KR20160028995A - 무기막 및 적층체 - Google Patents

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KR20160028995A
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히로아끼 오꾸야마
마사히로 아스까
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세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 수지 등의 유기물과 적층했을 때에도 광선 투과율을 저하시키는 일이 없는 무기막 및 적층체를 제공한다. 굴절률이 n1로부터 n2(n1<n2)로 연속적으로 변화되고 또한 기능성막인 굴절률 경사막(13a)과, 굴절률이 n3으로부터 n4(n4<n3)로 연속적으로 변화되고 또한 기능성막인 굴절률 경사막(13b)으로 구성되고, 또한 n2와 n3의 차가 0.1 이하인 무기막(13)이 제공된다.

Description

무기막 및 적층체 {INORGANIC FILM AND LAMINATE}
본 발명은 높은 굴절률을 갖고, 광학적 간섭이 억제되어 있는 무기막 및 그 무기막을 수지 등의 유기물에 적층한 적층체에 관한 것이다.
경량이고 자유롭게 구부릴 수 있는, 플렉시블 디바이스에 있어서는 기재나 소자 자체에 수지 등의 유기물이 사용되고 있다. 기재로서 수지 등을 포함하는 플렉시블 기재를 사용한, 소위 플렉시블 디바이스에 있어서는, 밀봉 부재로서 가스 배리어성 및 투명성에 추가하여 가요성을 겸비한 가스 배리어 필름이 요구되고 있다.
특허문헌 1에는 가스 배리어성 및 가요성을 더불어 가진 가스 배리어 필름이 개시되어 있다. 특허문헌 1에서는 가스 배리어성을 높이기 위해, 아연주석 산화물이 사용되어 있다.
일본 특허 공표 제2010-524732호 공보
그러나, 특허문헌 1에 개시되어 있는 아연주석 산화물은 굴절률이 높고, 기재 필름이나 앵커 코트층 등의 수지 재료 상에 부여된 경우, 그들 재료와의 굴절률 차로부터 광학 간섭이 생긴다. 따라서, 광선 투과율이 저하되어 버린다는 문제점을 갖고 있다.
본 발명의 목적은 수지 등의 유기물과 적층했을 때에도 광선 투과율을 저하시키는 일이 없는 무기막 및 상기 무기막을 갖는 적층체를 제공하는 데 있다.
본 발명에 관한 무기막은 무기 재료를 포함하고, 한쪽 면으로부터 다른 쪽 면을 향하여 굴절률이 n1로부터 n2(n1<n2)로 연속적으로 변화되며, 기능성막인 굴절률 경사막 A와, 무기 재료를 포함하고, 한쪽 면으로부터 다른 쪽 면을 향하여 굴절률이 n3으로부터 n4(n4<n3)로 연속적으로 변화되며, 기능성막인 굴절률 경사막 B를 구비하고, 굴절률 경사막 A의 굴절률이 n2인 측의 면에, 굴절률 경사막 B가 상기 굴절률이 n3인 면측으로부터 직접 또는 간접적으로 접하도록 적층되어 있고, n2와 n3의 차가 0.1 이하이며, 상기 무기 재료가 Si와 Al 중 적어도 한쪽과, Zn과, Sn을 포함하는 복산화물이다.
본 발명에 관한 무기막에서는, 바람직하게는 상기 굴절률 경사막 A와 굴절률 경사막 B 중 적어도 한쪽이, Si, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함한다.
본 발명에 관한 무기막에서는, 바람직하게는 상기 Si, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물에 있어서 Zn과 Sn의 총합에 대한 Sn의 비 Xs가 70>Xs>0을 만족시킨다.
본 발명에 관한 무기막에서는, 바람직하게는 상기 굴절률 경사막 A와 굴절률 경사막 B 중 적어도 한쪽이, Al, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함한다.
본 발명에 관한 무기막에서는, 바람직하게는 상기 굴절률 경사막 A가 Al, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함하고, 상기 굴절률 경사막 B가, Si, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함한다.
본 발명에 관한 적층체는 유기막 위에, 본 발명에 따라서 구성되어 있는 무기막이 구성되어 있고, 유기막의 굴절률을 n0으로 했을 때에, n0≤n1인 적층체이다.
본 발명의 적층체에서는 상기 무기막 상에 수지층이 형성되어 있고, 수지층의 굴절률을 n5로 했을 때, n4≥n5인 것이 바람직하다.
