CN104803608A - 一种多层同质PbMnxTi1-xO3薄膜及其制备方法 - Google Patents

一种多层同质PbMnxTi1-xO3薄膜及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104803608A
CN104803608A CN201510062536.0A CN201510062536A CN104803608A CN 104803608 A CN104803608 A CN 104803608A CN 201510062536 A CN201510062536 A CN 201510062536A CN 104803608 A CN104803608 A CN 104803608A
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
pbmnxti
pbmn
thin film
multilayer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201510062536.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104803608B (zh
Inventor
郑拓
杨平雄
褚君浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
East China Normal University
Original Assignee
East China Normal University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by East China Normal University filed Critical East China Normal University
Priority to CN201510062536.0A priority Critical patent/CN104803608B/zh
Publication of CN104803608A publication Critical patent/CN104803608A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104803608B publication Critical patent/CN104803608B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

本发明公开了一种多层同质PbMnxTi1-xO3薄膜及制备方法,其薄膜是由在石英衬底上同质生长PbMnxTi1-xO3构成,层数至少20层,每层厚度27~33nm;其中PbMnxTi1-xO3中x取值范围为0<x≤0.09。制备方法包括利用Sol-gel法在石英衬底上多次常温生长一层PbMnxTi1-xO3薄膜,其中特别强调的是多层膜的生长过程中每层膜皆采用快速退火方式,即每生长一层PbMnxTi1-xO3薄膜,立即对薄膜进行快退火处理,待退火结束后再在退火后的薄膜表面上生长下一层PbMnxTi1-xO3薄膜,最后得到以石英为衬底的多层同质PbMnxTi1-xO3薄膜。本发明得到的PbMnxTi1-xO3薄膜均匀性好、产物颗粒均一、致密性好,表面性质明显改善,同时利用Sol-gel法可控性强,易于操作,可以控制薄膜的厚度。

