CN105170534A - 一种清洗设备 - Google Patents

Abstract

本发明的实施例提供一种清洗设备，涉及显示器制造领域，可改善清洗液浪费的问题。该清洗设备，包括清洗腔室、新液补充管路、排废液管路，还包括存储箱、循环管路和过滤装置；所述存储箱用于存储清洗液；所述循环管路包括第一循环管路和第二循环管路，所述第一循环管路用于使所述存储箱中的清洗液进入所述清洗腔室，所述第二循环管路用于使所述清洗腔室中的清洗液进入所述存储箱；所述过滤装置用于对经第二循环管路进入存储箱的清洗液进行过滤。用于对基板进行清洗。

Description

一种清洗设备

技术领域

本发明涉及显示器制造领域，尤其涉及一种清洗设备。

背景技术

在显示器的制造过程中，以TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)为例，清洗设备需要对进行光刻技术前的基板(即涂覆光刻胶之前的基板)进行清洗，以及在形成取向膜之前也需要对基板进行清洗，以去除基板表面的杂质。此外，在对显示器的不良解析过程中也会对液晶、取向膜等进行清洗。

如图1所示，目前的清洗设备1包括清洗腔室10以及与清洗腔室相连的排废液管路20和新液补充管路30。其中，新液补充管路30用于为清洗腔室10补入清洗液，当清洗液达不到清洗要求时，排废液管路20用于排除清洗腔室10中的清洗液。

其中，清洗腔室10中的清洗液在达不到清洁要求时只能作废液处理，存在清洗液浪费的问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种清洗设备，可改善清洗液浪费的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

提供一种清洗设备，包括清洗腔室、新液补充管路、排废液管路，还包括存储箱、循环管路和过滤装置；所述存储箱用于存储清洗液；所述循环管路包括第一循环管路和第二循环管路，所述第一循环管路用于使所述存储箱中的清洗液进入所述清洗腔室，所述第二循环管路用于使所述清洗腔室中的清洗液进入所述存储箱；所述过滤装置用于对经第二循环管路进入存储箱的清洗液进行过滤。

优选的，所述清洗腔室内设置有基板支撑装置；所述基板支撑装置包括支撑面，所述支撑面上设置有多个支撑针。

进一步优选的，所述基板支撑装置还包括底面，所述支撑面与所述底面呈锐角夹角；在所述支撑面的靠近所述底面处设置挡板，所述挡板用于固定待清洗基板。

优选的，所述新液补充管路与所述存储箱相连；所述存储箱包括至少两个子存储箱，所述新液补充管路用于为每个子存储箱补入清洗液；所述第一循环管路用于使任一个子存储箱中的清洗液进入所述清洗腔室，所述第二循环管路用于使所述清洗腔室中的清洗液进入任一个子存储箱。

进一步优选的，所述存储箱包括出液通道，所述出液通道与每个子存储箱之间设置阀门；所述第一循环管路与所述出液通道相连。

进一步的，所述排废液管路与所述出液通道相连。

优选的，相邻子存储箱之间设置阀门；所述第一循环管路与任一个子存储箱相连。

进一步的，所述排废液管路和所述第一循环管路与同一个子存储箱相连。

优选的，所述存储箱还包括入液通道，所述入液通道与每个子存储箱之间设置阀门；所述第二循环管路与所述入液通道相连。

进一步优选的，所述新液补充管路与所述入液通道相连。

进一步的，所述入液通道分成多个间隔段，任一个间隔段对应一个子存储箱；在相邻间隔段之间设置阀门。

本发明实施例提供一种清洗设备，在清洗腔室中完成清洗后，通过第二循环管路可以将清洗液重新收集到存储箱中，与此同时，可通过过滤装置对经第二循环管路进入存储箱中的清洗液进行过滤，以便重新收集在存储箱中的清洗液还可用于下一次清洗。由于在每次清洗完成后都经过了过滤处理，可以提高清洗液的清洁度，从而延长了清洗液的使用寿命，改善清洗液浪费的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术提供的一种清洗设备的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图一；

图3为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图二；

图4为本发明实施例提供的一种支撑装置的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种存储箱的结构示意图一；

图6为本发明实施例提供的一种存储箱的结构示意图二；

图7为本发明实施例提供的一种存储箱的结构示意图三；

图8为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图三；

图9为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图四。

附图标记；

1-清洗设备；10-清洗腔室；101-基板支撑装置；1011-支撑面；1012-支撑针；1013-底面；1014-挡板；20-排废液管路；30-新液补充管路；40-存储箱；401-子存储箱；402-出液通道；403-入液通道；4031-间隔段；501-第一循环管路；502-第二循环管路；60-过滤装置；70-阀门；701-第一阀门；702-第二阀门；703-第三阀门；704-第四阀门；705-第五阀门；706-第六阀门；707-第七阀门；708-第八阀门；709-第九阀门；710-第十阀门；711-第十一阀门；712-第十二阀门；713-第十三阀门；714-第十四阀门。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种清洗设备1，如图2和图3所示，该清洗设备1包括清洗腔室10、新液补充管路30、排废液管路20，还包括存储箱40、循环管路和过滤装置60。