본 발명의 무기막 및 적층체는 상술한 바와 같은 구성을 갖고 있고, 굴절률 경사막 A에 있어서는 막 두께 방향으로 굴절률이 n1로부터 n2로 연속적으로 커지고, 또한 굴절률 경사막 B에 있어서 굴절률이 n3으로부터 n4로 연속적으로 작아지고 있고, n2와 n3의 차가 0.1 이하이므로, 굴절률 차에 의한 반사가 억제된다. 따라서, 광선 투과율의 저하를 방지할 수 있다. 그로 인해, 굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B로서, 다양한 기능을 부여할 수 있는 굴절률이 높은 재료를 사용했다고 해도, 광선 투과율의 저하를 방지할 수 있다. 따라서, 기능성과, 높은 광선 투과율을 더불어 갖게 할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 무기막을 갖는 적층체를 도시하는 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시한 적층체의 각 층의 굴절률을 도시하는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 무기막을 형성하기 위해 사용되는 장치의 일례의 구성을 도시하는 도면이다.
본 발명의 일 실시 형태의 무기막을 사용한 적층체를, 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1에 도시한 바와 같이, 기재(11) 상에 유기물을 포함하는 평탄화층(12), 무기 재료를 포함하는 굴절률 경사막(13a), 무기 재료를 포함하는 굴절률 경사막(13b), 수지층(14)이 상기 순으로 적층 일체화되어 적층체가 구성되어 있다. 여기서, 굴절률 경사막 A로서의 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막 B로서의 굴절률 경사막(13b)이 본 실시 형태의 무기막(13)을 구성하고 있다.
도 2에 도시한 바와 같이, 굴절률 경사막(13a)에서는 평탄화층(12)에 접하는 면의 굴절률인 n1이, 굴절률 경사막(13b)과 접하는 면의 굴절률인 n2로 연속적으로 단조롭게 증대되고 있다. 굴절률 경사막(13b)에서는 굴절률 경사막(13a)에 접하는 면의 굴절률인 n3이, 수지층(14)과 접하는 면의 굴절률인 n4로 연속적으로 단조롭게 감소하고 있다. 여기서 각 층의 굴절률은 n1<n2 및 n3>n4이다. 또한, 굴절률 n2와 굴절률 n3은, 본 실시 형태에서는 동등하게, n2=n3으로 되어 있다.
무엇보다, n2와 n3의 굴절률 차는 0.1 이하이면 된다. 그 경우에는, 굴절률 경사막(13a)과 굴절률 경사막(13b)의 계면에 있어서의 굴절률의 변화를 작게 할 수 있다. 그것에 의해, 굴절률 차에 기인하는 반사를 억제할 수 있고, 광선 투과율의 저하를 억제할 수 있다. 이것을, 이하에 있어서 보다 구체적으로 설명한다.
굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)은 기능성막이다. 본 실시 형태에서는 기능으로서 높은 가스 배리어성을 발현한다. 여기서, 가스 배리어성이란, 이산화탄소, 산소, 수증기 등의 기체의 투과를 충분히 저감시키는 특성을 갖는 것으로 한다.
본 실시 형태에서는, 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)은 상기 굴절률이 연속적으로 변화되고 있는 구조를 갖는다. 그리고, 굴절률 경사막(13a)과 굴절률 경사막(13b)의 계면에서는, 양자의 굴절률은 어느 정도 높지만, 굴절률 차가 0.1 이하로 작다. 따라서, 굴절률 차에 기인하는 반사를 억제할 수 있다. 또한, 굴절률이 상대적으로 높은 계면 부근에 있어서, 상기 가스 배리어성을 충분히 발현시킬 수 있다.
한편, 계면과는 반대측, 즉 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)의 외측의 면에서는 굴절률이 낮게 되어 있다. 그로 인해, 충분한 광투과성이 확보된다.
상기와 같이 굴절률이 높아질수록 가스 배리어성 등의 기능이 높아지는 굴절률 경사막(13a, 13b)을 상기와 같이 적층하여 이루어지는 무기막에서는, 굴절률이 높은 부분에 있어서 가스 배리어성을 효과적으로 높일 수 있다. 또한, n2와 n3의 차가 0.1 이하이므로, 양자의 계면에 있어서의 광선 투과율의 저하도 억제할 수 있다.
상기와 같이 굴절률이 높아질수록 가스 배리어성이 높아지는 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)을 구성하는 무기 재료의 조합으로서는, 이와 같은 기능을 발현하는 한 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 산화규소와 아연주석 산화물, 산화규소와 알루미늄아연 산화물, 산화알루미늄과 아연주석 산화물 등을 들 수 있다.
본 실시 형태의 적층체에서는 기재(11) 상에 평탄화층(12), 굴절률 경사막(13a), 굴절률 경사막(13b), 수지층(14)이 상기 순으로 적층되어 있다. 따라서, 각 층 사이에서의 굴절률의 급준한 변화를 해소할 수 있다. 따라서, 굴절률 차에 기인하는 반사를 방지할 수 있다. 이 반사 방지 효과에 의해 적층체의 광선 투과율을 향상시킬 수 있다.
