶显示装置或固体摄影元件等中所使用的彩色滤光片的方法之一是颜料分散法，作为该颜料分散法，存在有使用将颜料分散于各种感光性组合物中而成的着色感光性组合物，利用光刻法而制造彩色滤光片的方法。亦即，使用旋涂机或辊涂机等将硬化性组合物涂布于基板上，使其干燥而形成涂布膜，对所述涂布膜进行图案曝光、显影，由此获得着色的像素。根据所期望的色相程度反复进行该操作，可制作彩色滤光片。

所述方法由于使用颜料而对光或热稳定，且由于利用光刻法而进行图案化，因此充分确保位置精度，可作为适于制造彩色显示器用彩色滤光片等的方法而广泛利用。

另一方面，在彩色滤光片的制作中一般使用包含染料或颜料的着色组合物，揭示了使用将色素聚合物化而成的色素多聚体作为此种染料或颜料(例如参照专利文献1～专利文献3)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2012-32754号公报

[专利文献2]日本专利第3736221号公报(日本专利特开2000-162429号公报)

[专利文献3]日本专利特开平9-204047号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在上述的现有技术中，获得色素多聚体的方法主要是使具有聚合性基的色素化合物进行聚合反应，在所得的色素多聚体的分子量中容易产生不均一。因此，利用现有技术而所得的色素多聚体在过度的加热工艺中，其一部分分解。而且，在现有的技术中，通过聚合反应而形成色素多聚体，因此在所得的色素多聚体中残存聚合引发剂等的分解物。

本发明是鉴于所述课题而成者，涉及耐热性优异的色素多聚体的制造方法、包含所述制造方法的着色组合物的制造方法。

解决问题的技术手段

本发明者等人进行了详细研究，结果通过使具有色素结构的化合物与构成聚合物的聚合物成分反应而完成本发明。

具体而言，通过下述手段<1>，优选的是通过<2>～<9>而解决所述课题。

<1>一种色素多聚体的制造方法，其包含：使具有色素结构的化合物与聚合物反应。

<2>根据<1>所述的色素多聚体的制造方法，其中，

反应是在具有色素结构的化合物与聚合物之间形成共价键的反应。

<3>根据<1>或<2>所述的色素多聚体的制造方法，其中，

还包含使具有聚合性基的化合物与聚合物反应的步骤。

<4>根据<1>～<3>中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，

具有色素结构的化合物包含阳离子部位与反荷阴离子。

<5>根据<4>所述的色素多聚体的制造方法，其中，

色素结构是源自如下色素的色素结构：选自二吡咯亚甲基色素、三芳基甲烷色素、呫吨色素、花青色素及方酸菁色素的色素。

<6>根据<4>或<5>所述的色素多聚体的制造方法，其中，

反荷阴离子选自磺酸根阴离子、磺酰亚胺阴离子、双(烷基磺酰基)酰亚胺阴离子、三(烷基磺酰基)甲基化物阴离子、羧酸根阴离子、四芳基硼酸盐阴离子、BF4-、PF6-、及SbF6-。

<7>根据<1>～<3>中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，

具有色素结构的化合物在同一分子内包含阳离子与阴离子。

<8>根据<1>～<7>中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，

聚合物的分子量的分布为1.0～2.5。

<9>一种着色组合物的制造方法，其包含：利用根据<1>～<8>中任一项所述的色素多聚体的制造方法而制造色素多聚体，调配聚合性化合物、色素多聚体以外的颜料及光聚合引发剂。

发明的效果

根据本发明，可提供耐热性优异的色素多聚体的制造方法、及包含着色组合物的制造方法的着色组合物。

具体实施方式

以下，对本发明的色素多聚体的制造方法及着色组合物的制造方法加以详述。

以下所记载的本发明中的构成要素的说明有时是基于本发明的代表性实施形态而进行的，但本发明并不限定于此种实施形态。

在本说明书中的基(原子团)的表述中，未记载经取代及未经取代的表述包含不具取代基的基(原子团)，也包含具有取代基的基(原子团)。例如，所谓“烷基”不仅仅包含不具取代基的烷基(未经取代的烷基)，也包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。

而且，本说明书中的所谓“光化射线”或“放射线”例如表示水银灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(extremeultravioletlight，EUV光)、X射线、电子束(electronbeam)等。而且，在本发明中所谓“光”是表示光化射线或放射线。本说明书中的所谓“曝光”，若无特别限制，则不仅仅包含利用水银灯、以准分子激光为代表的远紫外线、X射线、EUV光等的曝光，而且利用电子束、离子束等粒子束的描绘也包含于曝光中。

在本说明书中，使用“～”而表示的数值范围表示包含“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值的范围。

本说明书中，所谓“所有固体成分”是指自着色组合物的所有组成中除去溶剂的成分的总质量。

而且，在本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的两者或任意者，“(甲基)丙烯酸基”表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基的两者或任意者，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基的两者或任意者。

Me表示甲基，Et表示乙基，Ph表示苯基，Bu表示丁基。

而且，在本说明书中，“单体”与“单体(monomer)”同义。本说明书中的单体与寡聚物及聚合物区别，是指重量平均分子量为2,000以下的化合物。在本说明书中，所谓“聚合性化合物”是指具有聚合性官能基的化合物，可为单体，也可为聚合物。所谓“聚合性官能基”是指参与聚合反应的基。

在本说明书中，“步骤”的术语不仅仅是独立的步骤，即使是无法与其他步骤明确地区别的情况下，若可达成该步骤的所期望的作用，则包含于本术语中。

在本说明书中，重量平均分子量及数量平均分子量定义为利用凝胶渗透色谱法(GelPermeationChromatography，GPC)测定的聚苯乙烯换算值。在本说明书中，重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)例如可通过使用HLC-8220(东曹股份有限公司制造)，使用TSKgelSuperAWM-H(东曹股份有限公司制造、6.0mmID×15.0cm)作为管柱，使用10mmol/L的溴化锂NMP(N-甲基吡咯烷酮)溶液作为洗脱液而求出。

<色素多聚体的制造方法>

本发明的色素多聚体的制造方法的特征在于包含使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤。亦即，本发明的色素多聚体的制造方法并非使具有色素结构的化合物(聚合性单体)进行聚合反应，而是使具有色素结构的化合物与聚合物反应，从而制造色素多聚体。

现在，色素多聚体是使具有聚合性基的色素化合物聚合而制造。因此，容易在所得的色素多聚体的分子量或组成中产生不均一。如上所述，在分子量或组成中存在不均一的色素多聚体在过度的加热工艺中，色素多聚体容易分解，容易产生向其他图案的色移。而且，当使用此种色素多聚体，利用干式蚀刻法而形成图案时，存在光致抗蚀剂的显影液及剥离液的耐受性变差的倾向。

另外，可知在现有技术中，获得色素多聚体的方法使用聚合引发剂等低分子化合物作为催化剂，因此由于所得的色素多聚体中所含的低分子化合物的存在而造成彩色滤光片的耐热性差。另外，可知存在耐光性也差的倾向。另外，可知色素多聚体的聚合物成分的分子量分布广，因此存在图案缺损或图案的直线性恶化的倾向。

相对于此，若根据本发明，则并无如上所述的问题，因此可提供颜色特性优异的硬化膜及包含所述硬化膜的彩色滤光片。

本发明的制造方法中的使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤是使聚合物所具有的反应性基与具有色素结构的化合物所具有的反应性基进行高分子反应的步骤，优选的是使聚合物所具有的反应性基与具有色素结构的化合物所具有的反应性基形成共价键的步骤。

高分子反应是指高分子所参与的反应，可列举具有反应性基的高分子与低分子的反应、或高分子与高分子的反应。

在下述表示高分子反应中的反应例(反应例群组X)，但本发明并不限定于这些。

而且，也可利用《高分子功能材料系列2高分子的合成与反应(2)》(共立出版)、《新高分子实验学第4卷高分子的合成·反应(3)-高分子的反应与分解-》(共立出版)等中所记载的反应。

反应例群组X

[化1]

下述反应例群组中，A及B的其中一者表示聚合物，另一者表示具有色素结构的化合物，L¹及L²分别表示单键或连结基。X表示卤素。

优选的是相对于聚合物所具有的反应性基1摩尔而言，使0.3摩尔～1.0摩尔具有色素结构的化合物与其反应，更优选的是使0.5摩尔～1.0摩尔具有色素结构的化合物与其反应。

在本发明的制造方法中的使具有色素结构的化合物与聚合物反应的步骤中，也可视需要调配催化剂。在调配催化剂的情况下，作为调配量，相对于聚合物而言，优选的是1质量％～15质量％，更优选的是1质量％～10质量％，也可设为实质上并未调配的形态。另外，所谓实质上并未调配，例如是聚合物的0.1质量％以下。

作为催化剂，可使用共价键结时的公知的各种催化剂，可参照(《实验化学讲座》(丸善出版)、《新高分子实验学》(共立出版)等)中所记载者。具体而言可使用四乙基溴化铵、四丁基溴化铵、尼欧斯丹(NEOSTANN)(日东化成公司制造)等。

在本发明中，使聚合物与具有色素结构的化合物反应时，也可使用溶剂。作为该情况下的溶剂，可列举酯类(例如3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯等)、醚类(例如甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯等)、酮类(甲基乙基酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮等)、芳香族烃类(例如甲苯、二甲苯等)。

<<聚合物>>

在本发明中，可通过使具有色素结构的化合物与聚合物反应而解决所述课题。特别是通过使用分子量分布一定的聚合物，例如分子量分布为1.0～2.5的聚合物、进一步而言分子量分布为1.0～2.0的聚合物，可获得更均一的色素多聚体，更有效地发挥本发明的效果。分子量分布例如可利用凝胶渗透色谱法(GelPermeationChromatography，GPC)而测定。

本发明中所使用的聚合物的重量平均分子量优选的是2,000～20,000，更优选的是3,000～15,000，特别优选的是4,000～10,000。

本发明中所使用的聚合物通常包含具有反应性基(所述反应性基与具有色素结构的化合物反应)的重复单元。该重复单元可仅仅为1种，也可为2种以上。所述具有反应性基的重复单元优选的是所有重复单元的20摩尔％～90摩尔％，更优选的是30摩尔％～70摩尔％。作为反应性基，优选的是可与具有色素结构的化合物所具有的反应性基进行共价键结的反应性基，更优选的是羧基、羟基、环氧基、异氰酸酯基、氨基、酸酐。

在下述表示聚合物的具有反应性基的重复单元的具体例，但本发明并不限定于这些。

[化2]

这些中，作为聚合物而言，优选的是P-1～P-8、P-16。n为正整数。

<<具有色素结构的化合物>>

本发明中所使用的具有色素结构的化合物通常是在其分子结构中具有源自最大吸收波长存在于400nm～780nm的范围的色素的色素结构的化合物，通常是色素单体，但在不偏离本发明的主旨的范围内，也可使用色素二聚体或色素三聚体。

而且，具有色素结构的化合物通常具有可与所述聚合物反应的反应性基。作为反应性基，优选的是可与聚合物的反应性基共价键结的反应性基，更优选的是羧基、羟基、环氧基、异氰酸酯基、酸性卤化物(acidhalide)、氨基、酸酐，进一步更优选的是羧基、羟基、环氧基、异氰酸酯基、酸性卤化物。

具有色素结构的化合物可在1分子中包含1个可与所述聚合物反应的反应性基，也可包含2个以上，优选的是在1分子中包含1个反应性基。

而且，具有色素结构的化合物优选的是组入至聚合物所具有的所有重复单元的20摩尔％～90摩尔％中，更优选的是组入至30摩尔％～70摩尔％中。

<<<色素结构>>>

作为具有色素结构的化合物中的色素结构，例如可列举源自如下色素的色素结构等：选自二吡咯亚甲基色素、碳鎓色素(二苯基甲烷色素、三芳基甲烷色素、呫吨色素、吖啶色素等)、聚次甲基色素(氧杂菁色素、部花青色素、亚芳基(arylidene)色素、苯乙烯基色素、花青色素、方酸菁色素、克酮鎓色素等)、亚酞菁色、及这些的金属络合物色素的色素。

这些色素结构中，自颜色特性的观点考虑，优选的是源自选自二吡咯亚甲基色素、碳鎓色素、及聚次甲基色素的色素的色素结构，优选的是源自选自三芳基甲烷色素、呫吨色素、花青色素、方酸菁色素、喹啉黄色素、酞菁色素、及亚酞菁色素的色素的色素结构，进一步更优选的是源自选自二吡咯亚甲基色素、三芳基甲烷色素、呫吨色素、花青色素及方酸菁色素的色素的色素结构，最优选的是源自选自呫吨色素的色素的色素结构。

关于可形成色素结构的具体的色素化合物，在《新版染料便览》(有机合成化学协会编；丸善、1970)、《比色指数》(“染色师学会(TheSocietyofDyersandcolourists)”)、《色素手册》(大河原他编；讲谈社、1986)等中有所记载。

以下，对具有色素结构的化合物加以详细说明。

二吡咯亚甲基色素

本发明中的二吡咯亚甲基色素优选的是二吡咯亚甲基化合物、及由二吡咯亚甲基化合物与金属或金属化合物而所得的二吡咯亚甲基金属络合化合物。

另外，在本发明中，将包含二吡咯亚甲基结构的化合物称为二吡咯亚甲基化合物，将在包含二吡咯亚甲基结构的化合物上配位有金属或金属化合物的络合物称为二吡咯亚甲基金属络合化合物。

二吡咯亚甲基金属络合化合物优选的是由下述通式(M)所表示的二吡咯亚甲基化合物与金属或金属化合物而所得的二吡咯亚甲基金属络合化合物及其互变异构体，其中，优选的形态可列举下述通式(7)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物、或下述通式(8)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物，最优选的是通式(8)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物。

由通式(M)所表示的二吡咯亚甲基化合物与金属或金属化合物而所得的二吡咯亚甲基金属络合化合物、及其互变异构体

具有色素结构的化合物的优选形态之一是包含下述通式(M)所表示的化合物(二吡咯亚甲基化合物)或其互变异构体配位于金属或金属化合物上而成的络合物(以下适宜称为“特定络合物”)作为色素部位的色素结构。在本发明中，优选的是下述化合物形成阳离子结构，例如优选的是通式(M)的NH部分形成阳离子结构。

[化3]

在通式(M)中，R⁴～R¹⁰各自独立地表示氢原子或1价取代基。其中，R⁴与R⁹并不相互键结而形成环。而且，R⁴～R¹⁰的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基。

将通式(M)所表示的化合物导入至所述聚合物中的情况下的导入部位优选的是在R⁴～R⁹的任意一个部位导入，更优选的是在R⁴、R⁶、R⁷及R⁹的任意一个中导入，进一步更优选的是在R⁴及R⁹的任意一个中导入。

作为通式(M)中的R⁴～R⁹表示1价取代基的情况下的1价取代基，可列举在后述的取代基群组A的项中所列举的取代基。

在通式(M)中的R⁴～R⁹所表示的1价取代基为可进一步取代的基的情况下，可进一步具有R⁴～R⁹中所说明的取代基，在具有2个以上取代基的情况下，这些取代基可相同也可不同。

通式(M)中的R⁴与R⁵、R⁵与R⁶、R⁷与R⁸、及R⁸与R⁹也可分别独立地相互键结而形成5员、6员、或7员的饱和环或不饱和环。其中，R⁴与R⁹并不相互键结而形成环。在所形成的5员、6员、及7员的环为可进一步取代的基的情况下，可经所述R⁴～R⁹中所说明的取代基取代，在经2个以上取代基取代的情况下，这些取代基可相同也可不同。

在通式(M)中的R⁴与R⁵、R⁵与R⁶、R⁷与R⁸、及R⁸与R⁹各自独立地相互键结而形成并不具有取代基的5员、6员、或7员的饱和环或不饱和环的情况下，并不具有取代基的5员、6员、或7员的饱和环或不饱和环例如可列举吡咯环、呋喃环、噻吩环、吡唑环、咪唑环、三唑环、噁唑环、噻唑环、吡咯烷环、哌啶环、环戊烯环、环己烯环、苯环、吡啶环、吡嗪环、及哒嗪环，优选的是列举苯环或吡啶环。

通式(M)中的R¹⁰优选的是表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基、或杂环基。所述卤素原子、烷基、芳基、及杂环基分别与在后述的取代基群组A的项中所说明的卤素原子、烷基、芳基、及杂环基同义，其优选范围也相同。

在R¹⁰表示烷基、芳基、或杂环基的情况的烷基、芳基、及杂环基是可进一步取代的基的情况下，也可经后述的取代基群组A的项中所说明的取代基取代，在经2个以上取代基取代的情况下，这些取代基可相同也可不同。

～金属或金属化合物～

本发明中的特定络合物是所述的通式(M)所表示的二吡咯亚甲基化合物或其互变异构体配位于金属或金属化合物上而成的络合物。

此处，金属或金属化合物若为可形成络合物的金属或金属化合物，则可为任意者，包含2价的金属原子、2价的金属氧化物、2价的金属氢氧化物、或2价的金属氯化物。金属或金属化合物例如除了Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等金属以外，也包含AlCl、InCl、FeCl、TiCl₂、SnCl₂、SiCl₂、GeCl₂等金属氯化物，TiO、VO等金属氧化物，Si(OH)₂等金属氢氧化物。

自络合物的稳定性、分光特性、耐热、耐光性、及制造适应性等观点考虑，这些中优选的是Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO、或VO，更优选的是Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co、或VO，特别优选的是Zn。

其次，对通式(M)所表示的化合物在本发明中的特定络合物的更优选的范围加以说明。

本发明中的特定络合物的优选的范围是在通式(M)中，R⁴及R⁹各自独立为氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、硅烷基、羟基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、酰基、烷氧基羰基、氨甲酰基、氨基、苯胺基、杂环氨基、碳酰胺基、脲基、酰亚胺基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、或亚膦酰基(phosphinoyl)氨基；R⁵及R⁸各自独立为氢原子、卤素原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、羟基、氰基、硝基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基、酰亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、或氨磺酰基；R⁶及R⁷各自独立为氢原子、卤素原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、硅烷基、羟基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、酰基、烷氧基羰基、氨甲酰基、苯胺基、碳酰胺基、脲基、酰亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、或亚膦酰基氨基；R¹⁰为氢原子、卤素原子、烷基、芳基、或杂环基；金属或金属化合物为Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO、或V＝O的范围。

本发明中的特定络合物的更优选的范围是在通式(M)中，R⁴及R⁹各自独立为氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧基羰基、氨甲酰基、氨基、杂环氨基、碳酰胺基、脲基、酰亚胺基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、或亚膦酰基氨基；R⁵及R⁸各自独立为烷基、烯基、芳基、杂环基、氰基、硝基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基、酰亚胺基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、或氨磺酰基；R⁶及R⁷各自独立为氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧基羰基、氨甲酰基、碳酰胺基、脲基、酰亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、或氨磺酰基；R¹⁰为氢原子、卤素原子、烷基、芳基、或杂环基；金属或金属化合物为Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co、或V＝O的范围。

本发明中的特定络合物的特别优选范围是在通式(M)中，R⁴及R⁹各自独立为氢原子、烷基、芳基、杂环基、氨基、杂环氨基、碳酰胺基、脲基、酰亚胺基、烷氧基羰基氨基、磺酰胺基、偶氮基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、或亚膦酰基氨基；R⁵及R⁸各自独立为烷基、芳基、杂环基、氰基、酰基、烷氧基羰基、氨甲酰基、烷基磺酰基、或芳基磺酰基；R⁶及R⁷各自独立为氢原子、烷基、芳基、或杂环基；R¹⁰为氢原子、烷基、芳基、或杂环基；金属或金属化合物为Zn、Cu、Co、或V＝O的范围。

另外，以下所详述的通式(7)或通式(8)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物也是二吡咯亚甲基色素的特别优选的形态。

具有色素结构的化合物的适宜的形态之一是源自下述通式(7)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物的色素结构。在本发明中，下述化合物形成阳离子结构，例如通式(7)的Ma可形成阳离子结构。

[化4]

