CN105373283A - 电容式触摸屏的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电容式触摸屏的制备方法，通过在金属层上形成保护光阻层，将保护光阻层曝光形成在线路区域的金属线路图案以及在LOGO区域的LOGO图案，清洗后保留金属线路图案和LOGO图案，并将金属层的裸露区域蚀刻去除，得到金属线路图案覆盖的金属线路以及LOGO图案覆盖的LOGO，金属线路连接第一方向电极与所述第二方向电极。由于金属层具有与镜面银相同的金属光泽，将丝印制作工序中的LOGO与金属线路一并设计，不需要丝印制作镜面银LOGO的工序即可在电容式触摸屏上形成LOGO图案，工序简单且制作成本较低。
Description
技术领域
本发明涉及显示器件领域，特别涉及一种电容式触摸屏的制备方法。
背景技术
电容式触摸屏作为一种新兴信息输入方式广泛应用于各类信息显示产品，如触摸屏手机、GPS导航系统等。
OGS(OneGlassSolution)工艺，就是把触控玻璃(TouchSensor)与保护玻璃(CoverGlass)集成在一起，亦即在一般的保护玻璃内侧镀上ITO导电层，使该单片玻璃不仅具备保护玻璃的强度、安全性，同时也兼具触控功能。
传统的OGS结构的电容式触摸屏上的LOGO(标志)图案或按键等都是在完成黄光和镀膜工艺后，切割成小片，CNC(精雕机)成型后丝印制作镜面银LOGO或丝印制作透明按键。然而丝印制作中需要开模具网版，工序复杂。另外丝印制作采用的银浆及透明材料价格昂贵，制作成本较高。
发明内容
基于此，有必要提供一种工序简单且制作成本较低的电容式触摸屏的制备方法。
一种电容式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：
提供基板，在所述基板上形成光阻层，将所述光阻层曝光，形成可视区与非可视区，所述非可视区包括用于形成金属线路的线路区域、用于形成LOGO的LOGO区域以及用于形成按键的按键区域；
在所述按键区域上形成按键图案；
在所述可视区上形成导电层，所述导电层包括第一方向电极与第二方向电极，所述第一方向电极与所述第二方向电极彼此绝缘；
在所述非可视区上形成金属层，并在所述金属层上形成保护光阻层；
将所述保护光阻层曝光形成在所述线路区域的金属线路图案以及在所述LOGO区域的LOGO图案，清洗后保留所述金属线路图案和所述LOGO图案；及
将所述金属层的裸露区域蚀刻去除，得到所述金属线路图案覆盖的金属线路以及所述LOGO图案覆盖的LOGO，所述金属线路连接所述第一方向电极与所述第二方向电极。
在一个实施例中，所述在所述按键区域上形成按键图案的操作为：在所述按键区域上形成按键光阻层，将绘制有按键图案的按键掩膜版置于所述按键光阻层的上方并曝光，清洗后形成按键图案。
在一个实施例中，所述光阻层的颜色为白色，所述按键光阻层的颜色为黑色。
在一个实施例中，所述按键光阻层为正型光阻。
在一个实施例中，所述将所述保护层曝光形成在所述线路区域的金属线路图案以及在所述LOGO区域的LOGO图案的操作为：将绘制有金属线路图案和LOGO图案的掩膜版置于所述保护光阻层的上方并曝光，形成在所述线路区域的金属线路图案以及在所述LOGO区域的LOGO图案。
在一个实施例中，所述导电层的材料为ITO。
在一个实施例中，所述金属层的厚度为1090nm～1410nm。
在一个实施例中，所述金属层的材料为Ag、Cu或MoAlMo。
在一个实施例中，所述金属层的材料为MoAlMo，第一层Mo层的厚度为350nm～450nm，第二层Al层的厚度为240nm～260nm，第三层Mo层的厚度为500nm～700nm。
在一个实施例中，所述导电层与所述金属层均采用真空溅射镀膜的方式形成。
上述电容式触摸屏的制备方法，通过在金属层上形成保护光阻层，将保护光阻层曝光形成在线路区域的金属线路图案以及在LOGO区域的LOGO图案，清洗后保留金属线路图案和LOGO图案，并将金属层的裸露区域蚀刻去除，得到金属线路图案覆盖的金属线路以及LOGO图案覆盖的LOGO，金属线路连接第一方向电极与所述第二方向电极。由于金属层具有与镜面银相同的金属光泽，将丝印制作工序中的LOGO与金属线路一并设计，不需要丝印制作镜面银LOGO的工序即可在电容式触摸屏上形成LOGO图案，工序简单且制作成本较低。
附图说明
图1为一实施方式的电容式触摸屏的制备方法的流程图；
图2为一实施方式的电容式触摸屏的制备方法制备得到的电容式触摸屏的示意图；
图3为如图2所示的电容式触摸屏的内部结构。
具体实施方式
下面主要结合附图对电容式触摸屏制备方法作进一步详细的说明。
如图1所示，一实施方式的电容式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：
S10、提供基板，在基板上形成光阻层，将光阻层曝光，形成可视区与非可视区，非可视区包括用于形成金属线路的线路区域、用于形成LOGO的LOGO区域以及用于形成按键的按键区域。
基板可以为玻璃，可以通过蒸镀或电化学沉积的方法在基板上形成一层均匀的光阻层，将光阻层部分曝光，形成可视区与非可视区。