굴절률 경사막(13a 및 13b)의 막 두께당의 굴절률 변화율을 각각 굴절률 변화율 A=(n3-n2)/t1[t1=경사막 A의 막 두께, 단위:㎚] 및 굴절률 변화율 B=(n4-n5)/t2[t2=경사막 B의 막 두께, 단위:㎚]로 했을 때, 굴절률 변화율 X는 0≤X<0.01/㎚를 만족시키고 있는 것이 바람직하고, 0≤X<0.006/㎚를 만족시키고 있는 것이 보다 바람직하다. 여기서 단위 막 두께당의 굴절률 변화인 굴절률 변화율 X가 0.01/㎚를 초과한 경우, 급격한 굴절률 변화에 기인한 광학적 간섭이 발생해 버려 충분한 투과율 향상 효과를 얻을 수 없게 되어 버린다.
상기 적층체의 막 두께를 t로 한 경우, 막 두께 t의 값의 범위로서는 특별히 한정되지는 않지만, 충분한 가스 배리어성을 얻기 위해 30㎚≤t≤3000㎚인 것이 바람직하고, 50㎚≤t≤1000㎚인 것이 보다 바람직하다.
가스 배리어 적층체의 기재(11)를 구성하고 있는 재료로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 폴리메타크릴산메틸, 폴리메타크릴산에틸, 폴리아크릴산부틸 등의 아크릴계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 이소프탈레이트 공중합체 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 등의 폴리올레핀계 수지 등을 들 수 있다. 또한, 합성 수지는 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.
유기층을 포함하는 평탄화층(12)을 구성하고 있는 재료로서는, 표면의 평활성을 얻을 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 라디칼 중합성기를 갖는 알콕시실란, 라디칼 중합성기를 갖지 않는 알콕시실란 및 물을 포함하는 조성물을 제조하여, 상기 조성물을 도포한 후, 도포한 상기 조성물에 활성 에너지선을 조사함으로써 얻어진다.
평탄화층의 두께는 0.01∼100㎛가 바람직하고, 0.1∼50㎛가 보다 바람직하고, 1∼10㎛가 특히 바람직하다. 두께가 0.01㎛ 미만인 경우에는 충분한 가스 배리어성을 갖고 있지 않을 우려가 있다. 또한, 두께가 100㎛를 초과하는 평탄화층에서는, 강성이 지나치게 높아져 가스 배리어성 필름의 취급성을 저하시킬 우려가 있다.
굴절률 경사막(13a)은, 1) 막 두께 방향으로 굴절률이 연속적으로 단조 증가하는 굴절률 경사 구조를 갖고, 2) 평탄화층(12)과의 계면에 있어서는, 평탄화층(12)의 굴절률 n0과 평탄화층(12)과 접하는 면의 굴절률 n1이 n0≤n1의 조건을 만족시키고, 3) 전술한 바와 같이 굴절률 n2와 굴절률 n3의 차가 0.1 이하이면 된다.
굴절률 경사막(13a)을 구성하는 재료로서는, Si와 Al 중 적어도 한쪽과, Zn과, Sn을 포함하고 있는 한, 특별히 한정되지 않는다. 이들 재료에 추가하여, 예를 들어 In, Ti, Mg, Zr, Ni, Ta, W, Cu 혹은 이들을 2종 이상 포함하는 합금의 산화물 또는 산화질화물을 포함하고 있어도 된다. 고온 시의 가스 배리어성을 높이는 관점에서, 굴절률 경사막(13a)은 Al, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함하는 것이 바람직하다.
n1의 값으로서는 유기물인 n0과의 굴절률 차를 작게 하기 위해 1.7 이하인 것이 바람직하고, 1.6 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, n2의 값으로서는 특별히 한정되지는 않지만, 가스 배리어성을 얻기 위해 재료를 선택한 경우, 1.7보다 큰 값인 것이 바람직하고, 1.8 이상인 것이 보다 바람직하다.
굴절률 경사막(13b)은, 1) 막 두께 방향으로 굴절률이 연속적으로 단조 감소하는 굴절률 경사 구조를 갖고, 2) 수지층(14)과의 계면에 있어서는, 수지층(14)의 굴절률 n5의 면과 접하는 면의 굴절률 n4가 n4≥n5의 조건을 만족시키고, 3) 전술한 바와 같이 굴절률 n2와 굴절률 n3의 차가 0.1 이하이면 된다.