Description

一种多层同质PbMnxTi1-xO3薄膜及其制备方法
技术领域
发明涉及压电材料、铁电材料与器件技术领域,具体地涉及一种多层同质PbMn x Ti1-x O3薄膜及其制备方法。
背景技术
钛酸铅薄膜材料是钙钛矿型钛酸盐系铁电薄膜材料中的代表性材料,同时也是研究较为广泛的材料之一。由于铁电薄膜具有独特的光学和电学特性如压电效应、热释电效应、光电效应、非线性光学效应以及剩余极化性能,广泛地应用于红外探测元件薄膜、电容器、微型压电驱动器、太阳能电池等器件中,利用铁电薄膜材料所具有的剩余极化特性以及其可以与半导体集成电路相兼容性能够制备非易失性铁电存储器。目前钛酸铅薄膜的制备方法主要有溶胶–凝胶法(sol-gel) ,激光脉冲沉积法(PLD)。
近来,人们利用各种方法制备了PbMn x Ti1-x O3陶瓷材料,但是PbMn x Ti1-x O3薄膜材料并未有人制作。PbMn x Ti1-x O3薄膜相对于了PbMn x Ti1-x O3陶瓷具有更快的对光相应速度,光生电流更大,光电相应效率更高。但是由于钛酸四丁酯遇水分解变成固体,很难配置出理想的溶胶。而且由于理想结构的PbMn x Ti1-x O3薄膜对退火温度的要求非常苛刻,所以,至今还未得到PbMn x Ti1-x O3薄膜。
发明内容
本发明的目的之一在于提供一种多层同质生长PbMn x Ti1-x O3薄膜,该薄膜具备均匀性好、致密度高、表面平整等优点,能够改善其在太阳能电池、微型压电驱动器、半导体集成电路器件等方面的应用。
本发明的第二个目的在于提供多层同质生长PbMn x Ti1-x O3薄膜的制备方法,其制备方法可控性强,易于操控,可以控制薄膜的厚度也拓宽了其在铁电材料技术领域的应用。
实现本发明目的的具体技术方案是:
一种PbMn x Ti1-x O3薄膜,其特征在于该薄膜是由在石英衬底上多层同质生长PbMn x Ti1-x O3构成,其层数至少20层,每层厚度27~33nm;其中PbMn x Ti1-x O3中x取值范围为0<x≤0.09。一种上述薄膜的制备方法,该方法包括以下具体步骤:
步骤一 制备胶体
所用原料为乙酸铅、钛酸四酊脂、醋酸锰;所用溶剂为乙酰丙酮和乙酸;特别强调的是PbMn x Ti1-x O3中x取值范围为0<x≤0.09;
将乙酸铅、醋酸锰分别加入已配置的乙酸和乙酰丙酮混合溶液中,在50℃下搅拌溶解,再将钛酸四酊脂在搅拌状态下滴加到溶液中,充分溶解后再搅拌2小时,搅拌温度为30℃,得到胶体放置24小时,待用;其中,乙酸铅、醋酸锰、钛酸四酊脂的摩尔比为1 : 0.01~0.09 : 0.99~0.91;乙酸、乙酰丙酮的体积比为5:1;
步骤二 制备多层同质PbMn x Ti1-x O3薄膜
采用旋涂甩胶方法沉积薄膜,匀胶机最终转速为6000rpm,旋转时间为30s,前2s转速从0 rpm到达6000rpm;
ⅰ)将预处理过的石英衬底放置在匀胶机的吸板上,固定住衬底,用一次性注射器吸取步骤一制备的胶体,滴在衬底上,然后开启匀胶机,甩胶得到27~33nm厚度的薄膜;立即对薄膜进行RTP快速退火处理,退火处理步骤为:首先在300~310℃的空气中预热100~110s,然后再800~830℃下进行快速退火,时间为400~450s。
ⅱ)待退火结束后再在退火后的薄膜表面上滴加用一次性注射器吸取的步骤一制备的胶体,然后开启匀胶机,甩胶得到27~33nm厚度的薄膜;立即对薄膜进行RTP快速退火处理,退火处理步骤为:首先在300~310℃的空气中预热100~110s,然后再800~830℃下进行快速退火,时间为400~450s。
ⅲ)重复至少20次步骤二中ⅱ)的整个过程;得到多层同质PbMn x Ti1-x O3薄膜;本发明的PbMn x Ti1-x O3薄膜均匀性好、纯度高、致密性好,表面平整,可以改善其在太阳能电池、微型压电驱动器、半导体集成电路器件等方面的应用;其制备方法可控性强,易于操控,可以控制薄膜的厚度也拓宽了其在铁电材料技术领域的应用。
附图说明
图1为本发明制备得到的PbMn x Ti1-x O3薄膜的XRD 图;
图2为本发明制备得到PbMn x Ti1-x O3薄膜的SEM图。
具体实施方式
结合以下具体实施例和附图,对本发明作进一步的详细说明。
实施例
a)清洗玻璃衬底,依次使用丙酮、乙醇和去离子水进行超声清洗,清洗完之后放置于去离子水中保存,使用前用氮气枪吹干。
b)配置浓度为0.5mol/L溶胶40ml,PbMn x Ti1-x O3的x取值为0.03,称量乙酸铅0.02mol、钛酸四酊脂0.006mol、醋酸锰0.0194mol、乙酸30ml、乙酰丙酮6ml。将称量好的乙酸铅,钛酸四酊脂,醋酸锰分别加入乙酸和乙酰丙酮混合溶液中,特别强调的是钛酸四酊脂在滴加入溶液时必须保证溶液在搅拌状态(磁力搅拌器此时提供的加热温度为30℃)。充分溶解后再进行搅拌两小时,得到胶体放置24小时,待用。
c)将预处理过的衬底放置在匀胶机的吸板上,固定住衬底,用一次性注射器吸取配置好的溶胶,滴在衬底上0.3ml溶胶,然后开启匀胶机;甩胶得到30nm厚度的薄膜。匀胶机最终转速设定为为6000rmp,旋转时间设定为30s,前2s转速从0到达6000rpm。
d)采用层层RTP快速退火的方法进行退火,即每生长一层PbMn x Ti1-x O3薄膜,立即对薄膜进行快退火处理,快退火步骤为:首先在300℃的空气中预热100s,然后再800℃下进行快速退火,时间为400s,最后采用慢降温方式,降温时间100s;待退火结束后再在退火后的薄膜表面上生长下一层PbMn x Ti1-x O3薄膜。当最后一层薄膜生长结束后再进行一次慢退火处理。PbMn x Ti1-x O3薄膜生长的重复次数为23次。