通式(7)中，R⁴～R⁹各自独立地表示氢原子、或1价取代基，R¹⁰表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基、或杂环基。Ma表示金属原子、或金属化合物。X¹表示可与Ma键结的基，X²表示中和Ma的电荷的基，X¹与X²也可相互键结而与Ma一同形成5员、6员、或7员的环。但R⁴与R⁹并不相互键结而形成环。而且，R⁴～R¹⁰的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基。

另外，通式(7)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物包含互变异构体。

作为将通式(7)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物导入至所述聚合物中的情况下的导入部位，就合成适合性的方面而言，优选的是在R⁴～R⁹的任意一个部位导入，更优选的是在R⁴、R⁶、R⁷及R⁹的任意一个中导入，进一步更优选的是在R⁴及R⁹的任意一个中导入。

在具有色素结构的化合物具有碱可溶性基的情况下，导入所述碱可溶性基的方法可使用使所述通式(7)中的R⁴～R¹⁰、X¹、X²的任意一个或两个以上取代基具有碱可溶性基的方法。这些取代基中优选的是R⁴～R⁹及X¹的任意者，更优选的是R⁴、R⁶、R⁷及R⁹的任意者，进一步更优选的是R⁴及R⁹的任意者。

通式(7)中中的R⁴～R⁹与所述通式(M)中的R⁴～R⁹同义，优选的形态也相同。

通式(7)中，Ma表示金属原子或金属化合物。作为金属原子或金属化合物，若为可形成络合物的金属原子或金属化合物，则可为任意者，包含2价的金属原子、2价的金属氧化物、2价的金属氢氧化物、或2价的金属氯化物。

例如包含Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等，及AlCl、InCl、FeCl、TiCl₂、SnCl₂、SiCl₂、GeCl₂等金属氯化物，TiO、V＝O等金属氧化物，Si(OH)₂等金属氢氧化物。

这些中，自络合物的稳定性、分光特性、耐热、耐光性、及制造适应性等观点考虑，金属原子或金属化合物优选的是Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO、及V＝O，更优选的是Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co、及V＝O，特别优选的是Zn、Co、V＝O、及Cu，最优选的是Zn。

而且，通式(7)中，R¹⁰表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基、或杂环基，优选的是氢原子。

通式(7)中，X¹若为可与Ma健结的基，则可为任意者，具体而言可列举水、醇类(例如甲醇、乙醇、丙醇)等，进一步可列举在《金属螯合物》([1]版口武-·上野景平著(1995年南江堂)、[2](1996年)、[3](1997年)等)中所记载的化合物。其中，就制造的方面而言，优选的是水、羧酸化合物、醇类，更优选的是水、羧酸化合物。

通式(7)中，作为X²所表示的“中和Ma的电荷的基”，例如可列举卤索原子、羟基、羧酸基、磷酸基、磺酸基等，其中，就制造的方面而言，优选的是卤素原子、羟基、羧酸基、磺酸基，更优选的是羟基、羧酸基。

通式(7)中，X¹与X²也可相互健结而与Ma一同形成5员、6员、或7员的环。所形成的5员、6员、及7员的环可为饱和环也可为不饱和环。而且，5员、6员、及7员的环可仅仅包含碳原子，也可形成包含至少一个选自氮原子、氧原子、或/及硫原子的原子的杂环。

通式(7)所表示的化合物的优选的形态是R⁴～R⁹各自独立为R⁴～R⁹的说明中所记载的优选的形态，R¹⁰是R¹⁰的说明中所记载的优选的形态，Ma为Zn、Cu、Co、或V＝O，X¹为水、或羧酸化合物，X²为羟基、或羧酸基，X¹与X²也可相互健结而形成5员环或6员环。

具有色素结构的化合物的适宜形态之一是源自下述通式(8)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物的色素结构。在本发明中，优选的是下述化合物形成阳离子结构，例如优选的是通式(8)的Ma形成阳离子结构，X¹形成阴离子结构。

[化5]

通式(8)中，R¹¹及R¹⁶各自独立地表示烷基、烯基、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基、烷基氨基、芳基氨基、或杂环氨基。R¹²～R¹⁵各自独立地表示氢原子、或取代基。R¹⁷表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基、或杂环基。Ma表示金属原子、或金属化合物。X²及X³各自独立地表示NR(R表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、酰基、烷基磺酰基、或芳基磺酰基)、氮原子、氧原子、或硫原子。Y¹及Y²各自独立地表示NR^c(R^c表示氢原子、烷基、烯基、芳基、杂环基、酰基、烷基磺酰基、或芳基磺酰基)、氮原子或碳原子。R¹¹与Y¹也可相互键结而形成5员、6员、或7员的环，R¹⁶与Y²也可相互键结而形成5员、6员、或7员的环。X¹表示可与Ma键结的基，a表示0、1、或2。而且，R、R^c及R¹¹～R¹⁶的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基。

另外，通式(8)所表示的二吡咯亚甲基化合物包含互变异构体。

将通式(8)所表示的化合物导入至所述聚合物的部位优选的是R¹¹～R¹⁷、X¹、Y¹～Y²的任意一个。就合成适合性的方面而言，这些中优选的是在R¹¹～R¹⁶及X¹的任意一个中导入，更优选的是在R¹¹、R¹³、R¹⁴及R¹⁶的任意一个中插入的形态，进一步更优选的是在R¹¹及R¹⁶的任意一个中插入的形态。

在具有色素结构的化合物具有碱可溶性基的情况下，作为导入所述碱可溶性基的方法，可使用如下方法：在使用具有碱可溶性基的色素单体或结构单元的情况下，使所述通式(8)中的R¹¹～R¹⁷、X¹、Y¹～Y²的任意一个或两个以上取代基具有碱可溶性基。这些取代基中，优选的是R¹¹～R¹⁶及X¹的任意者，更优选的是R¹¹、R¹³、R¹⁴及R¹⁶的任意者，进一步更优选的是R¹¹及R¹⁶的任意者。

在通式(8)中，R¹²～R¹⁵与所述通式(M)中的R⁵～R⁸同义，优选的形态也相同。R¹⁷与所述通式(M)中的R¹⁰同义，优选的形态也相同。Ma与所述通式(7)中的Ma同义，优选的范围也相同。

更详细而言，所述通式(8)中的R¹²～R¹⁵中，所述R¹²及R¹⁵优选的是烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、腈基、酰亚胺基、或氨甲酰基磺酰基，更优选的是烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基、烷基磺酰基、腈基、酰亚胺基、氨甲酰基磺酰基，进一步更优选的是烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基、腈基、酰亚胺基、氨甲酰基磺酰基，特别优选的是烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基。

所述R¹³及R¹⁴优选的是经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的芳基、经取代或未经取代的杂环基，更优选的是经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的芳基。此处，更优选的烷基、芳基、及杂环基的具体例可同样地列举在通式(M)的所述R⁶及R⁷中所罗列的具体例。

通式(8)中，R¹¹及R¹⁶表示烷基(优选的是碳数为1～36的直链、分支链、或环状的烷基、更优选的是碳数为1～12的直链、分支链、或环状的烷基，例如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、环丙基、环戊基、环己基、1-金刚烷基)、烯基(优选的是碳数为2～24的烯基，更优选的是碳数为2～12的烯基，例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(优选的是碳数为6～36的芳基，更优选的是碳数为6～18的芳基，例如苯基、萘基)、杂环基(优选的是碳数为1～24的杂环基，更优选的是碳数为1～12的杂环基，例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、2-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、烷氧基(优选的是碳数为1～36的烷氧基，更优选的是碳数为1～18的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、己氧基、2-乙基己氧基、十二烷氧基、环己氧基)、芳氧基(优选的是碳数为6～24的芳氧基，更优选的是碳数为1～18的芳氧基，例如苯氧基、萘氧基)、烷基氨基(优选的是碳数为1～36的烷基氨基，更优选的是碳数为1～18的烷基氨基，例如甲基氨基、乙基氨基、丙基氨基、丁基氨基、己基氨基、2-乙基己基氨基、异丙基氨基、叔丁基氨基、叔辛基氨基、环己基氨基、N，N-二乙基氨基、N，N-二丙基氨基、N，N-二丁基氨基、N-甲基-N-乙基氨基)、芳基氨基(优选的是碳数为6～36的芳基氨基，更优选的是碳数为6～18的芳基氨基，例如苯基氨基、萘基氨基、N，N-二苯基氨基、N-乙基-N-苯基氨基)、或杂环氨基(优选的是碳数为1～24的杂环氨基，更优选的是碳数为1～12的杂环氨基，例如2-氨基吡咯基、3-氨基吡唑、2-氨基吡啶基、3-氨基吡啶基)。

作为R¹¹及R¹⁶，上述中优选的是烷基、烯基、芳基、杂环基、烷基氨基、芳基氨基、杂环氨基，更优选的是烷基、烯基、芳基、杂环基，进一步更优选的是烷基、烯基、芳基，特别优选的是烷基。

通式(8)中，R¹¹及R¹⁶所表示的烷基、烯基、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基、烷基氨基、芳基氨基、或杂环氨基为可进一步被取代的基的情况下，可经后述的取代基群组A的项中所说明的取代基取代，在经2个以上取代基取代的情况下，这些取代基可相同也可不同。

通式(8)中，X²及X³各自独立地表示NR、氮原子、氧原子、或硫原子。此处，R表示氢原子、烷基(优选的是碳数为1～36的直链、分支链、或环状的烷基，更优选的是碳数为1～12的直链、分支链、或环状的烷基，例如甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、环丙基、环戊基、环己基、1-金刚烷基)、烯基(优选的是碳数为2～24的烯基，更优选的是碳数为2～12的烯基，例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(优选的是碳数为6～36的芳基，更优选的是碳数为6～18的芳基，例如苯基、萘基)、杂环基(优选的是碳数为1～24的杂环基，更优选的是碳数为1～12的杂环基，例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、酰基(优选的是碳数为1～24的酰基，更优选的是碳数为2～18的酰基，例如乙酰基、特戊酰基、2-乙基己基、苯甲酰基、环己酰基)、烷基磺酰基(优选的是碳数为1～24的烷基磺酰基，更优选的是碳数为1～18的烷基磺酰基，例如甲基磺酰基、乙基磺酰基、异丙基磺酰基、环己基磺酰基)、芳基磺酰基(优选的是碳数为6～24的芳基磺酰基，更优选的是碳数为6～18的芳基磺酰基，例如苯基磺酰基、萘基磺酰基)。

通式(8)中，Y¹及Y²各自独立地表示NRc、氮原子、或碳原子，R^c与所述X²及X³的R同义，优选的形态也相同。

通式(8)中，R¹¹与Y¹也可相互键结而与碳原子一同形成5员环(例如环戊烷环、吡咯烷环、四氢呋喃环、二氧杂环戊烷环、四氢噻吩环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、吲哚环、苯并呋喃环、苯并噻吩环)、6员环(例如环己烷环、哌啶环、哌嗪环、吗啉环、四氢吡喃环、二噁烷环、硫化环戊烷(pentamethylenesulfide)环、二噻烷环、苯环、哌啶环、哌嗪环、哒嗪环、喹啉环、喹唑啉环)、或7员环(例如环庚烷环、六亚甲基亚胺环)。

所述通式(8)中，R¹⁶与Y²也可相互键结而与碳原子一同形成5员环(例如环戊烷环、吡咯烷环、四氢呋喃环、二氧杂环戊烷环、四氢噻吩环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、吲哚环、苯并呋喃环、苯并噻吩环)、6员环(例如环己烷环、哌啶环、哌嗪环、吗啉环、四氢吡喃环、二噁烷环、硫化环戊烷环、二噻烷环、苯环、哌啶环、哌嗪环、哒嗪环、喹啉环、喹唑啉环)、或7员环(例如环庚烷环、六亚甲基亚胺环)。

通式(8)中，R¹¹与Y¹、及R¹⁶与Y²键结而形成的5员、6员、及7员的环为可经取代的环的情况下，可经后述的取代基群组A的项中所说明的取代基取代，在经2个以上取代基取代的情况下，这些取代基可相同也可不同。

通式(8)中，R¹¹及R¹⁶各自独立地优选的是立体参数-Es值为1.5以上的1价取代基，更优选的是2.0以上，进一步更优选的是3.5以上，特别优选的是5.0以上。

此处，立体参数-Es′值是表示取代基的立体体积大小的参数，使用在文献(J.A.Macphee等人，四面体(Tetrahedron)，第34卷，第3553页～第3562页、藤田稔夫编化学增刊107结构活性相关与药物设计、1986年2月20日发行(化学同人))中所示的-Es′值。

通式(8)中，X¹表示可与Ma键结的基，具体而言可列举与所述通式(7)中的X¹同样的基，优选的形态也相同。a表示0、1、或2。

作为通式(8)所表示的化合物的优选的形态，R¹²～R¹⁵各自独立为所述通式(M)中的R⁵～R⁸的说明中所记载的优选的形态，R¹⁷为所述通式(M)中的R¹⁰的说明中所记载的优选的形态，Ma为Zn、Cu、Co、或V＝O，X²为NR(R为氢原子、烷基)、氮原子、或氧原子，X³为NR(R为氢原子、烷基)、或氧原子，Y¹为NR^c(R^c为氢原子、烷基)、氮原子、或碳原子，Y²为氮原子、或碳原子，R¹¹及R¹⁶各自独立为烷基、芳基、杂环基、烷氧基、或烷基氨基，X¹为经由氧原子而键结的基，a为0或1。R¹¹与Y¹也可相互键结而形成5员环或6员环，或R¹⁶与Y²也可相互键结而形成5员环、6员环。

作为通式(8)所表示的化合物的进一步更优选的形态，R¹²～R¹⁵各自独立为通式(M)所表示的化合物中的R⁵～R⁸的说明中所记载的优选的形态，R¹⁷为所述通式(M)中的R¹⁰的说明中所记载的优选的形态，Ma为Zn，X²及X³为氧原子，Y¹为NH，Y²为氮原子，R¹¹及R¹⁶各自独立为烷基、芳基、杂环基、烷氧基、或烷基氨基，X¹为经由氧原子而键结的基，a为0或1。R¹¹与Y¹也可相互键结而形成5员环或6员环，或R¹⁶与Y²也可相互键结而形成5员环、6员环。

自着色力的观点考虑，优选的是所述通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物的摩尔吸光系数尽可能高。而且，自提高颜色纯度的观点考虑，最大吸收波长λmax优选的是520nm～580nm，更优选的是530nm～570nm。通过使其为该区域，可使用本发明的着色组合物而制作颜色再现性良好的彩色滤光片。

另外，作为具有源自二吡咯亚甲基色素的色素结构的化合物，优选的是相对于450nm的吸光度而言，最大吸收波长(λmax)的吸光度为1,000倍以上，更优选的是10,000倍以上，进一步更优选的是100,000倍以上。通过使该比率处于该范围内，在使用本发明的着色组合物而制作特别是蓝色彩色滤光片的情况下，可形成透过率更高的彩色滤光片。另外，最大吸收波长、及摩尔吸光系数是利用分光光度计cary5(瓦里安公司制造)而测定者。

作为所述通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物的溶点，自溶解性的观点考虑，优选的是并不过高。

所述通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亚甲基金属络合化合物可利用美国专利第4,774,339号说明书、美国专利第5,433,896号说明书、日本专利特开2001-240761号公报、日本专利特开2002-155052号公报、日本专利第3614586号公报、《澳大利亚化学杂志(Aust.J.Chem)》，1965，11，1835-1845、J.H.波格(J.H.Boger)等人，《杂原子化学(HeteroatomChemistry)》，第1卷，第5号，389(1990)等中所记载的方法而合成。具体而言可应用日本专利特开2008-292970号公报的段落0131～段落0157中所记载的方法。

以下表示二吡咯亚甲基色素的具体例，本发明并不限定于此。X^-表示反荷阴离子(下同)。

将以下所例示的二吡咯亚甲基色素的任意氢原子置换为可与聚合物反应的反应性基的化合物可作为本发明的具有色素结构的化合物而优选地使用。

[化6]

具有可与聚合物反应的反应性基的二吡咯亚甲基色素具体而言优选的是下述通式(M-1)所表示的化合物。

[化7]

通式(M-1)

(通式(M-1)中，R⁶、R⁷、R⁴¹、R⁵¹、及R⁸¹各自独立地表示氢原子或1价取代基，A表示具有反应性基的基，X表示反荷阴离子)

通式(M-1)中的R⁶、R⁷、R⁴¹、R⁵¹、及R⁸¹表示1价取代基的情况下的1价取代基可列举在后述的取代基群组A的项中所列举的取代基。

通式(M-1)中的A表示具有反应性基的基。作为反应性基，若为可与所述聚合物所具有的反应性基反应的基，则并无特别限制，优选的是在后述的取代基群组A的项中所列举的取代基的末端键结有(甲基)丙烯酰基、乙烯基、乙烯醚基、氧杂环丁烷基、氧杂环丙烷基、环氧基、氨基、羟基、羧基、卤代酰基(halogenacyl)等的基，其中优选的是键结有羟基、羧基、卤代酰基、环氧基。

通式(M-1)中的X表示反荷阴离子。X所表示的反荷阴离子可列举后述的反荷阴离子。

以下表示具有可与聚合物反应的反应性基的二吡咯亚甲基色素的具体例，但本发明并不限定于此。X^-表示反荷阴离子(下同)。

[化8]

[表1]

反应性基A	R6	R7	R51	R81	R41
						A-1	i-Pr	i-Pr	COOMG	COOMG	t-Bu
A-2	Ph	Ph	COOEt	COOEt	Ph
						A-3	Me	Me	COOMe	COOMe	Me
A-4	Bu	Bu	SO2Me	SO2Me	C(Et)3
						A-1～A-4	Bu	Bu	SO2PhMe	SO2PhMe	t-Bu，Ph，Me，或C(Et)3
A-1～A-4	i-Pr，Ph，Me，或Bu	i-Pr，Ph，Me，或Bu	CN	CN	t-Bu，Ph，Me，或C(Et)3

三芳基甲烷色素

本发明的具有色素结构的化合物的形态之一是具有源自三芳基甲烷色素(三芳基甲烷化合物)的色素结构的化合物。作为所述具有色素结构的化合物，包含具有源自下述通式(TP)所表示的化合物(三芳基甲烷化合物)的色素结构而作为色素部位的色素结构的具有色素结构的化合物。在本发明中，所谓三芳基甲烷化合物是在分子内具有包含三芳基甲烷骨架的色素部位的化合物的总称。

通式(TP)

[化9]

(通式(TP)中，Rtp¹～Rtp⁴分别独立地表示氢原子、烷基或芳基。Rtp⁵表示氢原子、烷基、芳基或NRtp⁹Rtp¹⁰(Rtp⁹及Rtp¹⁰表示氢原子、烷基、芳基、或羰基)。Rtp⁶、Rtp⁷及Rtp⁸表示取代基。a、b及c表示0～4的整数。在a、b及c为2以上的情况下，Rtp⁶、Rtp⁷及Rtp⁸也可分别连结而形成环。X^-表示阴离子。Rtp¹～Rtp¹⁰的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基)

Rtp¹～Rtp⁶优选的是优选的是氢原子、碳数为1～5的直链或分支的烷基及苯基。Rtp⁵优选的是氢原子或NRtp⁹Rtp¹⁰，特别优选的是NRtp⁹Rtp¹⁰。Rtp⁹及Rtp¹⁰优选的是氢原子、碳数为1～5的直链或分支的烷基或苯基。Rtp⁶、Rtp⁷及Rtp⁸所表示的取代基可使用在后述的取代基群组A的项中所列举的取代基，特别优选的是碳数为1～5的直链或分支的烷基、碳数为1～5的烯基、碳数为6～15的芳基、羧基或磺基，更优选的是碳数为1～5的直链或分支的烷基、碳数为1～5的烯基、苯基或羧基。特别是Rtp⁶、Rtp⁸优选的是碳数为1～5的烷基，Rtp⁷优选的是烯基(特别优选的是连结有邻接的2个烯基的苯基)、苯基或羧基。

a、b或c分别独立地表示0～4的整数。特别是a及b优选的是0～1，c优选的是0～2。

下述表示通式(TP)所表示的化合物的具体例，但本发明并不限定于此。将以下所例示的通式(TP)所表示的化合物的任意氢原子置换为可与聚合物反应的反应性基而成的化合物可作为本发明的具有色素结构的化合物而优选地使用。

