CN105331296B - 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 - Google Patents

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 Download PDF

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Abstract

本发明提供在切裁时难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且对表面有凹凸的光学用膜的适应性(润湿性)也好，对被粘附体的污染少，对被粘附体的低污染性无经时变化，还具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件。表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成由聚氨酯类粘结剂构成的粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠有包含剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。

Description

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件
技术领域
本发明涉及一种贴合于偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件(下面，有时也称“光学用膜”)的表面的表面保护膜。更详细而言，提供一种在切裁时难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且对表面具有凹凸的光学用膜的适应性(conformability)(润湿性)也良好，并对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，还具有无经时劣化(不随着时间推移而发生劣化)的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及贴合有该表面保护膜的光学部件。
背景技术
目前，当制造、搬运偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电膜等的光学用膜、以及使用了它们的显示器等光学产品时，通过在该光学用膜的表面贴合表面保护膜而防止后续工序中的表面污染和刮伤。为了节省对表面保护膜进行剥离后再进行贴合的劳力和时间从而提高作业效率，对作为产品的光学用膜的外观检查而言，有时也在光学用膜上贴合着表面保护膜的状态下直接实施。
以往以来，为了在光学产品的制造工序中防止伤痕和污垢的附着，通常使用在基材膜的单面设置了粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜是通过微粘结力的粘结剂层被贴合于光学用膜上。将粘结剂层设定为微粘结力的原因在于，为了将使用完毕的表面保护膜从光学用膜表面剥离而去除时，能够容易地进行剥离，并且为了防止粘结剂附着并残留在作为被粘附体的产品的光学用膜上(所谓的防止粘结剂残留的发生)的现象。
作为微粘结力的粘结剂，大多采用丙烯酸类粘结剂，但在根据显示器的尺寸将光学用膜切裁成规定的尺寸时，存在粘结剂在切裁刀下破碎而易于产生小片状异物(也称为“胶块”)的问题。若产生这样的异物，则会导致工序污染、或被按压在光学用膜上产生痕迹等问题。因此，要求有一种对贴合有表面保护膜的光学用膜进行扯裂或切裁时异物的产生少的表面保护膜。另外，还要求一种对棱镜片、防眩光处理过的偏光板等表面具有凹凸形状的光学用膜的适应性(conformability)(润湿性)也良好，且在将表面保护膜贴合于光学用膜上时气泡难以进入的表面保护膜。
如此地，对应于在扯裂或切裁时难以产生胶块，并对各种光学用膜的适应性良好的表面保护膜的需求，采用使用了聚氨酯类粘结剂的表面保护膜。
另外，近年来，在液晶显示面板的生产工序中，由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离而去除时产生的剥离静电压，会破坏用于控制液晶显示器的显示画面的驱动IC等电路部件，还有液晶分子的取向会损伤，虽然这些现象发生的件数少但也在发生。
另外，为了减少液晶显示面板的电耗，液晶材料的驱动电压趋于降低，随之驱动IC的击穿电压也趋于降低。最近，要求将剥离静电压控制在+0.7kV～－0.7kV的范围内。
为了防止从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时因剥离静电压高所引起的缺陷，有人提出了一种表面保护膜，其使用了含有用于降低剥离静电压的抗静电剂的粘结剂层。
例如，专利文献1中公开了一种由具有烯化氧(alkylene oxide)链的聚氨酯、离子性化合物和三官能异氰酸酯化合物所构成的抗静电粘结剂。另外，在专利文献2中公开了一种表面保护膜用聚氨酯粘结剂组合物，其特征在于，含有超强酸的碱金属盐类、碱土金属盐类中的至少一种盐。并且，专利文献3中公开了一种粘结剂组合物和使用了该粘结剂组合物的表面保护膜，其中，该粘结剂组合物是由含氟有机阴离子的离子液体以及数均分子量5000以上的聚氨酯组成。
上述专利文献1～3中，是在粘结剂层的内部添加有抗静电剂。但是，粘结剂层的厚度越厚，并且随着贴合于被粘附体之后的时间推移，抗静电剂从粘结剂层向表面保护膜所贴合的被粘附体移动的量会越多。若抗静电剂向被粘附体移动的量多，则存在作为被粘附体的光学用膜的外观品位降低、或者表面保护膜的粘结特性会发生经时劣化的可能性。