Claims (2)

1.一种PbMn x Ti1-x O3薄膜,其特征在于该薄膜是由在石英衬底上多层同质生长PbMn x Ti1-x O3构成,其层数至少20层,每层厚度27~33nm;其中PbMn x Ti1-x O3中x取值范围为0<x≤0.09。
2.一种权利要求1所述薄膜的制备方法,其特征在于该方法包括以下具体步骤:
步骤一 制备胶体
所用原料为乙酸铅、钛酸四酊脂、醋酸锰;所用溶剂为乙酰丙酮和乙酸;PbMn x Ti1-x O3中x取值范围为0<x≤0.09;
将乙酸铅、醋酸锰分别加入已配置的乙酸和乙酰丙酮混合溶液中,在50℃下搅拌溶解,再将钛酸四酊脂在搅拌状态下滴加到溶液中,充分溶解后再搅拌2小时,搅拌温度为30℃,得到胶体放置24小时,待用;其中,乙酸铅、醋酸锰、钛酸四酊脂的摩尔比为1 : 0.01~0.09 : 0.99~0.91;乙酸、乙酰丙酮的体积比为5:1;
步骤二 制备多层同质PbMn x Ti1-x O3薄膜
采用旋涂甩胶方法沉积薄膜,匀胶机最终转速为6000rpm,旋转时间为30s,前2s转速从0 rpm到达6000rpm;
ⅰ)将预处理过的石英衬底放置在匀胶机的吸板上,固定住衬底,用一次性注射器吸取步骤一制备的胶体,滴在衬底上,然后开启匀胶机,甩胶得到27~33nm厚度的薄膜;立即对薄膜进行RTP快速退火处理,退火处理步骤为:首先在300~310℃的空气中预热100~110s,然后再800~830℃下进行快速退火,时间为400~450s;
ⅱ)待退火结束后再在退火后的薄膜表面上滴加用一次性注射器吸取的步骤一制备的胶体,然后开启匀胶机,甩胶得到27~33nm厚度的薄膜;立即对薄膜进行RTP快速退火处理,退火处理步骤为:首先在300~310℃的空气中预热100~110s,然后再800~830℃下进行快速退火,时间为400~450s;
ⅲ)重复至少20次步骤二中ⅱ)的整个过程;得到多层同质PbMn x Ti1-x O3薄膜。
CN201510062536.0A 2015-02-06 2015-02-06 一种多层同质PbMnxTi1‑xO3薄膜及其制备方法 Expired - Fee Related CN104803608B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510062536.0A CN104803608B (zh) 2015-02-06 2015-02-06 一种多层同质PbMnxTi1‑xO3薄膜及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510062536.0A CN104803608B (zh) 2015-02-06 2015-02-06 一种多层同质PbMnxTi1‑xO3薄膜及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104803608A true CN104803608A (zh) 2015-07-29
CN104803608B CN104803608B (zh) 2017-05-24