光阻层曝光后，非曝光区域为可视区，曝光区域的非可视区。经过曝光后，可视区的光阻层可以去除。
其中，可视区一般用于形成导电层，非可视区包括用于形成金属线路的线路区域、用于形成LOGO的LOGO区域以及用于形成按键的按键区域。
S20、在按键区域上形成按键图案。
具体的，在按键区域上形成按键图案的操作为：在按键区域上形成按键光阻层，将绘制有按键图案的按键掩膜版置于按键光阻层的上方并曝光，清洗后形成按键图案。
按键的图案可以是多种形状的，例如三角形、四边形、箭头等。将绘制有按键图案的按键掩膜版置于按键光阻层的上方，光线透过按键掩膜版将按键掩膜版上的图案复制到按键光阻层上。
当按键光阻层为正型光阻时，按键掩膜版上的按键图案与按键的图案相同，即按键掩膜版上的按键图案为镂空状。光线可透过该镂空状的按键图案，从而将按键图案复制到按键光阻层上，曝光后，按键光阻层上对应的按键图案为曝光区域。之后可采用显影剂清洗曝光区域，在按键光阻层上形成按键图案。由于按键区域的基板上的光阻层未做处理，在按键区域有光阻层，采用显影剂将按键光阻层清洗后形成镂空的按键形状，通过在基板上的光阻层与按键光阻层的配合，形成虚拟按键。
当按键光阻层为负型光阻时，按键掩膜版上的按键图案与按键的图案互补，即按键掩膜版上的按键图案为非镂空状。光线透过按键掩膜版上的镂空区域，而不能透过该非镂空状的按键图案，从而将按键图案复制到按键光阻层上，曝光后，按键光阻层上对应的按键图案为非曝光区域。之后可采用显影剂清洗非曝光部分区域，在按键光阻层上形成按键图案。
本实施方式中，按键光阻层为正型光阻，正型光阻的光照部分性质改变，溶解度增大，在显影液的作用下容易溶解掉，形成镂空的按键形状。
在颜色方面，光阻层的颜色可以为白色，按键光阻层的颜色可以为黑色，通过白色光阻与黑色光阻的配合，形成白色屏幕并带有透明按键的电容式触摸屏。
本实施方式中，在基板上形成白色光阻后，按键区域不作处理，即按键区域白色光阻填充。之后在按键区域上形成黑色按键光阻层，通过图案设计，在按键区域按照按键形状设计，曝光并显影后在黑色按键光阻层上形成镂空的按键图案，即按键图案处不会有黑色光阻填充。通过白色光阻与黑色光阻的配合，形成白色屏幕并带有按键图案的电容式触摸屏。
其他实施方式中，也可以是光阻层可以为黑色光阻，按键光阻层为白色光阻，或者光阻层与按键光阻层均为黑色光阻或白色光阻或其他颜色组合的光阻层。只要光阻层与按键光阻层配合形成带有按键图案的电容式触摸屏即可。
上述在按键区域上形成按键图案的方法，基板上的光阻层不作处理，按键光阻层曝光并清洗后形成镂空的按键形状，通过基板上的光阻层与按键光阻层配合，形成虚拟按键，不需要丝印制作按键的工序，工序简单且制作成本较低，并且可以提高效率、提升产品的良率。
S30、在可视区上形成导电层，导电层包括第一方向电极与第二方向电极，第一方向电极与第二方向电极彼此绝缘。
导电层的材料可以为ITO(氧化铟锡)，可采用真空溅射镀膜的方式在可视区上形成导电层，导电层包括第一方向电极与第二方向电极，第一方向电极与所述第二方向电极彼此绝缘，第一方向电极与第二方向电极不平行。
本实施方式中，第一方向电极与第二方向电极相互垂直，导电层的材料为ITO，ITO具有良好的透光性和良好的导电性能。
S40、在非可视区上形成金属层，并在金属层上形成保护光阻层。
可采用真空溅射镀膜的方式在非可视区上形成金属层，并通过蒸镀或电化学沉积的方法在金属层上形成保护光阻层。
保护光阻层的材料可以是正型光阻也可以是负型光阻。
金属层的厚度可以为1090nm～1410nm，金属层的材料可以为Ag、Cu或MoAlMo。
Ag、Cu或MoAlMo均同时具有导电性能和金属光泽，可用于制作电容式触摸屏的的金属线路以及LOGO。
当金属层的材料为MoAlMo时，第一层Mo层的厚度为350nm～450nm，第二层Al层的厚度为240nm～260nm，第三层Mo层的厚度为500nm～700nm。
本实施方式中，金属层的材料为MoAlMo，第一层Mo层的厚度为400nm，第二层Al层的厚度为250nm，第三层Mo层的厚度为600nm。MoAlMo的颜色与银浆颜色相似，并且透过率高。
S50、将保护光阻层曝光形成在线路区域的金属线路图案以及在LOGO区域的LOGO图案，清洗后保留金属线路图案和LOGO图案。
将保护层曝光形成在线路区域的金属线路图案以及在LOGO区域的LOGO图案的操作为：将绘制有金属线路图案和LOGO图案的掩膜版置于保护光阻层的上方并曝光，形成在所述线路区域的金属线路图案以及在所述LOGO区域的LOGO图案。
设计的金属线路图案连接第一方向电极和第二方向电极，LOGO图案可以根据需要设计成不同形状，例如品牌的商标等图案。将绘制有金属线路图案和LOGO图案的掩膜版置于保护光阻层的上方，光线透过掩膜版将掩膜版上的图案复制到保护光阻层上。