若为了减少抗静电剂从粘结剂层向被粘附体移动的这种经时变化而减少粘结剂的厚度，则会产生其它问题。例如，当用于为了防眩目而施加了防眩光处理的偏光板等表面具有凹凸的光学用膜时，会存在：粘结剂无法迎合(追随)于光学用膜表面的凹凸而混入气泡，或者，由于光学用膜与粘结剂的粘接面积减少而使粘结力降低，且在使用中表面保护膜发生浮起或剥落的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2005-154491号公报
专利文献2：日本特开2006-182794号公报
专利文献3：日本特开2007-277484号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明就是鉴于上述情况而完成的，其课题在于，提供一种在切裁时也难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且对表面具有凹凸的光学用膜的适应性(conformability)(润湿性)也良好，并对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，还具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及贴合有该表面保护膜的光学部件。
解决课题的方法
本发明人等对该课题进行了精心研究。
为了减少对被粘附体的污染并且也减少污染性的经时变化，需要降低被推测对被粘附体造成污染的抗静电剂的量。但是，当降低抗静电剂的量时，会导致从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压变高。本发明人等研究了在不增加抗静电剂的绝对量的情况下较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压的方法。
其结果发现，不在粘结剂中添加抗静电剂并进行混合而形成粘结剂层，而是涂布不包含抗静电剂的粘结剂组合物并进行干燥而层叠成粘结剂层，然后以使粘结剂层与剥离剂层接触的方式贴合具有含抗静电剂的剥离剂层的剥离膜，将适量的抗静电剂从剥离膜侧转移而赋予粘结剂层的表面，由此获得了能够抑制剥离时的带电量的表面保护膜，并基于上述发现完成了本发明。
即，本发明提供一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成有聚氨酯类粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保护膜，其中，该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，前述剥离剂层包含剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，前述抗静电剂的成分从前述剥离膜向前述粘结剂层的表面转移，减少将前述粘结剂层从被粘附体剥离时的剥离静电压。
另外，优选前述抗静电剂为离子性化合物。
另外，优选前述抗静电剂为以碱金属作为阳离子的离子性化合物。
另外，从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的表面电位优选为+0.7kV～－0.7kV。
优选前述粘结剂层是使聚氨酯类粘结剂交联而成。
优选前述剥离膜从前述粘结剂层上剥下时的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
另外，本发明提供一种光学部件，其贴合有上述表面保护膜。
发明效果
本发明的表面保护膜是一种在切裁时也难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且相对于表面具有凹凸的光学用膜的适应性(润湿性)也良好，并对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，还是具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜。本发明还提供贴合有该表面保护膜的光学部件。
基于本发明的表面保护膜，能够可靠地保护光学用膜表面，因此能够实现生产效率的提高和成品率的提高。
附图说明
图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。
图2是表示从本发明的表面保护膜剥下剥离膜的状态的剖面图。
图3是表示本发明的光学部件的一实施例的剖面图。
附图标记的说明
1……基材膜；2……粘结剂层；3……树脂膜；4……剥离剂层；
5……剥离膜；7……抗静电剂；8……被粘附体(光学部件)；
10……表面保护膜；11……剥下剥离膜后的表面保护膜；
20……贴合了表面保护膜的光学部件。
具体实施方式
下面，基于实施方式详细说明本发明。
图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。该表面保护膜10，是在透明的基材膜1的单面的表面形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上贴合有剥离膜5，该剥离膜5是在树脂膜3的表面形成剥离剂层4而成。