其中，存储箱40用于存储清洗液。

循环管路包括第一循环管路501和第二循环管路502，第一循环管路501用于使存储箱40中的清洗液进入清洗腔室10，第二循环管路502用于使清洗腔室10中的清洗液进入存储箱40。

过滤装置60用于对经第二循环管路502进入存储箱40的清洗液进行过滤。

需要说明的是，第一，对于新液补充管路30和排废液管路20，其可以如图2所示与清洗腔室10相连，也可以如图3所示与存储箱40相连，当然，也可以分别与清洗腔室10和存储箱40相连，具体在此不做限定。

第二，不对过滤装置60进行限定，其可以为过滤网，也可以是具有吸附杂质功能的吸附装置。

其中，过滤装置60可以如图2所示设置在第二循环管路502的入口处，例如可以设置在清洗腔室10的与第二循环管路502连接的位置处。

或者，过滤装置60可以如图3所示设置在第二循环管路502的出口处，例如可以设置在存储箱40的与第二循环管路502连接的位置处。

本发明实施例提供一种清洗设备1，在清洗腔室10中完成清洗后，通过第二循环管路502可以将清洗液重新收集到存储箱40中，与此同时，可通过过滤装置60对经第二循环管路502进入存储箱40中的清洗液进行过滤，以便重新收集在存储箱40中的清洗液还可用于下一次清洗。由于在每次清洗完成后都经过了过滤处理，可以提高清洗液的清洁度，从而延长了清洗液的使用寿命，改善清洗液浪费的问题。

优选的，如图4所示，清洗腔室10内设置有基板支撑装置101；基板支撑装置101包括支撑面1011，支撑面1011上设置有多个支撑针1012。

需要说明的是，对于支撑面1011，本发明实施例并不限于图4的设置方式，也可以是水平设置。

通过在支撑面1011上设置支撑针1012，可以对放入清洗腔室10的待清洗基板进行支撑，并起到固定基板的作用，从而避免对待清洗基板造成损坏。

进一步优选的，如图4所示，基板支撑装置101还包括底面1013，支撑面1011与底面1013呈锐角夹角；在支撑面101的靠近底面1013处设置挡板1014，挡板1014用于固定放入清洗腔室10的待清洗基板。

当支撑面1011为斜面时，通过设置挡板1014可以避免位于基板支撑装置101上的待清洗基板滑落，从而可以很好的固定待清洗基板。在此基础上，由于支撑面1011是斜面，当对放置在其上的待清洗基板进行清洗时，清洗液可以顺势从基板表面流下，避免在基板表面滞留而出现液渍。

优选的，如图5-图7所示，新液补充管路30与存储箱40相连；存储箱40包括至少两个子存储箱401，新液补充管路30用于为每个子存储箱401补入清洗液；第一循环管路501用于使任一个子存储箱401中的清洗液进入清洗腔室10，第二循环管路502用于使清洗腔室10中的清洗液进入任一个子存储箱401。

需要说明的是，不对子存储箱401的个数进行限定，具体可根据实际情况进行限定。此外，由于各子存储箱401是相互独立的，因此，各子存储箱401中的清洗液在浓度或成分上可不相同。

本发明实施例通过将存储箱40设置为多个相互独立的子存储箱401，可在不同子存储箱401中存储不同浓度的清洗液或不同成分的清洗液，这样，在使用其中一个子存储箱401中的清洗液对待清洗基板进行清洗后，由于该清洗液又可回收到该子存储箱401中，因此可再利用其它子存储箱401中的清洗液对待清洗基板继续进行清洗。其中，由于各子存储箱401相互独立，在使用其中一个子存储箱401中的清洗液对待清洗基板进行清洗时，可使其他子存储箱401内的清洗液保持清洁，避免全部清洗液受到杂质的污染，从而使清洗后的基板的洁净度更高。

具体的，如图5和图7所示，存储箱40包括出液通道402，出液通道402与每个子存储箱401之间设置阀门70；第一循环管路501与出液通道402相连。

这样，对于任一个子存储箱401，当打开出液通道402与该子存储箱401之间的阀门70时，该子存储箱401中存储的清洗液便可经出液通道402到达第一循环管路501，从而通过第一循环管路501进入清洗腔室10。