[化10]

[化11]

所述具体例中，自颜色特性及耐热性的观点考虑，特别优选的是(tp-4)、(tp-5)、(tp-6)及(tp-8)。

作为具有可与聚合物反应的反应性基的三芳基甲烷色素，具体而言优选的是下述通式(TP-1)～通式(TP-3)的任意者所表示的化合物。

[化12]

通式(TP-1)

通式(TP-2)

通式(TP-3)

(通式(TP-1)～通式(TP-3)中，Rtp¹～Rtp⁵分别独立地表示氢原子、烷基或芳基。A表示具有反应性基的基，X表示反荷阴离子)

通式(TP-1)～通式(TP-3)中的Rtp¹～Rtp⁵与通式(TP)中的Rtp¹～Rtp⁴同义，优选的范围也相同。

通式(TP-1)～通式(TP-3)中的A表示具有反应性基的基，与通式(M-1)中的A同义，优选的范围也相同。

通式(TP-1)～通式(TP-3)中的X表示反荷阴离子，与通式(M-1)中的X同义，优选的范围也相同。

以下，表示具有可与聚合物反应的反应性基的三芳基甲烷色素的具体例，但本发明并不限定于此。

[化13]

[表2]

反应性基A	Rtp1	Rtp2	Rtp3	Rtp4
					A-1	Me	Me	Me	Me
A-2	Et	Et	Et	Et
					A-3	Ph	Ph	Ph	Ph
A-4	Me，Et，或Ph	Me，Et，或Ph	Me，Et，或Ph	Me，Et，或Ph

[表3]

反应性基A	Rtp1	Rtp2	Rtp3	Rtp4
					A-1	Me	Me	Me	Me
A-2	Et	Et	Et	Et
					A-3	Ph	Ph	Ph	Ph
A-4	Me，Et，或Ph	Me，Et，或Ph	Me，Et，或Ph	Me，Et，或Ph

呫吨色素

本发明中的具有色素结构的化合物的优选的形态是具有源自呫吨色素(呫吨化合物)的色素结构的化合物。呫吨色素也可阳离子(阳离子部位)与阴离子并不经由共价键而键结，作为不同的分子而存在，也可为在同一分子内包含阳离子与阴离子的所谓的分子内盐型。

作为具有色素结构的化合物，包含具有源自下述通式(J)所表示的呫吨化合物的色素结构的化合物。

[化14]

(通式(J)中，R⁸¹、R⁸²、R⁸³及R⁸⁴各自独立地表示氢原子或1价取代基，R⁸⁵各自独立地表示1价取代基，m表示0～5的整数。X^-表示反荷阴离子。R⁸¹～R⁸⁵的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基)

通式(J)中的R⁸¹～R⁸⁴及R⁸⁵所可采用的取代基与后述的取代基群组A的项中所列举的取代基相同。

通式(J)中的R⁸¹与R⁸²、R⁸³与R⁸⁴、及m为2以上的情况下的R⁸⁵彼此之间也可各自独立地相互键结而形成5员、6员或7员的饱和环、或5员、6员或7员的不饱和环。在所形成的5员、6员或7员的环为可进一步经取代的基的情况下，也可经所述R⁸¹～R⁸⁵中所说明的取代基取代，在经2个以上取代基取代的情况下，这些取代基可相同也可不同。

在所述通式(J)中的R⁸¹与R⁸²、R⁸³与R⁸⁴、及m为2以上的情况下的R⁸⁵彼此之间也可各自独立地相互键结而形成并不具有取代基的5员、6员以及7员的饱和环或5员、6员以及7员的不饱和环的情况下，作为并不具有取代基的5员、6员以及7员的饱和环或5员、6员以及7员的不饱和环，例如可列举吡咯环、呋喃环、噻吩环、吡唑环、咪唑环、三唑环、噁唑环、噻唑环、吡咯烷环、哌啶环、环戊烯环、环己烯环、苯环、吡啶环、吡嗪环、哒嗪环，优选的是列举苯环、吡啶环。

特别优选的是R⁸²及R⁸³为氢原子或经取代或未经取代的烷基，R⁸¹及R⁸⁴为经取代或未经取代的烷基或苯基。而且，R⁸⁵优选的是卤素原子、碳数为1～5的直链或分支的烷基、磺基、磺酰胺基、羧基、酰胺基，更优选的是磺基、磺酰胺基、羧基、酰胺基。优选的是R⁸⁵键结于与呫吨环连结的碳的邻接部。R⁸¹及R⁸⁴的苯基所具有的取代基最优选的是氢原子、卤素原子、碳数为1～5的直链或分支的烷基、磺基、磺酰胺基、羧基。

通式(J)所表示的具有呫吨骨架的化合物可利用文献中记载的方法而合成。具体而言可应用《四面体通讯(TetrahedronLetters)》、2003年、第44卷、第23号、第4355页～第4360页、《四面体(Tetrahedron)》、2005年、第61卷、第12号、第3097页～第3106页等中所记载的方法。

源自通式(J)所表示的呫吨化合物的色素结构由于阳离子非定域化，因此存在于氮原子上或呫吨环的碳原子上。关于以下所说明的呫吨化合物也同样。

源自呫吨化合物的色素结构也优选的是以下述通式(J1)而表示。

通式(J1)

[化15]

通式(J1)中，R⁸¹、R⁸²、R⁸³及R⁸⁴各自独立地表示氢原子或1价取代基，R⁸⁵各自独立地表示1价取代基，m表示0～5的整数。a表示0或1，在a表示0的情况下，色素结构中的任意基包含阴离子。X^-表示反荷阴离子。R⁸¹～R⁸⁵的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基。

通式(J1)中，R⁸¹～R⁸⁵及m与通式(J)中的R⁸¹～R⁸⁵及m同义，优选的范围也相同。

在通式(J1)中的a表示1的情况下，作为通式(J1)中的X^-，可列举在后述的反荷阴离子的栏中所说明的反荷阴离子。

在通式(J1)中的a表示0的情况下，色素结构中的任意基包含阴离子，优选的是R⁸¹～R⁸⁵的任意一个包含阴离子，更优选的是R⁸⁵包含阴离子。作为通式(J1)中的a表示0的情况下的阴离子，优选的是非亲核性的阴离子。例如优选的是-SO₃ ^-、-COO^-、-PO₄ ^-、包含下述通式(A1)所表示的结构的基或包含下述通式(A2)所表示的结构的基，更优选的是包含通式(A1)所表示的结构的基。

通式(A1)

[化16]

通式(A1)中，R¹及R²分别独立地表示-SO₂-或-CO-。

通式(A1)中，优选的是R¹及R²的至少一个表示-SO₂-，更优选的是R¹及R²的两者表示-SO₂-。

包含通式(A1)所表示的结构的基优选的是在R¹或R²的末端键结有具有反应性基的基或经氟取代的烷基。

具有反应性基的基与上述通式(M-1)中的具有反应性基的基同义。反应性基也可直接键结于R¹或R²上，也可经由连结基而键结于R¹或R²上。在反应性基经由连结基而键结于R¹或R²上的情况下，连结基优选的是经氟取代的亚烷基、经氟取代的亚芳基、-SO₂-、-S-、-O-、-CO-、亚烷基、亚芳基、或包含这些的组合的基。经氟取代的亚烷基的碳数优选的是1～10，更优选的是1～6，进一步更优选的是1～3。经氟取代的亚烷基优选的是全氟亚烷基。经氟取代的亚芳基的碳数优选的是6～12，更优选的是6～8。经氟取代的亚芳基优选的是全氟亚芳基。

经氟取代的烷基的碳数优选的是1～10，更优选的是1～6，进一步更优选的是1～3。经氟取代的烷基优选的是全氟烷基。

通式(A2)

[化17]

通式(A2)中，R³表示-SO₂-或-CO-，R²及R⁵分别独立地表示-SO₂-、-CO-或-CN。

通式(A2)中，优选的是R³～R⁵的至少一个表示-SO₂-，更优选的是R³～R⁵的至少两个表示-SO₂-。

作为包含通式(A2)所表示的结构的基，在R³～R⁵表示-SO₂-或-CO-的情况下，优选的是在末端键结有具有反应性基的基或经氟取代的烷基。

具有反应性基的基与通式(A1)中所说明的具有反应性基的基同义，优选的范围也相同。经氟取代的烷基与通式(A1)中所说明的经氟取代的烷基同义，优选的范围也相同。

以下表示呫吨化合物的具体例，但本发明并不限定于此。另外，将以下所例示的呫吨化合物的任意氢原子置换为可与聚合物反应的反应性基的化合物可作为本发明的具有色素结构的化合物而优选地使用。

[表4]

[表5]

作为具有可与聚合物反应的反应性基的呫吨化合物，具体而言优选的是下述通式(J-1)或通式(J-2)的任意者所表示的化合物。

[化18]

通式(J-1)

通式(J-2)

(通式(J-1)～通式(J-2)中，R⁸¹～R⁸⁵各自独立地表示氢原子或1价取代基，A表示具有反应性基的基，X表示反荷阴离子)

通式(J-1)～通式(J-2)中的R⁸¹～R⁸⁵与通式(J)中的R⁸¹～R⁸⁴同义，优选的范围也相同。

通式(J-1)～通式(J-2)中的A表示具有反应性基的基，与通式(M-1)中的A同义，优选的范围也相同。

通式(J-1)～通式(J-2)中的X表示反荷阴离子，与通式(M-1)中的X同义，优选的范围也相同。

以下，表示具有可与聚合物反应的反应性基的呫吨化合物的具体例，但本发明并不限定于此。

[化19]

[表6]

反应性基A是反应性基A-1～反应性基A-4的任意者。

[表7]

反应性基A是反应性基A-1～反应性基A-4的任意者。

[表8]

反应性基A是反应性基A-5～反应性基A-8的任意者。

花青色素

本发明的具有色素结构的化合物的形态之一是具有源自花青色素(花青化合物)的色素结构的化合物。作为所述具有色素结构的化合物，包含具有源自下述通式(PM)所表示的化合物(花青化合物)的色素结构的化合物。在本发明中，所谓“花青化合物”是在分子内具有包含花青骨架的色素部位的化合物的总称。

[化20]

(通式(PM)中，环Z¹及环Z²分别独立地表示也可具有取代基的杂环，至少一者含有具有可与聚合物反应的反应性基的取代基。1表示0以上、3以下的整数。X^-表示阴离子)

可采用的取代基)

环Z¹及环Z²分别独立地列举噁唑、苯并噁唑、噁唑啉、噻唑、噻唑啉、苯并噻唑、假吲哚、苯并假吲哚、1，3-噻二嗪等。

环Z¹及环Z²所可采用的取代基与后述的取代基群组A的项中所说明的取代基相同。X^-表示反荷阴离子。

通式(PM)所表示的化合物优选的是下述通式(PM-2)所表示的化合物。

通式(PM-2)

[化21]

(通式(PM-2)中，环Z⁵及环Z⁶分别独立地表示也可具有取代基的苯环或也可具有取代基的萘环。X^-表示反荷阴离子。R¹～R¹⁴的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基)

n表示0以上、3以下的整数。

A¹及A²分别独立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碳原子或氮原子。

R¹及R²分别独立地表示也可具有取代基的1价的碳数为1～20的脂肪族烃基。

R³及R⁴分别独立地表示氢原子或1价的碳数为1～6的脂肪族烃基，或者表示1个R³与1个R⁴一起形成的2价的碳数为2～6的脂肪族烃基。

a及b分别独立地表示0以上、2以下的整数。

以下表示花青化合物的具体例，但本发明并不限定于此。将以下所例示的花青化合物的任意氢原子置换为可与聚合物反应的反应性基而成的化合物可作为本发明的具有色素结构的化合物而优选地使用。

[化22]

所述具体例中，优选的是(pm-1)～(pm-6)、(pm-9)及(pm-10)所表示的结构，其中自颜色特性及耐热性的观点考虑，特别优选的是(pm-1)、(pm-2)及(pm-10)所表示的色素结构。

作为具有可与聚合物反应的反应性基的花青化合物，具体而言优选的是下述通式(PM-3)～通式(PM-6)所表示的化合物。

通式(PM-3)

[化23]

通式(PM-4)

[化24]

通式(PM-5)

[化25]

通式(PM-6)

[化26]

(通式(PM-3)～通式(PM-6)中，R²表示也可具有取代基的1价的碳数为1～20的脂肪族烃基，A表示具有反应性基的基，X表示反荷阴离子)

通式(PM-3)～通式(PM-6)中的R²与通式(PM-2)中的R²同义，优选的范围也相同。

通式(PM-3)～通式(PM-6)中的A表示具有反应性基的基，与通式(M-1)中的A同义，优选的范围也相同。

通式(PM-3)～通式(PM-6)中的X表示反荷阴离子，与通式(M-1)中的X同义，优选的范围也相同。

以下表示具有可与聚合物反应的反应性基的花青色素的具体例，但本发明并不限定于此。

[表9]

反应性基A	R2
		A-1	Me
A-2	Et
		A-3	Bu
A-4	Me，Et，或Bu

[表10]

反应性基A	R2
		A-1	Me
A-2	Et
		A-3	Bu
A-4	Me，Et，或Bu

[表11]

反应性基A	R2
		A-1	Me
A-2	Et
		A-3	Bu
A-4	Me，Et，或Bu

[表12]

反应性基A	R2
		A-1	Me
A-2	Et
		A-3	Bu
A-4	Me，Et，或Bu

亚酞菁化合物

本发明的具有色素结构的化合物的形态之一是具有源自亚酞菁色素(酞菁化合物)的色素结构的化合物。作为所述具有色素结构的化合物，包含具有源自下述通式(SP)所表示的化合物(亚酞菁化合物)的色素结构的化合物。在本发明中，所谓“亚酞菁化合物”是在分子内具有包含亚酞菁骨架的色素部位的化合物的总称。在本发明中，优选的是下述化合物形成阳离子结构，例如优选的是通式(SP)的硼原子形成阳离子结构。

[化27]

(通式(SP)中，Z¹～Z¹²分别独立地表示氢原子、烷基、芳基、羟基、巯基、氨基、烷氧基、芳氧基、硫醚基。X表示反荷阴离子。Z¹～Z¹²的至少一个具有可与聚合物反应的反应性基)

对通式(SP)加以详细说明。

通式(SP)中的Z¹～Z¹²所也可具有的烷基表示直链或分支的经取代或未经取代的烷基。Z¹～Z¹²特别优选的是碳数为1～20，进一步更优选的是碳数为1～10。Z¹～Z¹²所也可具有的取代基可列举在后述的取代基群组A的项中所列举的取代基，特别优选的是氟原子、羟基及巯基。

以下表示亚酞菁化合物的具体例，但本发明并不限定于此。将以下所例示的亚酞菁化合物的任意氢原子置换为可与聚合物反应的反应性基而成的化合物可作为本发明的具有色素结构的化合物而优选地使用。

[化28]

所述具体例中，自颜色特性及耐热性的观点考虑，特别优选的是(SP-2)、(SP-3)、(SP-4)、(SP-5)、(SP-6)及(SP-7)。

作为具有可与聚合物反应的反应性基的亚酞菁化合物，具体而言优选的是下述通式(SP′)所表示的化合物。

[化29]

通式(SP′)

(通式(SP′)中，A表示具有反应性基的基，X表示反荷阴离子)

通式(SP′)中的A表示具有反应性基的基，与通式(M-1)中的A同义，优选的范围也相同。

通式(SP′)中的X表示反荷阴离子，与通式(M-1)中的X同义，优选的范围也相同。

以下表示具有可与聚合物反应的反应性基的亚酞菁化合物的具体例，但本发明并不限定于此。

[化30]

作为本发明的具有色素结构的化合物，所述色素结构中的氢原子也可经选自下述取代基群组A的取代基所取代。

取代基群组A

作为色素多聚体所也可具有的取代基，可列举卤素原子、烷基、环烷基、烯基、环烯基、炔基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、硅烷基氧基、杂环氧基、酰氧基、氨甲酰基氧基、氨基(包含烷基氨基、苯胺基)、酰基氨基、氨基羰基氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、氨磺酰基氨基、烷基磺酰基氨基或芳基磺酰基氨基、巯基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨磺酰基、磺基、烷基亚磺酰基或芳基亚磺酰基、烷基磺酰基或芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、氨甲酰基、芳基偶氮基或杂环偶氮基、酰亚胺基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基氨基、硅烷基等。以下详细地加以记述。

可列举：卤素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、直链或分支的烷基(直链或分支的经取代或未经取代的烷基，优选的是碳数为1～30的烷基，例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、正辛基、2-氯乙基、2-氰基乙基、2-乙基己基)、环烷基(优选的是碳数为3～30的经取代或未经取代的环烷基，例如可列举环己基、环戊基；多环烷基，可列举例如双环烷基(优选的是碳数为5～30的经取代或未经取代的双环烷基，例如双环[1.2.2]庚烷-2-基、双环[2.2.2]辛烷-3-基)或三环烷基等多环结构的基。优选的是单环的环烷基、双环烷基，特别优选的是单环的环烷基)、

直链或分支的烯基(直链或分支的经取代或未经取代的烯基，优选的是碳数为2～30的烯基，例如乙烯基、烯丙基、异戊二烯基、香叶基、油烯基)、环烯基(优选的是碳数为3～30的经取代或未经取代的环烯基，例如可列举2-环戊烯-1-基、2-环己烯-1-基，多环烯基，例如双环烯基(优选的是碳数为5～30的经取代或未经取代的双环烯基，例如双环[2.2.1]庚-2-烯-1-基、双环[2.2.2]辛-2-烯-4-基)或三环烯基，特别优选的是单环的环烯基)、炔基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的炔基，例如乙炔基、炔丙基、三甲基硅烷基乙炔基)、

芳基(优选的是碳数为6～30的经取代或未经取代的芳基，例如苯基、对甲苯基、萘基、间氯苯基、邻十六酰基氨基苯基)、杂环基(优选的是5员～7员的经取代或未经取代的、饱和或不饱和的、芳香族或非芳香族的、单环或缩环的杂环基，更优选的是环构成原子是选自碳原子、氮原子及硫原子，且具有至少一个氮原子、氧原子及硫原子的任意杂原子的杂环基，进一步更优选的是碳数为3～30的5员或6员的芳香族的杂环基。例如2-呋喃基、2-噻吩基、2-吡啶基、4-吡啶基、2-嘧啶基、2-苯并噻唑基)、氰基、羟基、硝基、羧基、

烷氧基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、异丙氧基、叔丁氧基、正辛氧基、2-甲氧基乙氧基)、芳氧基(优选的是碳数为6～30的经取代或未经取代的芳氧基，例如苯氧基、2-甲基苯氧基、2，4-二-叔戊基苯氧基、4-叔丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-十四酰基氨基苯氧基)、硅烷基氧基(优选的是碳数为3～20的硅烷基氧基，例如三甲基硅烷基氧基、叔丁基二甲基硅烷基氧基)、杂环氧基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的杂环氧基，杂环部优选的是前述的杂环基中所说明的杂环部，例如1-苯基四唑-5-氧基、2-四氢吡喃基氧基)、

酰氧基(优选的是甲酰氧基、碳数为2～30的经取代或未经取代的烷基羰氧基、碳数为6～30的经取代或未经取代的芳基羰氧基，例如甲酰氧基、乙酰氧基、特戊酰氧基、十八酰氧基、苯甲酰氧基、对甲氧基苯基羰氧基)、氨甲酰基氧基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的氨甲酰基氧基，例如N，N-二甲基氨甲酰基氧基、N，N-二乙基氨甲酰基氧基、吗啉代羰氧基、N，N-二-正辛基氨基羰氧基、N-正辛基氨甲酰基氧基)、烷氧基羰氧基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的烷氧基羰氧基，例如甲氧基羰氧基、乙氧基羰氧基、叔丁氧基羰氧基、正辛基羰氧基)、芳氧基羰氧基(优选的是碳数为7～30的经取代或未经取代的芳氧基羰氧基，例如苯氧基羰氧基、对甲氧基苯氧基羰氧基、对-正十六烷氧基苯氧基羰氧基)、