굴절률 경사막(13b)을 구성하는 재료로서는, Si와 Al 중 적어도 한쪽과, Zn과, Sn을 포함하고 있는 한, 특별히 한정되지 않는다. 이들 재료에 추가하여, 예를 들어 In, Ti, Mg, Zr, Ni, Ta, W, Cu 혹은 이들을 2종 이상 포함하는 합금의 산화물 또는 산화질화물을 포함하고 있어도 된다. 고온 시의 가스 배리어성을 높이는 관점에서, 굴절률 경사막(13b)은 Al, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함하는 것이 바람직하다.
n4의 값으로서는 유기물인 수지층(14)의 굴절률 n5와의 굴절률 차를 작게 하기 위해 1.7 이하인 것이 바람직하고, 1.6 이하인 것이 특히 바람직하다.
또한, 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)은 동일한 재료로 구성되어 있어도 되고, 다른 재료로 구성되어 있어도 된다. 또한, 굴절률 경사막(13a)과 굴절률 경사막(13b) 사이에 굴절률이 n2 또는 n3과 동등한 기능성막이 형성되어 있어도 된다. 즉, 굴절률 경사막(13a)과 굴절률 경사막(13b)은 기능성막 등을 통해 간접적으로 적층되어 있어도 된다.
상기 무기막에 있어서는, 굴절률 경사막(13a)은 굴절률이 n2인 측의 면에, 굴절률 경사막(13b)이 굴절률이 n3인 면측으로부터 상기와 같이 간접적으로 적층되어도 되고, 또한 전술한 바와 같이 직접 접촉하도록 적층되어 있어도 된다.
수지층(14)으로서는 특별히 한정되지 않고, 유기물에 의해 구성되어 있으면 된다. 수지층의 기능으로서는, 예를 들어 평탄화, 응력 완화, 밀착성 향상, 다른 부재와의 라미네이트를 들 수 있다. 예를 들어, 에틸렌-불포화 카르복실산-아크릴산에스테르 공중합체, 에틸렌-불포화 카르복실산-메타크릴산에스테르 공중합체, 열가소성 엘라스토머, 저밀도 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리염화비닐리덴, 아이오노머, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 니트로셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스, 실리콘, 디이소시아네이트와 폴리에테르폴리올의 축합체인 폴리에테르폴리우레탄, 디이소시아네이트와 폴리에스테르폴리올의 축합체인 폴리에스테르폴리우레탄 등의 폴리우레탄계 수지 등을 들 수 있다. 또한, 라미네이트 재료는 1종만이 사용되어도 되고, 2종 이상이 병용되어도 된다.
다음에, 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)의 형성 방법에 대해 설명한다. 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)을 형성하는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 스퍼터링법, 증착법, 이온 플레이팅법 등의 물리적 기상 성장법(PVD)이나, 화학적 기상 성장법(CVD) 등을 들 수 있다. 이들 성막 방법에 있어서, 굴절률이 연속적으로 변화되도록 성막 조건을 변화시키면 된다. 그것에 의해, 굴절률 경사 구조를 갖는 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)을 형성할 수 있다. 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)의 형성 방법이 동일한 방법이어도 되고, 다른 방법을 사용해도 된다.
또한, 상기 실시 형태에서는, 굴절률 경사막(13a) 및 굴절률 경사막(13b)은 가스 배리어성을 발휘하는 기능막이었지만, 본 발명에 있어서의 기능막의 기능은 가스 배리어성으로 한정되는 것은 아니다. 즉, 굴절률이 높고 다양한 기능을 발현하는 기능성막을 사용할 수 있다. 이와 같은 기능으로서는, 예를 들어 투명 도전막 등을 들 수 있다. 도전성이 높은 굴절률 경사막은, 예를 들어 재료로서 InSnO, AlZnO 등을 사용함으로써 구성할 수 있다.
본 발명에서는, 상기와 같이 굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B에 있어서, 굴절률이 외측으로부터 양자의 계면을 향해 높아지도록 굴절률이 경사져 있고, 양자의 계면에 있어서의 굴절률 차가 0.1 이하로 작게 되어 있으므로, 외측 표면에서는 낮은 굴절률에 의해 충분한 광투과성을 확보할 수 있다. 또한, 양자의 계면 부근에서는 n2와 n3의 차, 즉 굴절률 차가 작고, 또한 굴절률 n2, n3 자체는 높기 때문에, 양호한 기능을 발현함과 함께, 광선 투과율의 저하를 억제할 수 있다.
본 발명의 하나의 응용예로서 SiZnSnO 가스 배리어막을 들 수 있다. 굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B로서 SiZnSnO막을, 굴절률이 외측으로부터 양자의 계면을 향해 높아지게 굴절률이 경사지도록, SiZnSnO막 중의 Si 함유량이 양자의 계면을 향해 연속적으로 적어지도록 변화시켜 형성하였다.