基于此，在实际使用过程中，可根据需要灵活控制出液通道402与各子存储箱401对应的阀门70，以便使需要的清洗液进入清洗腔室10。

在此基础上，如图5和图7所示，排废液管路20可以与出液通道402相连。

或者，如图6所示，相邻子存储箱401之间设置阀门70；第一循环管路501与任一个子存储箱401相连。

这样，可先使用与第一循环管路501相连的子存储箱401中的清洗液，当该清洗液因达不到清洗要求而作废液处理后，可打开该子存储箱401与相邻子存储箱401之间的阀门70，使得该相邻子存储箱401中的清洗液经第一循环管路501进入清洗腔室10，以此类推，直到所有子存储箱401中的清洗液全部作废液处理。

在此基础上，如图6所示，排废液管路20和第一循环管路501可以与同一个子存储箱401相连。

基于上述，如图5-7所示，存储箱40还包括入液通道403，入液通道403与每个子存储箱401之间设置阀门70；第二循环管路502与入液通道403相连。

这样，对于任一个子存储箱401，当打开入液通道403与该子存储箱401之间的阀门70时，清洗腔室10中的清洗液便可经第二循环管路502进入入液通道403，从而进入打开阀门70的相应子存储箱401。

进一步优选的，如图5-7所示，新液补充管路30与入液通道403相连。

这样，借助入液通道403，可实现对每个子存储箱401补入清洗液的目的，简化该清洁设备1的结构。

进一步优选的，如图7所示，入液通道403分成多个间隔段4031，任一个间隔段4031对应一个子存储箱401；在相邻间隔段4031之间设置阀门70。

通过合理设置新液补充管路30和第二循环管路502的位置，以及位于入液通道403中阀门70的开关，可使从新液补充管路30补入的新的清洗液和从第二循环管路502进入的清洗液隔开，在此基础上，通过控制入液通道403与每个子存储箱401之间的阀门70，可使经第二循环管路502进入的清洗液和经新液补充管路30补入的新的清洗液进入不同的子存储箱401，从而使得作废液处理后的子存储箱401及时进行新液的补充，相对所有子存储箱401在全部作废液处理后再进行新液的补充，可节省新液的补充时间，从而提高了生产效率。

下面提供两个具体实施例以详细描述清洗设备1的结构以及其工作方式。

实施例一：

如图8所示，清洗设备1包括清洗腔室10和存储箱40、与清洗腔室10和存储箱40相连的第一循环管路501和第二循环管路502、设置在清洗腔室10内与第二循环管路502连接处的过滤装置60、以及新液补充管路30和排废液管路20。

其中，存储箱40包括五个子存储箱401、设置在五个子存储箱401下方的出液通道402和设置在五个子存储箱401上方的入液通道403。

沿从左至右的方向，出液通道402与每个子存储箱401之间依次设置第二阀门702、第五阀门705、第八阀门708、第十一阀门711和第十四阀门714。

沿从左至右的方向，入液通道403与每个子存储箱401之间设置第一阀门701、第四阀门704、第七阀门707、第十阀门710和第十三阀门713。入液通道403分成多个间隔段4031，任一个间隔段4031对应一个子存储箱401，沿从左至右的方向，相邻间隔段4031之间依次设置第三阀门703、第六阀门706、第九阀门709和第十二阀门712。

第二循环管路502与入液通道403的最右侧的间隔段4031相连，新液补充管路30与入液通道403的最左侧的间隔段4031相连，第一循环管路501和排废液管路20均与出液通道402相连。

基于上述的结构，沿从左至右的方向，第一个子存储箱401、第二个子存储箱401、第三个子存储箱401、第四个子存储箱401和第五个子存储箱401可顺序进行工作。

当第一个子存储箱401工作时，将第一阀门701、第二阀门702、第三阀门703、第六阀门706、第九阀门709和第十二阀门712打开，第一个子存储箱401内的清洗液可通过第一循环管路501进入清洗腔室10，以便对位于清洗腔室10中的待清洗基板进行清洗，清洗结束后，清洗腔室10中的清洗液可通过过滤装置60后到达第二循环管路502，并经打开的第十二阀门712、第九阀门709、第六阀门706和第三阀门703返回到第一个子存储箱401内，如此重复，直到第一个子存储箱401内的清洗剂因达不到清洗要求而作废液处理。

在作废液处理时，打开第二阀门702，其余阀门关闭，第一个子存储箱401内废液便可经出液通道402到达排废液管路20，通过打开排废液管路20而使废液排出，排放结束后关闭第二阀门702。

之后可对第一个子存储箱401进行新液补充，此时，打开第一阀门701，至少关闭第二阀门702和第三阀门703，新的清洗液便可通过新液补充管路30到达入液通道403的最左侧的间隔段4031，从而通过打开的第一阀门701进入第一个子存储箱401中，补充完毕后关闭第二阀门701。

需要说明的是，对第一个子存储箱401进行新液补充，也可在第二个子存储箱401工作时进行。对于第二个子存储箱401以及后续子存储箱401的工作过程与上述第一个子存储箱401的工作过程类似，在此不再赘述。