氨基(优选的是氨基、碳数为1～30的经取代或未经取代的烷基氨基、碳数为6～30的经取代或未经取代的芳基氨基、碳数为0～30的杂环氨基，例如氨基、甲基氨基、二甲基氨基、苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基氨基、N-1，3，5-三嗪-2-基氨基)、酰基氨基(优选的是甲酰基氨基、碳数为1～30的经取代或未经取代的烷基羰基氨基、碳数为6～30的经取代或未经取代的芳基羰基氨基，例如甲酰基氨基、乙酰基氨基、特戊酰基氨基、十二酰基氨基、苯甲酰基氨基、3，4，5-三-正辛氧基苯基羰基氨基)、氨基羰基氨基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的氨基羰基氨基，例如氨甲酰基氨基、N，N-二甲基氨基羰基氨基、N，N-二乙基氨基羰基氨基、吗啉代羰基氨基)、烷氧基羰基氨基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代烷氧基羰基氨基，例如甲氧基羰基氨基、乙氧基羰基氨基、叔丁氧基羰基氨基、正十八烷氧基羰基氨基、N-甲基-甲氧基羰基氨基)、

芳氧基羰基氨基(优选的是碳数为7～30的经取代或未经取代的芳氧基羰基氨基，例如苯氧基羰基氨基、对氯苯氧基羰基氨基、间-正辛氧基苯氧基羰基氨基)、氨磺酰基氨基(优选的是碳数为0～30的经取代或未经取代的氨磺酰基氨基，例如氨磺酰基氨基、N，N-二甲基氨基磺酰基氨基、N-正辛基氨基磺酰基氨基)、烷基磺酰基氨基或芳基磺酰基氨基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的烷基磺酰基氨基、碳数为6～30的经取代或未经取代的芳基磺酰基氨基，例如甲基磺酰基氨基、丁基磺酰基氨基、苯基磺酰基氨基、2，3，5-三氯苯基磺酰基氨基、对甲基苯基磺酰基氨基)、巯基、

烷硫基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、正十六烷硫基)、芳硫基(优选的是碳数为6～30的经取代或未经取代的芳硫基，例如苯硫基、对氯苯硫基、间甲氧基苯硫基)、杂环硫基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的杂环硫基，杂环部优选的是前述的杂环基中所说明的杂环部，例如2-苯并噻唑基硫基、1-苯基四唑-5-基硫基)、氨磺酰基(优选的是碳数为0～30的经取代或未经取代的氨磺酰基，例如N-乙基氨磺酰基、N-(3-十二烷氧基丙基)氨磺酰基、N，N-二甲基氨磺酰基、N-乙酰基氨磺酰基、N-苯甲酰基氨磺酰基、N-(N′-苯基氨甲酰基)氨磺酰基)、磺基、

烷基亚磺酰基或芳基亚磺酰基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的烷基亚磺酰基、6～30的经取代或未经取代的芳基亚磺酰基，例如甲基亚磺酰基、乙基亚磺酰基、苯基亚磺酰基、对甲基苯基亚磺酰基)、烷基磺酰基或芳基磺酰基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的烷基磺酰基、6～30的经取代或未经取代的芳基磺酰基，例如甲基磺酰基、乙基磺酰基、苯基磺酰基、对甲基苯基磺酰基)、酰基(优选的是甲酰基、碳数为2～30的经取代或未经取代的烷基羰基、碳数为7～30的经取代或未经取代的芳基羰基，例如乙酰基、特戊酰基、2-氯乙酰基、硬脂酰基、苯甲酰基、对-正辛氧基苯基羰基)、芳氧基羰基(优选的是碳数为7～30的经取代或未经取代的芳氧基羰基，例如苯氧基羰基、邻氯苯氧基羰基、间硝基苯氧基羰基、对叔丁基苯氧基羰基)、

烷氧基羰基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代烷氧基羰基，例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基)、氨甲酰基(优选的是碳数为1～30的经取代或未经取代的氨甲酰基，例如氨甲酰基、N-甲基氨甲酰基、N，N-二甲基氨甲酰基、N，N-二-正辛基氨甲酰基、N-(甲基磺酰基)氨甲酰基)、芳基偶氮基或杂环偶氮基(优选的是碳数为6～30的经取代或未经取代的芳基偶氮基、碳数为3～30的经取代或未经取代的杂环偶氮基(杂环部优选的是前述的杂环基中所说明的杂环部)、例如苯基偶氮、对氯苯基偶氮、5-乙硫基-1，3，4-噻二唑-2-基偶氮)、酰亚胺基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的酰亚胺基，例如N-琥珀酰亚胺、N-邻苯二甲酰亚胺)、膦基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的膦基，例如二甲基膦基、二苯基膦基、甲基苯氧基膦基)、氧膦基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的氧膦基，例如氧膦基、二辛氧基氧膦基、二乙氧基氧膦基)、

氧膦基氧基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的氧膦基氧基，例如二苯氧基氧膦基氧基、二辛氧基氧膦基氧基)、氧膦基氨基(优选的是碳数为2～30的经取代或未经取代的氧膦基氨基，例如二甲氧基氧膦基氨基、二甲基氨基氧膦基氨基)、硅烷基(优选的是碳数为3～30的经取代或未经取代的硅烷基，例如三甲基硅烷基、叔丁基二甲基硅烷基、苯基二甲基硅烷基)。

所述官能基中，具有氢原子者的官能基中的氢原子的部分也可经所述任意基取代。作为可作为取代基而导入的官能基的例子，可列举烷基羰基氨基磺酰基、芳基羰基氨基磺酰基、烷基磺酰基氨基羰基、芳基磺酰基氨基羰基，具体而言可列举甲基磺酰基氨基羰基、对甲基苯基磺酰基氨基羰基、乙酰基氨基磺酰基、苯甲酰基氨基磺酰基。

<<<反荷阴离子>>>

本发明中的反荷阴离子并无特别限制，自可进一步使耐热性提高的观点考虑，优选的是非亲核性的阴离子。作为非亲核性的反荷阴离子，可列举日本专利特开2007-310315号公报[0075]等中所记载的公知的非亲核性阴离子，优选的是可列举磺酸根阴离子、羧酸根阴离子、磺酰亚胺阴离子、双(烷基磺酰基)酰亚胺阴离子、三(烷基磺酰基)甲基化物阴离子、羧酸根阴离子、四芳基硼酸盐阴离子、-CON^-CO-、-CON^-SO₂-、BF₄ ^-、PF₆ ^-、SbF₆ ^-、B^-(CN)₃OMe，特别优选的是磺酸根阴离子、磺酰亚胺阴离子、双(烷基磺酰基)酰亚胺阴离子、三(烷基磺酰基)甲基化物阴离子、羧酸根阴离子、四芳基硼酸盐阴离子、BF₄ ^-、PF₆ ^-、及SbF₆ ^-。

这些中，反荷阴离子更优选的是具有下述(AN-1)～(AN-5)所表示的结构的非亲核性阴离子。

[化31]

(式(AN-1)中，X¹及X²分别独立地表示氟原子或碳数为1～10的具有氟原子的烷基。X¹及X²也可分别键结而形成环)

X¹及X²分别独立地优选的是碳数为1～10的全氟烷基，更优选的是碳数为1～4的全氟烷基。

[化32]

(式(AN-2)中，X³、X⁴及X⁵分别独立地表示氟原子或碳数为1～10的具有氟原子的烷基)

X³、X⁴及X⁵优选的是碳数为1～10的全氟烷基，更优选的是碳数为1～4的全氟烷基。

[化33]

X⁶-SO₃ ^-

(AN-3)

(式(AN-3)中，X⁶表示碳数为1～10的具有氟原子的烷基)

X⁶优选的是碳数为1～10的全氟烷基，更优选的是碳数为1～4的全氟烷基。

[化34]

(式(AN-4)中，X⁷表示碳数为1～10的具有氟原子的亚烷基)

X⁷优选的是碳数为1～10的全氟亚烷基，更优选的是碳数为1～4的全氟亚烷基。

[化35]

(式(AN-5)中，Ar¹、Ar²、Ar³及Ar⁴表示芳基)

Ar¹、Ar²、Ar³及Ar⁴所表示的芳基也可具有取代基。取代基可列举卤素原子、烷基、芳基、烷氧基、羰基、羰氧基、氨甲酰基、磺基、磺酰胺基、硝基等，特别优选的是氟原子、烷基，更优选的是氟原子、碳数为1～4的全氟烷基。

Ar¹、Ar²、Ar³及Ar⁴优选的是苯基、五氟苯基、3，5-三氟苯基，最优选的是五氟苯基。

本发明中所使用的反荷阴离子的每1分子的分子量优选的是100～800，更优选的是200～700。

本发明的具有色素结构的化合物可仅包含1种反荷阴离子，也可包含2种以上。

以下表示本发明中所使用的反荷阴离子的具体例，但本发明并不限定于此。

[化36]

<<与聚合物反应的其他化合物>>

本发明的制造方法中，也可使其他化合物与具有色素结构的化合物一同与聚合物反应。作为与聚合物反应的其他化合物，优选的是具有聚合性基的化合物。通过使用此种化合物，可在聚合物中导入聚合性基，耐热性进一步提高，可更有效地抑制色移，也可更有效地抑制图案缺损。

而且，本发明中所使用的聚合物也可包含具有所述反应性基的重复单元以外的重复单元，作为此种重复单元，可例示具有酸基的重复单元、具有碱可溶性基的重复单元、具有聚合性基的重复单元。这些可分别仅仅包含1种，也可包含2种以上。

酸基可例示羧酸基、磺酸基、磷酸基。

碱可溶性基可例示酚性羟基、羧酸基。

具有聚合性基的化合物可与具有色素结构的化合物一同反应；也可在使具有色素结构的化合物与聚合物反应后，与具有聚合性基的化合物反应；也可在使具有色素结构的化合物与聚合物反应之前，与具有聚合性基的化合物反应。本发明中所使用的具有聚合性基的化合物通常除了聚合性基以外，具有与聚合物反应的反应性基。作为此种反应性基的例子，与具有色素结构的化合物所具有的反应基同义，优选的范围也相同。

具有聚合性基的化合物优选的是组入至聚合物所具有的所有重复单元的5摩尔％～80摩尔％中，更优选的是组入至10摩尔％～50摩尔％中。

作为所述具有聚合性基的化合物所具有的聚合性基，可使用可由于自由基、酸、热而交联的公知的聚合性基，例如可列举包含乙烯性不饱和键的基、环状醚基(环氧基、氧杂环丁烷基)、羟甲基等，特别优选的是包含乙烯性不饱和键的基，更优选的是(甲基)丙烯酰基，特别优选的是源自(甲基)丙烯酸缩水甘油酯及(甲基)丙烯酸-3，4-环氧-环己基甲酯的(甲基)丙烯酰基。

作为与具有色素结构的化合物反应的具有聚合性基的化合物的例子，可列举甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-2-羟基乙酯、甲基丙烯酸-2-异氰酸基乙酯、丙烯酸-2-异氰酸基乙酯等。

以下表示本发明的聚合物所也可另外包含的具有酸基的重复单元及其他重复单元的例子。n是正整数。

本发明当然并不限定于这些。

[化37]

本发明的制造方法中所制造的色素单体的重量平均分子量例如为2,000～20,000，进一步而言为3,000～15,000，特别是4,000～10,000。

本发明的制造方法中所制造的色素单体的分子量的分布可设为1.0～2.2，进一步可设为1.0～2.0，特别可设为1.0～1.8。通过使用分子量分布为所述范围内者，可进一步减少分子量的不均一，可使图案性进一步提高。

本发明的制造方法中所制造的色素多聚体(A)的玻璃化温度(Tg)优选的是50℃以上，更优选的是100℃以上。而且，热重量分析(TGA测定)的5％重量损失温度优选的是120℃以上，更优选的是150℃以上，进一步更优选的是200℃以上。通过使其为该区域，可在将本发明的着色组合物应用于彩色滤光片等的制作中时，减低由于加热工艺所引起的浓度变化。

而且，本发明的制造方法中所制造的色素多聚体的每单位重量的吸光系数(以后记为ε′。ε′＝ε/平均分子量、单位：L/g·cm)优选的是30以上，更优选的是60以上，进一步更优选的是100以上。通过设为该范围，在应用本发明的着色组合物而制作彩色滤光片的情况下，可制作颜色再现性良好的彩色滤光片。

作为本发明的着色组合物中所使用的色素多聚体(A)的摩尔吸光系数，自着色力的观点考虑，优选的是尽可能地高。

<着色组合物>

另外，在本发明中，利用所述色素多聚体的制造方法而所得的色素多聚体可优选地调配于着色组合物(以下有时简称为“本发明的组合物”)中。

本发明的组合物可优选地用以形成彩色滤光片的着色层。通过使用此种组合物而形成彩色滤光片，可抑制向其他图案的色移，且可形成图案形成性优异的图案。

另外，在现有的调配有色素多聚体的着色组合物中，利用光刻法而形成微细图案时，存在产生图案缺损，或图案的直线性恶化的情况。相对于此，通过使用本发明的组合物，可抑制图案缺损，或抑制图案直线性的恶化。

而且，在调配有色素多聚体的着色组合物中，利用干式蚀刻法而形成图案时，存在光致抗蚀剂的对显影液的耐受性或对剥离液的耐受性差的情况。相对于此，在本发明中，可使光致抗蚀剂对显影液的耐受性提高，或使光致抗蚀剂对剥离液的耐受性提高。

本发明的着色组合物优选的是包含硬化性化合物及(C)颜料。作为硬化性化合物，可例示(B)聚合性化合物、(F)碱可溶性树脂(包含含有聚合性基的碱可溶性树脂)，可根据用途或制造方法而适宜选择。另外，优选的是本发明的着色组合物包含(D)光聚合引发剂。

例如在利用光致抗蚀剂而形成着色层的情况下，本发明的着色组合物优选的是包含本发明的(A)色素多聚体、作为硬化性化合物的(F)碱可溶性树脂、(C)颜料及(D)光聚合引发剂的组合物。也可进一步包含表面活性剂、溶剂等成分。

而且，在利用干式蚀刻而形成着色层的情况下，优选的是包含本发明的(A)色素多聚体、作为硬化性化合物的聚合性化合物、(C)颜料及(D)光聚合引发剂的组合物。也可进一步包含表面活性剂、溶剂等成分。

在本发明的着色组合物中，可单独使用1种色素多聚体(A)，也可并用2种以上。在使用2种以上的情况下，优选的是其合计量相当于后述的含量。

本发明的着色组合物中的色素多聚体(A)的含量可考虑与后述的(C)颜料的含有比率而设定。

色素多聚体相对于颜料的质量比(色素多聚体(A)/颜料)优选的是0.1～5，更优选的是0.2～2，进一步更优选的是0.3～1。

本发明的着色组合物也可包含(A)色素多聚体以外的公知的染料。例如可使用日本专利特开昭64-90403号公报、日本专利特开昭64-91102号公报、日本专利特开平1-94301号公报、日本专利特开平6-11614号公报、日本专利特登2592207号、美国专利4808501号说明书、美国专利5667920号说明书、美国专利505950号说明书、美国专利5667920号说明书、日本专利特开平5-333207号公报、日本专利特开平6-35183号公报、日本专利特开平6-51115号公报、日本专利特开平6-194828号公报等中所揭示的色素。化学结构可使用吡唑偶氮系、吡咯亚甲基系、苯胺基偶氮系、三苯基甲烷系、蒽醌系、苯亚甲基系、氧杂菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、吩噻嗪系、吡咯并吡唑偶氮次甲基系等染料。

<(B)聚合性化合物>

优选的是本发明的着色组合物含有聚合性化合物。

可使用由于自由基、酸、热而交联的公知的聚合性化合物，例如可列举包含乙烯性不饱和键、环状醚(环氧、氧杂环丁烷)、羟甲基等的聚合性化合物。作为聚合性化合物，自灵敏度的观点考虑，可适宜地自具有至少一个、优选的是两个以上末端乙烯性不饱和键的化合物中选择。其中，优选的是4官能以上的多官能聚合性化合物，更优选的是5官能以上的多官能聚合性化合物。

此种化合物群组是在该产业领域中广泛已知者，可在本发明中并无特别限定地使用这些化合物。这些例如可为单体、预聚物、亦即二聚物、三聚物及寡聚物或这些混合物以及这些的寡聚物等化学形态的任意者。本发明中的聚合性化合物可单独使用一种，也可并用2种以上。

更具体而言，作为单体及其预聚物的例子，可列举不饱和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸等)或其酯类、酰胺类、以及这些的多聚体，优选的是不饱和羧酸与脂肪族多元醇化合物的酯、及不饱和羧酸与脂肪族多元胺化合物的酰胺类、以及这些的多聚体。而且，也可适宜地使用具有羟基或氨基、巯基等亲核性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或环氧类的加成反应物，或与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应物等。而且，具有异氰酸酯基或环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的加成反应物、另外具有卤基或甲苯磺酰氧基等脱离性取代基的不饱和羧酸酯或酰胺类与单官能或多官能的醇类、胺类、硫醇类的取代反应物也适宜。而且，作为其他的例子，也可使用置换为不饱和膦酸、苯乙烯等乙烯基苯衍生物、乙烯醚、烯丙基醚等的化合物群组代替所述不饱和羧酸。

作为这些具体的化合物，在本发明中也可适宜地使用日本专利特开2009-288705号公报的段落编号[0095]～段落编号[0108]中所记载的化合物。

而且，作为所述聚合性化合物，具有至少一个可加成聚合的乙烯基，且在常压下具有100℃以上的沸点的具有乙烯性不饱和基的化合物也优选。其例可列举聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等单官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、在甘油或三羟甲基乙烷等多官能醇上加成环氧乙烷或环氧丙烷之后进行(甲基)丙烯酸酯化而成者、日本专利特公昭48-41708号公报、日本专利特公昭50-6034号公报、日本专利特开昭51-37193号公报中所记载的(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯类、日本专利特开昭48-64183号公报、日本专利特公昭49-43191号公报、日本专利特公昭52-30490号公报中所记载的聚酯丙烯酸酯类、作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应产物的环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯及这些的混合物。

也可列举使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等具有环状醚基与乙烯性不饱和基的化合物与多官能羧酸反应而所得的多官能(甲基)丙烯酸酯等。

而且，作为其他优选的聚合性化合物，也可使用日本专利特开2010-160418号公报、日本专利特开2010-129825号公报、日本专利第4364216号说明书等中所记载的具有芴环、且具有2官能以上的乙烯性不饱和基的化合物、卡多(cardo)树脂。

而且，作为在常压下具有100℃以上的沸点、且具有至少一个可加成聚合的乙烯性不饱和基的化合物，日本专利特开2008-292970号公报的段落编号[0254]～段落编号[0257]中所记载的化合物也适宜。

除上述以外，也可适宜地使用自由基聚合性单体。作为此种单体，在日本专利特开2007-269779号公报的段落编号0248～段落编号0251中有所记载有所记载，其内容并入至本说明书中。

而且，在日本专利特开平10-62986号公报中作为通式(1)及通式(2)而与其具体例一同记载的在所述多官能醇上加成环氧乙烷或环氧丙烷后，进行(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物也可作为聚合性化合物而使用。

其中，作为聚合性化合物，优选的是二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品为卡亚拉德(KAYARAD)D-330；日本化药股份有限公司制造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品为卡亚拉德(KAYARAD)D-320；日本化药股份有限公司制造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品为卡亚拉德(KAYARAD)D-310；日本化药股份有限公司制造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品为卡亚拉德(KAYARAD)DPHA；日本化药股份有限公司制造)、及这些的(甲基)丙烯酰基经由有乙二醇、丙二醇残基的结构。也可使用这些的寡聚物型。以下表示优选的聚合性化合物的形态。

