CN104812570B - 无机膜及层积体 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种无机膜及层积体，在与树脂等有机物层积时也不会使光线透过率下降。无机膜(13)由折射率从n1向n2(n1＜n2)连续变化且作为功能性膜的折射率梯度膜(13a)以及折射率从n3向n4(n4＜n3)连续变化且作为功能性膜的折射率梯度膜(13b)构成，而且，n2与n3的差为0.1以下。

Description

无机膜及层积体
技术领域
本发明涉及一种具有高折射率且能够抑制光学干涉的无机膜及将该无机膜层积在树脂等有机物上的层积体。
背景技术
在重量轻且自如弯曲的柔性设备中，基材、元件自身使用树脂等有机物。在使用由树脂等形成的柔性基材作为基材的所谓的柔性设备中，作为密封部件，需要除了具有阻气性及透明性以外还兼具柔性的阻气膜。
专利文献1公开了一种同时具有阻气性及柔性的阻气膜。在专利文献1中，为了提高阻气性，使用氧化锌锡。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：(日本)特表2010-524732号广报
发明内容
然而，在专利文献1所公开的氧化锌锡的折射率高并且附加在基材膜、结合层(アンカーコート層)等树脂材料上的情况下，由于其与这些材料的折射率差而产生光学干涉。因此，存在光线透过率降低的问题点。
本发明的目的在于，提供一种在与树脂等有机物层积时也不会使光线透过率降低的无机膜及具有该无机膜的层积体。
本发明的无机膜具有：作为功能性膜的折射率梯度膜A，其由无机材料形成，折射率从一面向另一面由n1向n2(n1＜n2)连续变化；作为功能性膜的折射率梯度膜B，其由无机材料形成，折射率从一面向另一面由n3向n4(n4＜n3)连续变化；折射率梯度膜B从上述折射率为n3的面侧直接或间接地与折射率梯度膜A的折射率为n2侧的面相连而层积；n2与n3的差为0.1以下，所述无机材料为含有Si与Al中的至少一种、Zn、以及Sn的复合氧化物。
在本发明的无机膜中，优选的是，所述折射率梯度膜A与折射率梯度膜B中的至少一方由含有Si、Zn以及Sn的复合氧化物形成。
在本发明的无机膜中，优选的是，在含有所述Si、Zn以及Sn的复合氧化物中Sn相对于Zn和Sn的总和的比Xs满足70＞Xs＞0。
在本发明的无机膜中，优选的是，所述折射率梯度膜A与折射率梯度膜B中的至少一方由含有Al、Zn以及Sn的复合氧化物形成。
在本发明的无机膜中，优选的是，所述折射率梯度膜A由含有Al、Zn、以及Sn的复合氧化物形成，所述折射率梯度膜B由含有Si、Zn以及Sn的复合氧化物形成。
本发明的层积体是在有机膜上构成依照本发明所构成的无机膜、并在有机膜的折射率为n0时为n0≤n1的层积体。
在本发明的层积体中，优选的是，在所述无机膜上形成有树脂层，在树脂层的折射率为n5时，为n4≥n5。
本发明的无机膜及层积体具有如上所述的结构，在折射率梯度膜A上，折射率沿膜厚方向由n1向n2连续增大，而且，在折射率梯度膜B上，折射率由n3向n4连续减小，由于n2与n3的差为0.1以下，所以能够抑制因折射率差导致的反射。因此，能够防止光线透过率的降低。因此，作为折射率梯度膜A及折射率梯度膜B，即便使用附加各种功能而形成的折射率高的材料，也能够防止光线透过率的降低。由此，能够同时具有功能性与高光线透过率。
附图说明
图1是表示具有本发明一实施方式的无机膜的层积体的剖面图；
图2是表示图1所示的层积体各层的折射率的剖面图；
图3是表示为了形成本发明的无机膜而使用的装置的一例的结构的图。
附图标记说明
11 基材；
12 平坦化层；
13 无机膜；
13a 折射率梯度膜；
13b 折射率梯度膜；
14 树脂层；
30 基材膜；
31 RtoR溅射装置；
32 卷出卷绕室；
33 卷出轴；
34 卷绕轴；
35 导辊；
36 导辊；
37 辊筒；
38 真空泵；
39 真空泵；
40 成膜室；
41 靶材(ターゲット)；
42 靶材；
43 双极电源(バイポーラー)；
44 氩气供给线路；
45 氧气供给线路。
具体实施方式
参照附图，说明使用了本发明一实施方式的无机膜的层积体。如图1所示，在基材11上将由有机物形成的平坦化层12、由无机材料形成的折射率梯度膜13a、由无机材料形成的折射率梯度膜13b、以及树脂层14依次层积一体化而构成层积体。在此，作为折射率梯度膜A的折射率梯度膜13a及作为折射率梯度膜B的折射率梯度膜13b构成本实施方式的无机膜13。