实施例二：

如图9所示，清洗设备1包括清洗腔室10和存储箱40、与清洗腔室10和存储箱40相连的第一循环管路501和第二循环管路502、设置在清洗腔室10内与第二循环管路502连接处的过滤装置60、以及新液补充管路30和排废液管路20。

其中，存储箱40包括五个子存储箱401和设置在五个子存储箱401上方的入液通道403。

沿从左至右的方向，相邻子存储箱401之间依次设置第一阀门701、第二阀门702、第三阀门703和第四阀门704。

沿从左至右的方向，入液通道403与每个子存储箱401之间设置第五阀门705、第六阀门706、第七阀门707、第八阀门708和第九阀门709。

第二循环管路502与入液通道403的最右侧相连，新液补充管路30与入液通道403的最左侧相连，第一循环管路501和排废液管路20均与最左侧的子存储箱401相连。

基于上述的结构，沿从左至右的方向，第一个子存储箱401、第二个子存储箱401、第三个子存储箱401、第四个子存储箱401和第五个子存储箱401可顺序进行工作。

当第一个子存储箱401工作时，将第五阀门705打开，第一个子存储箱401内的清洗液可通过第一循环管路501进入清洗腔室10，以便对位于清洗腔室10中的待清洗基板进行清洗，清洗结束后，清洗腔室10中的清洗液可通过过滤装置60后经第二循环管路502到达入液通道403，从而通过打开的第五阀门705返回到第一个子存储箱401内，如此重复，直到第一个子存储箱401内的清洗剂因达不到清洗要求而作废液处理。

在作废液处理时，可通过打开的排废液管路20使第一个子存储箱401内的废液排出。

当第二个子存储箱401工作时，将第一阀门701和第六阀门706打开，第二个子存储箱401内的清洗液可通过第一循环管路501进入清洗腔室10，以便对位于清洗腔室10中的待清洗基板进行清洗，清洗结束后，清洗腔室10中的清洗液可通过过滤装置60后经第二循环管路502到达入液通道403，从而通过打开的第六阀门706返回到第二个子存储箱401内，如此重复，直到第二个子存储箱401内的清洗剂因达不到清洗要求而作废液处理。

在作废液处理时，打开第一阀门701，其余阀门关闭，第二个子存储箱401内废液便可通过打开的排废液管路20使第二个子存储箱401内的废液排出。

对于后续子存储箱401的工作过程与上述第二个子存储箱401的工作过程类似，在此不再赘述。

当所有子存储箱401中的清洗液都作废液处理后，打开第五阀门705、第六阀门706、第七阀门707、第八阀门708和第九阀门709，新的清洗液便可通过新液补充管路30到达各子存储箱401中。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种清洗设备，包括清洗腔室、新液补充管路、排废液管路，其特征在于，还包括存储箱、循环管路和过滤装置；

所述存储箱用于存储清洗液；

所述循环管路包括第一循环管路和第二循环管路，所述第一循环管路用于使所述存储箱中的清洗液进入所述清洗腔室，所述第二循环管路用于使所述清洗腔室中的清洗液进入所述存储箱；

所述过滤装置用于对经第二循环管路进入存储箱的清洗液进行过滤。

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗腔室内设置有基板支撑装置；

所述基板支撑装置包括支撑面，所述支撑面上设置有多个支撑针。

3.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述基板支撑装置还包括底面，所述支撑面与所述底面呈锐角夹角；

在所述支撑面的靠近所述底面处设置挡板，所述挡板用于固定待清洗基板。

4.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述新液补充管路与所述存储箱相连；

所述存储箱包括至少两个子存储箱，所述新液补充管路用于为每个子存储箱补入清洗液；

所述第一循环管路用于使任一个子存储箱中的清洗液进入所述清洗腔室，所述第二循环管路用于使所述清洗腔室中的清洗液进入任一个子存储箱。

5.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，所述存储箱包括出液通道，所述出液通道与每个子存储箱之间设置阀门；

所述第一循环管路与所述出液通道相连。

6.根据权利要求5所述的清洗设备，其特征在于，所述排废液管路与所述出液通道相连。

7.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，相邻子存储箱之间设置阀门；

所述第一循环管路与任一个子存储箱相连。

8.根据权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述排废液管路和所述第一循环管路与同一个子存储箱相连。

9.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于，所述存储箱还包括入液通道，所述入液通道与每个子存储箱之间设置阀门；

所述第二循环管路与所述入液通道相连。

10.根据权利要求9所述的清洗设备，其特征在于，所述新液补充管路与所述入液通道相连。

11.根据权利要求10所述的清洗设备，其特征在于，所述入液通道分成多个间隔段，任一个间隔段对应一个子存储箱；

在相邻所述间隔段之间设置阀门。