作为在本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1，使用由具有透明性和挠性的树脂构成的基材膜。由此，能够在将表面保护膜贴合于作为被粘附体的光学部件的状态下实施光学部件的外观检查。用作基材膜1的由具有透明性的树脂构成的膜，优选使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneisophthalate)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。作为该基材膜只要具有所需强度且具有光学适应性即可，除了聚酯膜以外也可以使用由其它树脂构成的膜。基材膜1既可以是未拉伸膜，也可以是被施以单轴拉伸或双轴拉伸的膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随着晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值。
对本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1的厚度而言，并没有特别的限定，例如，优选为12～100μm左右的厚度；若为20～50μm左右的厚度则易于操作，因此更优选。
另外，根据需要，可在基材膜1的与形成有粘结剂层2的面相反侧的面上，设置用于防止表面污染的防污层、抗静电层、防止刮伤的硬涂层等。另外，在基材膜1的表面，也可以实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
另外，本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2是在被粘附体的表面上进行粘接、使用完毕后可简单地剥下并且难以污染被粘附体的粘结剂层。另外，从切裁时产生胶块少、对光学用膜等被粘附体的润湿性良好的观点出发，优选聚氨酯类粘结剂。
作为聚氨酯类粘结剂，是由多元醇成分和聚异氰酸酯成分构成的聚氨酯类树脂，可考虑粘结性、润湿性、被粘附体污染性等而进行选择，对多元醇成分、聚异氰酸酯成分并没有特别的限制。聚氨酯类树脂既可以单独使用，也可以混合两种以上使用。
作为多元醇成分，例如，可以举出聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚己内酯多元醇、聚碳酸酯多元醇、蓖麻油系多元醇等。这些多元醇成分既可以单独使用，也可以混合两种以上使用。
作为上述聚异氰酸酯成分，使用了脂肪族聚异氰酸酯、脂环族聚异氰酸酯、芳香族聚异氰酸酯、二异氰酸酯的多聚体等。这些聚异氰酸酯成分既可以单独使用，也可以混合两种以上使用。
作为聚氨酯类粘结剂的市售品，可以举出CYABINE(サイアバイン，注册商标)SH－101、SH－101M、SP－205、SP－220(TOYOCHEM CO.,LTD.(トーヨーケム株式会社)制造)；ARACOAT(アラコ－ト，注册商标)FT100、FT200(荒川化学工业株式会社制造)；UN1175、UN1176(大同化成工业株式会社制造)等。粘结剂层也可以是使聚氨酯类粘结剂交联或固化而成。
对本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2的厚度，并没有特别的限定，例如，优选为5～40μm左右的厚度，更优选为10～30μm左右的厚度。当为表面保护膜对被粘附体表面的剥离强度(粘结力)为0.03～0.3N/25mm左右的、具有微粘结力的粘结剂层2时，从被粘附体上剥离表面保护膜时的操作性优良，因此优选。另外，基于从表面保护膜10剥下剥离膜5时的操作性优良的观点，优选从粘结剂层2上剥下剥离膜5的剥离力在剥离速度0.3m/min、剥离角度180°的条件测定时为0.005～0.3N/50mm。
另外，对本发明的表面保护膜10中使用的剥离膜5而言，是在树脂膜3的单面上层叠剥离剂层4而成，该剥离剂层4含有剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂。
作为树脂膜3，可以举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，从透明性优良和价格比较低廉的观点出发，特别优选为聚酯膜。树脂膜既可以是未拉伸膜，也可以是单轴拉伸膜或双轴拉伸膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随着晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值。
对树脂膜3的厚度并没有特别的限定，例如，优选为12～100μm左右的厚度；若为20～50μm左右的厚度则易于操作，因此更优选。
另外，在树脂膜3的表面，也可以根据需要实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
作为构成剥离剂层4的剥离剂，可以举出聚硅氧烷类剥离剂、含长链烷基的剥离剂、氟类剥离剂等。
作为聚硅氧烷(silicone)类剥离剂，可以举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等的公知的聚硅氧烷类剥离剂。作为加成反应型聚硅氧烷类剥离剂市售的产品，例如，可以举出：KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化学工业株式会社制造)；SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(陶氏康宁东丽株式会社(Dow Corning Toray Co.,Ltd.)制造)等。作为缩合反应型市售的产品，例如，可以举出SRX-290、SYLOFF-23(陶氏康宁东丽株式会社制造)等。作为阳离子聚合型市售的产品，例如，可以举出TPR-6501、TPR-6500、UV9300、UV9315、UV9430(迈图高新材料公司(Momentive Performance Materials Inc.)制造)；X62-7622(信越化学工业株式会社制造)等。作为自由基聚合型市售的产品，例如，可以举出X62-7205(信越化学工业株式会社制造)等。