作为聚合性化合物，为多官能单体，且也可具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。乙烯性化合物若如上所述地为混合物的情况那样具有未反应的羧基，则可直接利用乙烯性化合物，但在必要的情况下，也可使非芳香族羧酸酐与上述的乙烯性化合物的羟基反应而导入酸基。在这种情况下，所使用的非芳香族羧酸酐的具体例可列举四氢邻苯二甲酸酐、烷基化四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、烷基化六氢邻苯二甲酸酐、丁二酸酐、马来酸酐。

在本发明中，具有酸基的单体是脂肪族多羟基化合物与不饱和羧酸的酯，优选的是使非芳香族羧酸酐与脂肪族多羟基化合物的未反应的羟基反应而具有酸基的多官能单体，特别优选的是在该酯中，脂肪族多羟基化合物为季戊四醇及/或二季戊四醇的化合物。市售品例如可列举作为东亚合成股份有限公司制造的多元酸改性丙烯酸酯寡聚物的M-510、M-520等。

这些单体可单独使用1种，但在制造上难以使用单一的化合物，因此也可将2种以上混合使用。而且，也可视需要并用并不具有酸基的多官能单体与具有酸基的多官能单体而作为单体。

具有酸基的多官能单体的优选的酸值为0.1mgKOH/g～40mgKOH/g，特别优选的是5mgKOH/g～30mgKOH/g。若多官能单体的酸值过低，则显影溶解特性降低，若过高，则制造或操作变困难且光聚合性能降低，像素的表面平滑性等硬化性变差。因此，在并用2种以上不同的酸基的多官能单体的情况下，或者并用并不具有酸基的多官能单体的情况下，优选的是以整体的作为多官能单体的酸基进入所述范围的方式进行调整。

而且，含有具有己内酯结构的多官能性单体作为聚合性单体也是优选的形态。

作为具有己内酯结构的多官能性单体，只要在其分子内具有己内酯结构，则并无特别限定，例如可列举通过使三羟甲基乙烷、二-三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、二-三羟甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二丙三醇、三羟甲基三聚氰胺等多元醇与(甲基)丙烯酸及ε-己内酯进行酯化而所得的ε-己内酯改性多官能(甲基)丙烯酸酯。此种具有己内酯结构的多官能性单体在日本专利特开2013-077009号公报的段落0135～段落0142中有所记载有所记载，其内容并入至本说明书中。

而且，作为本发明中的特定单体，也优选的是选自下述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物的群组的至少一种。

[化38]

所述通式(Z-4)及通式(Z-5)中，E各自独立地表示-((CH₂)_yCH₂O)-、或-((CH₂)_yCH(CH₃)O)-，y各自独立地表示0～10的整数，X各自独立地表示丙烯酰基、甲基丙烯酰基、氢原子或羧基。

所述通式(Z-4)中，丙烯酰基及甲基丙烯酰基的合计为3个或4个，m各自独立地表示0～10的整数，各m的合计为0～40的整数。其中，在各m的合计为0的情况下，X中的任意一个是羧基。

所述通式(ii)中，丙烯酰基及甲基丙烯酰基的合计为5个或6个，n各自独立地表示0～10的整数，各n的合计为0～60的整数。其中，在各n的合计为0的情况下，X中的任意一个是羧基。

所述通式(Z-4)中，m优选的是0～6的整数，更优选的是0～4的整数。

而且，各m的合计优选的是2～40的整数，更优选的是2～16的整数，特别优选的是4～8的整数。

所述通式(Z-5)中，n优选的是0～6的整数，更优选的是0～4的整数。

而且，各n的合计优选的是3～60的整数，更优选的是3～24的整数，特别优选的是6～12的整数。

而且，通式(Z-4)或通式(Z-5)中的-((CH₂)_yCH₂O)-或-((CH₂)_yCH(CH₃)O)-优选的是氧原子侧的末端键结于X上的形态。

所述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可单独使用1种，也可并用2种以上。特别优选的是在通式(ii)中，6个X全部是丙烯酰基的形态。

而且，作为通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物在聚合性化合物中的总含量，优选的是20质量％以上，更优选的是50质量％以上。

所述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可由作为现有公知步骤的如下步骤而合成：通过开环加成反应将环氧乙烷或环氧丙烷的开环骨架键结于季戊四醇或二季戊四醇上的步骤，使例如(甲基)丙烯酰氯与开环骨架的末端羟基反应而导入(甲基)丙烯酰基的步骤。各步骤是广泛已知的步骤，本领域技术人员可容易地合成通式(i)或通式(ii)所表示的化合物。

所述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物中，更优选的是季戊四醇衍生物及/或二季戊四醇衍生物。

具体的季戊四醇衍生物及/或二季戊四醇衍生物在日本专利特开2013-077009号公报的段落0149～段落0155中有所记载有所记载，其内容并入至本说明书中。

作为通式(Z-4)、通式(Z-5)所表示的聚合性化合物的市售品，例如可列举沙多玛(Sartomer)公司制造的具有4个亚乙基氧基链的4官能丙烯酸酯SR-494、日本化药股份有限公司制造的具有6个亚戊基氧基链的6官能丙烯酸酯DPCA-60、具有3个亚异丁基氧基链的3官能丙烯酸酯TPA-330等。

而且，作为聚合性化合物，日本专利特公昭48-41708号公报、日本专利特开昭51-37193号公报、日本专利特公平2-32293号公报、日本专利特公平2-16765号公报中所记载的丙烯酸氨基甲酸酯类或日本专利特公昭58-49860号公报、日本专利特公昭56-17654号公报、日本专利特公昭62-39417号公报、日本专利特公昭62-39418号公报中所记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类也适宜。另外，通过使用日本专利特开昭63-277653号公报、日本专利特开昭63-260909号公报、日本专利特开平1-105238号公报中所记载的在分子内具有氨基结构或硫醚结构的加成聚合性化合物类作为聚合性化合物，可获得感光速度非常优异的硬化性组合物。

作为聚合性化合物的市售品，可列举氨基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(山阳国策纸浆公司制造)、UA-7200(新中村化学公司制造)、DPHA-40H(日本化药公司制造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共荣社制造)等。

至于环状醚(环氧、氧杂环丁烷)，例如作为具有环氧基者，双酚A型环氧树脂可列举JER-827、JER-828、JER-834、JER-1001、JER-1002、JER-1003、JER-1055、JER-1007、JER-1009、JER-1010(以上由日本环氧树脂股份有限公司(JapanEpoxyResinsCo.，Ltd)制造)、艾比克隆(EPICLON)860、艾比克隆(EPICLON)1050、艾比克隆(EPICLON)1051、艾比克隆(EPICLON)1055(以上由迪爱生(DIC)股份有限公司制造)等，双酚F型环氧树脂可列举JER-806、JER-807、JER-4004、JER-4005、JER-4007、JER-4010(以上由日本环氧树脂股份有限公司制造)、艾比克隆(EPICLON)830、艾比克隆(EPICLON)835(以上由迪爱生股份有限公司制造)、LCE-21、RE-602S(以上由日本化药股份有限公司制造)等，苯酚酚醛清漆型环氧树脂可列举JER-152、JER-154、JER-157S70、JER-157S65(以上由日本环氧树脂股份有限公司制造)、艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-770、艾比克隆(EPICLON)N-775(以上由迪爱生股份有限公司制造)等，甲酚酚醛清漆型环氧树脂可列举艾比克隆(EPICLON)N-660、艾比克隆(EPICLON)N-665、艾比克隆(EPICLON)N-670、艾比克隆(EPICLON)N-673、艾比克隆(EPICLON)N-680、艾比克隆(EPICLON)N-690、艾比克隆(EPICLON)N-695(以上由迪爱生股份有限公司制造)、EOCN-1020(以上由日本化药股份有限公司制造)，脂肪族环氧树脂可列举艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4080S、艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4085S、艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4088S(以上由艾迪科(ADEKA)股份有限公司制造)、赛罗西德(Celloxide)2021P、赛罗西德(Celloxide)2081、赛罗西德(Celloxide)2083、赛罗西德(Celloxide)2085、EHPE-3150(2，2-双(羟基甲基)-1-丁醇的1，2-环氧-4-(2-氧杂环丙基)环己烷加成物)、艾波利德(EPOLEAD)PB3600、艾波利德(EPOLEAD)PB4700(以上由大赛璐化学工业股份有限公司制造)、丹那考尔(DENACOL)EX-211L、丹那考尔(DENACOL)EX-212L、丹那考尔(DENACOL)EX-214L、丹那考尔(DENACOL)EX-216L、丹那考尔(DENACOL)EX-321L、丹那考尔(DENACOL)EX-850L(以上由长濑化成股份有限公司制造)、艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4000S、艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4003S、艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4010S、艾迪科树脂(ADEKARESIN)EP-4011S(以上由艾迪科股份有限公司制造)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上由艾迪科股份有限公司制造)、JER-1031S(日本环氧树脂股份有限公司制造)等。此种聚合性化合物可适于利用干式蚀刻法而形成图案的情况。

关于这些聚合性化合物，其结构、单独使用或是并用、添加量等使用方法的详细情况可根据着色组合物的最终的性能设计而任意地设定。例如自灵敏度的观点考虑，优选的是每1分子中的不饱和基含量多的结构，在多的情况下，优选的是2官能以上。而且，自提高由着色组合物所形成的硬化膜的强度的观点考虑，可为3官能以上者，另外通过并用官能基数不同、聚合性基不同(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯醚系化合物)者，调节灵敏度与强度的两者的方法也有效。另外，就可调节着色组合物的显影性、获得优异的图案形成能力的方面而言，优选的是并用3官能以上且环氧乙烷链长不同的聚合性化合物。

而且，对于与着色组合物中所含有的其他成分(例如光聚合引发剂、被分散体、碱可溶性树脂等)的相容性、分散性而言，聚合性化合物的选择·使用法也为重要的因素，例如有时可通过使用低纯度化合物或并用2种以上而提高相容性。而且，自提高与支撑体等的硬质表面的密接性的观点考虑，也可选择特定的结构。

作为本发明的着色组合物中的聚合性化合物的含量，相对于着色组合物中的所有固体成分而言优选的是0.1质量％～90质量％，更优选的是1.0质量％～50质量％，特别优选的是2.0质量％～30质量％。

<(C)颜料>

优选的是本发明的着色组合物含有颜料。

作为本发明中所使用的颜料，可使用现有公知的各种无机颜料或有机颜料。所述颜料优选的是透过率高。

作为无机颜料，可列举碳黑、钛黑等黑色颜料，金属氧化物、金属络盐等中所表示的金属化合物，具体而言可列举：铁、钴、铝、镉、铅、铜、钛、镁、铬、锌、锑等的金属氧化物、及所述金属的复合氧化物。

有机颜料例如可列举：

C.I.颜料黄11、C.I.颜料黄24、C.I.颜料黄31、C.I.颜料黄53、C.I.颜料黄83、C.I.颜料黄93、C.I.颜料黄99、C.I.颜料黄108、C.I.颜料黄109、C.I.颜料黄110、C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄139、C.I.颜料黄147、C.I.颜料黄150、C.I.颜料黄151、C.I.颜料黄154、C.I.颜料黄155、C.I.颜料黄167、C.I.颜料黄180、C.I.颜料黄185、C.I.颜料黄199；

C.I.颜料橙36、C.I.颜料橙38、C.I.颜料橙43、C.I.颜料橙71；

C.I.颜料红81、C.I.颜料红105、C.I.颜料红122、C.I.颜料红149、C.I.颜料红150、C.I.颜料红155、C.I.颜料红171、C.I.颜料红175、C.I.颜料红176、C.I.颜料红177、C.I.颜料红209、C.I.颜料红220、C.I.颜料红224、C.I.颜料红242、C.I.颜料红254、C.I.颜料红255、C.I.颜料红264、C.I.颜料红270；

C.I.颜料紫19、C.I.颜料紫23、C.I.颜料紫32、C.I.颜料紫39；

C.I.颜料蓝1、C.I.颜料蓝2、C.I.颜料蓝15、C.I.颜料蓝15：1、C.I.颜料蓝15：3、C.I.颜料蓝15：6、C.I.颜料蓝16、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝66；

C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料绿37、C.I.颜料绿58；

C.I.颜料棕25、C.I.颜料棕28；

C.I.颜料黑1等。

作为本发明中所可优选地使用的颜料，可列举以下者。但本发明并不限定于这些。

C.I.颜料黄11、C.I.颜料黄24、C.I.颜料黄108、C.I.颜料黄109、C.I.颜料黄110、C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄139、C.I.颜料黄150、C.I.颜料黄151、C.I.颜料黄154、C.I.颜料黄167、C.I.颜料黄180、C.I.颜料黄185；

C.I.颜料橙36、C.I.颜料橙71；

C.I.颜料红122、C.I.颜料红150、C.I.颜料红171、C.I.颜料红175、C.I.颜料红177、C.I.颜料红209、C.I.颜料红224、C.I.颜料红242、C.I.颜料红254、C.I.颜料红255、C.I.颜料红264；

C.I.颜料紫19、C.I.颜料紫23、C.I.颜料紫32；

C.I.颜料蓝15：1、C.I.颜料蓝15：3、C.I.颜料蓝15：6、C.I.颜料蓝16、C.I.颜料蓝22、C.I.颜料蓝60、C.I.颜料蓝66；

C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料绿37、C.I.颜料绿58；

C.I.颜料黑1。

这些有机颜料可单独使用或者为了调整分光或提高颜色纯度而组合各种而使用。以下表示所述组合的具体例。例如，作为红色颜料，可单独使用蒽醌系颜料、苝系颜料、二酮基吡咯并吡咯系颜料，或者使用这些的至少一种与双偶氮系黄色颜料、异吲哚啉系黄色颜料、喹啉黄系黄色颜料或苝系红色颜料的混合等。例如，蒽醌系颜料可列举C.I.颜料红177，苝系颜料可列举C.I.颜料红155、C.I.颜料红224，二酮基吡咯并吡咯系颜料可列举C.I.颜料红254，就颜色分解性的方面而言，优选的是与C.I.颜料黄139混合。而且，红色颜料与黄色颜料的质量比优选的是100∶5～100∶50。若为100∶4以下，则难以抑制400nm至500nm的透光率，而且若为100∶51以上，则存在如下的情况：主波长变得向短波长靠拢，无法提高颜色分解能力。所述质量比特别是100∶10～100∶30的范围最适合。另外，在红色颜料彼此的组合的情况下，可与所要求的分光同时调整。

而且，作为绿色颜料，可单独使用卤化酞菁系颜料，或者使用其与双偶氮系黄色颜料、喹啉黄系黄色颜料、偶氮次甲基系黄色颜料或异吲哚啉系黄色颜料的混合。例如，此种例子优选的是C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料绿37与C.I.颜料黄83、C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄139、C.I.颜料黄150、C.I.颜料黄180或C.I.颜料黄185的混合。绿色颜料与黄色颜料的质量比优选的是100∶5～100∶150。所述质量比特别优选的是100∶30～100∶120的范围。

作为蓝色颜料，可单独使用酞菁系颜料，或者使用其与二噁嗪系紫色颜料的混合。例如优选的是C.I.颜料蓝15：6与C.I.颜料紫23的混合。蓝色颜料与紫色颜料的质量比优选的是100∶0～100∶100，更优选的是100∶10以下。

而且，作为黑色矩阵用颜料，可单独或混合使用碳、钛黑、氧化铁、氧化钛，优选的是碳与钛黑的组合。而且，碳与钛黑的质量比优选的是100∶0～100∶60的范围。

作为颜料的一次粒径，在作为彩色滤光片用途而使用的情况下，自色彩不均或对比度的观点考虑，优选的是100nm以下，而且自分散稳定性的观点考虑，优选的是5nm以上。颜料的一次粒径更优选的是5nm～75nm，进一步更优选的是5nm～55nm，特别优选的是5nm～35nm。

颜料的一次粒径可利用电子显微镜等公知的方法而测定。

其中，颜料优选的是选自蒽醌颜料、二酮基吡咯并吡咯颜料、酞菁颜料、喹啉黄颜料、异吲哚啉颜料、偶氮次甲基颜料、及二噁嗪颜料的颜料。特别是C.I.颜料红177(蒽醌颜料)、C.I.颜料红254(二酮基吡咯并吡咯颜料)、C.I.颜料绿7、C.I.颜料绿36、C.I.颜料绿58、C.I.颜料蓝15：6(酞菁颜料)、C.I.颜料黄138(喹啉黄颜料)、C.I.颜料黄139、C.I.颜料黄185(异吲哚啉颜料)、C.I.颜料黄150(偶氮次甲基颜料)、C.I.颜料紫23(二噁嗪颜料)最优选。

在本发明的组合物中调配颜料的情况下，颜料的含量相对于着色组合物中所含有的除溶剂以外的所有成分而言优选的是10质量％～70质量％，更优选的是20质量％～60质量％，进一步更优选的是30质量％～60质量％。

-颜料分散剂-

在本发明的着色组合物具有颜料的情况下，可视需要并用颜料分散剂。

作为本发明中所可使用的其他颜料分散剂，可列举高分子分散剂[例如聚酰胺胺与其盐、多羧酸与其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨基甲酸酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福马林缩合物]、及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺等表面活性剂、及颜料衍生物等。

高分子分散剂可根据其结构而进一步分类为直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。

作为具有对颜料表面的固定(anchor)部位的末端改性型高分子，例如可列举日本专利特开平3-112992号公报、日本专利特表2003-533455号公报等中所记载的末端具有磷酸基的高分子、日本专利特开2002-273191号公报等中所记载的末端具有磺酸基的高分子、日本专利特开平9-77994号公报等中所记载的具有有机色素的部分骨架或杂环的高分子等。而且，日本专利特开2007-277514号公报中所记载的在高分子末端导入有2个以上对颜料表面的固定部位(酸基、碱性基、有机色素的部分骨架或杂环等)的高分子也分散稳定性优异而优选。

作为具有对颜料表面的固定部位的接枝型高分子，例如可列举聚酯系分散剂等，具体而言可列举日本专利特开昭54-37082号公报、日本专利特表平8-507960号公报、日本专利特开2009-258668号公报等中所记载的聚(低级亚烷基亚胺)与聚酯的反应产物、日本专利特开平9-169821号公报等中所记载的聚烯丙胺与聚酯的反应产物、日本专利特开平10-339949号公报、日本专利特开2004-37986号公报、国际公开说明书WO2010/110491等中所记载的大分子单体与氮原子单体的共聚物、日本专利特开2003-238837号公报、日本专利特开2008-9426号公报、日本专利特开2008-81732号公报等中所记载的具有有机色素的部分骨架或杂环的接枝型高分子、日本专利特开2010-106268号公报等中所记载的大分子单体与含有酸基的单体的共聚物等。特别是日本专利特开2009-203462号公报中所记载的具有碱性基与酸性基的两性分散树脂，自颜料分散物的分散性、分散稳定性、及使用颜料分散物的着色组合物所显示出的显影性的观点考虑特别优选。

作为通过自由基聚合而制造具有对颜料表面的固定部位的接枝型高分子时所使用的大分子单体，可使用公知的大分子单体，例如在日本专利特开2013-073104号公报的段落0341中有所记载，这些内容并入至本申请说明书中。

作为具有对颜料表面的固定部位的嵌段型高分子，优选的是日本专利特开2003-49110号公报、日本专利特开2009-52010号公报等中所记载的嵌段型高分子。

本发明中所可使用的其他颜料分散剂也可作为市售品而获得，此种具体例在日本专利特开2013-073104号公报的段落0343中有所记载，这些内容并入至本申请说明书中。

这些颜料分散剂可单独使用，也可将2种以上组合使用。在本发明中，特别优选的是将颜料衍生物与高分子分散剂组合使用。而且，颜料分散剂也可与所述具有对颜料表面的固定部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子一同并用碱可溶性树脂而使用。碱可溶性树脂可列举(甲基)丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等、以及在侧链具有羧酸的酸性纤维素衍生物，特别优选的是(甲基)丙烯酸共聚物。而且，日本专利特开平10-300922号公报中所记载的N位取代马来酰亚胺单体共聚物、日本专利特开2004-300204号公报中所记载的醚二聚物共聚物、日本专利特开平7-319161号公报中所记载的含有聚合性基的碱可溶性树脂也优选。

在着色组合物中含有颜料分散剂的情况下，作为颜料分散剂的总含量，相对于颜料100质量份而言优选的是1质量份～80质量份，更优选的是5质量份～70质量份，进一步更优选的是10质量份～60质量份。

具体而言，若为使用高分子分散剂的情况，则作为其使用量，相对于颜料100质量份以质量换算计而言，优选的是5质量份～100质量份的范围，更优选的是10质量份～80份的范围。

而且，在并用颜料衍生物的情况下，作为颜料衍生物的使用量，相对于颜料100质量份以质量换算计而言优选的是处于1质量份～30质量份的范围，更优选的是处于3质量份～20质量份的范围，特别优选的是处于5质量份～15质量份的范围。

在着色组合物中，自硬化灵敏度、色浓度的观点考虑，着色剂及分散剂成分的含量的总和优选的是相对于构成着色组合物的所有固体成分而言为50质量％以上、90质量％以下，更优选的是55质量％以上、85质量％以下，进一步更优选的是60质量％以上、80质量％以下。

<(D)光聚合引发剂>

自进一步提高灵敏度的观点考虑，优选的是本发明的着色组合物含有光聚合引发剂。

作为所述光聚合引发剂，只要具有使所述聚合性化合物的聚合起始的能力，则并无特别限制，可自公知的光聚合引发剂中适宜地选择。例如优选的是对自紫外线区域至可见光线具有感光性的光聚合引发剂。而且，可为与光激发的增感剂产生某些作用，生成活性自由基的活化剂；也可为根据单体的种类而使阳离子聚合起始的引发剂。

而且，优选的是所述光聚合引发剂含有至少一种在约300nm～800nm(更优选的是330nm～500nm)的范围内具有至少约50的分子吸光系数的化合物。

作为所述光聚合引发剂，例如可列举：卤化烃衍生物(例如具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架者等)、酰基氧化膦等酰基膦化合物、六芳基联咪唑、肟衍生物等肟化合物、有机过氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓盐、酮肟醚、氨基苯乙酮化合物、胫基苯乙酮等.