如图2所示，在折射率梯度膜13a上，作为与平坦化层12相接的面的折射率的n1向作为与折射率梯度膜13b相接的面的折射率的n2连续、单调地增大。在折射率梯度膜13b，作为与折射率梯度膜13a相接的面的折射率的n3向作为与树脂层14相接的面的折射率的n4连续、单调地减小。在此，各层的折射率为n1＜n2、且n3＞n4。而且，折射率n2和折射率n3在本实施方式中相同，为n2＝n3。
但是，n2与n3的折射率差只要为0.1以下即可。在该情况下，能够减小折射率梯度膜13a与折射率梯度膜13b的界面上的折射率的变化。由此，能够抑制因折射率差导致的反射，能够抑制光线透过率的下降。对此，将在下面进行具体的说明。
折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b是功能性膜。在本实施方式中，作为功能，体现在高阻气性上。在此，阻气性是指，具有充分减少二氧化碳、氧、水蒸气等气体透过的特性。
在本实施方式中，折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b具有上述折射率连续变化的结构。在折射率梯度膜13a与折射率梯度膜13b的界面上，尽管两者的折射率在某种程度上较高，但折射率差较小，为0.1以下。因此，能够抑制因折射率差导致的反射。此外，在折射率相对较高的界面附近，能够充分体现上述阻气性。
另一方面，在与界面相反的一侧、即折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b的外侧的面，折射率降低。因此，能够确保足够的透光性。
如上所述，在如上所述地层积折射率越高、阻气性等功能越高的折射率梯度膜13a、13b而形成的无机膜，能够在折射率高的部分有效地提高阻气性。而且，因为n2与n3的差为0.1以下，所以也能够抑制两者的界面上的光线透过率的下降。
作为如上所述地构成折射率越高、阻气性越高的折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b的无机材料的组合，只要能够体现上述功能即可，没有特别限定。例如，可以举出氧化硅与氧化锌锡、氧化硅与氧化铝锌、氧化铝与氧化锌锡等。
在本实施方式的层积体中，在基材11上依次层积平坦化层12、折射率梯度膜13a、折射率梯度膜13b、以及树脂层14。因此，能够消除各层间折射率的急剧变化。因此，能够防止因折射率差导致的反射。通过该防止反射效果，能够提高层积体的光线透过率。
在使折射率梯度膜13a及13b的单位膜厚的折射率变化率分别为折射率变化率A＝(n3－n2)/t1[t1＝倾斜膜A的膜厚、单位：nm]及折射率变化率B＝(n4－n5)/t2[t2＝倾斜膜B的膜厚、单位：nm]时，优选的是，折射率变化率X满足0≤X＜0.01/nm，而且更优选的是，满足0≤X＜0.006/nm。在此，在作为单位膜厚的折射率变化的折射率变化率X超过0.01/nm的情况下，因折射率的急剧变化而导致产生光学干涉，造成无法得到足够的透光率提高效果。
在上述层积体的膜厚为t的情况下，作为膜厚t的值的范围，虽然未特别限定，但为了得到充分的阻气性，优选为30nm≤t≤3000nm，更优选为50nm≤t≤1000nm。
作为构成阻气层积体的基材11的材料，虽然未特别限定，但例如可以举出聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯等丙烯酸类树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、间苯二酸酯共聚物等聚酯类树脂、聚乙烯类树脂、聚丙烯类树脂等聚烯烃类树脂等。另外，合成树脂可以只使用一种，也可以同时使用两种以上。
作为构成由有机层形成的平坦化层12的材料，只要是能得到表面平滑性的材料即可，未特别限定，例如，制作含有具有自由基聚合性基团的烷氧基硅烷、不具有自由基聚合性基团的烷氧基硅烷、以及水的组合物，在涂布该组合物后，向涂布的上述组合物照射活性能量线，由此而得到该材料。
平坦化层的厚度优选为0.01～100μm，更优选为0.1～50μm，特别优选为1～10μm。在厚度不足0.01μm的情况下，存在不具有足够的阻气性的可能性。另外，对于厚度超过100μm的平坦化层，存在刚性过高而使阻气性膜的使用性降低的可能性。
折射率梯度膜13a可以是：1)具有折射率沿膜厚方向连续、单调地增加的折射率倾斜结构；2)在与平坦化层12交界的界面，平坦化层12的折射率n0与和平坦化层12相接的面的折射率n1满足n0≤n1的条件；3)如上所述，折射率n2与折射率n3的差为0.1以下。
