CN104912829A - 真空泵的控制装置和具备它的真空泵 - Google Patents

Abstract

提供一种适合防止由温度变化带来的模制部的损坏的真空泵的控制装置。控制真空泵（1）的控制装置（4）具备具有开口部（5）的壳体（6）、设置在壳体（6）内的电路基板（8）和将电路基板（8）覆盖的模制部（9），模制部（9）的表面比第1壳体（6）的开口部（5）凹陷。

Description

真空泵的控制装置和具备它的真空泵

技术领域

本发明涉及作为半导体制造装置、平板显示器制造装置、太阳能面板制造装置的工艺腔室、其他腔室的气体排气机构等使用的真空泵的控制装置和具备它的真空泵。

背景技术

以往，这种真空泵作为其控制装置而具备例如专利文献1所记载的电源装置（50）。该电源装置（50）具备具有开口部（凹部51b的上表面开口部）的第1壳体（基体部件51）、安装在该第1壳体上并将上述开口部覆盖的第2壳体（覆盖部件52）、设置在上述第1壳体内并控制真空泵的基板（电路基板71）和将该基板覆盖的模制部（保护材料55），通过上述模制部保护上述基板和该基板上的电子零件（72、73），防止起因于结露的电路短路的发生等。

但是，根据上述专利文献1所记载的电源装置（50），如该文献1的图2或图5等所图示那样，模制部（保护材料55）比第1壳体（基体部件51）的开口部（凹部51b的上表面开口部）伸出。因此，当将由第1壳体（基体部件51）、基板（电路基板71）、模制部（保护材料55）构成的装置主体保管或输送时，通过保管时或输送时的温度变化而模制部膨胀，有可能与其他部件接触而在模制部中发生龟裂等的损坏。如果在模制部发生龟裂等的损坏，则通过因结露带来的水滴从损坏部位向模制部的内部渗透，有可能发生基板上的电子零件损伤或电路短路等，损害控制装置的正常的动作。此外，在将装置主体与第2壳体（覆盖部件52）分离、将装置主体堆起多个保管或输送时，必须使夹插到堆起的装置主体间的间隔件的高度至少变高模制部的伸出量，在体积变大这一点上不适合于保管及输送。

在上述专利文献1所记载的电源装置（50）中，由于模制部、第1壳体、基板分别由热膨胀率不同的材料构成，所以有可能通过因温度变化带来的模制部、第1壳体、基板的膨胀收缩而在模制部发生龟裂等的损坏。如果在模制部发生龟裂等的损坏，则还有可能通过因结露带来的水滴从损坏部位向模制部的内部渗透，基板上的电子零件损伤或发生电路短路等，控制装置的正常的动作受损。

此外，如果参照专利文献1的图5，则在该文献1所记载的电源装置（50）中，如果在模制部（保护材料55）的表面存在凹凸，则因结露带来的水滴集中在凹凸的凸部，还有可能水滴落在没有被模制部覆盖的基板（电路基板81）上、基板上的电子零件损伤或发生电路短路等，控制装置的正常的动作受损。

另外，上述括号内的部件名称和附图标记是在专利文献1中使用的部件名称和附图标记。

专利文献1：特开2013－29063号公报。

发明内容

本发明是为了解决上述问题而做出的，其目的是提供一种适合防止因温度变化带来的模制部的损坏的真空泵的控制装置。

为了达到上述目的，本发明是一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，具备：壳体，具有开口部；电路基板，设置在上述壳体内；和模制部，将上述电路基板覆盖；上述模制部的表面比上述壳体的上述开口部凹陷。

在上述本发明中，也可以是，其特征在于，上述模制部的表面为平面状。

在上述本发明中，也可以是，其特征在于，上述模制部的表面的与上述壳体的接触部的高度比上述模制部的表面的其他部分高。

在上述本发明中，也可以是，其特征在于，对上述基板的角部实施了R倒角或C倒角。

在上述本发明中，也可以是，其特征在于，对上述模制部的角部实施了R倒角或C倒角。

在上述本发明中，也可以是，其特征在于，使上述壳体内的角部为R形状或C倒角形状。

在上述本发明中，也可以是，其特征在于，上述壳体和上述电路基板通过连结部件连结；上述连结部件具备密封构造作为密封上述连结部件周围的间隙的机构。

此外，本发明是一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，具备：壳体，具有开口部；电路基板，设置在上述壳体内；和模制部，将上述电路基板覆盖；对上述电路基板的角部实施了R倒角或C倒角。