Family

ID=53688870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510062536.0A Expired - Fee Related CN104803608B (zh) 2015-02-06 2015-02-06 一种多层同质PbMnxTi1‑xO3薄膜及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104803608B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108365085A (zh) * 2018-02-07 2018-08-03 太原理工大学 一种导电材料掺杂的纳米压电复合薄膜发电机的制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1776011A (zh) * 2005-12-05 2006-05-24 武汉大学 PST[(Pb,Sr)TiO3]及其Ba固溶、Mg/Mn/K掺杂材料体系的制备方法
US7611913B2 (en) * 2003-09-04 2009-11-03 Intematix Corporation Ferroelectric rare-earth manganese-titanium oxides
CN101759434A (zh) * 2008-11-07 2010-06-30 南通芯迎设计服务有限公司 一种pzt薄膜的制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7611913B2 (en) * 2003-09-04 2009-11-03 Intematix Corporation Ferroelectric rare-earth manganese-titanium oxides
CN1776011A (zh) * 2005-12-05 2006-05-24 武汉大学 PST[(Pb,Sr)TiO3]及其Ba固溶、Mg/Mn/K掺杂材料体系的制备方法
CN101759434A (zh) * 2008-11-07 2010-06-30 南通芯迎设计服务有限公司 一种pzt薄膜的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
石富文,等: "锰掺杂对PbZr0.5Ti0.5O3铁电薄膜电学性能的影响", 《功能材料与器件学报》 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN104803608B (zh) 2017-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104609856B (zh) 高度择优取向钛酸铋钠-钛酸钡无铅压电薄膜的制备方法
CN101367671B (zh) 用于高温压电器件的无铅双层铁电复合薄膜及其制备方法
CN108039408A (zh) 一种柔性氧化铪基铁电薄膜的制备方法
CN1850722A (zh) BNdT铁电薄膜择优取向生长的制备方法
CN103360107B (zh) 一种金-镍酸镧复合导电薄膜材料及其制备方法
CN113025959A (zh) 一种离子束辅助磁控溅射沉积低温制备氧化铪基铁电薄膜的方法
CN100522885C (zh) 一种高锆含量铅系复合反铁电薄膜的低温制备方法
CN100480437C (zh) 一种取向生长的介电常数可调钛酸锶铅薄膜的制备方法
CN101538156A (zh) 缓冲层诱导织构铁电薄膜的制备方法
CN104803608A (zh) 一种多层同质PbMnxTi1-xO3薄膜及其制备方法
CN103922735A (zh) 低温晶化的bzt-bct压电薄膜的制备方法
JP5115331B2 (ja) 誘電体単結晶薄膜の製造方法
CN105200404A (zh) 外延生长的具有垂直相界的铌酸钾钠-锆酸钡-钛酸铋钠无铅压电薄膜的制备方法
CN112582173A (zh) 一种高能量密度的钛酸锶钡基介电薄膜电容器及其制备方法
CN102603288B (zh) 一种无铅压电薄膜材料及其制备方法
JP4752930B2 (ja) 単結晶薄膜の製造方法
CN105568265A (zh) 高掺杂BaTiO3:Fe多铁薄膜材料及其制备方法
CN115623851A (zh) 一种柔性可弯曲压电氧化物薄膜及其制备方法和应用
CN109761605A (zh) 一种具有(100)晶粒择优取向的锆钛酸铅薄膜及其制备方法
CN107346802B (zh) 压电膜及其制备方法
CN101654779A (zh) 一种Bi3.2La0.8Ti3O12铁电薄膜的制备方法
CN101388434B (zh) 一种硅/钴酸镧锶/锆钛酸铅三层结构铁电材料的制备方法
CN114551582A (zh) 一种镧锶锰氧/掺铝氧化锌柔性薄膜异质结及其制备方法
CN103219225A (zh) 用于硅基铁电电容器集成的一种阻挡层材料及集成方法
CN101659392A (zh) 低结晶温度下制备织构可控的铅基铁电薄膜的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
EXSB Decision made by sipo to initiate substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170524

Termination date: 20200206