作为构成折射率梯度膜13a的材料，只要含有Si和Al中的至少一种、以及Zn、Sn即可，不特别限定。除了上述材料外，例如也可以含有In、Ti、Mg、Zr、Ni、Ta、W、Cu或含有两种以上上述元素的合金氧化物或氮氧化物。从提高高温时的阻气性的观点出发，折射率梯度膜13a优选由含有Al、Zn、以及Sn的复合氧化物形成。
作为n1的值，为了减小其与有机物的n0之间的折射率差，优选为1.7以下，特别优选为1.6以下。另外，作为n2的值，虽未特别限定，但在为了得到阻气性而选择材料的情况下，优选为大于1.7的值，进而优选为1.8以上。
折射率梯度膜13b可以是：1)具有折射率沿膜厚方向连续、单调地减小的折射率倾斜结构；2)在其与树脂层14交界的界面，与树脂层14的折射率n5的面相接的面的折射率n4满足n4≥n5的条件；3)如上所述，折射率n2与折射率n3的差为0.1以下。
作为构成折射率梯度膜13b的材料，只要含有Si和Al中的至少一种、以及Zn、Sn即可，不特别限定。除了上述材料外，例如可以含有In、Ti、Mg、Zr、Ni、Ta、W、Cu或含有两种以上上述元素的合金氧化物或氮氧化物。从提高高温时的阻气性的观点出发，折射率梯度膜13b优选由含有Al、Zn、以及Sn的复合氧化物形成。
作为n4的值，为了减小与有机物即树脂层14的折射率n5的折射率差，优选为1.7以下，特别优选为1.6以下。
另外，折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b可以由相同的材料构成，也可以由不同的材料构成。另外，在折射率梯度膜13a与折射率梯度膜13b之间也可以形成折射率与n2或n3相同的功能性膜。即，折射率梯度膜13a与折射率梯度膜13b可以经由功能性膜等间接地层积。
在上述无机膜中，在折射率梯度膜13a的折射率为n2的面，可以如上所述地从折射率为n3的面侧间接地层积折射率梯度膜13b，另外，也可以如上所述直接接触地进行层积。
作为树脂层14，未特别限定，只要由有机物构成即可。作为树脂层的功能，例如可以举出平坦化、缓冲应力、提高密合性、与其他部件层积。例如可以举出乙烯-不饱和羧酸-丙烯酸酯共聚物、乙烯-不饱和羧酸-甲基丙烯酸酯共聚物、热塑性弹性体、低密度聚乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚偏二氯乙烯、离聚物、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、硝化纤维素、醋酸纤维素、有机硅、二异氰酸酯和聚醚多元醇的缩合物即聚醚型聚氨酯、二异氰酸酯和聚酯多元醇的缩合物即聚酯型聚氨酯等聚氨酯类树脂等。另外，层积材料可以仅使用一种，也可以同时使用两种以上。
接着，对折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b的形成方法进行说明。作为形成折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b的方法，不特别限定，例如可以举出溅射法、蒸镀法、离子镀法等物理气相沉积法(PVD)、以及化学气相沉积法(CVD)等。在这些成膜方法中，只要改变成膜条件而使折射率连续变化即可。由此，能够形成具有折射率倾斜结构的折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b。折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b的形成方法可以为相同的方法，也可以使用不同的方法。
另外，在上述实施方式中，折射率梯度膜13a及折射率梯度膜13b是实现了阻气性的功能膜，但本发明的功能膜的功能不限于阻气性。即，可以使用折射率高且体现各种功能的功能性膜。作为上述的功能，例如可以举出透明导电膜等。导电性高的折射率梯度膜例如能够通过使用InSnO、AlZnO等作为材料来构成。
在本发明中，在如上所述的折射率梯度膜A及折射率梯度膜B中，折射率倾斜，以使折射率从外侧朝向两者的界面增大，在两者的界面上的折射率差小，为0.1以下，因此，在外侧表面，能够通过低折射率来确保充足的透光性。另外，在两者的界面附近，n2与n3的差、即折射率差小，而且，因为折射率n2、n3自身高，所以能够体现良好的功能，并且能够抑制光线透过率的下降。
作为本发明的一个应用例，能够举出SiZnSnO阻气膜。以使折射率倾斜而使折射率从外侧朝向两者的界面增大、并且以使SiZnSnO膜中的Si含量朝向两者的界面连续减少的方式，使作为折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的SiZnSnO膜变化并形成。