进而，本发明是具备上述真空泵的控制装置的真空泵。

在本发明中，作为真空泵的控制装置的具体的结构，如上述那样，采用模制部的表面比壳体的开口部凹陷的结构。因此，即使通过温度变化而模制部膨胀/收缩，也不会比第1壳体的开口部伸出。因而，例如在将由壳体、基板、模制部构成的装置主体保管或输送时，即使通过保管时或输送时的温度变化而模制部膨胀，也能够降低在模制部发生龟裂等的损坏的可能性。此外，当将装置主体堆起多个保管或输送时，能够使向堆起的装置主体间夹插的间隔件的高度变低，即使在保管或输送时堆起也不会成为大体积，能够提供保管或输送较容易的真空泵的控制装置。

此外，在本发明中，作为真空泵的控制装置的具体的结构，采用如上述那样对基板的角部实施了R倒角或C倒角的结构，由此，构成为，即使是通过温度变化而壳体、基板及模制部热膨胀的情况，因温度变化造成的热应力的集中部位也减少，所以能够提供适合防止因温度变化造成的模制部的损坏的真空泵的控制装置。

在本发明中，在采用如上述那样模制部的表面为平面状的结构的情况下，由于在该模制部的表面没有水滴容易积存的凸部，所以不易发生从模制部表面的水滴的落下，能够有效地防止因落下的水滴带来的不良状况，例如在安装在壳体（第1壳体）上的其他壳体（第2壳体）的内侧安装着没有被模制部覆盖的别的基板的情况下，能够有效地防止水滴落到该基板上、基板上的电子零件损伤或发生电路短路等的不良状况。

在本发明中，通过采用如上述那样模制部的表面的与壳体的接触部的高度比模制部的表面的其他部分高的结构，即使是使真空泵的控制装置上下反转而使用的情况，水滴也不容易积存在壳体和模制部的边界附近。

附图说明

图1是具备作为本发明的一实施方式的真空泵的控制装置的真空泵的说明图。

图2是图1的真空泵的控制装置的剖视图。

图3（a）是在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的基板的一实施方式的俯视图，图3（b）是作为该基板的另一实施方式的俯视图。

图4（a）是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的第1壳体、模制部的一实施方式的俯视图，图4（b）是作为该第1壳体、该模制部的其他实施方式的俯视图。

图5是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的密封构造的一实施方式的剖视图。

图6是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的密封构造的其他实施方式的剖视图。

具体实施方式

以下，一边参照附图一边对用来实施本发明的最优选的形态详细地说明。

图1是具备作为本发明的一实施方式的真空泵的控制装置的真空泵的说明图。此外，图2是图1的真空泵的控制装置的剖视图，图3（a）是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的基板的一实施方式的俯视图，图3（b）是作为该基板的其他实施方式的俯视图，图4（a）是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的第1壳体、模制部的一实施方式的俯视图，图4（b）是作为该第1壳体、该模制部的其他实施方式的俯视图。

图1的真空泵1为将通过驱动马达旋转的转子用磁轴承支承、通过转子的旋转从吸气口2朝向排气口3将气体排气的构造，例如作为半导体制造装置、平板显示器制造装置、太阳能面板制造装置的工艺腔室、其他腔室的气体排气机构等使用。

另外，图1的真空泵1的磁轴承为用电磁铁的磁力将转子在径向及轴向上支承、并将转子的径向变位及轴向变位用传感器检测、将其检测信号向控制装置输出的构造，由于这一点是周知的，所以其详细说明省略。驱动马达也还是周知的，所以其详细说明省略。

参照图2，安装在图1的真空泵1上的真空泵的控制装置4具备具有开口部5的第1壳体6、安装在第1壳体6上的第2壳体7、从开口部5侧设置在第1壳体6内的电路基板（例如控制真空泵1的基板8（8A））和将该电路基板覆盖的模制部9。作为上述电路基板，也可以包括在真空泵1的控制以外的其他用途中使用的基板。另外，以下为了说明的方便，作为上述电路基板的一例而举上述例示的基板8（8A）进行说明。

在第1壳体6的与开口部5相反的面侧设有水冷单元10，水冷单元10为通过从水冷管11导入到水冷单元10内的冷媒将第1壳体6内冷却的结构。

此外，第1壳体6经由位于水冷单元10侧的安装间隔件12安装在真空泵1的底部，但也可以通过与它不同的手段将第1壳体6安装到真空泵1上。

参照图4，第1壳体6的外形从其上表面看是四边形，但也可以是四边以外的多边形。关于这一点第1壳体6的开口部5也是同样的。此外，第1壳体6的外形从其上表面看也可以是大致圆形。

第2壳体7为通过将其周缘部用螺栓连结在第1壳体6的周缘部上而安装到第1壳体6上、将该第1壳体6的开口部5整体覆盖的构造。另外，也可以采用螺栓以外的连结机构。

控制真空泵1的基板8如上述那样，大体分为设置在第1壳体6内的基板（以下称作“第1基板8A”）、和设置在真空泵1的第2壳体7的内侧的基板（以下称作“第2基板8B”）。