SiZnSnO 가스 배리어막에 있어서, 높은 가스 배리어성, 굴곡성을 얻기 위해서는, Zn과 Sn의 총합에 대한 Sn의 중량비 Xs가 70>Xs>0을 만족시키고 있는 것이 바람직하고, 50≥Xs>0을 만족시키고 있는 것이 보다 바람직하고, 30>Xs≥5를 만족시키고 있는 것이 더욱 바람직하고, 10≥Xs≥5를 만족시키고 있는 것이 가장 바람직하다.
본 발명의 다른 응용예로서 AlZnSnO 가스 배리어막을 들 수 있다. 굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B로서 AlZnSnO막을, 굴절률이 외측으로부터 양자의 계면을 향해 높아지게 굴절률이 경사지도록, AlZnSnO막 중의 Al 함유량이 양자의 계면을 향해 연속적으로 적어지도록 변화시켜 형성하였다.
또한, AlZnSnO 가스 배리어막에 있어서, 높은 가스 배리어성, 굴곡성을 얻기 위해서는, Zn과 Sn의 총합에 대한 Sn의 중량비 Xs가 50≥Xs>0을 만족시키고 있는 것이 바람직하고, 50>Xs>0을 만족시키고 있는 것이 보다 바람직하고, 30≥Xs>0을 만족시키고 있는 것이 더욱 바람직하고, 30≥Xs≥10을 만족시키고 있는 것이 가장 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 굴절률 경사막 A에 AlZnSnO 가스 배리어막을 사용하고, 굴절률 경사막 B에 SiZnSnO 가스 배리어막을 사용해도 된다. 그 경우에 있어서는, 굴절률이 외측으로부터 양자의 계면을 향해 높아지게 굴절률이 경사지도록, SiZnSnO막 중의 Si 함유량 또는 AlZnSnO막 중의 Al 함유량이 양자의 계면을 향해 연속적으로 적어지도록 변화시켜 형성하였다. 당연히, 본 발명에 있어서는, 굴절률 경사막 A에 SiZnSnO 가스 배리어막을 사용하고, 굴절률 경사막 B에 AlZnSnO 가스 배리어막을 사용해도 된다.
실시예
다음에 본 발명의 실시예를 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
적층체로서 배리어 필름을 제작하였다. 배리어 필름의 기재로서 PET 필름(토레이사제, 상품명: 「루미러 50T60」)을 사용하였다.
《평탄화층의 형성》
다음에, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 80중량부, 테트라에톡시실란 53중량부, 티타늄테트라부톡시드 30중량부 및 물 4.9중량부 포함하는 조성물에, 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온(치바 스페셜티 케미컬즈사제, 상품명: 「이르가큐어 907」) 0.1중량부를 가하고, 9W의 자외선 램프를 사용하여 자외선을 15분간 조사하여 예비 중합을 행하였다. 이 조성물을 그라비아 코터에 의해 상기 기재의 일면에 도포하고, 도포한 조성물에 전자선 조사 장치(ESI사제, 제품명: 「EC300/165/800」)를 사용하여, 가속 전압 175㎸, 조사선량 150kGy의 조건으로 전자선을 조사함으로써, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란의 라디칼 중합을 행하여 라디칼 중합체를 형성한 후, 전자선 조사를 행한 조성물을 일면에 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 45℃, 상대 습도 65％ RH의 환경 하에 1시간 방치하고, 가수분해 및 탈수 축합 반응을 촉진함으로써 상기 라디칼 중합체의 주쇄 사이를 가교하는 테트라에톡시실란의 탈수 축합물을 형성하여, 평탄화층(두께 8㎛)을 얻었다.