在SiZnSnO阻气膜中，为了得到高的阻气性、弯曲性，Sn相对于Zn和Sn的总和的重量比Xs优选满足70＞Xs＞0，更优选满足50≥Xs＞0，进一步优选满足30＞Xs≥5，最好优选满足10≥Xs≥5。
作为本发明的其他应用例，能够举出AlZnSnO阻气膜。以使折射率倾斜而使折射率从外侧朝向两者的界面增大、并且以使AlZnSnO膜中的Al含量朝向两者的界面连续减少的方式，使作为折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的AlZnSnO膜变化并形成。
另外，在AlZnSnO阻气膜中，为了得到高的阻气性、弯曲性，Sn相对于Zn和Sn的总和的重量比Xs优选满足50≥Xs＞0，更优选满足50＞Xs＞0，进一步优选满足30≥Xs＞0，最好优选满足30≥Xs≥10。
在本发明中，折射率梯度膜A可以使用AlZnSnO阻气膜，折射率梯度膜B可以使用SiZnSnO阻气膜。在该情况下，以使折射率倾斜而使折射率从外侧朝向两者的界面增大、并且以使SiZnSnO膜中的Si含量或AlZnSnO膜中的Al含量朝向两者的界面连续减小的方式变化并形成。但是，在本发明中，折射率梯度膜A也可以使用SiZnSnO阻气膜，折射率梯度膜B也可以使用AlZnSnO阻气膜。
实施例
接着，说明本发明的实施例，但本发明不限于下述实施例。
(实施例1)
制作阻隔膜作为层积体。作为阻隔膜的基材，使用PET膜(东丽公司制、商品名：“露米勤50T60(ルミラー50T60)”)。
《平坦化层的形成》
接着，在含有3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷80重量份、四乙氧基硅烷53重量份、回丁氧基钛30重量份以及水4.9重量份的组合物中添加2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-1-丙酮(汽巴精化公司生产、商品名：“Irgacure907”)0.1重量份，利用9W的紫外线灯照射15分钟紫外线，进行预聚合。利用凹版涂布机在上述基材的一面涂布该组合物，利用电子束照射装置(ESI公司生产、产品名：“EC300/165/800”)，以加速电压为175kV、辐射剂量为150kGy的条件，向涂布后的组合物照射电子束，由此，进行3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的自由基聚合，形成自由基聚合物后，将一面具有电子束照射后的组合物的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜在45℃、相对湿度65％RH的环境下放置1小时，促进水解及脱水缩合反应，由此，形成在上述自由基聚合物的主链间交联的四乙氧基硅烷的脱水缩合物，得到平坦化层(厚度为8μm)。
《无机膜的形成方法》
利用图3所示的RtoR溅射装置31形成阻气层。本装置由卷出卷绕室32与成膜室40构成。卷出卷绕室32具有：卷出轴33、卷绕轴34、导辊35及36、辊筒37，通过真空泵38进行排气，处于减压状态。卷出轴33安装有作为基材的整卷膜，从整卷膜输出的基材膜30经由导辊35、辊筒37、以及导辊36，卷绕在卷绕轴34上。另外，在成膜室40中配置靶材41及42，其与双极电源43连接。利用该双极电源43，能够向靶材41和靶材42交替地供给脉冲电力。而且，氩气供给线路44和氧气供给线路45与成膜室40连接，从而能够向成膜室40内供给氩气及氧气。真空泵39也与成膜室40连接，从而能够对成膜室内进行减压。在成膜室40减压后，以规定的流量供给氩气及氧气，而且，向靶材41、靶材42供给电力，从而能够在该靶材与辊筒37之间的空间形成等离子体。通过该等离子体，构成靶材41及靶材42的材料从该靶材表面弹出。然后，弹出的材料堆积在通过辊筒37面上的基材表面，形成薄膜。双极电源43能够任意地控制向靶材41和靶材42供给的脉冲数比。通过控制脉冲数比，能够控制从靶材41表面弹出且堆积在基材上的材料的量与从靶材42表面弹出且堆积在基材膜30上的材料的量的比。在靶材41和靶材42选择了不同材料的情况下，通过控制脉冲数比，能够控制堆积在基材膜30上的合金氧化物的组成。
《折射率梯度膜A的形成》