而且，自曝光灵敏度的观点考虑，优选的是选自由三卤甲基三嗪化合物、苯偶酰二甲基缩酮化合物、α-胫基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、茂金属化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、环戊二烯-苯-铁络合物及其盐、卤甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆系化合物所构成的群组的化合物.

更优选的是三卤甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、三芳基咪唑化合物、苯并咪唑化合物、鎓化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物，特别优选的是选自由三卤甲基三嗪化合物、α-氨基酮化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑化合物、二苯甲酮化合物、三芳基咪唑化合物、苯并咪唑化合物所构成的群组的至少一种化合物.而且，三芳基咪唑化合物也可为与苯并咪唑的混合物.

具体而言，三卤甲基三嗪化合物可例示以下的化合物.另外，Ph为苯基.

[化39]

三芳基咪唑化合物、苯并咪唑化合物可例示以下的化合物.

[化40]

三卤甲基三嗪化合物也可使用市售品，例如也可使用TAZ-107(绿化学公司制造)。

特别是在固体摄影元件所包含的彩色滤光片的制作中使用本发明的着色组合物的情况下，需要以尖锐的形状而形成微细的图案，因此重要的是硬化性以及在未曝光部并无残渣地进行显影。自此观点考虑，特别优选的是使用肟化合物作为聚合引发剂。特别是在固体摄影元件中形成微细图案的情况下，在硬化用曝光中使用步进式曝光，但存在该曝光机由于卤素而损伤的情况，需要也将聚合引发剂的添加量抑制得较低，因此若考虑这些方面，则为了形成如固体摄影元件这样的微细图案，最优选的是使用肟化合物作为(D)光聚合引发剂。

所述具有三嗪骨架的卤化烃化合物例如可列举若林等人著、《日本化学学会通报(Bull.Chem.Soc.Japan)》、42、2924(1969)中所记载的化合物、英国专利第1388492号说明书中所记载的化合物、日本专利特开昭53-133428号公报中所记载的化合物、德国专利第3337024号说明书中所记载的化合物、F.C.谢弗(F.C.Schaefer)等人的《有机化学期刊(J.Org.Chem.)》、29、1527(1964)中所记载的化合物、日本专利特开昭62-58241号公报中所记载的化合物、日本专利特开平5-281728号公报中所记载的化合物、日本专利特开平5-34920号公报中所记载的化合物、美国专利第4212976号说明书中所记载的化合物等。

而且，所述以外的光聚合引发剂可列举日本专利特开昭53-133428号公报、日本专利特公昭57-1819号公报、日本专利特公昭57-6096号公报、及美国专利第3615455号说明书中所记载的化合物等。

所述酮化合物例如可列举日本专利特开2013-077009号公报的段落0077中所记载的酮化合物，其内容并入至本说明书中。

光聚合引发剂也可适宜使用羟基苯乙酮化合物、氨基苯乙酮化合物、及酰基膦化合物。更具体而言，例如也可使用日本专利特开平10-291969号公报中所记载的氨基苯乙酮系引发剂、日本专利第4225898号公报中所记载的酰基氧化膦系引发剂。

羟基苯乙酮系引发剂可使用艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-184、达罗卡(DAROCUR)(注册商标)-1173、艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-500、艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-2959、艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-127(商品名；均由巴斯夫公司制造)。氨基苯乙酮系引发剂可使用作为市售品的艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-907、艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-369、及艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-379、艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-OXE379(商品名；均由巴斯夫公司制造)。氨基苯乙酮系引发剂也可使用吸收波长与365nm或405nm等长波光源匹配的日本专利特开2009-191179公报中所记载的化合物。而且，酰基膦系引发剂可使用作为市售品的艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-819或达罗卡(DAROCUR)(注册商标)-TPO(商品名；均由巴斯夫公司制造)。

光聚合引发剂更优选的是列举肟化合物。作为肟化合物的具体例，可使用日本专利特开2001-233842号公报中所记载的化合物、日本专利特开2000-80068号公报中所记载的化合物、日本专利特开2006-342166号公报中所记载的化合物。

至于作为本发明中的光聚合引发剂而适宜地使用的肟衍生物等肟化合物，例如可列举3-苯甲酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-丙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚氨基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚氨基丁烷-2-酮、及2-乙氧基羰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮等。

肟化合物可列举《英国化学会志，普尔金会刊II(J.C.S.PerkinII)》(1979年)第1653页～第1660页；《英国化学会志，普尔金会刊II(J.C.S.PerkinII)》(1979年)第156页～第162页；《光聚合物科学与技术杂志(JournalofPhotopolymerScienceandTechnology)》(1995年)第202页～第232页；日本专利特开2000-66385号公报中所记载的化合物、日本专利特开2000-80068号公报、日本专利特表2004-534797号公报、日本专利特开2006-342166号公报的各公报中所记载的化合物等。

市售品也可适宜地使用艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-OXE01(巴斯夫公司制造)、艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-OXE02(巴斯夫公司制造)。

肟化合物也可使用强力(TRONLY)TR-PBG-304、强力(TRONLY)TR-PBG-309、强力(TRONLY)TR-PBG-305(常州强力电子新材料有限公司公司(CHANGZHOUTRONLYNEWELECTRONICMATERIALSCO.，LTD)制造)、艾迪科阿库斯(ADEKAARKLS)NCI-831、艾迪科阿库斯(ADEKAARKLS)NCI-930(艾迪科公司制造)等市售品。

另外，作为肟化合物，在日本专利特开2013-077009号公报的段落0082～段落0121中有所记载，这些内容并入至本申请说明书中。

本发明中所使用的光聚合引发剂也可视需要将2种以上组合使用。

在本发明的着色组合物中含有(D)光聚合引发剂的情况下，(D)光聚合引发剂的含量优选的是相对于着色组合物的所有固体成分而言为0.1质量％以上、50质量％以下，更优选的是0.5质量％以上、30质量％以下，进一步更优选的是1质量％以上、20质量％以下。若为该范围，则获得更良好的灵敏度与图案形成性。

<(F)碱可溶性树脂>

优选的是本发明的着色组合物进一步含有碱可溶性树脂。另外，此处所谓的碱可溶性树脂中，并不包含本发明的着色组合物中所含有的成分作为分散剂成分。

碱可溶性树脂可自如下的碱可溶性树脂中适宜选择，其是线性有机高分子聚合物，在分子(优选的是以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物为主链的分子)中具有至少一个促进碱可溶性的基。自耐热性的观点考虑，优选的是多羟基苯乙烯系树脂、聚硅氧烷系树脂、丙烯酸系树脂、丙烯酰胺系树脂、丙烯酸/丙烯酰胺共聚物树脂，自显影性控制的观点考虑，优选的是丙烯酸系树脂、丙烯酰胺系树脂、丙烯酸/丙烯酰胺共聚物树脂。

促进碱可溶性的基(以下也称为“酸基”)例如可列举羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羟基等，优选的是可溶于有机溶剂中且可利用弱碱性水溶液而显影者，可列举(甲基)丙烯酸作为特别优选者。这些酸基可仅仅为1种，也可为2种以上。

作为所述可在聚合后赋予酸基的单体，例如可列举(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯等具有羟基的单体、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等具有环氧基的单体、(甲基)丙烯酸-2-异氰酸基乙酯等具有异氰酸酯基的单体等。用以导入这些酸基的单体可仅仅为1种，也可为2种以上。为了在碱可溶性树脂中导入酸基，例如将具有酸基的单体及/或可在聚合后赋予酸基的单体(以下有时也称为“用以导入酸基的单体”)作为单体成分而进行聚合即可。

另外，在将可在聚合后赋予酸基的单体作为单体成分而导入酸基的情况下，在聚合后变得需要例如如后所述的用以赋予酸基的处理。

作为此种碱可溶性树脂，在日本专利特开2013-077009号公报的段落0179～段落0210中有所记载，这些内容并入至本申请说明书中。

而且，碱可溶性树脂也可包含源自下述式(X)所示的乙烯性不饱和单体的结构单元。

通式(X)

[化41]

(式(X)中，R¹表示氢原子或甲基，R²表示碳数为2～10的亚烷基，R³表示氢原子或也可包含苯环的碳数为1～20的烷基。n表示1～15的整数)

所述式(X)中，R²的亚烷基的碳数优选的是2～3。而且，R³的烷基的碳数为1～20，更优选的是1～10，R³的烷基也可包含苯环。R³所表示的包含苯环的烷基可列举苄基、2-苯基(异)丙基等。

作为碱可溶性树脂，可参考日本专利特开2012-208494号公报的段落0558～段落0571(对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的[0685]～[0700])以后的记载，这些内容并入至本申请说明书中。

另外，优选的是使用日本专利特开2012-32767号公报中所记载的段落编号0029～段落编号0063中所记载的共聚物(B)及实施例中所使用的碱可溶性树脂、日本专利特开2012-208474号公报的段落编号0088～段落编号0098中所记载的粘合树脂及实施例中所使用的粘合树脂、日本专利特开2012-137531号公报的段落编号0022～段落编号0032中所记载的粘合树脂及实施例中所使用的粘合树脂、日本专利特开2013-024934号公报的段落编号0132～段落编号0143中所记载的粘合树脂及实施例中所使用的粘合树脂、日本专利特开2011-242752号公报的段落编号0092～段落编号0098及实施例中所使用的粘合树脂、日本专利特开2012-032770号公报的段落编号0030～段落编号0072中所记载的粘合树脂。这些内容并入至本申请说明书中。更具体而言优选的是下述树脂。

[化42]

作为碱可溶性树脂的酸值，优选的是30mgKOH/g～200mgKOH/g、优选的是更优选的是50mgKOH/g～150mgKOH/g，最优选的是70mgKOH/g～120mgKOH/g。

而且，碱可溶性树脂的重量平均分子量(Mw)优选的是2,000～50,000，更优选的是5,000～30,000，最优选的是7,000～20,000。

在着色组合物中含有碱可溶性树脂的情况下，作为碱可溶性树脂在着色组合物中的含量，优选的是相对于着色组合物的所有固体成分而言为1质量％～15质量％，更优选的是2质量％～12质量％，特别优选的是3质量％～10质量％。

本发明的组合物可包含仅仅1种碱可溶性树脂，也可包含2种以上。在包含2种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。

<其他成分>

本发明的着色组合物除了上述各成分以外，也可在不损及本发明的效果的范围内进一步包含有机溶剂、交联剂等其他成分。

<<有机溶剂>>

本发明的着色组合物也可含有有机溶剂。

有机溶剂若满足各成分的溶解性或着色组合物的涂布性则基本上并无特别限制，特别优选的是考虑紫外线吸收剂、碱可溶性树脂或分散剂等的溶解性、涂布性、安全性而选择。而且，在制备本发明的着色组合物时，优选的是包含至少两种有机溶剂。

作为有机溶剂，酯类例如可适宜列举乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、乙酸异丁酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯(例如：氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯(例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯类(例如：3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯类(例如：2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-侧氧基丁酸甲酯、2-侧氧基丁酸乙酯等，以及醚类例如可适宜列举二乙二醇二甲醚、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丙醚乙酸酯等，以及酮类例如可适宜列举甲基乙基酮、环己酮、环戊酮、2-庚酮、3-庚酮等，以及芳香族烃类例如可适宜列举甲苯、二甲苯等。

自紫外线吸收剂及碱可溶性树脂的溶解性、涂布表面状态的改良等观点考虑，这些有机溶剂优选的是将2种以上混合。在这种情况下，特别优选的是包含选自所述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、及丙二醇甲醚乙酸酯的2种以上的混合溶液。

自涂布性的观点考虑，有机溶剂在着色组合物中的含量，优选的是组合物的所有固体成分浓度成为5质量％～80质量％的量，更优选的是5质量％～60质量％，特别优选的是10质量％～50质量％。

<<交联剂>>

也可在本发明的着色组合物中补足性地使用交联剂，从而进一步提高使着色组合物硬化而成的着色硬化膜的硬度。

作为交联剂，若为可通过交联反应而进行膜硬化者，则并无特别限定，例如可列举：(a)环氧树脂、(b)经选自羟甲基、烷氧基甲基、及酰氧基甲基的至少一个取代基取代的三聚氰胺化合物、胍胺化合物、甘脲化合物或脲化合物、(c)经选自羟甲基、烷氧基甲基、及酰氧基甲基的至少一个取代基取代的酚化合物、萘酚化合物或羟基蒽化合物。其中，优选的是多官能环氧树脂。

关于交联剂的具体例等的详细情况，可参照日本专利特开2004-295116号公报的段落0134～段落0147的记载。

在本发明的着色组合物中含有交联剂的情况下，交联剂的调配量并无特别限定，优选的是组合物的所有固体成分的2质量％～30质量％，更优选的是3质量％～20质量％。

本发明的组合物可包含仅仅1种交联剂，也可包含2种以上。在包含2种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。

<<聚合抑制剂>>

为了在所述着色组合物的制造中或保存中阻止聚合性化合物的不必要的热聚合，理想的是在本发明的着色组合物中添加少量的聚合抑制剂。

作为本发明中所可使用的聚合抑制剂，可列举对苯二酚、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、邻苯三酚、叔丁基儿茶酚、苯醌、4，4′-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2′-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟胺亚铈盐等。

在本发明的着色组合物中含有聚合抑制剂的情况下，聚合抑制剂的添加量优选的是相对于所有组合物的质量而言为约0.01质量％～约5质量％。

本发明的组合物可包含仅仅1种聚合抑制剂，也可包含2种以上。在包含2种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。

<<表面活性剂>>

自使涂布性进一步提高的观点考虑，也可在本发明的着色组合物中添加各种表面活性剂。表面活性剂可使用氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、硅酮系表面活性剂等各种表面活性剂。

特别是本发明的着色组合物通过含有氟系表面活性剂而使制备为涂布液时的液体特性(特别是流动性)进一步提高，因此可进一步改善涂布厚度的均一性或省液性。

亦即，在使用涂布液(所述涂布液应用含有氟系表面活性剂的着色组合物)而形成膜的情况下，使被涂布面与涂布液的界面张力降低，由此改善对被涂布面的湿润性，提高对被涂布面的涂布性。因此，在如下方面而言有效：即使在通过少量的液量而形成数μm左右的薄膜的情况下，也可更适宜地进行厚度不均小的均一厚度的膜形成。

氟系表面活性剂中的氟含有率适宜的是3质量％～40质量％，更优选的是5质量％～30质量％，特别优选的是7质量％～25质量％。氟含有率位于该范围内的氟系表面活性剂在涂布膜的厚度的均一性或省液性的方面而言有效，在着色组合物中的溶解性也良好。

氟系表面活性剂例如可列举美佳法(Megafac)F171、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac)F176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F141、美佳法(Megafac)F142、美佳法(Megafac)F143、美佳法(Megafac)F144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F437、美佳法(Megafac)F475、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法(Megafac)F781(以上由迪爱生股份有限公司制造)、弗洛德(Fluorad)FC430、弗洛德(Fluorad)FC431、弗洛德(Fluorad)FC171(以上由住友3M股份有限公司制造)、沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上由旭硝子股份有限公司制造)等。

作为非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、及硅酮系表面活性剂，在日本专利特开2013-077009号公报的段落0224～段落0227中有所记载，这些内容并入至本申请说明书中。

表面活性剂可仅仅使用1种，也可组合2种以上。

在本发明的着色组合物中含有表面活性剂的情况下，表面活性剂的添加量优选的是相对于着色组合物的总质量而言为0.001质量％～2.0质量％，更优选的是0.005质量％～1.0质量％。

本发明的组合物可包含仅仅1种表面活性剂，也可包含2种以上。在包含2种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。

<<其他添加物>>

着色组合物可视需要调配各种添加物，例如填充剂、密接促进剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、抗凝聚剂等。这些添加物可列举日本专利特开2004-295116号公报的段落0155～段落0156中所记载者。

在本发明的着色组合物中可含有日本专利特开2004-295116号公报的段落0078中所记载的增感剂或光稳定剂、日本专利特开2004-295116号公报的段落0081中所记载的热聚合抑制剂。

<<<有机羧酸、有机羧酸酐>>>

本发明的着色组合物也可含有分子量为1000以下的有机羧酸、及/或有机羧酸酐。

作为有机羧酸酐、有机羧酸化合物，在日本专利特开2013-073104号公报的段落0462～段落0464中有所记载，这些内容并入至本申请说明书中。

(着色组合物的制备方法)

本发明的着色组合物可通过将所述成分加以混合而制备。

另外，在制备着色组合物时，可一次性调配构成着色组合物的各成分，也可将各成分溶解·分散于溶剂中之后进行逐次调配。而且，调配时的投入顺序或作业条件并不受特别制约。例如可将所有成分同时溶解、分散于溶剂中而制备组合物，也可视需要事先将各成分适宜地制成2种以上的溶液·分散液，在使用时(涂布时)将这些加以混合而制备为组合物。

如上所述而制备的着色组合物可在使用过滤器等而过滤分离后，供于使用。

本发明的着色组合物优选的是以除去异物或减低缺陷等为目的，利用过滤器进行过滤。若为现有在过滤用途等中使用者，则可并无特别限定地使用。例如可列举利用聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟树脂、尼龙-6、尼龙-6，6等聚酰胺系树脂、聚乙烯、聚丙烯(polypropylene，PP)等聚烯烃树脂(包含高密度、超高分子量)等的过滤器。这些原材料中优选的是聚丙烯(包含高密度聚丙烯)。

过滤器的孔径优选的是0.01μm以上，更优选的是0.05μm以上。而且，过滤器的孔径优选的是7.0μm以下，更优选的是3.0μm以下，进一步更优选的是2.5μm以下，更进一步更优选的是2.0μm以下，特别优选的是0.5μm以下。通过设为该范围，可将在后续步骤中阻碍制备均一及平滑的着色组合物的微细的异物确实地除去。