第1基板8A是主要进行对驱动马达或磁轴承等那样的真空泵1的电装零件的电力的供给和该供给电力的控制的电源电路基板，将被该电源电路基板控制的稳定的电力向真空泵1的电装零件供给。

第2基板8B是将例如从磁轴承的传感器输出的信号（转子的径向变位及轴向变位）等从真空泵1的电装零件输出的信号接收、基于接收到的信号进行电装零件的控制（例如在磁轴承的情况下是对于电磁铁的励磁电流的调节控制）的控制电路基板。但是，第1基板8A和第2基板8B的作用并不限定于此。此外，基板也并不限定于两片。

模制部9由树脂等绝缘性模制材料构成，将存在于第1基板8A上的变换器或逆变器等电子零件18及配线电路（图示省略）从水滴保护。在图1、图2的例子中，由于在第1基板8A的表背面设有电子零件18及配线电路，所以与此对应，模制部9为将第1基板8A的表面和背面覆盖的形态。此外，参照图1、图2，在这些图中，仅将第1基板8A用模制部9覆盖，但根据需要，也可以将第2基板8B也用模制部9覆盖。

此外，模制部9的表面如图1、图2那样比第1壳体6的开口部5凹陷。其凹陷的程度（凹陷量或凹陷深度）至少为模制部9的表面不因真空泵1的使用时、保管时、输送时的温度变化而比第1壳体6的开口部5伸出的程度。

上述模制部9可以通过使树脂等绝缘性模制材料流入到第1壳体6内并使其固化来制作。此时，在本实施方式中构成为，通过使用具有在固化前为大致平面状之程度的粘性的模制材料，模制部9的表面大致整体上为平面状。此外，由于在本实施方式中使用的模制材料粘性较低，所以设定基板上的电子零件18被模制部9覆盖的量（模制部9的高度）比较容易。

这里，上述“平面状”，是指面为大致平坦的。

如果模制部9的表面不是平面状而模制部9的表面上存在凹凸，则通过水滴集中于凸部而水滴较快地成长，水滴容易从模制部9表面向第2基板8B侧落下。作为有效地防止这样的不良状况的手段，在本实施方式中，通过如上述那样将模制部9的表面做成平面状，在模制部9的表面上减少水滴容易集中而积存的部位。

参照图2，通过模制部9和第1壳体6的边界附近、具体而言接触在第1壳体6上的模制部9表面外周缘9A例如利用模制材料的粘性形成为图2那样的凸形状，减少了水滴容易集中而积存的部位。这样的凸形状的构造例如在使本实施方式的真空泵的控制装置4上下反转使用的情况下具有特别有用的技术意义。

即，在专利文献1所记载的电源装置（50）中，第1壳体（基体部件51）和模制部（保护材料55）的边界附近、具体而言模制部（保护材料55）表面外周缘凹陷（参照该文献1的图2或图5等）。因此，在使该电源装置（50）例如上下反转使用的情况下，还有因结露带来的水滴积存在该凹陷中、在该第1壳体（基体部件51）为铁制的情况下生锈的问题。此外，还有可能积存在该凹陷中的水滴穿过因膨胀/收缩产生的模制部的龟裂向基板（电路基板71）侧渗透，基板上的电子零件损伤或发生电路短路等，电源装置（50）的正常的动作受损。（在该段落中，上述括号内的部件名称和附图标记是在专利文献1中使用的。）。

相对于此，在本实施方式的真空泵的控制装置4中，如上述那样，第1壳体6和模制部9的边界附近、具体而言模制部9表面外周缘9A如上述那样形成为凸形状，变得比模制部9的其他部分高，所以在使真空泵的控制装置4上下反转而使用的情况下，水滴也不会积存在第1壳体6和模制部9的边界附近，即使在该第1壳体6是铁制的情况下也不会生锈，并且也不会有通过水滴穿过龟裂渗透而真空泵的控制装置4的正常的动作受损的情况。

对于第1基板8A的角部，实施了图3（a）那样的R倒角或图3（b）那样的C倒角。通过第1基板8A的发热或水冷单元10的动作而第1壳体6内的温度变化，第1壳体6、第1基板8A及模制部9热膨胀或收缩。其膨胀率或收缩率按照第1壳体6、第1基板8A、模制部9分别不同。因此，如果在第1基板8A上存在角部，则因温度变化带来的热应力集中在该角部周边的模制部9，容易在模制部9发生龟裂等的损坏。作为有效地抑制由起因于这样的温度变化的热应力的集中造成的模制部9的损坏的手段，在本实施方式中，对第1基板8A的角部实施了R倒角或C倒角。

另外，虽然图示省略，但也可以采用对通过上述C倒角产生的角部再实施R倒角的结构、即C倒角和R倒角的组合。此外，上述R倒角或C倒角、以及R倒角与C倒角的组合也可以对第2基板8B的角部实施。