当保护光阻层为正型光阻时，掩膜版上的金属线路图案和LOGO图案与金属线路和LOGO的图案互补，即掩膜版上的金属线路图案和LOGO图案为非镂空状。光线透过掩膜版上的镂空区域，而不能透过该非镂空状的金属线路图案和LOGO图案，从而将金属线路图案和LOGO图案复制到保护光阻层上，形成在线路区域的金属线路图案以及在LOGO区域的LOGO图案。曝光后，保护光阻层上对应的金属线路图案和LOGO图案为非曝光区域。之后可采用显影剂清洗曝光区域，保留非曝光区域的金属线路图案和LOGO图案。
当保护光阻层为负型光阻时，掩膜版上的金属线路图案和LOGO图案与金属线路和LOGO的图案相同，即掩膜版上的金属线路图案和LOGO图案为镂空状。光线透过掩膜版上镂空状的金属线路图案和LOGO图案，从而将金属线路图案和LOGO图案复制到保护光阻层上，形成在线路区域的金属线路图案以及在LOGO区域的LOGO图案。曝光后，保护光阻层上对应的金属线路图案和LOGO图案为曝光区域。之后可采用显影剂清洗非曝光区域，保留曝光区域的金属线路图案和LOGO图案。
S60、将金属层的裸露区域蚀刻去除，得到金属线路图案覆盖的金属线路以及LOGO图案覆盖的LOGO，金属线路连接第一方向电极与所述第二方向电极。
可以采用蚀刻液将金属层的裸露区域蚀刻去除，具体的蚀刻方法有湿蚀刻和干蚀刻两类。由于金属线路图案以及LOGO图案上均覆盖有保护光阻层，而其他区域的金属层上的保护光阻层已被去除，经过蚀刻后，得到金属线路图案覆盖的金属线路以及LOGO图案覆盖的LOGO，金属线路连接第一方向电极与所述第二方向电极。由于金属层具有与镜面银相同的金属光泽，在制作金属线路的同时将LOGO图案一并设计，同时在电容式触摸屏上形成了连接第一方向电极与所述第二方向电极的金属线路以及LOGO。
需要说明的是，上述电容式触摸屏的制备方法的步骤不限于采取上述顺序，也可以根据需要进行调整，如S20和S30可根据需要进行调整顺序。
如图2和图3所示，一实施方式的电容式触摸屏的制备方法制备得到的电容式触摸屏的示意图。电容式触摸屏上包括可视区100与非可视区200，非可视区200包括用于形成金属线路的线路区域210、用于形成LOGO的LOGO区域220以及用于形成按键的按键区域230。其中，线路区域210围绕在非可视区200的周边。LOGO区域220内的LOGO，即图中的“4G”标志在制备金属线路的时候一并设计，具有与镜面银相同的金属光泽。按键区域230内的按键，由按键光阻层曝光并清洗后形成镂空的按键形状，通过基板上的光阻层与按键光阻层配合，形成虚拟按键。实际应用中，线路区域210上的金属线路是被遮蔽的，在电容式触摸屏的表面仅显示LOGO区域220内的LOGO以及按键区域230中的按键。
上述电容式触摸屏的制备方法，通过在金属层上形成保护光阻层，将保护光阻层曝光形成在线路区域的金属线路图案以及在LOGO区域的LOGO图案，清洗后保留金属线路图案和LOGO图案，并将金属层的裸露区域蚀刻去除，得到金属线路图案覆盖的金属线路以及LOGO图案覆盖的LOGO，金属线路连接第一方向电极与所述第二方向电极。由于金属层具有与镜面银相同的金属光泽，将丝印制作工序中的LOGO与金属线路一并设计，不需要丝印制作镜面银LOGO的工序即可在电容式触摸屏上形成LOGO图案，工序简单且制作成本较低。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供基板，在所述基板上形成光阻层，将所述光阻层曝光，形成可视区与非可视区，所述非可视区包括用于形成金属线路的线路区域、用于形成LOGO的LOGO区域以及用于形成按键的按键区域；
在所述按键区域上形成按键图案；
在所述可视区上形成导电层，所述导电层包括第一方向电极与第二方向电极，所述第一方向电极与所述第二方向电极彼此绝缘；
在所述非可视区上形成金属层，并在所述金属层上形成保护光阻层；
将所述保护光阻层曝光形成在所述线路区域的金属线路图案以及在所述LOGO区域的LOGO图案，清洗后保留所述金属线路图案和所述LOGO图案；及
将所述金属层的裸露区域蚀刻去除，得到所述金属线路图案覆盖的金属线路以及所述LOGO图案覆盖的LOGO，所述金属线路连接所述第一方向电极与所述第二方向电极。
2.根据权利要求1所述电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述在所述按键区域上形成按键图案的操作为：在所述按键区域上形成按键光阻层，将绘制有按键图案的按键掩膜版置于所述按键光阻层的上方并曝光，清洗后形成按键图案。
3.根据权利要求2所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述光阻层的颜色为白色，所述按键光阻层的颜色为黑色。
4.根据权利要求2所述电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述按键光阻层为正型光阻。
5.根据权利要求1所述电容式触摸屏制备方法，其特征在于，所述将所述保护层曝光形成在所述线路区域的金属线路图案以及在所述LOGO区域的LOGO图案的操作为：将绘制有金属线路图案和LOGO图案的掩膜版置于所述保护光阻层的上方并曝光，形成在所述线路区域的金属线路图案以及在所述LOGO区域的LOGO图案。