将单面形成了平坦化层的基材膜放置在卷出轴33上，而且，安装Si作为靶材41，安装ZnSn合金(Zn：Sn＝70：30wt％)靶材作为靶材42。通过真空泵38及真空泵39对RtoR溅射装置31进行排气，减压至3.0×10-4Pa。之后，从卷出轴33向卷绕轴34的方向，在通过导辊35、辊筒37、导辊36的路径上输送基材膜，并且在成膜室40中，在以下所示的条件下，在平坦化层上形成SiZnSnO薄膜，得到折射率梯度膜A。
(成膜条件A)
基材输送速度：0.1m/分、张力100N、辊筒冷却温度：10℃
氩气流量：80sccm、氧气流量：80sccm
电源输出：5kW、电力脉冲比：靶材41︰靶材42＝3︰1
《折射率梯度膜B的形成》
然后，形成折射率梯度膜A，从卷绕轴34向卷出轴33的方向输送卷绕在卷绕轴34的基材膜，并且在折射率梯度膜A的表面，在成膜条件A所示的条件下形成SiZnSnO膜，得到折射率梯度膜B。
《树脂层的形成》
在折射率梯度膜B的表面粘贴粘接材料(积水化学工业公司制、商品名：“Doubletuck tape(ダブルタックテープ)”、型号：5405A、厚度为50μm)，得到树脂层。
《耐候性树脂基材的贴合》
在粘贴粘接材料后，与ETFE(四氟乙烯与乙烯的共聚物)膜(旭硝子公司制、商品名：“ARFLEX(アフレックス)”、厚度为100μm)贴合，制作阻气膜1。
(实施例2)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中将基材膜输送条件设为0.075m/分以外，与实施例1相同地制作阻气膜2。
(实施例3)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中将基材膜输送条件设为0.2m/分以外，与实施例1相同地制作阻气膜3。
(实施例4)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Si作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝90：10wt％)靶材作为靶材42以外，与实施例1相同地制作阻气膜4。
(实施例5)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Si作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝95：5wt％)靶材作为靶材42以外，与实施例1相同地制作阻气膜5。
(实施例6)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Si作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝30：70wt％)靶材作为靶材42以外，与实施例1相同地制作阻气膜6。
(实施例7)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Al作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝70：30wt％)靶材作为靶材42、将基材膜输送条件设为0.05m/分以外，与实施例1相同地制作阻气膜7。
(实施例8)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Al作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝90：10wt％)靶材作为靶材42、将基材膜输送条件设为0.05m/分以外，与实施例1相同地制作阻气膜8。
(实施例9)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Al作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝50：50wt％)靶材作为靶材42、将基材膜输送条件设为0.05m/分以外，与实施例1相同地制作阻气膜9。
(实施例10)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中将基材膜输送条件设为0.15m/分以外，与实施例1相同地制作阻气膜10。
(实施例11)
除了在折射率梯度膜A及折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Si作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝50：50wt％)靶材作为靶材42以外，与实施例1相同地制作阻气膜11。
(实施例12)