《무기막의 형성 방법》
가스 배리어층을 도 3에 도시하는 R to R 스퍼터링 장치(31)를 사용하여 형성하였다. 본 장치는 권출 권취실(32)과 성막실(40)에 의해 구성되어 있다. 권출 권취실(32)에는 권출축(33), 권취축(34), 가이드 롤(35 및 36) 및 캔 롤(37)이 구비되어 있고, 진공 펌프(38)에 의해 배기되어 감압 상태로 된다. 권출축(33)에는 기재가 되는 필름 원단이 설치되고, 필름 원단으로부터 권출된 기재 필름(30)은 가이드 롤(35), 캔 롤(37) 및 가이드 롤(36)을 거쳐서 권취축(34)에 권취된다. 또한, 성막실(40)에는 타깃(41 및 42)이 구비되어 바이폴라 전원(43)에 접속되어 있다. 이 바이폴라 전원(43)에 의해 타깃(41)과 타깃(42)에 교대로 펄스 전력을 공급할 수 있다. 또한, 성막실(40)에는 아르곤 가스 공급 라인(44)과 산소 가스 공급 라인(45)이 접속되어 있어, 성막실(40) 내에 아르곤 가스 및 산소 가스를 공급할 수 있다. 성막실(40)에도 진공 펌프(39)가 접속되어 있어, 성막실 내를 감압할 수 있다. 성막실(40)을 감압 후, 아르곤 가스 및 산소 가스를 소정의 유량으로 공급하고, 또한 타깃(41), 타깃(42)에 전력을 공급함으로써, 상기 타깃과 캔 롤(37) 사이의 공간에 플라즈마를 형성할 수 있다. 이 플라즈마에 의해 타깃(41) 및 타깃(42)을 구성하고 있는 재료가, 상기 타깃 표면으로부터 튕겨 나온다. 그리고, 튕겨 나온 재료가 캔 롤(37)면 위를 통과하는 기재 표면에 퇴적되어, 박막을 형성한다. 바이폴라 전원(43)은 타깃(41)과 타깃(42)에 공급하는 펄스수 비를 임의로 제어할 수 있다. 펄스수 비를 제어함으로써, 타깃(41) 표면으로부터 튕겨 나와 기재 상에 퇴적되는 재료의 양과 타깃(42) 표면으로부터 튕겨 나와 기재 필름(30) 상에 퇴적되는 재료의 양의 비를 컨트롤할 수 있다. 타깃(41)과 타깃(42)에 다른 재료를 선택한 경우, 펄스수 비를 제어함으로써 기재 필름(30) 상에 퇴적되는 합금 산화물의 조성을 제어할 수 있다.
《굴절률 경사막 A의 형성》
평탄화층이 편면에 형성된 기재 필름을 권출축(33)에 세트하고, 타깃(41)으로서 Si를, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=70:30wt％) 타깃을 더 설치하였다. R to R 스퍼터링 장치(31)를 진공 펌프(38) 및 진공 펌프(39)에 의해 배기하고, 3.0×10-4㎩까지 감압하였다. 그 후, 기재 필름을 권출축(33)으로부터 권취축(34)의 방향으로 가이드 롤(35), 캔 롤(37), 가이드 롤(36)을 지나는 경로로 반송하면서, 성막실(40)에 있어서 이하에 나타내는 조건으로 평탄화층 상에 SiZnSnO 박막을 형성하여, 굴절률 경사막 A를 얻었다.
(성막 조건 A)
기재 반송 속도: 0.1m/분, 장력 100N, 캔 롤 냉각 온도: 10℃
아르곤 가스 유량: 80sccm, 산소 가스 유량: 80sccm
전원 출력: 5㎾, 전력 펄스비: 타깃(41):타깃(42)=3:1
《굴절률 경사막 B의 형성》
다음에, 굴절률 경사막 A가 형성되고, 권취축(34)에 권취된 기재 필름을 권취축(34)으로부터 권출축(33)의 방향으로 반송하면서, 굴절률 경사막 A의 표면에 성막 조건 A에 나타내는 조건으로 SiZnSnO막을 형성하여, 굴절률 경사막 B를 얻었다.
《수지층의 형성》
굴절률 경사막 B의 표면에 점착재(세키스이 카가쿠 고교사제, 상품명: 「더블 턱 테이프」, 제품 번호: 5405A, 두께 50㎛)를 부착하여, 수지층을 얻었다.
《내후성 수지 기재의 접합》
점착재를 부착한 후, ETFE(테트라플루오로에틸렌과 에틸렌의 공중합체) 필름(아사히 글래스사제, 상품명: 「A 플렉스」, 두께 100㎛)과 접합하여 가스 배리어 필름 1을 제작하였다.
(실시예 2)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 기재 필름 반송 조건을 0.075m/분으로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 2를 제작하였다.
(실시예 3)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 기재 필름 반송 조건을 0.2m/분으로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 3을 제작하였다.
(실시예 4)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Si를, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=90:10wt％) 타깃을 설치한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 4를 제작하였다.
(실시예 5)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Si를, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=95:5wt％) 타깃을 설치한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 5를 제작하였다.
(실시예 6)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Si를, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=30:70wt％) 타깃을 설치한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 6을 제작하였다.
(실시예 7)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Al을, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=70:30wt％) 타깃을 설치하고, 기재 필름 반송 조건을 0.05m/분으로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 7을 제작하였다.
(실시예 8)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Al을, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=90:10wt％) 타깃을 설치하고, 기재 필름 반송 조건을 0.05m/분으로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 8을 제작하였다.
(실시예 9)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Al을, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=50:50wt％) 타깃을 설치하고, 기재 필름 반송 조건을 0.05m/분으로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 9를 제작하였다.
(실시예 10)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 기재 필름 반송 조건을 0.15m/분으로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 10을 제작하였다.