作为以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂，可以举出：含长链烷基的氨基醇酸树脂、含长链烷基的丙烯酸树脂、长链脂肪族侧基型树脂(选自聚乙烯醇、乙烯/乙烯醇共聚物、聚乙烯亚胺和含羟基的纤维素衍生物中的至少一种含活性氢的聚合物、与含长链烷基的异氰酸酯之间的反应生成物)等公知的含长链烷基的剥离剂。既可以是添加固化剂、紫外线引发剂而进行固化反应的剥离剂，也可以是使溶剂挥发而进行固化的剥离剂。
作为“长链烷基”，优选碳原子数为8～30的烷基，碳原子数也可以是10以上、12以上、18以下、24以下等，其中，优选为直链状烷基。作为具体例子，可以举出选自癸基、十一烷基、月桂酰基、十二烷基、十三烷基、肉豆蔻基、十四烷基、十五烷基、鲸蜡基、棕榈基、十六烷基、十七烷基、硬脂酰基、十八烷基、十九烷基、二十烷基、二十二烷基等中的一种或两种以上的烷基。
对作为含长链烷基的树脂系剥离剂市售中的产品而言，例如，可以举出：ASHIOCO.,LTD.(アシオ产业株式会社)制造的ASHIO RESIN(アシオレジン，注册商标)RA－30；一方社油脂工业株式会社制造的Piroiru(ピーロイル，注册商标)1010、Piroiru 1010S、Piroiru 1050、Piroiru HT；中京油脂株式会社制造的Resem(レゼム)N－137；花王株式会社制造的Exceparl(エキセパール，注册商标)PS－MA；日立化成株式会社制造的Tess Fine(テスファイン，注册商标)303等。
作为氟类剥离剂，可以举出：将含有全氟烷基的乙烯醚基聚合物、或四氟乙烯、三氟乙烯等的氟树脂分散于粘合剂树脂中而成的涂布剂等。
作为构成剥离剂层4的抗静电剂，优选对剥离剂溶液的分散性良好，并且不阻碍剥离剂的固化的抗静电剂。另外，为了从剥离剂层4向粘结剂层2的表面移动而对粘结剂层赋予抗静电效果，优选不与剥离剂发生反应的抗静电剂。作为这样的抗静电剂，优选离子性化合物。
作为离子性化合物，是具有阳离子和阴离子的离子性化合物，其中，作为阳离子可以举出：碱金属阳离子，吡啶鎓阳离子、咪唑鎓阳离子、嘧啶鎓阳离子、吡唑鎓阳离子、吡咯鎓阳离子、铵阳离子等的含氮鎓阳离子，鏻阳离子，锍阳离子等。含氮鎓阳离子也可以具有烷基等的有机基、取代基。优选为季氮鎓阳离子，可以举出：1-烷基吡啶鎓(2～6位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季吡啶鎓阳离子、1,3-二烷基咪唑鎓(2、4、5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季咪唑鎓阳离子、N－烷基嘧啶鎓(2位和4～6位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季嘧啶鎓阳离子、1,2－二烷基吡唑鎓(3～5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季吡唑鎓阳离子、1,1－二烷基吡咯鎓(2～5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基)等的季吡咯鎓阳离子、四烷基铵等的季铵阳离子等。作为磷鎓阳离子，可以举出四烷基磷等具有有机基的磷鎓阳离子。作为硫鎓阳离子，可以举出三烷基锍等具有有机基的硫鎓阳离子。
另外，作为阴离子，可以举出CnH2n+1COO-、CnF2n+1COO-、NO3 -、CnF2n+1SO3 -、(CnF2n+1SO2)2N-、(CnF2n+1SO2)3C-、RC6H4SO3 -、PO4 3-、AlCl4 -、Al2Cl7 -、ClO4 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、SCN-等。这些离子性化合物既可以单独使用，也可以混合两种以上使用。为了离子性物质的稳定化，也可以添加含有聚氧化亚烷基结构的化合物。
其中，作为阳离子，优选具有碱金属阳离子的离子性化合物(碱金属盐)。作为碱金属盐，可以举出：锂、钠、钾的金属盐，具体而言，例如，优选使用通过由Li+、Na+、K+等的阳离子与Cl-、Br-、I-、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、CF3SO3 -、(FSO2)2N-、(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-、(CF3SO2)3C-等的阴离子所组成的金属盐。其中，特别优选使用LiBr、LiI、LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiClO4、LiCF3SO3、Li(FSO2)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等锂盐。这些碱金属盐既可以单独使用，也可以混合两种以上使用。为了离子性物质的稳定化，也可以添加含有聚氧化亚烷基结构的化合物。
抗静电剂相对于剥离剂的添加量，是根据抗静电剂的种类、与剥离剂的亲和性程度的不同而不同，只要考虑到从被粘附体上剥离表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘附体的污染性、粘结特性等而进行设定即可。