6.根据权利要求1所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述导电层的材料为ITO。
7.根据权利要求1所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述金属层的厚度为1090nm～1410nm。
8.根据权利要求1所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述金属层的材料为Ag、Cu或MoAlMo。
9.根据权利要求1所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述金属层的材料为MoAlMo，第一层Mo层的厚度为350nm～450nm，第二层Al层的厚度为240nm～260nm，第三层Mo层的厚度为500nm～700nm。
10.根据权利要求1所述的电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，所述导电层与所述金属层均采用真空溅射镀膜的方式形成。
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| CN (1) | CN105373283B (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108037639A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-05-15 | 信利光电股份有限公司 | 一种ogs结构的手机图案印刷方法及装置 |
| CN108803924A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-11-13 | 业成科技（成都）有限公司 | 单层式感应电极及其制造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120103777A1 (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | Kang Sung-Ku | Touch screen panel |
| CN102945096A (zh) * | 2012-11-19 | 2013-02-27 | 天津市中环高科技有限公司 | 一种单层玻璃电容式触摸屏上金属logo的制作方法 |
| CN103472941A (zh) * | 2013-05-16 | 2013-12-25 | 友达光电股份有限公司 | 触控显示面板 |
| CN103823603A (zh) * | 2014-03-19 | 2014-05-28 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | Ogs触摸屏及其制作方法 |
-
2015
- 2015-12-04 CN CN201510892180.3A patent/CN105373283B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120103777A1 (en) * | 2010-10-27 | 2012-05-03 | Kang Sung-Ku | Touch screen panel |
| CN102945096A (zh) * | 2012-11-19 | 2013-02-27 | 天津市中环高科技有限公司 | 一种单层玻璃电容式触摸屏上金属logo的制作方法 |
| CN103472941A (zh) * | 2013-05-16 | 2013-12-25 | 友达光电股份有限公司 | 触控显示面板 |
| CN103823603A (zh) * | 2014-03-19 | 2014-05-28 | 南昌欧菲光学技术有限公司 | Ogs触摸屏及其制作方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108037639A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-05-15 | 信利光电股份有限公司 | 一种ogs结构的手机图案印刷方法及装置 |
| CN108803924A (zh) * | 2018-05-23 | 2018-11-13 | 业成科技（成都）有限公司 | 单层式感应电极及其制造方法 |
| CN108803924B (zh) * | 2018-05-23 | 2021-06-22 | 业成科技（成都）有限公司 | 单层式感应电极及其制造方法 |
Also Published As
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|---|---|
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