对于模制部9的角部实施了图4（a）那样的R倒角或该图（b）那样的C倒角。如上述那样，模制部9热膨胀或收缩。通过膨胀、收缩的反复，容易在模制部9发生龟裂等的损坏。作为有效地抑制这样的模制部9的损坏的手段，在本实施方式中，对模制部9的角部实施了R倒角或C倒角。在本实施方式中，在对第1壳体6内的角部实施图4（a）那样的R形状或图4（b）那样的C倒角形状的加工后，通过使树脂等绝缘性模制材料流入到该已加工的第1壳体6内并使其固化，对模制部9的角部实施R倒角或C倒角，但并不限定于此。例如也可以通过研磨或切削等机械加工对模制部9的角部实施R倒角或C倒角。

图5是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的密封构造的一实施方式的剖视图，图6是作为该密封构造的另一实施方式的剖视图。

参照图1、图2，第1壳体6和第1基板8A通过连结螺栓13连结，连结螺栓13具备图5或图6所示的密封构造14作为密封该连结螺栓13周围的间隙的机构。

图5的密封构造14通过在连结螺栓13的头部与第1壳体6之间作为密封部件而夹装填密件15，将连结螺栓13周围的间隙密封。由这样的构造构成的图5的密封构造14作为降低从连结螺栓13周围的间隙的模制材料的泄漏的机构、以及降低经由该间隙的从壳体6外部向内部的水滴的渗透的机构发挥功能。

图6的密封构造14通过在穿设在第1壳体6上的连结螺栓13的通孔周围设置密封件安装槽16并在该密封件安装槽16中作为密封部件安装O形圈17，将连结螺栓13周围的间隙密封。由这样的构造构成的图6的密封构造也还具有与前面说明的图5的密封构造同样的功能。

如以上说明，在本实施方式的真空泵的控制装置4中，作为其具体的结构，采用模制部9的表面为比第1壳体6的开口部5凹陷的形态的结构。因此，即使通过温度变化而模制部9膨胀/收缩，也不会从第1壳体6的开口部伸出。因而，例如在将由第1壳体6、基板8（8A）、模制部9构成的装置主体保管或输送时，即使通过保管时或输送时的温度变化而模制部膨胀，也能够降低在模制部发生龟裂等的损坏的可能性。此外，当将装置主体和第2壳体7各自分离、将装置主体堆起多个而保管或输送时，能够使夹插到堆起的装置主体间的间隔件的高度变低，即使在保管或输送时堆起也不会成为大体积，保管或输送较容易。

此外，在本实施方式的真空泵的控制装置4中，作为其具体的结构，采用对基板8（8A）的角部实施了R倒角或C倒角的结构，由此，构成为，即使在通过温度变化而第1壳体6、基板8（8A）及模制部9热膨胀的情况下，因温度变化带来的热应力的集中部位减少，所以适合于防止因温度变化带来的模制部9的损坏。

本发明并不限定于以上说明的实施方式，在本发明的技术思想内能够由在本领域具有通常的知识的人进行许多变形。例如，本发明能够应用到在图1所示的真空泵的控制装置4中省略了第2壳体的结构中。

附图标记说明

1 真空泵

2 吸气口

3 排气口

4 真空泵的控制装置

5 开口部

6 第1壳体

7 第2壳体

8 基板

8A 第1基板

8B 第2基板

9 模制部

9A 模制部的表面外周缘

10 水冷单元

11 水冷管

12 安装间隔件

13 连结螺栓

14 密封构造

15 填密件

16 密封件安装槽

17 O形圈

18 电子零件。

Claims (9)

1.一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，

具备：

壳体，具有开口部；

电路基板，设置在上述壳体内；和

模制部，将上述电路基板覆盖；

上述模制部的表面比上述壳体的上述开口部凹陷。

2.如权利要求1所述的真空泵的控制装置，其特征在于，

上述模制部的表面为平面状。

3.如权利要求1或2所述的真空泵的控制装置，其特征在于，

上述模制部的表面的与上述壳体的接触部的高度比上述模制部的表面的其他部分高。

4.如权利要求1～3中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，

对上述电路基板的角部实施了R倒角或C倒角。

5.如权利要求1～4中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，

对上述模制部的角部实施了R倒角或C倒角。

6.如权利要求1～5中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，

使上述壳体内的角部为R形状或C倒角形状。

7.如权利要求1～6中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，

上述壳体和上述电路基板通过连结部件连结；

上述连结部件具备密封构造作为密封上述连结部件周围的间隙的机构。

8.一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，

具备：

壳体，具有开口部；

电路基板，设置在上述壳体内；和

模制部，将上述电路基板覆盖；

对上述电路基板的角部实施了R倒角或C倒角。

9.一种真空泵，其特征在于，

具备权利要求1～8中任一项所述的真空泵的控制装置。