对于剥离剂和抗静电剂的混合方法而言，并没有特别的限定。可以采用下列混合方法中的任一种方法：在剥离剂中添加抗静电剂进行混合后，添加剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先采用有机溶剂稀释剥离剂后，添加抗静电剂以及剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先采用有机溶剂稀释剥离剂后，添加催化剂而进行混合，然后添加抗静电剂并加以混合的方法等。另外，根据需要，也可以添加硅烷偶联剂等粘合促进剂、含有聚氧化亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材料。
对于剥离剂和抗静电剂的混合比率而言，并没有特别的限定，但相对于剥离剂的固体成分100，优选抗静电剂以固体成分计为5～100左右的比例。相对于剥离剂的固体成分100，若抗静电剂的以固体成分换算的添加量小于5的比例，则抗静电剂对粘结剂层表面的转移量也变少，难以使粘结剂层发挥抗静电的功能。另外，相对于剥离剂的固体成分100，若抗静电剂的以固体成分换算的添加量超过100的比例，则会导致剥离剂也与抗静电剂一起被转移至粘结剂层表面，因此，可能会降低粘结剂层的粘结特性。
本发明中，在表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2的方法以及贴合剥离膜5的方法，均可采用公知的方法来进行，没有特别的限定。具体而言，可以举出：(1)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于基材膜1的单面上并进行干燥，形成粘结剂层后贴合剥离膜5的方法；(2)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于剥离膜5表面上并进行干燥，形成粘结剂层后，贴合基材膜1的方法等。可以采用其中的任一种方法。
另外，当将粘结剂层2形成于基材膜1表面时，可采用公知的方法来进行。具体而言，能够使用逆转涂布、逗号刮刀涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒(Mayer bar)涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
另外，同样地，当将剥离剂层4形成于树脂膜3时，可以采用公知的方法来进行。具体而言，能够采用凹版涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
对具有上述构成的本发明的表面保护膜10而言，从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的表面电位优选为+0.7kV～－0.7kV。并且，更优选表面电位为+0.5kV～－0.5kV，特别优选表面电位为+0.3kV～－0.3kV。该表面电位能够通过改变剥离剂层中所含的抗静电剂的种类、添加量等来进行调整。
图2是表示从本发明的表面保护膜上剥下剥离膜后的状态的剖面图。
通过将剥离膜5从如图1所示的表面保护膜10上剥下，剥离膜5的剥离剂层4所含的抗静电剂(附图标记7)的一部分，被转移(附着)至表面保护膜10的粘结剂层2的表面。因此，在图2中，以附图标记7的斑点示意性地示出了附着在表面保护膜的粘结剂层2的表面的抗静电剂。通过抗静电剂7的成分从剥离膜5转移至粘结剂层2的表面，与转移前的粘结剂层2相比，减少从被粘附体剥下粘结剂层2时的剥离静电压。此外，从被粘附体上剥下粘结剂层时的剥离静电压，可采用公知的方法进行测定。例如，将表面保护膜贴合于偏光板等的被粘附体后，在使用高速剥离试验机(TESTER产业株式会社(TESTER Sangyo Co.,Ltd.)制造)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计(株式会社基恩士(KeyenceCorporation)制造)每10ms测定被粘附体表面的表面电位，并将此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)进行测定。
对本发明的表面保护膜而言，当将图2所示的剥下了剥离膜的状态的表面保护膜11贴合于被粘附体上时，被转移至该粘结剂层2表面的抗静电剂与被粘附体的表面进行接触。通过该操作，能够较低地抑制再次从被粘附体上剥下表面保护膜时的剥离静电压。
图3是表示本发明的光学部件的实施例的剖面图。
在将剥离膜5从本发明的表面保护膜10上剥下从而粘结剂层2外露的状态下，通过该粘结剂层2贴合于作为被粘附体的光学部件8上。
即，在图3中示出了贴合有本发明表面保护膜10的光学部件20。作为光学部件，可以举出偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光板等光学用膜。这种光学部件被用作液晶显示面板等的液晶显示装置、各种计量仪器类光学系统装置等的构成部件。另外，作为光学部件，还可以举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明导电膜等光学用膜。
基于本发明的光学部件，当将表面保护膜10从作为被粘附体的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，能够充分地将剥离静电压抑制在低水平。因此，不用担心会破坏驱动IC、TFT元件、栅极线驱动电路等的电路部件，能够提高制造液晶显示面板等工序中的生产效率，确保生产工序的可靠性。
实施例
下面，通过实施例进一步说明本发明。
(表面保护膜的制造)
(实施例1)