在折射率梯度膜A的成膜条件A中安装Al作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝90：10wt％)靶材作为靶材42，将基材膜输送条件设为0.05m/分，而且在折射率梯度膜B的成膜条件A中安装Si作为靶材41、安装ZnSn合金(Zn：Sn＝90：10wt％)靶材作为靶材42，将基材膜输送条件设为0.15m/分，除此不同之外，与实施例1相同地制作阻气膜12。
(比较例1)
在靶材41及靶材42上安装ZnSn合金(Zn：Sn＝70：30wt％)。在成膜条件B所示的条件下，在平坦化层上形成ZnSnO膜作为阻气层，制作阻气膜13。
(成膜条件B)
基材输送速度：0.1m/分、张力100N、辊筒冷却温度：10℃
氩气流量：80sccm、氧气流量：80sccm
电源输出：5kW、电力脉冲比：靶材︰靶材＝1︰1
(阻气性)
为了评价所得到的阻气膜的阻气性，利用差压式透湿度测定装置(GTR Tec(GTRテック)公司制、型号：GTR-300XASC)，在40℃、90％的条件下测定水蒸气透过率。
(透明性)
针对阻气膜的透明性的评价，利用雾度计(ヘイズメーター)(东洋精机制作所公司制、商品名：“Haze Guard 2(ヘイズガード2)”)基于JIS K7361测定全光线透过率来测定透过率。
(弯曲性)
阻气膜的弯曲性基于JIS C5016所示的耐弯曲性试验而进行。将以使弯曲半径为5mm的方式将得到的阻气膜固定在耐弯曲性试验装置的固定板与可动板上，使冲程为120mm、反复弯曲次数为10000次来进行试验，通过试验后的水蒸气透过率来进行评价。
(折射率)
利用反射分光膜厚计(大冢电子公司制、FE-3000)测定阻气膜各层的折射率。
(Sn比率的测定)
在样品表面蒸镀碳后，利用FIB制作薄膜切片，利用透过型电子显微镜FE-TEM(日本电子公司制、JEM-2010FEF)，通过EDS线分析来进行测定。
(评价结果)
阻气性、透明性、弯曲性评价结果如表1及表2所示。
[阻气性评价基准]
水蒸气透过率：WVTR(g/m2/day)
WVTR＜1.0×10-3…A
1.0×10-3≤WVTR＜5.0×10-3…B
5.0×10-3≤WVTR＜1.0×10-2…C
WVTR≥1.0×10-2…D
[弯曲性评价基准]
耐弯曲性试验后的水蒸气透过率：B-WVTR(g/m2/day)
B-WVTR＜1.0×10-3…A
1.0×10-3≤B-WVTR＜5.0×10-3…B
5.0×10-3≤B-WVTR＜1.0×10-2…C
B-WVTR≥1.0×10-2…D
[表1]
[表2]
根据实施例，因为是具有折射率倾斜结构的无机膜，所以与比较例(单层膜)相比，能够得到透明性高的阻气膜。而且，通过使SiZnSnO膜中所含有的Sn相对于Zn和Sn的总和的比率：Xs(wt％)为70＞Xs＞0，能够得到阻气性高的阻气膜。

Claims (7)

1.一种无机膜，其特征在于，具有：作为功能性膜的折射率梯度膜A，其由无机材料形成，折射率从一面向另一面由n1向比n1大的n2连续变化；作为功能性膜的折射率梯度膜B，其由无机材料形成，折射率从一面向另一面由n3向比n3小的n4连续变化；折射率梯度膜B从所述折射率为n3的面侧直接或间接地与折射率梯度膜A的折射率为n2的面侧相接而层积，n2与n3的差为0.1以下，
所述无机材料为含有Si与Al中的至少一种、Zn、以及Sn的复合氧化物。
2.如权利要求1所述的无机膜，其特征在于，所述折射率梯度膜A与所述折射率梯度膜B中的至少一方由含有Si、Zn以及Sn的复合氧化物形成。
3.如权利要求2所述的无机膜，其特征在于，在含有所述Si、Zn以及Sn的复合氧化物中，Sn相对于Zn和Sn的总和的比Xs满足70wt％＞Xs＞0wt％。
4.如权利要求1所述的无机膜，其特征在于，所述折射率梯度膜A与所述折射率梯度膜B中的至少一方由含有Al、Zn以及Sn的复合氧化物形成。
5.如权利要求1所述的无机膜，其特征在于，所述折射率梯度膜A由含有Al、Zn以及Sn的复合氧化物形成，所述折射率梯度膜B由含有Si、Zn以及Sn的复合氧化物形成。
6.一种层积体，其特征在于，在有机膜上形成如权利要求1～5中任一项所述的无机膜，在有机膜的折射率为n0时，为n0≤n1，
所述有机膜与折射率梯度模A的折射率为n1的面侧相接。
7.如权利要求6所述的层积体，其特征在于，在所述无机膜上形成有树脂层，在树脂层的折射率为n5时，为n4≥n5，
所述树脂层与折射率梯度模B的折射率为n4的面侧相接。
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