在使用过滤器时，也可将不同的过滤器加以组合。此时，利用第1过滤器的过滤可仅仅为1次，也可进行2次以上。

而且，也可组合上述范围内且孔径不同的第1过滤器。此处的孔径可参照过滤器厂商的标称值。市售的过滤器例如可自日本颇尔(PALL)股份有限公司、爱多邦得科东洋股份有限公司、日本英特格股份有限公司(原日本密科理(Mykrolis)股份有限公司)或北泽微滤器股份有限公司等提供的各种过滤器中选择。

第2过滤器可使用利用与上述第1过滤器同样的材料等而形成的过滤器。

例如，利用第1过滤器的过滤可仅仅利用分散液而进行，也可在与其他成分加以混合后，进行第2过滤。

本发明的着色组合物可形成耐热性及颜色特性优异的着色硬化膜，因此可适宜地用于形成彩色滤光片的着色图案(着色层)。而且，本发明的着色组合物可作为固体摄影元件(例如电荷耦合元件(ChargeCoupledDevice，CCD)、互补性金属氧化物半导体(ComplementaryMetal-OxideSemiconductor，CMOS)等)或液晶显示装置(LCD)等图像显示装置中所使用的彩色滤光片等的着色图案形成用途而适宜使用。另外，也可作为印刷墨水、喷墨墨水及涂料等的制作用途而适宜使用。其中，可作为制作CCD及CMOS等固体摄影元件用彩色滤光片的用途而适宜地使用。

<硬化膜、图案形成方法、彩色滤光片及彩色滤光片的制造方法>

其次，关于本发明中的着色硬化膜、图案形成方法及彩色滤光片，通过其制造方法加以详述。

本发明的图案形成方法的特征在于包含如下步骤：着色组合物层形成步骤，将本发明的着色感光性成物赋予至支撑体上而形成着色组合物层；曝光步骤，将所述着色组合物层曝光为图案模样；以及图案形成步骤，将未曝光部显影除去而形成着色图案。

本发明的图案形成方法可在彩色滤光片所包含的着色图案(像素)的形成中适宜地应用。

作为利用本发明的图案形成方法而形成图案的支撑体，除了基板等板状物以外，若为可应用于图案形成的支撑体，则并无特别限定。

以下，关于本发明的图案形成方法中的各步骤，通过固体摄影元件用彩色滤光片的制造方法而加以详细说明，但本发明并不限定于该方法。

本发明的彩色滤光片的制造方法是应用本发明的图案形成方法者，包含使用本发明的图案形成方法而在支撑体上形成着色图案的步骤。

亦即，本发明的彩色滤光片的制造方法是应用本发明的图案形成方法者，其特征在于包含如下步骤：着色组合物层形成步骤，将本发明的着色感光性成物赋予至支撑体上而形成着色组合物层；曝光步骤，将所述着色组合物层曝光为图案模样；以及图案形成步骤，将未曝光部显影除去而形成着色图案。另外，也可视需要设置：对着色组合物层进行烘烤的步骤(预烘烤步骤)、及对进行了显影的着色图案进行烘烤的步骤(后烘烤步骤)。以下，有时也将这些步骤合称为“图案形成步骤”。

本发明的彩色滤光片可利用所述制造方法而适宜地获得。

以下，有时将固体摄影元件用彩色滤光片简称为“彩色滤光片”。

关于本发明的图案形成方法中的各步骤，通过本发明的彩色滤光片的制造方法而在以下加以详述。

本发明的彩色滤光片的制造方法是应用本发明的图案形成方法者，包含使用本发明的图案形成方法而在基板上形成着色图案的步骤。

<形成着色组合物层的步骤>

在形成着色组合物层的步骤中，在支撑体上赋予本发明的着色组合物而形成着色组合物层形成步骤。

作为可在本步骤中使用的支撑体，例如可使用在基板(例如硅基板)上设有电荷耦合元件(ChargeCoupledDevice，CCD)或互补性金属氧化物半导体(ComplementaryMetal-OxideSemiconductor，CMOS)等摄影元件(光接收元件)的固体摄影元件用基板。

本发明中的着色图案可形成于固体摄影元件用基板的摄影元件形成面侧(表面)，也可形成于摄影元件非形成面侧(背面)。

在固体摄影元件的着色图案之间或固体摄影元件用基板的背面也可设有遮光膜。

而且，为了改良与上部的层的密接、防止物质的扩散或使基板表面平坦化，也可视需要在支撑体上设置下涂层。

作为在支撑体上赋予本发明的着色组合物的方法，可应用狭缝涂布、喷墨法、旋转涂布、流延涂布、辊涂、丝网印刷法等各种涂布方法。

支撑体上所涂布的着色组合物层的干燥(预烘烤)可利用加热板、烘箱等在50℃～140℃的温度下进行10秒～300秒。

<<利用光刻法而形成图案的情况>>

<<<曝光步骤>>>

在曝光步骤中，使用例如步进机等曝光装置，介隔具有规定的掩模图案的掩模对着色组合物层形成步骤中所形成的着色组合物层进行图案曝光。由此获得着色硬化膜。

曝光时所可使用的放射线(光)特别是可优选地使用g射线、i射线等紫外线(特别优选的是i射线)。照射量(曝光量)优选的是30mJ/cm²～1500mJ/cm²，更优选的是50mJ/cm²～1000mJ/cm²，最优选的是80mJ/cm²～500mJ/cm²。

着色硬化膜的膜厚优选的是1.0μm以下，更优选的是0.1μm～0.9μm，进一步更优选的是0.2μm～0.8μm。

通过将膜厚设为1.0μm以下，可获得高分析性、高密接性，因此优选。

而且，在本步骤中，也可适宜地形成具有0.7μm以下的薄的膜厚的着色硬化膜，通过后述的图案形成步骤对所得的着色硬化膜进行显影处理，即使是薄膜，也可获得显影性、表面粗化抑制、及图案形状优异的着色图案。

<<<图案形成步骤>>>

其次，通过进行碱性显影处理而使曝光步骤中的光未照射部分的着色组合物层溶出至碱性水溶液中，仅仅残留光硬化的部分。

显影液理想的是并不对基底的摄影元件或电路等产生损伤的有机碱性显影液。显影温度通常为20℃～30℃，显影时间在现在为20秒～90秒。为了进一步除去残渣，在近年来也存在实施120秒～180秒的情况。另外，为了进一步提高残渣除去性，也存在反复进行数次每隔60秒甩去显影液，进一步重新供给显影液的步骤。

作为显影液中所使用的碱性试剂，例如可列举四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1，8-二氮杂双环-[5.4.0]-7-十一碳烯等有机碱性化合物，利用纯水将这些碱性试剂以浓度成为0.001质量％～10质量％、优选为0.01质量％～1质量％的方式加以稀释而成的碱性水溶液可作为显影液而优选地使用。

另外，显影液中也可使用无机碱，无机碱例如优选的是氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠等。

另外，在使用包含此种碱性水溶液的显影液的情况下，一般在显影后用纯水加以清洗(冲洗)。

其次，优选的是在实施干燥后进行加热处理(后烘烤)。若形成多种颜色的着色图案，则可按照每种颜色顺次反复进行所述步骤而制造硬化皮膜。由此而获得彩色滤光片。

后烘烤是用以使硬化进行完全的显影后的加热处理，进行通常为100℃～240℃、优选为200℃～240℃的热硬化处理。

该后烘烤处理可对显影后的涂布膜，以成为所述条件的方式使用加热板或对流烘箱(热风循环式干燥机)、高频加热机等加热机构，通过连续式或分批式而进行。

<<利用干式蚀刻法形成图案的情况>>

可将图案化的光致抗蚀剂层作为掩模，使用蚀刻气体对着色层进行干式蚀刻。具体而言，在着色层上涂布正型或负型的感放射线性组合物，使其干燥而形成光致抗蚀剂层。在光致抗蚀剂层的形成中，优选的是进一步实施预烘烤处理。特别是作为光致抗蚀剂的形成工艺，理想的是实施曝光后加热处理(PEB)、显影后的加热处理(后烘烤处理)的形态。

光致抗蚀剂例如可使用正型感放射线性组合物。该正型感放射线性组合物可使用感应紫外线(g射线、h射线、i射线)、包含准分子激光等的远紫外线、电子束、离子束及X射线等放射线的适于正型光致抗蚀剂用途的正型抗蚀剂组合物。放射线中优选的是g射线、h射线、i射线，其中优选的是i射线。

具体而言，正型感放射线性组合物优选的是含有醌二叠氮化合物及碱可溶性树脂的组合物。含有醌二叠氮化合物及碱可溶性树脂的正型感放射线性组合物是利用如下现象者：通过500nm以下的波长的光照射而使醌二叠氮基分解而产生羧基，结果由碱不溶状态成为碱可溶性。该正型光致抗蚀剂的分析能力显著优异，因此可在集成电路(IntegratedCircuits，IC)或大规模集成电路(Large-ScaleIntegration，LSI)等集成电路的制作中使用。醌二叠氮化合物可列举萘醌二叠氮化合物。市售品例如可列举FHi622BC(富士胶片电子材料公司制造)等。

光致抗蚀剂层的厚度优选的是0.1μm～3μm，优选的是0.2μm～2.5μm，进一步更优选的是0.3μm～2μm。另外，光致抗蚀剂层的涂布可使用所述的着色层的涂布方法而适宜地进行。

其次，通过对光致抗蚀剂层进行曝光、显影而形成设有抗蚀剂贯通孔群组的抗蚀剂图案(进行了图案化的光致抗蚀剂层)。抗蚀剂图案的形成并无特别限制，可适宜对现有公知的光刻的技术进行最优选化而进行。通过曝光、显影而在光致抗蚀剂层上设置抗蚀剂贯通孔群组，由此而在着色层上设置在其后的蚀刻中所使用的作为蚀刻掩模的抗蚀剂图案。

光致抗蚀剂层的曝光可通过如下方式而进行：介隔规定的掩模图案，利用g射线、h射线、i射线等、优选的是i射线，对正型或负型的感放射线性组合物实施曝光。在曝光后，利用显影液进行显影处理，由此根据所欲形成着色图案的区域而将光致抗蚀剂除去。

作为所述显影液，若为并不对包含着色剂的着色层造成影响，溶解正型抗蚀剂的曝光部及负型抗蚀剂的未硬化部的显影液，则可使用任意者，例如可使用各种有机溶剂的组合或碱性水溶液。作为碱性水溶液，适宜的是以浓度成为0.001质量％～10质量％、优选的是0.01质量％～5质量％的方式溶解碱性化合物而制备的碱性水溶液。碱性化合物例如可列举四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸钠、氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯等。另外，在使用碱性水溶液作为显影液的情况下，一般在显影后利用水实施清洗处理。

其次，将抗蚀剂图案作为蚀刻掩模，以在着色层上形成贯通孔群组的方式利用干式蚀刻而进行图案化。由此而形成着色图案。贯通孔群组是在着色层上设置为棋盘格状。由此，在着色层上设置贯通孔群组而成的第1着色图案以棋盘格状的方式包含多个四边形状的第1着色像素。

具体而言，干式蚀刻是将抗蚀剂图案作为蚀刻掩模，对着色层进行干式蚀刻。作为干式蚀刻的代表例，存在有日本专利特开昭59-126506号、日本专利特开昭59-46628号、日本专利特开昭58-9108号、日本专利特开昭58-2809号、日本专利特开昭57-148706号、日本专利特开昭61-41102号等公报中所记载的方法。

作为干式蚀刻，自更接近矩形地形成图案剖面的观点或进一步减低对支撑体的损伤的观点考虑，优选的是利用以下形态而进行。

优选的是包含如下者的形态：第1阶段的蚀刻，使用氟系气体与氧气(O₂)的混合气体，进行蚀刻直至支撑体并不露出的区域(深度)；第2阶段的蚀刻，在该第1阶段的蚀刻之后，使用氮气(N₂)与氧气(O₂)的混合气体，优选的是进行蚀刻直至支撑体露出的区域(深度)附近；在支撑体露出之后所进行的过度蚀刻。以下，对干式蚀刻的具体手法、以及第1阶段的蚀刻、第2阶段的蚀刻、及过度蚀刻加以说明。

干式蚀刻可利用下述手法事先求出蚀刻条件而进行。

(1)分别算出第1阶段的蚀刻的蚀刻速率(nm/min)与第2阶段的蚀刻的蚀刻速率(nm/min)。(2)分别算出通过第1阶段的蚀刻而蚀刻所期望的厚度的时间与通过第2阶段的蚀刻而蚀刻所期望的厚度的时间。(3)依照所述(2)中所算出的蚀刻时间而实施第1阶段的蚀刻。(4)依照所述(2)中所算出的蚀刻时间而实施第2阶段的蚀刻。或者也可通过终点检测决定蚀刻时间，依照所决定的蚀刻时间而实施第2阶段的蚀刻。(5)对于所述(3)、(4)的合计时间而算出过度蚀刻时间，实施过度蚀刻。

作为所述第1阶段的蚀刻步骤中所使用的混合气体，自将作为被蚀刻膜的有机材料加工为矩形的观点考虑，优选的是包含氟系气体及氧气(O₂)。而且，第1阶段的蚀刻步骤可通过设为蚀刻至支撑体并不露出的区域的形态而避免支撑体的损伤。而且，作为所述第2阶段的蚀刻步骤及所述过度蚀刻步骤，自在第1阶段的蚀刻步骤中利用氟系气体及氧气的混合气体实施蚀刻直至支撑体并不露出的区域之后，避免支撑体的损伤的观点考虑，优选的是使用氮气及氧气的混合气体而进行蚀刻处理。

第1阶段的蚀刻步骤中的蚀刻量与第2阶段的蚀刻步骤中的蚀刻量的比率重要的是以并不由于第1阶段的蚀刻步骤中的蚀刻处理而损及矩形性的方式而决定。另外，所有蚀刻量(第1阶段的蚀刻步骤中的蚀刻量与第2阶段的蚀刻步骤中的蚀刻量的总和)中的后者的比率优选的是大于0％且为50％以下的范围，更优选的是10％～20％。所谓“蚀刻量”，是指根据被蚀刻膜的残存膜厚与蚀刻前的膜厚的差而算出的量。

而且，优选的是蚀刻包含过度蚀刻处理。过度蚀刻处理优选的是设定过度蚀刻比率而进行。而且，过度蚀刻比率优选的是根据最初所进行的蚀刻处理时间而算出。过度蚀刻比率可任意地设定，但就光致抗蚀剂的耐蚀刻性与维持被蚀刻图案的矩形性的方面而言，优选的是蚀刻步骤中的蚀刻处理时间的30％以下，更优选的是5％～25％，特别优选的是10％～15％。

其次，将蚀刻后所残存的抗蚀剂图案(亦即蚀刻掩模)除去。优选的是抗蚀剂图案的除去包含如下步骤：在抗蚀剂图案上赋予剥离液或溶剂，使抗蚀剂图案成为可除去的状态的步骤，以及使用清洗水将抗蚀剂图案除去的步骤。

作为在抗蚀剂图案上赋予剥离液或溶剂，使抗蚀剂图案成为可除去的状态的步骤，例如可列举将剥离液或溶剂至少赋予至抗蚀剂图案上，使其停滞规定的时间而进行覆液式显影的步骤。作为使剥离液或溶剂停滞的时间，并无特别限制，优选的是数十秒至数分钟。

而且，作为使用清洗水将抗蚀剂图案除去的步骤，例如可列举自喷雾式或喷淋式的喷射管嘴对抗蚀剂图案喷射清洗水，将抗蚀剂图案除去的步骤。清洗水可优选地使用纯水。而且，作为喷射管嘴，可列举在其喷射范围内包含支撑体整体的喷射管嘴、或可动式喷射管嘴且其可动范围包含支撑体整体的喷射管嘴。在喷射管嘴为可动式的情况下，在除去抗蚀剂图案的步骤中，自支撑体中心部移动至支撑体端部2次以上而喷射清洗水，由此可更有效地除去抗蚀剂图案。

剥离液一般含有有机溶剂，也可进一步含有无机溶剂。有机溶剂例如可列举：1)烃系化合物、2)卤化烃系化合物、3)醇系化合物、4)醚或缩醛系化合物、5)酮或醛系化合物、6)酯系化合物、7)多元醇系化合物、8)羧酸或其酸酐系化合物、9)酚系化合物、10)含氮化合物、11)含硫化合物、12)含氟化合物。剥离液优选的是含有含氮化合物，更优选的是包含非环状含氮化合物与环状含氮化合物。

非环状含氮化合物优选的是具有羟基的非环状含氮化合物。具体而言，例如可列举单异丙醇胺、二异丙醇胺、三异丙醇胺、N-乙基乙醇胺、N，N-二丁基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等，优选的是单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺，更优选的是单乙醇胺(H₂NCH₂CH₂OH)。而且，环状含氮化合物可列举异喹啉、咪唑、N-乙基吗啉、ε-己内酰胺、喹啉、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮、α-甲基吡啶、β-甲基吡啶、γ-甲基吡啶、2-甲哌啶、3-甲哌啶、4-甲哌啶、哌嗪、哌啶、吡嗪、吡啶、吡咯烷、N-甲基-2-吡咯烷酮、N-苯基吗啉、2，4-二甲基吡啶、2，6-二甲基吡啶等，优选的是N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙基吗啉，更优选的是N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)。

剥离液优选的是包含非环状含氮化合物与环状含氮化合物，其中更优选的是包含作为非环状含氮化合物的选自单乙醇胺、二乙醇胺、及三乙醇胺的至少一种与作为环状含氮化合物的选自N-甲基-2-吡咯烷酮及N-乙基吗啉的至少一种，进一步更优选的是包含单乙醇胺与N-甲基-2-吡咯烷酮。

当利用剥离液除去时，若将第1着色图案上所形成的抗蚀剂图案除去即可，即使在第1着色图案的侧壁附着有作为蚀刻产物的沉积物的情况下，也可并不将所述沉积物完全除去。所谓“沉积物”是指蚀刻产物附着堆积于着色层的侧壁而成者。

剥离液理想的是非环状含氮化合物的含量为相对于剥离液100质量份而言为9质量份以上、11质量份以下，且环状含氮化合物的含量为相对于剥离液100质量份而言为65质量份以上、70质量份以下的剥离液。而且，剥离液优选的是利用纯水对非环状含氮化合物与环状含氮化合物的混合物加以稀释而成者。

另外，本发明的制造方法也可视需要包含作为固体摄影元件用彩色滤光片的制造方法而公知的步骤作为所述以外的步骤。例如在进行上述的着色组合物层形成步骤、曝光步骤及图案形成步骤之后，也可视需要包含硬化步骤，亦即通过加热及/或曝光而使所形成的着色图案硬化。

而且，在使用本发明的着色组合物的情况下，例如存在如下的情况：由于涂布装置喷出部的管嘴或配管部的堵塞，或者着色组合物或颜料附着于涂布机内、沉降·干燥所造成的污染等。因此，为了效率良好地清洗由于本发明的着色组合物而导致的污染，优选的是使用与前文揭示的本组合物相关的溶剂作为清洗液。而且，日本专利特开平7-128867号公报、日本专利特开平7-146562号公报、日本专利特开平8-278637号公报、日本专利特开2000-273370号公报、日本专利特开2006-85140号公报、日本专利特开2006-291191号公报、日本专利特开2007-2101号公报、日本专利特开2007-2102号公报、日本专利特开2007-281523号公报等中所记载的清洗液也可作为本发明的着色组合物的清洗除去而适宜地使用。

所述中优选的是烷二醇单烷基醚羧酸酯及烷二醇单烷基醚。

这些溶剂可单独使用也可将2种以上混合使用。在将2种以上混合的情况下，优选的是将具有羟基的溶剂与并不具有羟基的溶剂加以混合。具有羟基的溶剂与并不具有羟基的溶剂的质量比为1/99～99/1，优选的是10/90～90/10，更优选的是20/80～80/20。特别优选的是丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)与丙二醇单甲醚(PGME)的混合溶剂，且其比率为60/40。另外，为了使清洗液对污染物的渗透性提高，也可在清洗液中添加与前文揭示的本组合物相关的表面活性剂。