将5重量份的加成反应型聚硅氧烷类剥离剂(产品名称为SRX-211，剥离剂不挥发物质的含量为30重量％，陶氏康宁东丽株式会社制造)、5重量份的双(氟磺酰)亚胺锂的20重量％醋酸乙酯溶液、90重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、以及0.05重量份的铂催化剂(产品名称为SRX-212Catalyst，陶氏康宁东丽株式会社制造)混合在一起并进行搅拌混合，配制了用于形成实施例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将用于形成实施例1的剥离剂层的涂料，以使干燥后的厚度成为0.2μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120℃的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了实施例1的剥离膜。另一方面，添加100重量份的聚氨酯类粘结剂(产品名称为“ARACOAT FT200”，粘结剂不挥发物质的含量为40重量％，荒川化学工业株式会社制造)、5.7重量份的固化剂(产品名称为“ARACOAT CL2503”，固化剂不挥发物质的含量为40重量％，荒川化学工业株式会社制造)并进行混合而获得涂抹液，将该涂抹液以使干燥后的厚度成为20μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面之后，在100℃的热风循环式烘炉中干燥2分钟，形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述制造的实施例1的剥离膜的剥离剂层(聚硅氧烷处理面)。将所得到的粘结膜在40℃的环境下保温5天，以使粘结剂固化，获得了实施例1的抗静电表面保护膜。
(实施例2)
除了将抗静电剂改变为双(三氟甲磺酰)亚胺锂以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例2的保护膜。
(比较例1)
将5重量份的加成反应型聚硅氧烷类剥离剂(产品名称为SRX-211，剥离剂不挥发物质的含量为30重量％，陶氏康宁东丽株式会社制造)、95重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、以及0.05重量份的铂催化剂(产品名称为SRX-212Catalyst，陶氏康宁东丽株式会社制造)混合在一起并进行搅拌混合，配制了用于形成比较例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将用于形成比较例1的剥离剂层的涂料，以使干燥后的厚度成为0.2μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120℃的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了比较例1的剥离膜。另一方面，添加100重量份的聚氨酯类粘结剂(产品名称为“ARACOAT FT200”，粘结剂不挥发物质的含量为40重量％，荒川化学工业株式会社制造)、5.7重量份的固化剂(产品名称为“ARACOAT CL2503”，固化剂不挥发物质的含量为40重量％，荒川化学工业株式会社制造)，并混合了10重量份的双(氟磺酰)亚胺锂的20重量％醋酸乙酯溶液，将混合而成的涂抹液，以使干燥后的厚度成为20μm的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面之后，在100℃的热风循环式烘炉中干燥2分钟，形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述所制造的比较例1的剥离膜的剥离剂层(聚硅氧烷处理面)。将所得到的粘结膜在40℃的环境下保温5天，以使粘结剂固化，获得了比较例1的抗静电表面保护膜。
(比较例2)
除了在剥离剂层中不添加双(氟磺酰)亚胺锂以外，与实施例1同样地进行操作，获得了比较例2的表面保护膜。
下面，示出评价试验的方法和结果。
(剥离剂层和粘结剂层的表面电阻率的测定方法)
采用三菱化学株式会社制造的Hiresta(ハイレスタ，注册商标)－UP，在外加电压100V、测定时间30秒的条件下，测定了剥离膜的剥离剂层的表面电阻率和表面保护膜的粘结剂层的表面电阻率。测定了将单独的剥离膜(剥离膜单体)在40℃环境下保温5天而进行老化后的试样的剥离剂层的表面电阻率A；以及，将贴合了粘结剂层和剥离剂层而成的粘结膜在40℃环境下保温5天后，从粘结膜上剥下剥离膜，并分别测定了粘结膜的粘结剂层的表面电阻率B和剥离膜的剥离剂层的表面电阻率C。
〈剥离膜的剥离力的测定方法〉
以宽度50mm、长度150mm的尺寸切割表面保护膜的试样。在23℃×50％RH的试验环境下，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥掉剥离膜，测定此时的强度，并将其作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。
〈表面保护膜的粘结力的测定方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管1天。然后，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥离掉表面保护膜，测定此时的强度，并将其作为粘结力(N/25mm)。