(실시예 11)
굴절률 경사막 A 및 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Si를, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=50:50wt％) 타깃을 설치한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 11을 제작하였다.
(실시예 12)
굴절률 경사막 A의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Al을, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=90:10wt％) 타깃을 설치하고, 기재 필름 반송 조건을 0.05m/분으로 하고, 굴절률 경사막 B의 성막 조건 A에 있어서 타깃(41)으로서 Si를, 타깃(42)으로서 ZnSn 합금(Zn:Sn=90:10wt％) 타깃을 더 설치하고, 기재 필름 반송 조건을 0.15m/분으로 한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 가스 배리어 필름 12를 제작하였다.
(비교예 1)
타깃(41) 및 타깃(42)에 ZnSn 합금(Zn:Sn=70:30wt％)을 설치하였다. 성막 조건 B에 나타내는 조건으로 평탄화층 위에 가스 배리어층으로서 ZnSnO막을 형성하여, 가스 배리어 필름 13을 제작하였다.
(성막 조건 B)
기재 반송 속도: 0.1m/분, 장력 100N, 캔 롤 냉각 온도: 10℃
아르곤 가스 유량: 80sccm, 산소 가스 유량: 80sccm
전원 출력: 5㎾, 전력 펄스비: 타깃:타깃=1:1
(가스 배리어성)
얻어진 가스 배리어 필름의 가스 배리어성을 평가하기 위해, 차압식 투습도 측정 장치(GTR테크사제, 제품 번호: GTR-300XASC)에 의해 40℃, 90％의 조건으로 수증기 투과율을 측정하였다.
(투명성)
가스 배리어 필름의 투명성의 평가에 대해서는, 전체 광선 투과율을 헤이즈 미터(토요 세이키 세이사쿠쇼제, 상품명: 「헤이즈 가드 2」)에 의해 JIS K7361에 기초하여 투과율을 측정하였다.
(굴곡성)
가스 배리어 필름의 굴곡성은 JIS C5016에 나타나 있는 내굴곡성 시험에 기초하여 행하였다. 얻어진 가스 배리어 필름을 내굴곡성 시험 장치의 고정판과 가동판에 굴곡 반경이 5㎜로 되도록 고정하고, 스트로크 120㎜, 반복 굴곡 횟수를 10000으로 하여 시험을 행하고, 시험 후의 수증기 투과율로 평가하였다.
(굴절률)
가스 배리어 필름의 각 층의 굴절률은 반사 분광 막 두께 측정기(오츠카 덴시사제, FE-3000)로 측정하였다.
(Sn 비율의 측정)
시료 표면에 카본을 증착 후, FIB에 의해 박막 절편을 제작하고, 투과형 전자 현미경 FE-TEM(니혼 덴시사제: JEM-2010FEF)에 의해 EDS선 분석에 의해 측정하였다.
(평가 결과)
가스 배리어성, 투명성, 굴곡성 평가 결과를 표 1 및 표 2에 나타낸다.
[가스 배리어성 평가 기준]
수증기 투과율: WVTR(g/㎡/day)
WVTR<1.0×10-3…A
1.0×10-3≤WVTR<5.0×10-3…B
5.0×10-3≤WVTR<1.0×10-2…C
WVTR≥1.0×10-2…D
[굴곡성 평가 기준]
내굴곡성 시험 후의 수증기 투과율: B-WVTR(g/㎡/day)
B-WVTR<1.0×10-3…A
1.0×10-3≤B-WVTR<5.0×10-3…B
5.0×10-3≤B-WVTR<1.0×10-2…C
B-WVTR≥1.0×10-2…D
Figure pct00001
Figure pct00002
실시예에 의하면, 굴절률 경사 구조를 갖는 무기막이기 때문에, 비교예(단층 막)에 비해 투명성이 높은 가스 배리어 필름을 얻을 수 있었다. 또한, SiZnSnO막에 포함되는 Zn과 Sn의 총합에 대한 Sn의 비율: Xs(wt％)를 70>Xs>0으로 함으로써 가스 배리어성이 높은 가스 배리어 필름을 얻을 수 있었다.