本发明的彩色滤光片使用本发明的着色组合物，因此可进行曝光宽容度优异的曝光，且所形成的着色图案(着色像素)的图案形状优异，图案表面的粗化或显影部的残渣得到抑制，因此变得颜色特性优异。

本发明的彩色滤光片可在CCD、CMOS等固体摄影元件中适宜地使用，特别适于超过100万像素的高分辨率的CCD或CMOS等中。本发明的固体摄影元件用彩色滤光片例如可作为配置于构成CCD或CMOS的各像素的光接收部与用以聚光的微透镜之间的彩色滤光片而使用。

另外，本发明的彩色滤光片中的着色图案(着色像素)的膜厚优选的是2.0μm以下，更优选的是1.0μm以下，进一步更优选的是0.7μm以下。

而且，着色图案(着色像素)的尺寸(图案宽度)优选的是2.5μm以下，更优选的是2.0μm以下，特别优选的是1.7μm以下。

(固体摄影元件)

本发明的固体摄影元件包含已述的本发明的彩色滤光片。作为本发明的固体摄影元件的构成，是包含本发明的彩色滤光片的构成，若为作为固体摄影元件而发挥功能的构成，则并无特别限定，例如可列举以下的构成。

在支撑体上具有构成固体摄影元件(CCD图像传感器、CMOS图像传感器等)的光接收区域的多个光电二极管及包含多晶硅等的传送电极，在所述光电二极管及所述传送电极上具有仅仅对光电二极管的光接收部开口的包含钨等的遮光膜，在遮光膜上具有以覆盖遮光膜整个面及光电二极管光接收部的方式所形成的包含氮化硅等的元件保护膜，在所述元件保护膜上具有本发明的固体摄影元件用彩色滤光片的构成。

另外，也可为在所述元件保护层上、且彩色滤光片之下(接近支撑体之侧)具有聚光机构(例如微透镜等。下同)的构成，或在彩色滤光片上具有聚光机构的构成等。

(图像显示装置)

本发明的彩色滤光片不仅仅可在所述固体摄影元件中使用，而且可在液晶显示装置或有机EL显示装置等图像显示装置中使用，特别是适于液晶显示装置的用途中。包含本发明的彩色滤光片的液晶显示装置可显示出显示图像的色调良好且显示特性优异的高画质图像。

关于显示装置的定义或各显示装置的详细情况，例如在《电子显示器元件(佐佐木昭夫著、工业调查会股份有限公司1990年发行)》、《显示器元件(伊吹顺章著、产业图书股份有限公司平成元年(1989年)发行)》等中有所记载。而且，关于液晶显示装置，例如在《下一代液晶显示器技术(内田龙男编辑、工业调查会股份有限公司1994年发行)》中有所记载。可应用本发明的液晶显示装置并无特别限制，例如可应用于所述《下一代液晶显示器技术》中所记载的各种方式的液晶显示装置中。

本发明的彩色滤光片可用于彩色薄膜晶体管(Thin-FilmTransistor，TFT)方式的液晶显示装置中。关于彩色TFT方式的液晶显示装置，例如在《彩色TFT液晶显示器(共立出版股份有限公司1996年发行)》中有所记载。另外，本发明也可应用于共面切换(InPlaneSwitching，IPS)等横电场驱动方式、多域垂直取向(Multi-domainVerticalAlignment，MVA)等像素分割方式等视角得到扩大的液晶显示装置中，或超扭转向列(SuperTwistedNematic，STN)、扭转向列(TwistedNematic，TN)、垂直取向(VerticalAlignment，VA)、光学补偿倾斜(OpticallyCompensatedSplay，OCS)、边缘场切换(FringeFieldSwitching，FFS)及反射光学补偿弯曲(ReflectiveOpticallyCompensatedBend，R-OCB)等中。

而且，本发明的彩色滤光片也可供至明亮且高精细的彩色滤光片阵列(Color-filterOnArray，COA)方式中。在COA方式的液晶显示装置中，对彩色滤光片层的要求特性除了前述的通常的要求特性以外，还需要对层间绝缘膜的要求特性、亦即低介电常数及耐剥离液性。在本发明的彩色滤光片中，由于使用色相优异的染料多聚体，因此颜色纯度、透光性等良好且着色图案(像素)的色调优异，因此可提供分辨率高且长期耐久性优异的COA方式的液晶显示装置。另外，为了满足低介电常数的要求特性，也可在彩色滤光片层上设置树脂覆膜。

关于这些图像显示方式，例如在《EL、PDP、LCD显示器-技术与市场的最新动向-(东丽研究中心调查研究部门、2001年发行)》的第43页等中有所记载。

本发明的包含彩色滤光片的液晶显示装置除了本发明的彩色滤光片以外，也包含电极基板、偏光膜、相位差膜、背光、间隔件、视角保障膜等各种各样的构件。本发明的彩色滤光片可应用于包含这些公知构件的液晶显示装置中。关于这些构件，例如在《′94液晶显示器周边材料·化学品的市场(岛健太郎、CMC股份有限公司、1994年发行)》、《2003液晶相关市场的现状与将来展望(下卷)(表良吉、富士凯美莱总研股份有限公司(FujiChimeraResearchInstitute，Inc.)、2003年发行)》中有所记载。

关于背光，在《国际信息显示学会会议纪要(SID(SocietyforInformationDisplay)meetingDigest)》1380(2005)(A.今野(A.Konno)等人)或《显示器月刊》2005年12月的第18页～第24页(岛康裕)、《显示器月刊》2005年12月的第25页～第30页(八木隆明)等中有所记载。

若将本发明的彩色滤光片用于液晶显示装置中，则与现有公知的冷阴极管的三波长管组合时可实现高的对比度，另外，通过将红、绿、蓝的LED光源(RGB-LED)作为背光，可提供亮度高、而且颜色纯度高、颜色再现性良好的液晶显示装置。

[实施例]

以下，利用实施例对本发明加以进一步更具体的说明，但只要本发明不超出其主旨，则并不限定于以下实施例。另外，若无特别说明，则“％”及“份”是质量基准。

(合成例1)

<色素多聚体(S-16)的合成>

将12g甲基丙烯酸/甲基丙烯酸异氰酸基乙酯的共聚物＝33/67(重量比)、Mw＝5000与35g呫吨色素(A-xt-5)溶解于PGMEA(150mL)中。在该液体中加入尼欧斯丹(NEOSTANN)(1mL)而在80℃下进行2小时搅拌。将该反应液冷却至室温，滴加至己烷500mL的溶液中。通过过滤所析出的结晶而获得40g化合物S-16。

所合成的色素多聚体的重量平均分子量Mw是利用GPC而测定，分子量分布是利用GPC而测定。

(合成例2～合成例28)

<其他色素多聚体的合成>

除了使用如下述表所示的聚合物成分、具有色素结构的化合物、及具有聚合性基的化合物以外，与合成例1同样地进行合成。

(实施例及比较例)

1.抗蚀剂溶液的制备

将下述组成的成分加以混合而使其溶解，制备下涂层用抗蚀剂溶液。

<下涂层用抗蚀剂溶液的组成>

·溶剂：丙二醇单甲醚乙酸酯19.20份

·溶剂：乳酸乙酯36.67份

·碱可溶性树脂：甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸-2-羟基乙酯共聚物(摩尔比＝60/22/18、重量平均分子量15,000、数量平均分子量9,000)的40％PGMEA溶液30.51份

·含有乙烯性不饱和双键的化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯12.20份

·聚合抑制剂：对甲氧基苯酚0.0061份

·氟系表面活性剂：F-475、迪爱生股份有限公司制造0.83份

·光聚合引发剂：三卤甲基三嗪系光聚合引发剂0.586份(TAZ-107、绿化学公司制造)

2.附有下涂层的硅晶片基板的制作

将6英寸(inch)硅晶片在烘箱中，在200℃下进行30分钟的加热处理。其次，在该硅晶片上，以干燥膜厚成为1.5μm的方式涂布所述抗蚀剂溶液，进一步在220℃的烘箱中进行1小时的加热干燥而形成下涂层，获得附有下涂层的硅晶片基板。

3.着色组合物的制备

3-1.蓝色颜料分散液的制备

以下述方式制备蓝色颜料分散液1。

利用珠磨机(beadsmill)(氧化锆颗粒、直径为0.3mm)对包含13.0份C.I.颜料蓝15∶6(蓝色颜料、平均粒径为55nm)、及5.0份作为颜料分散剂的迪斯帕毕克(Disperbyk)111、及82.0份PGMEA的混合液进行3小时的混合·分散而制备颜料分散液。其后，进一步使用附有减压机构的高压分散机NANO-3000-10(日本BEE股份有限公司制造)，在2000kg/cm³的压力下设为流量500g/min而进行分散处理。反复进行10次该分散处理，获得实施例或比较例的着色组合物中所使用的蓝色用颜料分散液1(C.I.颜料蓝15∶6分散液、颜料浓度为13％)。

关于所得的蓝色颜料分散液，利用动态光散射法(麦奇克纳米粒度仪(MicrotracNanotrac)UPA-EX150(日机装公司(NikkisoCo.，Ltd.)制造))而测定颜料的粒径，结果是24nm。

3-2.着色组合物的制备

(1)着色组合物

将下述各成分加以混合而进行分散、溶解，利用0.45μm尼龙过滤器进行过滤。

·环己酮1.133份

·碱可溶性树脂0.030份

·索思帕(Solsperse)20000(1％环己烷溶液、日本路博润(Lubrizol)股份有限公司制造)0.125份

·光聚合引发剂0.012份

·色素多聚体(下述表中所记载的化合物，其中，比较例1～比较例3使用规定色素)

以固体成分计而言为0.040份

·下述表中所记载的颜料分散液(颜料浓度为13.0％)0.615份

·二季戊四醇六丙烯酸酯0.070份

·丙三醇丙氧基化物(1％环己烷溶液)0.048份

光聚合引发剂

(I-1)：艳佳固(IRGACURE)(注册商标)-OXE01

[化43]

碱可溶性树脂

[化44]

[化45]

[化46]

[表13]

表中，MAA表示甲基丙烯酸甲酯。

4.利用着色组合物的彩色滤光片的制作

＜图案形成＞

将如上所述而制备的实施例及比较例的着色组合物的各个涂布于所述2.中所得的附有下涂层的硅晶片基板的下涂层上，形成着色组合物层(涂布膜)。继而，以该涂布膜的干燥膜厚成为0.6μm的方式，使用100℃的加热板进行120秒的加热处理(预烘烤)。

其次，使用i射线步进式曝光装置FPA-3000i5+(佳能(Canon)股份有限公司制造)，利用365nm的波长通过图案为1.0μm见方的岛状图案的掩模而以50mJ/cm2～1200mJ/cm2的各种曝光量进行曝光。

其后，将形成有进行了照射的涂布膜的硅晶片基板载置于旋转、喷淋显影机(DW-30型；凯米道库斯(Chemitronics)股份有限公司制造)的水平旋转台上，使用CD-2000(富士胶片电子材料股份有限公司制造)而在23℃下进行60秒的覆液式显影，在硅晶片基板上形成着色图案。

将形成有着色图案的硅晶片以真空夹头方式固定于所述水平旋转台上，利用旋转装置而以50r.p.m.的转速使所述硅晶片基板旋转，自其旋转中心的上方呈喷淋状地自喷出管嘴供给纯水而进行冲洗处理，其后进行喷雾干燥。

如上所述而制作具有由实施例或比较例的着色组合物而形成的着色图案的单色的彩色滤光片。

其后，使用测长SEM“S-9260A”(日立高新技术股份有限公司制造)而测定着色图案的尺寸。将图案尺寸成为1.0μm的曝光量作为最优选曝光量。

5.性能评价

5-1.图案缺损

对100个着色图案进行观察，计算出缺损的图案的个数。个数越多则表示图案缺损越差。将结果表示于下述表中。

5-2.色移评价

利用MCPD-3000(大冢电子股份有限公司制造)测定各彩色滤光片中的着色图案的吸光度(吸光度A)。

在彩色滤光片的着色图案形成面，以干燥膜厚成为1μm的方式涂布CT-2000L溶液(富士胶片电子材料股份有限公司制造；透明基底剂)而使其干燥，形成透明膜后，在280℃下进行5分钟的加热处理。

在加热结束后，利用MCPD-3000(大冢电子股份有限公司制造)测定与着色图案邻接的透明膜的吸光度(吸光度B)。

关于所得的透明膜的吸光度B的值，算出相对于加热前所测定的着色图案的吸光度A的值的比例[％][下述(式A)]。将其作为评价对邻接像素的色移的指标。

(式A)色移(％)＝吸光度B/吸光度A×100

5-3.耐热性

将涂布有所述所得的着色硬化性组合物的玻璃基板，以与所述基板表面相接的方式载置于200℃的加热板上而进行1小时加热后，利用色度计MCPD-1000(大冢电子股份有限公司制造)测定加热前后的色差(ΔE*ab值)，将其作为评价热坚牢性的指标，依照下述判定基准而进行评价。至于ΔE*ab值，值小者表示耐热性良好。另外，ΔE*ab值是根据利用CIE1976(L*、a*、b*)空间表色系统的以下的色差公式而求出的值(日本色彩学会编《新编色彩科学手册》(昭和60年(1985年))第266页)。

ΔE*ab＝{(ΔL*)²+(Δa*)²+(Δb*)²}^1/2

[表14]

	色素多聚体	耐热性	色移	图案缺损
					实施例1	S-1	1.1	1	2
实施例2	S-2	1	2	3
					实施例3	S-3	2.2	2	1
实施例4	S-4	1.5	2	2
					实施例5	S-5	1.3	0	3
实施例6	S-6	2.1	1	0
					实施例7	S-7	1.9	2	2
实施例8	S-8	1.7	1	1
					实施例9	S-9	0.5	2	0
实施例10	S-10	1.8	1	2
					实施例11	S-11	0.9	0	2
实施例12	S-12	1.6	0	1
					实施例13	S-13	2	1	1
实施例14	S-14	2.1	1	0
					实施例15	S-15	2.5	1	3
实施例16	S-16	1.4	1	2
					实施例17	S-17	1.2	1	1
实施例18	S-18	1.1	1	0
					实施例19	S-19	1.5	0	1
实施例20	S-20	1.3	0	1
					实施例21	S-21	1.6	0	2
实施例22	S-22	2.2	1	3
					实施例23	S-23	1	1	2
实施例24	S-24	1.4	0	2
					实施例25	S-25	2	2	1
实施例26	S-26	2.2	2	1
					实施例27	S-27	2.3	2	1
实施例28	S-28	0.9	0	0
					比较例1	S-29(比较用)	4.2	5	5
比较例2	S-30(比较用)	4.3	7	5
					比较例3	S-31(比较用)	5.2	6	7
实施例29	S-32	1.4	2	2
					实施例30	S-33	1.1	2	1
实施例31	S-34	1.5	1	2
					实施例32	S-35	0.8	0	0

根据所述表可知：使用利用本发明的制造方法而制造的色素多聚体，利用光致抗蚀剂而制作彩色滤光片的情况下，图案缺损少、耐热性高、色移少。

6.应用干式蚀刻法的图案形成

着色组合物的制备

将下述成分加以混合·溶解而获得着色组合物。

·环己酮1.133份

·色素多聚体(下述表中所记载的化合物)

以固体成分计而言为0.040份

·上述蓝色颜料分散液(颜料浓度为13.0％)0.615份

·聚合性化合物(EHPE-3150(大赛璐化学公司制造、2，2-双(羟基甲基)-1-丁醇的1，2-环氧-4-(2-氧杂环丙基)环己烷加成物))0.070份

·丙三醇丙氧基化物(1％环己烷溶液)0.048份

7.性能评价

7-1.耐碱性显影液性(耐显影液性)

在玻璃基板上，以膜厚成为0.6μm的方式使用旋涂机而涂布所述着色组合物，使用100℃的加热板而进行120秒的加热处理(预烘烤)。其次，使用220℃的加热板而进行300秒的加热处理(后烘烤)，制作硬化膜。

对于如上所述而所得的彩色滤光片，利用紫外可见近红外分光光度计UV3600(岛津制作所制造)的分光光度计(参照：玻璃基板)，在300nm～800nm的波长范围测定透过率。而且，使用奥林巴司(OLYMPUS)制造的光学显微镜BX60，通过反射观测(倍率为50倍)而观察微分干涉图像。

其次，在碱性显影液FHD-5(富士胶片电子材料股份有限公司制造)中浸渍5分钟，使其干燥后再次实施分光测定，评价溶剂浸渍前后的透过率变动(将溶剂浸渍前的所述透过率设为T0、将溶剂浸渍后的所述透过率设为T1的情况下，以式|T0-T1|所表示的值)与膜表面异常，根据以下基准进行评价。

AA：良好在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动不足2％

A：稍微良好在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动为2％以上且不足5％

B：充分在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动为5％以上且不足10％

C：不充分在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动为10％以上

7-2.耐剥离液性

在7-1中所制作的着色膜上涂布正型光致抗蚀剂“FHi622BC”(富士胶片电子材料公司制造)而实施预烘烤，形成膜厚为0.8μm的光致抗蚀剂层。继而，使用i射线步进机(佳能股份有限公司制造)，以350mJ/cm²的曝光量对光致抗蚀剂层进行图案曝光，在光致抗蚀剂层的温度或环境温度成为90℃的温度下进行1分钟的加热处理。其后，使用光致抗蚀剂剥离液“MS230C”(富士胶片电子材料公司制造)而实施120秒的剥离处理，将抗蚀剂图案除去，进一步实施利用纯水的清洗、旋转干燥。其后，在100℃下进行2分钟的脱水烘烤处理。

对所得的着色膜进行分光测定，评价剥离后的透过率变动(将溶剂浸渍前的所述透过率设为T0、将溶剂浸渍后的所述透过率设为T2的情况下，以式|T0-T2|所表示的值)与膜表面异常，根据以下基准进行评价。

AA：良好在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动不足2％

A：稍微良好在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动为2％以上且不足5％

B：充分在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动为5％以上且不足10％

C：不充分在300nm～800nm的所有区域中，溶剂浸渍前后的透过率变动为10％以上

[表15]

根据所述表可知：使用利用本发明的制造方法而制造的色素多聚体进行干式蚀刻的情况下，耐显影液性及耐剥离液性优异。另一方面，比较例2-1～比较例2-3的色素多聚体的这些性质差。

Claims (9)

1.一种色素多聚体的制造方法，其包含：使具有色素结构的化合物与聚合物反应。

2.根据权利要求1所述的色素多聚体的制造方法，其中，

所述反应是在具有色素结构的化合物与聚合物之间形成共价键的反应。

3.根据权利要求1或2所述的色素多聚体的制造方法，其中，

还包含使具有聚合性基的化合物与聚合物反应的步骤。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，

所述具有色素结构的化合物包含阳离子部位与反荷阴离子。

5.根据权利要求4所述的色素多聚体的制造方法，其中，

所述色素结构是源自选自二吡咯亚甲基色素、三芳基甲烷色素、呫吨色素、花青色素及方酸菁色素的色素的色素结构。

6.根据权利要求4或5所述的色素多聚体的制造方法，其中，

所述反荷阴离子选自磺酸根阴离子、磺酰亚胺阴离子、双(烷基磺酰基)酰亚胺阴离子、三(烷基磺酰基)甲基化物阴离子、羧酸根阴离子、四芳基硼酸盐阴离子、BF4-、PF6-、及SbF6-。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，

所述具有色素结构的化合物在同一分子内包含阳离子与阴离子。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的色素多聚体的制造方法，其中，

所述聚合物的分子量的分布为1.0～2.5。

9.一种着色组合物的制造方法，其包含：利用根据权利要求1至8中任一项所述的色素多聚体的制造方法而制造色素多聚体，调配聚合性化合物、所述色素多聚体以外的颜料及光聚合引发剂。