〈表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管1天。然后，在使用高速剥离试验机(TESTER产业株式会社(TESTER Sangyo Co.,Ltd.)制造)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计(株式会社基恩士(Keyence Corporation)制造)每10ms测定前述偏光板表面的表面电位，并将此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
〈表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板(AG-LR偏光板)。然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23℃×50％RH的试验环境下保管3天和30天。然后，剥下表面保护膜，通过目测观察了偏光板表面上有无污染，确认了表面污染性。作为表面污染性的判定基准，当偏光板上无污染的转移时判定为(○)，当确认偏光板上有污染的转移时判定为(×)。
对所得到的实施例1～2和比较例1～2的表面保护膜进行测定，并将测定结果示于表1中。其中，“FT200”是指ARACOAT(アラコ－ト)FT200中含有的粘结剂不挥发物质，“CL2503”是指ARACOAT CL2503中含有的固化剂不挥发物质，“LiFSI”是指双(氟磺酰)亚胺锂，“LiTFSI”是指双(三氟甲磺酰)亚胺锂，“211”是指SRX－211中含有的剥离剂不挥发物质，“212”是指SRX－212。
另外，分别地，表面电阻率A是指对单独的剥离膜(剥离膜单体)进行老化后的剥离膜的剥离面的表面电阻率(Ω/□)，表面电阻率B是指表面保护膜的粘结剂面的表面电阻率(Ω/□)，表面电阻率C是指从粘结剂面上剥离后的剥离膜的剥离面的表面电阻率(Ω/□)。表中的OR是“Over Range(超出额定范围)”的简写，是指超出表面电阻仪(Hiresta(ハイレスタ)－UP)的测定范围，意思是表面电阻率为1E+13Ω/□以上。另外，表面电阻率是通过JIS X 0210规定的指数记数法进行了表记。例如，4.9E+8是指4.9×10的8次乘方。
表1
Figure BDA0000755066630000151
表面电阻率：单位是Ω/□，4.9E+8的表记是指4.9×10的8次乘方。
根据表1所示的测定结果，可知下述情况。
本发明的实施例1～2的表面保护膜具有适当的粘结力，并对被粘附体的表面没有污染，且从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低。另外，剥离膜的剥离剂层的表面电阻率在单独的剥离膜时是4.9E+8～6.4E+8Ω/□，但在贴合于粘结剂面且进行剥离后的剥离膜的剥离剂层的表面电阻率则超出额定范围(over range)(1.0E+13Ω/□以上)，与此相比，粘结剂面的表面电阻率降低至7.8E+9～1.2E+10Ω/□，由此可知，抗静电剂已从剥离剂面向粘结剂面移动。
另一方面，对于粘结剂层中添加了抗静电剂的比较例1的表面保护膜而言，虽然从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低而良好，但剥离后对被粘附体的污染多。另外，在未使用抗静电剂的比较例2中，虽改善了对被粘附体的污染性，但从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压高。
工业实用性
本发明的表面保护膜，例如，能够应用于偏光板、相位差板、透镜膜等的光学用膜中，此外，在各种光学部件等的生产工序等中，贴合于该光学部件等而用于保护其表面。另外，本发明的表面保护膜，能够减少从被粘附体上剥离时产生的静电量，并且，抗剥离静电性能无经时变化(不会随着时间推移而发生变化)且对被粘附体的污染少，能够提高生产工序的成品率，在产业上的利用价值大。

Claims (6)

1.一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成有不含有抗静电剂的聚氨酯类粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保护膜，其中，
该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，所述剥离剂层包含剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂，
所述抗静电剂为离子性化合物，
相对于所述剥离剂的固体成分100重量份，所述剥离剂层以固体成分计以5～100重量份的比例含有所述抗静电剂，
所述抗静电剂成分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移，减少将所述粘结剂层从被粘附体剥离时的剥离静电压。
2.如权利要求1所述的表面保护膜，其中，所述抗静电剂是以碱金属作为阳离子的离子性化合物。
3.如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，所述粘结剂层是使聚氨酯类粘结剂交联而成。
4.如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，从作为被粘附体的光学用膜剥离时的表面电位为+0.7kV～－0.7kV。
5.如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，从所述粘结剂层剥离时的所述剥离膜的剥离力为0.005～0.3N/50mm。
6.一种光学部件，其贴合有权利要求1～5中任一项所述的表面保护膜。
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