11 : 기재
12 : 평탄화층
13 : 무기막
13a : 굴절률 경사막
13b : 굴절률 경사막
14 : 수지층
30 : 기재 필름
31 : R to R 스퍼터링 장치
32 : 권출 권취실
33 : 권출축
34 : 권취축
35 : 가이드 롤
36 : 가이드 롤
37 : 캔 롤
38 : 진공 펌프
39 : 진공 펌프
40 : 성막실
41 : 타깃
42 : 타깃
43 : 바이폴라 전원
44 : 아르곤 가스 공급 라인
45 : 산소 가스 공급 라인

Claims (7)

  1. 무기 재료를 포함하고, 한쪽 면으로부터 다른 쪽 면을 향하여 굴절률이 n1로부터 n2(n1<n2)로 연속적으로 변화되며, 기능성막인 굴절률 경사막 A와, 무기 재료를 포함하고, 한쪽 면으로부터 다른 쪽 면을 향하여 굴절률이 n3으로부터 n4(n4<n3)로 연속적으로 변화되며, 기능성막인 굴절률 경사막 B를 구비하고, 굴절률 경사막 A의 굴절률이 n2인 측의 면에, 굴절률 경사막 B가 상기 굴절률이 n3인 면측으로부터 직접 또는 간접적으로 접하도록 적층되어 있고, n2와 n3의 차가 0.1 이하이며,
    상기 무기 재료가 Si와 Al 중 적어도 한쪽과, Zn과, Sn을 포함하는 복산화물인, 무기막.
  2. 제1항에 있어서, 상기 굴절률 경사막 A와 굴절률 경사막 B 중 적어도 한쪽이, Si, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 무기막.
  3. 제2항에 있어서, 상기 Si, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물에 있어서 Zn과 Sn의 총합에 대한 Sn의 비 Xs가 70>Xs>0을 만족시키는, 무기막.
  4. 제1항에 있어서, 상기 굴절률 경사막 A와 굴절률 경사막 B 중 적어도 한쪽이, Al, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 무기막.
  5. 제1항에 있어서, 상기 굴절률 경사막 A가 Al, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함하고, 상기 굴절률 경사막 B가 Si, Zn 및 Sn을 포함하는 복산화물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 무기막.
  6. 유기막 상에 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 무기막이 형성되어 있고, 유기막의 굴절률을 n0으로 했을 때에 n0≤n1인, 적층체.
  7. 제6항에 있어서, 상기 무기막 상에 수지층이 형성되어 있고, 수지층의 굴절률을 n5로 했을 때에 n4≥n5인, 적층체.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6639098B2 (ja) * 2015-03-20 2020-02-05 富士フイルム株式会社 タッチパネル部材、タッチパネル及びタッチパネル表示装置
WO2016190058A1 (ja) * 2015-05-25 2016-12-01 コニカミノルタ株式会社 ガスバリアーフィルム、波長変換部材及びバックライトユニット
JP6606614B2 (ja) * 2017-03-31 2019-11-13 積水化学工業株式会社 無機膜及びガスバリアフィルム
CN110603148A (zh) * 2017-05-19 2019-12-20 富士胶片株式会社 阻气膜及阻气膜的制造方法
CN114442202B (zh) * 2017-08-31 2024-03-26 康宁股份有限公司 混合梯度干涉硬涂层
WO2019046762A1 (en) 2017-08-31 2019-03-07 Corning Incorporated HYBRID GRADIENT HARD INTERFERENCE COATINGS
JP7141276B2 (ja) * 2018-08-09 2022-09-22 デクセリアルズ株式会社 スパッタリングターゲット

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010524732A (ja) 2007-04-27 2010-07-22 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 透明バリヤーフィルム及びそれらの製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4440822A (en) 1977-04-04 1984-04-03 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
US5248545A (en) 1991-06-24 1993-09-28 Ford Motor Company Anti-iridescent coatings with gradient refractive index
US5168003A (en) * 1991-06-24 1992-12-01 Ford Motor Company Step gradient anti-iridescent coatings
JPH0741337A (ja) 1993-07-30 1995-02-10 Glaverbel Sa 光彩防止透明体
DE10200760A1 (de) 2002-01-10 2003-07-24 Clariant Gmbh Nanokompositmaterial zur Herstellung von Brechzahlgradientenfolien
JP5045148B2 (ja) * 2006-04-27 2012-10-10 セイコーエプソン株式会社 プラスチック偏光レンズ
CN101432638A (zh) 2006-04-27 2009-05-13 精工爱普生株式会社 塑料偏振透镜
KR20080110090A (ko) * 2007-06-14 2008-12-18 삼성전자주식회사 굴절률 감쇠 필름, 이를 구비한 편광 부재, 및 이를 구비한표시 장치
JP5287201B2 (ja) 2008-12-12 2013-09-11 東洋紡株式会社 透明導電性積層フィルム
CN101493533B (zh) 2009-02-11 2011-03-30 广东东邦科技有限公司 一种反射型防眩性偏光片、其专用涂层及其制备方法
CN101866956B (zh) 2009-04-16 2013-02-06 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种减反射膜及其制备方法
JP5779863B2 (ja) 2009-11-30 2015-09-16 大日本印刷株式会社 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板及びディスプレイ

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010524732A (ja) 2007-04-27 2010-07-22 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 透明バリヤーフィルム及びそれらの製造方法

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